JPS6280626A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
- Publication number
- JPS6280626A JPS6280626A JP60221664A JP22166485A JPS6280626A JP S6280626 A JPS6280626 A JP S6280626A JP 60221664 A JP60221664 A JP 60221664A JP 22166485 A JP22166485 A JP 22166485A JP S6280626 A JPS6280626 A JP S6280626A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- display
- liquid crystal
- thin film
- semiconductor layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 32
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 25
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 48
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010076282 Factor IX Proteins 0.000 description 1
- 108010080865 Factor XII Proteins 0.000 description 1
- 102000000429 Factor XII Human genes 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/33—Acousto-optical deflection devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Cookers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は特に表示面漬が広く、高精細な表示を可能と
するアクティブ表示の液晶表示素子に関する。
するアクティブ表示の液晶表示素子に関する。
「従来の技術」
従来のこの種の液晶表示素子は例えば第9四に示すよう
(−ガラスのような透明基板11及び12が近接対向し
て設けられ、その周縁部にはスペーサ13が介在され、
これら透明基板11.12間に液晶14が封入されてい
る。一方の透明基板11の内面に表示電極15が複数形
成され、これら各表示電極15に接してそれぞれスイッ
チング素子として薄膜トランジスタ16が形成され、そ
の薄膜トランジスタ16のドレインは表示電極15に接
続されている。これら複数の表示電照15と対向して他
方の透明基板12の内面に透明な共i市電極17が形成
されている。
(−ガラスのような透明基板11及び12が近接対向し
て設けられ、その周縁部にはスペーサ13が介在され、
これら透明基板11.12間に液晶14が封入されてい
る。一方の透明基板11の内面に表示電極15が複数形
成され、これら各表示電極15に接してそれぞれスイッ
チング素子として薄膜トランジスタ16が形成され、そ
の薄膜トランジスタ16のドレインは表示電極15に接
続されている。これら複数の表示電照15と対向して他
方の透明基板12の内面に透明な共i市電極17が形成
されている。
表示゛電極15は例えば画素成極であって第10図に示
すように、透明基板11上に正方形の表示電極15が行
及び列に近接配列されており、表示電極15の各行配列
と近接し、かつこれに沿ってそれぞれゲートバス18が
形成され、また表示電極15の各列配列と近接してそれ
に沿ってソースバス19がそれぞれ形成されている。こ
れら各ゲートバス18及びソースバス19の交差点にお
いて薄膜トランジスタ16が設けられ、各薄膜トランジ
スタ16のゲートは両バスの交差点位島においてゲート
バス18に接続され、各ソースはソースバス19にそれ
ぞれ接続され、更に各ドレインは表示電極15に接続さ
れている。
すように、透明基板11上に正方形の表示電極15が行
及び列に近接配列されており、表示電極15の各行配列
と近接し、かつこれに沿ってそれぞれゲートバス18が
形成され、また表示電極15の各列配列と近接してそれ
に沿ってソースバス19がそれぞれ形成されている。こ
れら各ゲートバス18及びソースバス19の交差点にお
いて薄膜トランジスタ16が設けられ、各薄膜トランジ
スタ16のゲートは両バスの交差点位島においてゲート
バス18に接続され、各ソースはソースバス19にそれ
ぞれ接続され、更に各ドレインは表示電極15に接続さ
れている。
これらゲートバス18とソースバス19との各一つを選
択してそれら間に電圧を印加し、その電工が印υ口され
た薄膜トランジスタ16のみが導1山し、そのQdした
薄膜トランジスタ16のドレイン(二接続された表示゛
電極15に電荷を蓄潰して表示電極15と共通m電極1
7との間の液晶14の部分においてのみ電圧を印加し、
これによって表示電極15の部分のみを光透明或は光遮
断とすることによって選択的な表示を行う。この表示電
極15に蓄積した電荷を放電させることによってと示を
消去させることができる。
択してそれら間に電圧を印加し、その電工が印υ口され
た薄膜トランジスタ16のみが導1山し、そのQdした
薄膜トランジスタ16のドレイン(二接続された表示゛
電極15に電荷を蓄潰して表示電極15と共通m電極1
7との間の液晶14の部分においてのみ電圧を印加し、
これによって表示電極15の部分のみを光透明或は光遮
断とすることによって選択的な表示を行う。この表示電
極15に蓄積した電荷を放電させることによってと示を
消去させることができる。
薄膜トランジスタ16は従来においては例えば第11図
及び第12因に示すように構成されていた。即ち透明基
板11上(二表示電極15とソースバス19とがITO
のような透明導電膜によって形成され、表示電極15及
びソースバス19の互に平行近接した部分間にまたがっ
てアモルファスシリコンのような半導体層21が形成さ
れ、更(ニヤの上に窒化シリコンなどのゲート絶縁膜2
2が形成される。このゲート絶縁膜22上において半導
体層21を介して表示電極15及びソースバス19とそ
れぞれ一部重なってゲート電極23が形成される。ゲー
ト電極23の一端はゲートバス18に接続される。この
ようにしてゲート電極23とそれぞれ対向した表示電極
15.ソースバス19はそれぞれドレイン電極15a、
ソース電極1gaを構成し、これら゛電極15a#19
a、半導体層21、ゲート絶縁膜22、ゲート電極23
によって薄膜トランジスタ16が構成される。ゲート電
極23及びゲートバス18は同時(=形成され、例えば
アルミニウムによって構成される。またこの電極15a
l19a上にそれぞれオーミック接触i慎25,26が
例えば+1プラス層により形成されていた。
及び第12因に示すように構成されていた。即ち透明基
板11上(二表示電極15とソースバス19とがITO
のような透明導電膜によって形成され、表示電極15及
びソースバス19の互に平行近接した部分間にまたがっ
てアモルファスシリコンのような半導体層21が形成さ
れ、更(ニヤの上に窒化シリコンなどのゲート絶縁膜2
2が形成される。このゲート絶縁膜22上において半導
体層21を介して表示電極15及びソースバス19とそ
れぞれ一部重なってゲート電極23が形成される。ゲー
ト電極23の一端はゲートバス18に接続される。この
ようにしてゲート電極23とそれぞれ対向した表示電極
15.ソースバス19はそれぞれドレイン電極15a、
ソース電極1gaを構成し、これら゛電極15a#19
a、半導体層21、ゲート絶縁膜22、ゲート電極23
によって薄膜トランジスタ16が構成される。ゲート電
極23及びゲートバス18は同時(=形成され、例えば
アルミニウムによって構成される。またこの電極15a
l19a上にそれぞれオーミック接触i慎25,26が
例えば+1プラス層により形成されていた。
「鎖明が解決しようとする問題点」
従来のこの種の液晶表示素子においてその表示面積を広
くシ、かつ高い分解能で表示する場合(二は1表示電極
15を高密度にする必要があり、それに伴ってソースバ
ス19の長さが長くなり、このためバスに対する印加電
圧側とこれより離れた側とにより電圧降下に基すき一様
な輝度が得られず、電源から遠いもの程輝度が低下する
輝度餉斜が生じる。
くシ、かつ高い分解能で表示する場合(二は1表示電極
15を高密度にする必要があり、それに伴ってソースバ
ス19の長さが長くなり、このためバスに対する印加電
圧側とこれより離れた側とにより電圧降下に基すき一様
な輝度が得られず、電源から遠いもの程輝度が低下する
輝度餉斜が生じる。
また半導体層22のアモルファスシリコンは光導電効果
を持っており、このため外部から光が半導体層22に照
射されてると、薄膜トランジスタがオフの状態において
も十分なオフ状態(高い抵抗)とならない。しかも従来
においては各部のパターンを高密度にするため電極15
、ソースバス19などのパターンのエツチングは基板1
1に対して垂直に行われる異方性ドライ′エツチングに
よって所定の形状とされていた。従ってソースバス19
を厚くしてソースバスの抵抗を小さくすると、その側面
において半導体@22との密着性が悪くなるため半導体
層22の厚さを薄くすることができず、少くとも100
0オグストロン程度の厚さを必要としていた。
を持っており、このため外部から光が半導体層22に照
射されてると、薄膜トランジスタがオフの状態において
も十分なオフ状態(高い抵抗)とならない。しかも従来
においては各部のパターンを高密度にするため電極15
、ソースバス19などのパターンのエツチングは基板1
1に対して垂直に行われる異方性ドライ′エツチングに
よって所定の形状とされていた。従ってソースバス19
を厚くしてソースバスの抵抗を小さくすると、その側面
において半導体@22との密着性が悪くなるため半導体
層22の厚さを薄くすることができず、少くとも100
0オグストロン程度の厚さを必要としていた。
°更(ニオ−ミック接触層25.26は基板11と反対
側の面のみに形成されているため、その幅が狭く、この
点からも電極15a#19aと半導体層22との良好な
オーミック接触が得難く、ドレイン電圧電流特性にオフ
セットが生じたものとなった。
側の面のみに形成されているため、その幅が狭く、この
点からも電極15a#19aと半導体層22との良好な
オーミック接触が得難く、ドレイン電圧電流特性にオフ
セットが生じたものとなった。
ソースバス19やゲートバス18と共通電極17との間
の容量が大きいと、高速動作をさせることが困難となり
、かつこれら間において表示に寄与しない部分において
1夜晶(=直流電圧が印加され、液晶を劣化させること
があった。
の容量が大きいと、高速動作をさせることが困難となり
、かつこれら間において表示に寄与しない部分において
1夜晶(=直流電圧が印加され、液晶を劣化させること
があった。
「問題点を解決するための手段」
この発明においては液晶表示素子のスイッチ素子として
の薄膜トランジスタのソース電極とドレイン電極との対
向する側面はテーパ面とされ、そのテーパ面の全面にわ
たってオーミック接触層が形成され、七のオーミック接
触哨上において半導体層が形成される。このようにテー
パ面上に半導体層が形成されることによって半導体層の
厚さを薄く1例えば500Ck以下t ooX程度にも
薄くすることができる。しかもオーミック接触層との接
触面端も広くなり、良好なオーミック接触が得られ、ド
レイン電圧電流特性にオフセットのない、それだけ幅広
い制御が可能となる。
の薄膜トランジスタのソース電極とドレイン電極との対
向する側面はテーパ面とされ、そのテーパ面の全面にわ
たってオーミック接触層が形成され、七のオーミック接
触哨上において半導体層が形成される。このようにテー
パ面上に半導体層が形成されることによって半導体層の
厚さを薄く1例えば500Ck以下t ooX程度にも
薄くすることができる。しかもオーミック接触層との接
触面端も広くなり、良好なオーミック接触が得られ、ド
レイン電圧電流特性にオフセットのない、それだけ幅広
い制御が可能となる。
更に各表示゛電極と対向して共通m電極はその表示%E
fJjと同一のパターン状に分割され、その分割された
部分は隣接するものは111次細い接続部で接続されて
おり、従ってソースバスやゲートバスと共a ?を極は
ほとんど対向することなく、それだけソースバス、トン
インバスと共通電極との間の静電容けが小さくなり、か
つ液晶に直流が印加するおそれがなく、液晶の寿命の長
いものが得られる。
fJjと同一のパターン状に分割され、その分割された
部分は隣接するものは111次細い接続部で接続されて
おり、従ってソースバスやゲートバスと共a ?を極は
ほとんど対向することなく、それだけソースバス、トン
インバスと共通電極との間の静電容けが小さくなり、か
つ液晶に直流が印加するおそれがなく、液晶の寿命の長
いものが得られる。
「実施例」
第1図はこの発明の要部である薄膜トランジスタの一例
を示す。この発明ではドレイン電極15a、ソース′岨
極1’9aの対向側面はそれぞれテーパ面31.32と
されている。そのテーパ面31.,32の全面にわたっ
てオーミック接触層25.26が形成されており、更に
その上に半導体!i22が形成されている。このテーパ
面31.32の形成は透明電極を形成し、これを表示電
極15やソースバス19の所定のパターン(ニエッチン
グする際に異方性エツチングではなく1等方性エツチン
グと17、つまり基板11の垂直方向に対するエツチン
グと共に水平方向に対してもエツチングがなされ、その
エツチング速度はほぼ等しくされ、このためテーパ面3
1,32は基板11に対し45°のテーパ面とされる。
を示す。この発明ではドレイン電極15a、ソース′岨
極1’9aの対向側面はそれぞれテーパ面31.32と
されている。そのテーパ面31.,32の全面にわたっ
てオーミック接触層25.26が形成されており、更に
その上に半導体!i22が形成されている。このテーパ
面31.32の形成は透明電極を形成し、これを表示電
極15やソースバス19の所定のパターン(ニエッチン
グする際に異方性エツチングではなく1等方性エツチン
グと17、つまり基板11の垂直方向に対するエツチン
グと共に水平方向に対してもエツチングがなされ、その
エツチング速度はほぼ等しくされ、このためテーパ面3
1,32は基板11に対し45°のテーパ面とされる。
なおこの例においては半導体屑22と対向して基板11
側に遮光層33が形成された場合であり。
側に遮光層33が形成された場合であり。
この遮光1i433の形成に伴って保護層34が形成さ
れる。遮光層33は例えばクロームとされ、保護層34
は二酸化シリコンとされる。またゲート21色縁膜23
やゲート′電極24上を含む全面にわたって床護1i
3 sが例えば窒化シリコン(=よって被われる。
れる。遮光層33は例えばクロームとされ、保護層34
は二酸化シリコンとされる。またゲート21色縁膜23
やゲート′電極24上を含む全面にわたって床護1i
3 sが例えば窒化シリコン(=よって被われる。
この上うな薄膜トランジスタを用いて第2因に。
第9図と対応して示すよう(−1基板11及び12間に
液晶1,1が封入され、表示電極15が先に述べたと同
様に形成されると共に薄膜トランジスタ36として第1
図に示したものが形成されている。またこの例において
は保護層35上更に配向処理層37が形成され、配向処
理層37が液晶14と接触している。この表示′電極1
5とソースバス19、ゲートバス18と、薄膜トランジ
スタ36との関係は先に述べた従来の場合と同様である
。
液晶1,1が封入され、表示電極15が先に述べたと同
様に形成されると共に薄膜トランジスタ36として第1
図に示したものが形成されている。またこの例において
は保護層35上更に配向処理層37が形成され、配向処
理層37が液晶14と接触している。この表示′電極1
5とソースバス19、ゲートバス18と、薄膜トランジ
スタ36との関係は先に述べた従来の場合と同様である
。
一方透明堪@12側においては共通1B電極17が形成
されているが、この共d′屯極17として第3図に示す
ように表示゛屯極15と対向してこれと同一大きさで、
かつ間−形状の分割共通iTI電極17aが配列形成さ
れており、この分割共通電極171は隣接するものは順
次接続部17bで接続され、接続部17bはこの例にお
いてはその各分割共浦電X17aの各辺の中央において
幅の狭い接読部として形成されている。従ってこの幅の
接続部17bを除くとゲートバス18、ソースバス19
は共通電極17と対向しないような関係とされている。
されているが、この共d′屯極17として第3図に示す
ように表示゛屯極15と対向してこれと同一大きさで、
かつ間−形状の分割共通iTI電極17aが配列形成さ
れており、この分割共通電極171は隣接するものは順
次接続部17bで接続され、接続部17bはこの例にお
いてはその各分割共浦電X17aの各辺の中央において
幅の狭い接読部として形成されている。従ってこの幅の
接続部17bを除くとゲートバス18、ソースバス19
は共通電極17と対向しないような関係とされている。
またこの例においてはカラー表示とした場合であり、ま
た各分割表示共通jTl ”’u極17a上にそれぞれ
カラーフィルタ38が形成されており、カラーフィルタ
38は例えば3色の色フィルタが均一に分布されている
。カラーフィルタ38の間において、つまり分割共通電
極17aの間を埋めるように黒フィルタ39が形成され
る。つまり黒フィルタ39は第4因に示すように七の隣
接色フィルタ38の間を埋めるように形成されている。
た各分割表示共通jTl ”’u極17a上にそれぞれ
カラーフィルタ38が形成されており、カラーフィルタ
38は例えば3色の色フィルタが均一に分布されている
。カラーフィルタ38の間において、つまり分割共通電
極17aの間を埋めるように黒フィルタ39が形成され
る。つまり黒フィルタ39は第4因に示すように七の隣
接色フィルタ38の間を埋めるように形成されている。
これらカラーフィルタ38及び黒フィルタ39の内面に
配向処理層41が形成され、これが液晶1・1と接触し
ている。また基板12の外面には(2)先板42が付け
られている。
配向処理層41が形成され、これが液晶1・1と接触し
ている。また基板12の外面には(2)先板42が付け
られている。
第2図では液晶14はゲストホスト形のものが用いられ
た場合であって1表示電極15と共通電極17との間に
電圧が印加されると第2図の左半分に示すように、液晶
分子14aと黒の色素分子42とがその長手方向が表示
゛電極15に対し垂直方向となって光が液晶表示素子を
透過し、その透過したカラーフィルタ38の色に見える
。しかし表示電極15、共通電極17間に電圧をがけな
い状態においては、第・2囚の右半分に示すように、液
晶分子14a及び黒の色素分子42はその表示電極15
に対し平行し、かつ偏光Fi42の(2)光軸と平行し
た光は黒の色素分子によって吸収されて液晶表示素子は
黒色に見える。つまり色表示が行われない。
た場合であって1表示電極15と共通電極17との間に
電圧が印加されると第2図の左半分に示すように、液晶
分子14aと黒の色素分子42とがその長手方向が表示
゛電極15に対し垂直方向となって光が液晶表示素子を
透過し、その透過したカラーフィルタ38の色に見える
。しかし表示電極15、共通電極17間に電圧をがけな
い状態においては、第・2囚の右半分に示すように、液
晶分子14a及び黒の色素分子42はその表示電極15
に対し平行し、かつ偏光Fi42の(2)光軸と平行し
た光は黒の色素分子によって吸収されて液晶表示素子は
黒色に見える。つまり色表示が行われない。
第5図に反射形表示で、かつツインネマティック液晶を
用いた例を示し、第2図と対応する部分に同一符号を付
けである。この場合は基板11の外面に偏光板42と偏
光方向が直角方向の偏光板43が設けられ、更にその外
側に反射板44が設けられている。表示@tfi15.
共通電t51共通電電517間された状態においては第
5因の左半分に示すように液晶分子14aは表示゛電極
15と垂直となり、偏光板42を透過した光は扁光方向
が回転されないでいるため偏光板43によって遮られて
反射板44に達することなく反射されないため、従って
表示が見えない。しかし表示′電極15、共通電極17
間に電圧が印加されない状態においては第5図の右半分
に示すように液晶分子14aの長袖方向は徐々に回転し
、従って入射光はその液晶分子によって]−光方向が9
0°曲げられ、偏光板43を通過し、反射板44で反射
されて、液晶表示素子から入射光側へ出射され表示が行
われる。
用いた例を示し、第2図と対応する部分に同一符号を付
けである。この場合は基板11の外面に偏光板42と偏
光方向が直角方向の偏光板43が設けられ、更にその外
側に反射板44が設けられている。表示@tfi15.
共通電t51共通電電517間された状態においては第
5因の左半分に示すように液晶分子14aは表示゛電極
15と垂直となり、偏光板42を透過した光は扁光方向
が回転されないでいるため偏光板43によって遮られて
反射板44に達することなく反射されないため、従って
表示が見えない。しかし表示′電極15、共通電極17
間に電圧が印加されない状態においては第5図の右半分
に示すように液晶分子14aの長袖方向は徐々に回転し
、従って入射光はその液晶分子によって]−光方向が9
0°曲げられ、偏光板43を通過し、反射板44で反射
されて、液晶表示素子から入射光側へ出射され表示が行
われる。
なおこの場合の薄膜トランジスタ36は半導体層22に
対する遮光層33が省略されている。
対する遮光層33が省略されている。
「発明の効果」
以上述べたようにこの発明による液晶表示素子において
は、その薄膜トランジスタのドレイン′電極15a、ソ
ース電極19aの対向側面はテーパ面31.32とされ
ており、このためその面端が広く半導体層22との良好
な接触が得られ、よって第6図の実線に示すようにドレ
イン電圧電流特性はオフセットがなく、ゼロから立上る
。しがし従来のものにおいては点線で示すようにオフセ
ットがあり、ドレイン電圧をある程度以上上げないとド
レイン電流が流れない。このため階調表示を行う場合に
おいて、従来の液晶表示素子はその階調の変化範囲が狭
い、しかしこの発明においてはオフセットがないため良
好な階調表示を行うことができる。しかも第6図に示す
ようにドレイン電流自体も従来のものより大きいため表
示電極に対する電流供給を高速に行うことができ、高速
度の動作を行うことが可能である。
は、その薄膜トランジスタのドレイン′電極15a、ソ
ース電極19aの対向側面はテーパ面31.32とされ
ており、このためその面端が広く半導体層22との良好
な接触が得られ、よって第6図の実線に示すようにドレ
イン電圧電流特性はオフセットがなく、ゼロから立上る
。しがし従来のものにおいては点線で示すようにオフセ
ットがあり、ドレイン電圧をある程度以上上げないとド
レイン電流が流れない。このため階調表示を行う場合に
おいて、従来の液晶表示素子はその階調の変化範囲が狭
い、しかしこの発明においてはオフセットがないため良
好な階調表示を行うことができる。しかも第6図に示す
ようにドレイン電流自体も従来のものより大きいため表
示電極に対する電流供給を高速に行うことができ、高速
度の動作を行うことが可能である。
更に薄膜トランジスタの半導体層22は電極15al1
9aのテーパ面上で重なっているため、薄く例えば50
0オグストロン以下にすることができ、半導体層22の
抵抗が大きく、外来光が存在していても薄膜トランジス
タのオフ時におけるドレイン電流を小さくすることがで
きる。即ち第7図に示すように半導体層22としてアモ
ルファスシリコンを使用した時、その厚さが厚くなる程
OFF電流が大きくなっている。この発明においては半
導体層22の厚さを0.05ミクロン以下にすることが
でき、従来は0.1ミクロン程度以丁にすることができ
ないため、この発明ではオフ!、 ’l&を1桁以上小
さくすることができる。なお第7図においてOFF電流
特性は、ゲート電圧がoV。
9aのテーパ面上で重なっているため、薄く例えば50
0オグストロン以下にすることができ、半導体層22の
抵抗が大きく、外来光が存在していても薄膜トランジス
タのオフ時におけるドレイン電流を小さくすることがで
きる。即ち第7図に示すように半導体層22としてアモ
ルファスシリコンを使用した時、その厚さが厚くなる程
OFF電流が大きくなっている。この発明においては半
導体層22の厚さを0.05ミクロン以下にすることが
でき、従来は0.1ミクロン程度以丁にすることができ
ないため、この発明ではオフ!、 ’l&を1桁以上小
さくすることができる。なお第7図においてOFF電流
特性は、ゲート電圧がoV。
ドレイン電圧が5■の場合である。oNN滞流半導体層
22の厚さに影響なく一定である。このON電流特性は
ゲートがIOV、ドレイン電圧が5vの場合である。
22の厚さに影響なく一定である。このON電流特性は
ゲートがIOV、ドレイン電圧が5vの場合である。
ゲート電圧に対するドレイン電流特性は第8図に示すよ
うに、ゲート電圧がOv以下(二おいて。
うに、ゲート電圧がOv以下(二おいて。
外来光が無い状態では実線51で示すようにドレイン電
流が著しく少なく、大きなオンオフが得られるが、外来
光が10,000ルツクスの場合においても点線52で
示すように遮光層33を設けてない場合でも半導体層2
2の厚さを薄くすることにより(この例では0.03μ
m)必要なオンオフ比を得ることができる。更に100
,000ルツクスの外来光がある場合においては遮光層
33を設けることによって点線53で示すようなオンオ
フ電流を得ることができる。なおこの場合はドレイン電
圧は10Vであり、チャネルの長さは10ミクロン、幅
は100ミクロンの場合である。
流が著しく少なく、大きなオンオフが得られるが、外来
光が10,000ルツクスの場合においても点線52で
示すように遮光層33を設けてない場合でも半導体層2
2の厚さを薄くすることにより(この例では0.03μ
m)必要なオンオフ比を得ることができる。更に100
,000ルツクスの外来光がある場合においては遮光層
33を設けることによって点線53で示すようなオンオ
フ電流を得ることができる。なおこの場合はドレイン電
圧は10Vであり、チャネルの長さは10ミクロン、幅
は100ミクロンの場合である。
このようにこの発明によれば、ドレイン電極、ソース電
極の対向面をテーパ面として薄膜トランジスタの半導体
層22を十分薄くすることができ。
極の対向面をテーパ面として薄膜トランジスタの半導体
層22を十分薄くすることができ。
土建した種々の効果が得られ、かつソースバスを十分厚
くしてソース抵抗を小さく、従って広い表示1fit
Piにおいても一様な輝度をもつ表示が得られる。また
ソースバス19やゲートバス18と対向した部分は共通
電極15がその接続部17 b Ll外は対向してない
ため、これらバスと共通電極との間の容量が小さく、そ
れだけ高速動作が可能となる。これら共通m電極とソー
スバス或いはゲートバスとの間の液晶に直流が印加する
ことも防ぐことができ、それだけ液晶の劣化が少なくて
済む。かつこれらの部分において常に光の透過を遮断さ
れるようにすることによってコントラストの良い表示が
得られる。また光透過形表示素子において黒色フィルタ
39を設けることによりコントラストの良いものが得ら
れる。
くしてソース抵抗を小さく、従って広い表示1fit
Piにおいても一様な輝度をもつ表示が得られる。また
ソースバス19やゲートバス18と対向した部分は共通
電極15がその接続部17 b Ll外は対向してない
ため、これらバスと共通電極との間の容量が小さく、そ
れだけ高速動作が可能となる。これら共通m電極とソー
スバス或いはゲートバスとの間の液晶に直流が印加する
ことも防ぐことができ、それだけ液晶の劣化が少なくて
済む。かつこれらの部分において常に光の透過を遮断さ
れるようにすることによってコントラストの良い表示が
得られる。また光透過形表示素子において黒色フィルタ
39を設けることによりコントラストの良いものが得ら
れる。
テーパ面31.32にオーミック接触層25゜26を形
成するが、電極15、ソースバス19として例えばリン
を含むものを用いることにより半導体層22を形成する
際に、例えばプラズマCVD法で形成する際に透明電極
15al19a内のリンが半導体層22側に析出してオ
ーミック接触層25.26が自動的に得られる。このオ
ーミック接触層25.26は薄いが電極15al19a
との接触面の全面に確実に形成され、良好なオーミック
接触が得られる。またこの場合リンとインジュクムや錫
など透明峨極の元素と結合してその析出して半導体層2
2へ拡散されるのが阻止されるため薄膜トランジスタと
して特性の良いものが得られる。
成するが、電極15、ソースバス19として例えばリン
を含むものを用いることにより半導体層22を形成する
際に、例えばプラズマCVD法で形成する際に透明電極
15al19a内のリンが半導体層22側に析出してオ
ーミック接触層25.26が自動的に得られる。このオ
ーミック接触層25.26は薄いが電極15al19a
との接触面の全面に確実に形成され、良好なオーミック
接触が得られる。またこの場合リンとインジュクムや錫
など透明峨極の元素と結合してその析出して半導体層2
2へ拡散されるのが阻止されるため薄膜トランジスタと
して特性の良いものが得られる。
第1図はこの発明の液晶表示素子に使う薄膜トランジス
タの断面を示す図、第2図はこの発明による液晶表示素
子の断面図、第3図はその分割共面電極を示す平面図、
第4図は黒色フィルタ及びカラーフィルタを示す平面図
、第5図はこの発明による液晶表示素子の池の例を示す
断面図、第6図は薄膜トランジスタのドレイン電圧電流
特性図。 7$7図は薄膜トランジスタの半導体層の厚さに対する
ドレイン電流特性図1、第8図は薄膜トランジスタのゲ
ート電圧ドレイン電流特性図、第9因は液晶表示素子の
一般的構成の一部を示す断面図、第10図は液晶表示素
子の表示電極、ゲートバス、ソースバスの接続を示す回
路図、第11図はその一部の平面図、第12[aは従東
の薄膜トランジスタを示す第11図のAA線拡大断面図
である。 11.12:透明基板、14:液晶、15:表示電極、
15aニドレイン電塙、17:共通電極、18:ゲート
バス、19:ソースバス、19a:ソース′柩極、22
:半導体層、23:ゲート絶縁膜、24:ゲート電極、
25 、26=オ一ミツク接触層、31,32:テーパ
面、33:遮光層。 特許出願人 星電器製造株式会社 代 理 人 草 野 卓オ 1
囮 オ 2 囮 17b 17a ′yp5 図 才 6 囮 ばレイン電圧(V) か7図 半導体層22の厚さく7.+m) +S 図 ′″7f−9 囮 19ソー又バ又 才10 図 定11 図 す12霞 手続補正書 (自 発) 昭和61年12月3日
タの断面を示す図、第2図はこの発明による液晶表示素
子の断面図、第3図はその分割共面電極を示す平面図、
第4図は黒色フィルタ及びカラーフィルタを示す平面図
、第5図はこの発明による液晶表示素子の池の例を示す
断面図、第6図は薄膜トランジスタのドレイン電圧電流
特性図。 7$7図は薄膜トランジスタの半導体層の厚さに対する
ドレイン電流特性図1、第8図は薄膜トランジスタのゲ
ート電圧ドレイン電流特性図、第9因は液晶表示素子の
一般的構成の一部を示す断面図、第10図は液晶表示素
子の表示電極、ゲートバス、ソースバスの接続を示す回
路図、第11図はその一部の平面図、第12[aは従東
の薄膜トランジスタを示す第11図のAA線拡大断面図
である。 11.12:透明基板、14:液晶、15:表示電極、
15aニドレイン電塙、17:共通電極、18:ゲート
バス、19:ソースバス、19a:ソース′柩極、22
:半導体層、23:ゲート絶縁膜、24:ゲート電極、
25 、26=オ一ミツク接触層、31,32:テーパ
面、33:遮光層。 特許出願人 星電器製造株式会社 代 理 人 草 野 卓オ 1
囮 オ 2 囮 17b 17a ′yp5 図 才 6 囮 ばレイン電圧(V) か7図 半導体層22の厚さく7.+m) +S 図 ′″7f−9 囮 19ソー又バ又 才10 図 定11 図 す12霞 手続補正書 (自 発) 昭和61年12月3日
Claims (1)
- (1)2枚の透明電極が近接対向して配され、これら透
明基板間に液晶が封入され、上記一方の透明基板の内面
に複数の表示電極が設けられ、これら各表示電極にドレ
イン側がそれぞれ接続された薄膜トランジスタが上記透
明基板に形成され、上記複数の表示電極と対向して他方
の透明基板の内面に共通電極が形成され、上記薄膜トラ
ンジスタを選択的にスイッチング制御して上記表示電極
を選択的に表示する液晶表示素子において、 上記薄膜トランジスタのソース電極とドレイン電極との
対向する側面はテーパ面とされ、そのソース電極及びド
レイン電極間に形成された半導体層は上記テーパ面の全
面にわたって形成されたオーミック接触層を介して対向
され、上記共通電極は上記表示電極と対向し、これとほ
ぼ同一の形状に分割され、その分割されたものの隣接す
るものは接続部で順次接続されていることを特徴とする
液晶表示素子。
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60221664A JPS6280626A (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 | 液晶表示素子 |
US06/911,694 US4776673A (en) | 1985-10-04 | 1986-09-26 | Liquid-crystal display device |
KR1019860008256A KR870004329A (ko) | 1985-10-04 | 1986-10-02 | 액정표시소자 |
EP90108818A EP0390225B1 (en) | 1985-10-04 | 1986-10-03 | Liquid-crystal display device |
DE3689728T DE3689728T2 (de) | 1985-10-04 | 1986-10-03 | Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung. |
AT86113672T ATE65331T1 (de) | 1985-10-04 | 1986-10-03 | Fluessigkristallanzeigevorrichtung. |
DE8686113672T DE3680287D1 (de) | 1985-10-04 | 1986-10-03 | Fluessigkristallanzeigevorrichtung. |
EP86113672A EP0221361B1 (en) | 1985-10-04 | 1986-10-03 | Liquid-crystal display device |
US07/227,033 US4869576A (en) | 1985-10-04 | 1988-07-29 | Liquid-crystal display device employing a common electrode consisting of interconnected common electrode sections |
AT90108818T ATE103083T1 (de) | 1985-10-04 | 1990-05-10 | Fluessigkristall-anzeigevorrichtung. |
KR2019900017321U KR910003071Y1 (ko) | 1985-10-04 | 1990-11-12 | 액정표시소자 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60221664A JPS6280626A (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 | 液晶表示素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6280626A true JPS6280626A (ja) | 1987-04-14 |
Family
ID=16770324
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60221664A Pending JPS6280626A (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 | 液晶表示素子 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4776673A (ja) |
EP (2) | EP0221361B1 (ja) |
JP (1) | JPS6280626A (ja) |
KR (1) | KR870004329A (ja) |
AT (2) | ATE65331T1 (ja) |
DE (2) | DE3680287D1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5036370A (en) * | 1989-07-04 | 1991-07-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Thin film semiconductor array device |
JPH04366819A (ja) * | 1991-06-13 | 1992-12-18 | Nec Corp | アクティブマトリックス液晶ディスプレイ装置 |
JP2002357843A (ja) * | 2001-06-04 | 2002-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネル |
Families Citing this family (58)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8701347A (nl) * | 1987-06-10 | 1989-01-02 | Philips Nv | Vloeibaar kristal weergeefinrichting en werkwijze ter vervaardiging van een dergelijke weergeefinrichting. |
JP2605723B2 (ja) * | 1987-07-22 | 1997-04-30 | 日本電気株式会社 | 薄膜トランジスタアレー形液晶表示装置 |
US5166085A (en) * | 1987-09-09 | 1992-11-24 | Casio Computer Co., Ltd. | Method of manufacturing a thin film transistor |
US5229644A (en) * | 1987-09-09 | 1993-07-20 | Casio Computer Co., Ltd. | Thin film transistor having a transparent electrode and substrate |
US5327001A (en) * | 1987-09-09 | 1994-07-05 | Casio Computer Co., Ltd. | Thin film transistor array having single light shield layer over transistors and gate and drain lines |
US4949141A (en) * | 1988-02-04 | 1990-08-14 | Amoco Corporation | Vertical gate thin film transistors in liquid crystal array |
JPH01201622A (ja) * | 1988-02-06 | 1989-08-14 | Sharp Corp | 投映型表示装置 |
JP2746403B2 (ja) * | 1989-02-13 | 1998-05-06 | コニカ株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
US5053347A (en) * | 1989-08-03 | 1991-10-01 | Industrial Technology Research Institute | Amorphous silicon thin film transistor with a depletion gate |
US5058997A (en) * | 1989-08-11 | 1991-10-22 | International Business Machines Corporation | Tft lcd with optical interference color filters |
NL8902206A (nl) * | 1989-09-01 | 1991-04-02 | Philips Nv | Weergeefinrichting. |
US5191452A (en) * | 1989-09-20 | 1993-03-02 | Honeywell Inc. | Active matrix liquid crystal display fabrication for grayscale |
JP2604867B2 (ja) * | 1990-01-11 | 1997-04-30 | 松下電器産業株式会社 | 反射型液晶表示デバイス |
US5076667A (en) * | 1990-01-29 | 1991-12-31 | David Sarnoff Research Center, Inc. | High speed signal and power supply bussing for liquid crystal displays |
US5058995A (en) * | 1990-03-15 | 1991-10-22 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Pixel electrode structure for liquid crystal display devices |
US5162933A (en) * | 1990-05-16 | 1992-11-10 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Active matrix structure for liquid crystal display elements wherein each of the gate/data lines includes at least a molybdenum-base alloy layer containing 0.5 to 10 wt. % of chromium |
US5307189A (en) * | 1991-03-05 | 1994-04-26 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Active-matrix-addressed liquid crystal with conductor collecting lines of force emanating from data electrode |
FR2679057B1 (fr) * | 1991-07-11 | 1995-10-20 | Morin Francois | Structure d'ecran a cristal liquide, a matrice active et a haute definition. |
KR930002855A (ko) * | 1991-07-15 | 1993-02-23 | 이헌조 | 액정표시소자의 제조방법 |
US6556257B2 (en) * | 1991-09-05 | 2003-04-29 | Sony Corporation | Liquid crystal display device |
KR970000359B1 (ko) * | 1991-09-26 | 1997-01-08 | 가부시기가이샤 도오시바 | 액정표시장치 |
FR2682493B1 (fr) * | 1991-10-11 | 1994-02-04 | Thomson Lcd | Dispositif d'amelioration du contraste d'un ecran a cristal liquide et son procede de fabrication. |
US5459595A (en) * | 1992-02-07 | 1995-10-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix liquid crystal display |
US5285302A (en) * | 1992-03-30 | 1994-02-08 | Industrial Technology Research Institute | TFT matrix liquid crystal display with compensation capacitance plus TFT stray capacitance constant irrespective of mask misalignment during patterning |
TW214603B (en) * | 1992-05-13 | 1993-10-11 | Seiko Electron Co Ltd | Semiconductor device |
US6005651A (en) * | 1992-08-04 | 1999-12-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Display panel and projection display system with use of display panel |
JP3486426B2 (ja) * | 1993-01-18 | 2004-01-13 | キヤノン株式会社 | 半導体装置及び液晶表示装置 |
JPH0772510A (ja) * | 1993-09-07 | 1995-03-17 | Hitachi Ltd | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JPH07175087A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-14 | Nec Corp | 液晶表示装置 |
TW347477B (en) * | 1994-09-30 | 1998-12-11 | Sanyo Electric Co | Liquid crystal display with storage capacitors for holding electric charges |
KR100207135B1 (ko) * | 1994-10-18 | 1999-07-15 | 니시무로 타이죠 | 반사형 액정표시소자 및 그 제조방법 |
US5774099A (en) * | 1995-04-25 | 1998-06-30 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal device with wide viewing angle characteristics |
JP3289099B2 (ja) * | 1995-07-17 | 2002-06-04 | 株式会社日立製作所 | アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法 |
FR2737799B1 (fr) * | 1995-08-11 | 1997-10-17 | Thomson Multimedia Sa | Perfectionnement au dispositif d'affichage comportant un systeme d'eclairage arriere fournissant une lumiere collimatee |
JP3027541B2 (ja) * | 1995-09-27 | 2000-04-04 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
JP2798066B2 (ja) | 1996-08-05 | 1998-09-17 | 日本電気株式会社 | 薄膜トランジスター、その製造方法および表示装置 |
JP2870500B2 (ja) * | 1996-08-26 | 1999-03-17 | 日本電気株式会社 | 反射型液晶表示装置 |
GB9710514D0 (en) | 1996-09-21 | 1997-07-16 | Philips Electronics Nv | Electronic devices and their manufacture |
GB9626344D0 (en) * | 1996-12-19 | 1997-02-05 | Philips Electronics Nv | Electronic devices and their manufacture |
JP3361947B2 (ja) * | 1997-01-30 | 2003-01-07 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
JP3966614B2 (ja) | 1997-05-29 | 2007-08-29 | 三星電子株式会社 | 広視野角液晶表示装置 |
JP3658260B2 (ja) * | 1999-04-30 | 2005-06-08 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
GB9927287D0 (en) * | 1999-11-19 | 2000-01-12 | Koninkl Philips Electronics Nv | Top gate thin film transistor and method of producing the same |
JP3701832B2 (ja) * | 2000-02-04 | 2005-10-05 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 薄膜トランジスタ、液晶表示パネル、および薄膜トランジスタの製造方法 |
KR100859508B1 (ko) * | 2001-12-07 | 2008-09-22 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 |
US20060063692A1 (en) * | 2004-09-17 | 2006-03-23 | Alliant Techsystems Inc | Gun cleaning system, method, and compositions therefor |
JP2006344849A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Casio Comput Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
CN100437238C (zh) * | 2005-12-22 | 2008-11-26 | 群康科技(深圳)有限公司 | 液晶显示装置 |
JP4386084B2 (ja) * | 2007-03-06 | 2009-12-16 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶装置及び電子機器 |
CN102221755B (zh) * | 2010-04-14 | 2015-04-29 | 上海天马微电子有限公司 | 内嵌式触摸屏及内嵌式触摸屏的形成方法 |
US9116403B2 (en) * | 2013-05-31 | 2015-08-25 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Substrate, display panel and display device |
CN103278988A (zh) * | 2013-05-31 | 2013-09-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种基板、显示面板及显示装置 |
CN103345096B (zh) * | 2013-07-15 | 2015-11-25 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板及显示装置 |
CN103399437A (zh) * | 2013-08-08 | 2013-11-20 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种显示装置及其显示面板 |
CN103728766B (zh) * | 2013-12-27 | 2016-03-30 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶面板及其彩色滤光片基板 |
CN104267546A (zh) * | 2014-09-19 | 2015-01-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板和显示装置 |
CN105116640A (zh) * | 2015-09-23 | 2015-12-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 像素结构 |
CN105093666A (zh) * | 2015-09-23 | 2015-11-25 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 像素结构 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54108595A (en) * | 1978-02-13 | 1979-08-25 | Sharp Corp | Driving method of matrix type liquid-crystal display unit |
JPS5699383A (en) * | 1980-01-11 | 1981-08-10 | Citizen Watch Co Ltd | Display panel |
JPS5759355A (en) * | 1980-09-26 | 1982-04-09 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
JPS5929289A (ja) * | 1982-08-12 | 1984-02-16 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示パネル用基板 |
JPS59181064A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-15 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4174217A (en) * | 1974-08-02 | 1979-11-13 | Rca Corporation | Method for making semiconductor structure |
GB1525405A (en) * | 1974-10-14 | 1978-09-20 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display panels |
GB2056739B (en) * | 1979-07-30 | 1984-03-21 | Sharp Kk | Segmented type liquid crystal display and driving method thereof |
JPS5764776A (en) * | 1980-10-09 | 1982-04-20 | Nippon Denshi Kogyo Shinko | Liquid crystal display unit |
FR2505070B1 (fr) * | 1981-01-16 | 1986-04-04 | Suwa Seikosha Kk | Dispositif non lineaire pour un panneau d'affichage a cristaux liquides et procede de fabrication d'un tel panneau d'affichage |
US4459739A (en) * | 1981-05-26 | 1984-07-17 | Northern Telecom Limited | Thin film transistors |
JPS5856466A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-04 | Toshiba Corp | 薄膜電界効果トランジスタ |
JPS5910988A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-20 | ホシデン株式会社 | カラ−液晶表示器 |
JPS5961818A (ja) * | 1982-10-01 | 1984-04-09 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
JPS59137930A (ja) * | 1983-01-28 | 1984-08-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラ−光プリンタヘツド |
JPS59189676A (ja) * | 1983-04-12 | 1984-10-27 | Sony Corp | 半導体装置 |
US4736229A (en) * | 1983-05-11 | 1988-04-05 | Alphasil Incorporated | Method of manufacturing flat panel backplanes, display transistors and displays made thereby |
JPS6045219A (ja) * | 1983-08-23 | 1985-03-11 | Toshiba Corp | アクテイブマトリクス型表示装置 |
US4633284A (en) * | 1983-11-08 | 1986-12-30 | Energy Conversion Devices, Inc. | Thin film transistor having an annealed gate oxide and method of making same |
JPH0697317B2 (ja) * | 1984-04-11 | 1994-11-30 | ホシデン株式会社 | 液晶表示器 |
JPS60222821A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-07 | Canon Inc | カラ−液晶表示セル |
JPH0750381B2 (ja) * | 1984-12-20 | 1995-05-31 | キヤノン株式会社 | カラー液晶表示装置 |
US4678282A (en) * | 1985-02-19 | 1987-07-07 | Ovonic Imaging Systems, Inc. | Active display matrix addressable without crossed lines on any one substrate and method of using the same |
-
1985
- 1985-10-04 JP JP60221664A patent/JPS6280626A/ja active Pending
-
1986
- 1986-09-26 US US06/911,694 patent/US4776673A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-02 KR KR1019860008256A patent/KR870004329A/ko not_active Application Discontinuation
- 1986-10-03 EP EP86113672A patent/EP0221361B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-03 EP EP90108818A patent/EP0390225B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-03 DE DE8686113672T patent/DE3680287D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-03 AT AT86113672T patent/ATE65331T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-10-03 DE DE3689728T patent/DE3689728T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-07-29 US US07/227,033 patent/US4869576A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-05-10 AT AT90108818T patent/ATE103083T1/de active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54108595A (en) * | 1978-02-13 | 1979-08-25 | Sharp Corp | Driving method of matrix type liquid-crystal display unit |
JPS5699383A (en) * | 1980-01-11 | 1981-08-10 | Citizen Watch Co Ltd | Display panel |
JPS5759355A (en) * | 1980-09-26 | 1982-04-09 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
JPS5929289A (ja) * | 1982-08-12 | 1984-02-16 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示パネル用基板 |
JPS59181064A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-15 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5036370A (en) * | 1989-07-04 | 1991-07-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Thin film semiconductor array device |
JPH04366819A (ja) * | 1991-06-13 | 1992-12-18 | Nec Corp | アクティブマトリックス液晶ディスプレイ装置 |
JP2002357843A (ja) * | 2001-06-04 | 2002-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE103083T1 (de) | 1994-04-15 |
EP0221361B1 (en) | 1991-07-17 |
US4869576A (en) | 1989-09-26 |
DE3689728D1 (de) | 1994-04-21 |
EP0221361A1 (en) | 1987-05-13 |
DE3689728T2 (de) | 1994-07-21 |
ATE65331T1 (de) | 1991-08-15 |
US4776673A (en) | 1988-10-11 |
DE3680287D1 (de) | 1991-08-22 |
KR870004329A (ko) | 1987-05-08 |
EP0390225B1 (en) | 1994-03-16 |
EP0390225A1 (en) | 1990-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6280626A (ja) | 液晶表示素子 | |
JP2701698B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP3289099B2 (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法 | |
JP2701832B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
KR100498632B1 (ko) | 액정 표시패널 및 그 제조방법 | |
KR20020028477A (ko) | 프린지 필드 구동 액정 표시 장치 | |
US7460192B2 (en) | Liquid crystal display, thin film diode panel, and manufacturing method of the same | |
US20080068551A1 (en) | Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same | |
JP3006586B2 (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示装置 | |
KR100396823B1 (ko) | 능동 매트릭스 액정표시장치 | |
US6833897B2 (en) | IPS-LCD device with a color filter formed on an array substrate | |
US20020054267A1 (en) | Liquid crystal display device and method for manufacturing same and color filter substrate | |
JPH06294971A (ja) | 液晶表示装置 | |
KR20110041139A (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
US6734939B2 (en) | Array substrate for liquid crystal display device | |
KR20050067906A (ko) | 액정표시장치 및 그의 제조방법 | |
KR20040103109A (ko) | 액정 표시 장치 | |
JPH10253988A (ja) | 液晶表示装置 | |
JPH09127494A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
US8547515B2 (en) | Display substrate with pixel electrode having V-shape and trapezoidal protrusions, a method of manufacturing the same and a display apparatus having the same | |
JPS6242127A (ja) | 光阻止及びセル・スペ−サ構造を持つ液晶表示装置 | |
JP2002122876A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2004046123A (ja) | 液晶表示装置 | |
JPS6328308B2 (ja) | ||
JP3282542B2 (ja) | アクティブマトリックス型液晶表示装置 |