JPS6274374A - ハイパ−サ−ミア装置 - Google Patents
ハイパ−サ−ミア装置Info
- Publication number
- JPS6274374A JPS6274374A JP21637685A JP21637685A JPS6274374A JP S6274374 A JPS6274374 A JP S6274374A JP 21637685 A JP21637685 A JP 21637685A JP 21637685 A JP21637685 A JP 21637685A JP S6274374 A JPS6274374 A JP S6274374A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- temperature
- living body
- electrode
- probe
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- Electrotherapy Devices (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は加温治療を行なうための/\イパーサーミア
装置に関する。
装置に関する。
従来の技術
温熱療法(ハイパーサーミア)は、癌の治療に優れた効
果をあげるものとして知られているが、加温中に体内温
度分布をモニタしていないと予期しない場所が高温にな
ったり、あるいは所定の温度(43℃以上)に達してい
ないことがある。
果をあげるものとして知られているが、加温中に体内温
度分布をモニタしていないと予期しない場所が高温にな
ったり、あるいは所定の温度(43℃以上)に達してい
ないことがある。
そこで、高周波誘導加熱方式(第3図)またはマイクロ
波加熱方式(第4図)で生体を加温するが、従来では第
3図または第4図のようにして生体内の温度をAll!
定するようにしている。高岡波誘導加熱方式のハイパー
サーミア装置では、第3図のように加熱エネルギ源lか
ら発生する高周波(周波数5〜2450MHz)エネル
ギが電極21.22に印加され、生体3が誘導加熱され
る。
波加熱方式(第4図)で生体を加温するが、従来では第
3図または第4図のようにして生体内の温度をAll!
定するようにしている。高岡波誘導加熱方式のハイパー
サーミア装置では、第3図のように加熱エネルギ源lか
ら発生する高周波(周波数5〜2450MHz)エネル
ギが電極21.22に印加され、生体3が誘導加熱され
る。
マイクロ波加熱方式のハイパーサーミア装置では、第4
図のように加熱エネルギ源1からのエネルギがアプリケ
ータ(アンテナ)4より生体3内に放射され、加熱され
る。流体層51.52は。
図のように加熱エネルギ源1からのエネルギがアプリケ
ータ(アンテナ)4より生体3内に放射され、加熱され
る。流体層51.52は。
これらの高周波加熱またはマイクロ波加熱において、生
体3の表面の冷却のため、および電極21.22、アプ
リケータ4と生体3とのインピータンス整合のために、
生体3の表面と電極21.22またはアプリケータ4と
の間に置かれることが多い。
体3の表面の冷却のため、および電極21.22、アプ
リケータ4と生体3とのインピータンス整合のために、
生体3の表面と電極21.22またはアプリケータ4と
の間に置かれることが多い。
生体3内の温度は、サーミスタや熱電対などの温度掻出
素子6を生体3内に刺込れ、測温装置7によってJll
+定される。そして、Δ11温装′j!17で温度表示
したり、その温度測定信号を制御装置8にフィードバッ
クする。制御装置8は測定した温度に応じて加熱エネル
ギ源lの電圧、周波数、位相等を制御し、生体3を目的
の温度に維持する。
素子6を生体3内に刺込れ、測温装置7によってJll
+定される。そして、Δ11温装′j!17で温度表示
したり、その温度測定信号を制御装置8にフィードバッ
クする。制御装置8は測定した温度に応じて加熱エネル
ギ源lの電圧、周波数、位相等を制御し、生体3を目的
の温度に維持する。
発明が解決しようとする問題点
しかし、従来のハイパーサーミア装置のように、サーミ
スタや熱電対を患者体内に刺入れて温度を測定したり、
加温制御を行なうというのでは、患者の負担が大きく好
ましいことではない。
スタや熱電対を患者体内に刺入れて温度を測定したり、
加温制御を行なうというのでは、患者の負担が大きく好
ましいことではない。
しかも、サーミスタや熱電対では限られた点しかδ11
定できないので、ホットスポットが生じても分らずに加
温を続は患者に火傷を負わす危険もある。
定できないので、ホットスポットが生じても分らずに加
温を続は患者に火傷を負わす危険もある。
この発明は、加温中の生体内温度分布を無侵襲に測定す
ることによって、患者に負担を与えず、しかも安全なハ
イパーサーミア装置を提供することを目的とする。
ることによって、患者に負担を与えず、しかも安全なハ
イパーサーミア装置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
この発明によるハイパーサーミア装置は、加熱エネルギ
源と、流体を介して生体表面にあてがわれ、上記加熱エ
ネルギ源よりエネルギ供給を受ける電極またはアプリケ
ータと、上記電極またはアプリケータと一体に形成され
るプローブを備える超音波測温装置とからなる。
源と、流体を介して生体表面にあてがわれ、上記加熱エ
ネルギ源よりエネルギ供給を受ける電極またはアプリケ
ータと、上記電極またはアプリケータと一体に形成され
るプローブを備える超音波測温装置とからなる。
作 用
加温治療中の生体温度を、超音波測温装置により無侵襲
に測定することができる。したがって1、p者に負担を
かけることなしに、加温中の体内温度分布をモニタした
り、温度制御を行なったりできる。しかも、超音波側温
装置のプローブは加温用の一心極またはアプリケータと
一体であるため、加温中に随時温度測定することが容易
であるとともに、加温用電極およびアプリケータの位置
再現性もよい。
に測定することができる。したがって1、p者に負担を
かけることなしに、加温中の体内温度分布をモニタした
り、温度制御を行なったりできる。しかも、超音波側温
装置のプローブは加温用の一心極またはアプリケータと
一体であるため、加温中に随時温度測定することが容易
であるとともに、加温用電極およびアプリケータの位置
再現性もよい。
実施例
第1図A、Hにおいて、流体層51内に回転軸11が設
けられ、この軸11に加温用の電極21とプローブ9と
が一体に設けられて、軸11によって一体に回転するよ
うにされている。このプローブ9はaR波測温装置10
のプローブであり、ここから扇形の超音波の送・受波が
なされる。加熱エネルギ源1からの高周波エネルギは、
生体3をはさんで対向配置された電極21と′上極22
に供給され、生体3が誘導加熱される。流体層5工、5
2は、電極21.22と生体3とのインピーダンス整合
のため、および生体3の表面の冷却のために使用される
。
けられ、この軸11に加温用の電極21とプローブ9と
が一体に設けられて、軸11によって一体に回転するよ
うにされている。このプローブ9はaR波測温装置10
のプローブであり、ここから扇形の超音波の送・受波が
なされる。加熱エネルギ源1からの高周波エネルギは、
生体3をはさんで対向配置された電極21と′上極22
に供給され、生体3が誘導加熱される。流体層5工、5
2は、電極21.22と生体3とのインピーダンス整合
のため、および生体3の表面の冷却のために使用される
。
加温時には第1図Aのように電極21が生体3に近づけ
ちれ、プローブ9は退避した位置にある。この状態で加
熱エネルギJlから電M121.22にエネルギが供給
されることによって生体3が1誘導加熱される。
ちれ、プローブ9は退避した位置にある。この状態で加
熱エネルギJlから電M121.22にエネルギが供給
されることによって生体3が1誘導加熱される。
つぎにAll+温時には第1図Bの状態とされる。すな
わち、制御装置8からの指令などにより回転軸11が第
1図Aの状態から矢印のように回転してプローブ9が生
体3に近づけられ、電極21は退避する。このとき、電
極21.22にエネルギを供給することは停止され、超
音波側温装置10が動作して、プローブ9から超音波の
扇形ビームが送波され、その後受波される。この受波信
号の減衰や周波数特性等の温度依存性を利用して、超音
波測温装置lOにより生体3内の広い範囲での温度分布
を求めることができる。こうして求められる生体3内の
温度分布は制御装置8にフィードパンクされ、加熱エネ
ルギ源工の加熱パラメータ(電圧、位相、周波数等)が
制御される。
わち、制御装置8からの指令などにより回転軸11が第
1図Aの状態から矢印のように回転してプローブ9が生
体3に近づけられ、電極21は退避する。このとき、電
極21.22にエネルギを供給することは停止され、超
音波側温装置10が動作して、プローブ9から超音波の
扇形ビームが送波され、その後受波される。この受波信
号の減衰や周波数特性等の温度依存性を利用して、超音
波測温装置lOにより生体3内の広い範囲での温度分布
を求めることができる。こうして求められる生体3内の
温度分布は制御装置8にフィードパンクされ、加熱エネ
ルギ源工の加熱パラメータ(電圧、位相、周波数等)が
制御される。
こうして、つぎに加温状態とされたときに、生体3内の
温度分布が所望のものとなるよう制御されながら加温さ
れることになる。この際、電極21とプローブ9と′が
回転軸11に取り付けられて一体に回転するため、加温
と311温とを筒中に切り換え、る、−一とができると
ともに、電極21およびプローブ9の位置再現性も良好
で、常に同じ状態で加温、Jl+温を行なうことができ
、長い時間の温熱療法を安定に遂行できる。このように
して、たとえば5分の加温と30秒の411温とを繰り
返して30〜90分の加温治療を行なえば、所望の温度
分布での温熱療法を実行できる。
温度分布が所望のものとなるよう制御されながら加温さ
れることになる。この際、電極21とプローブ9と′が
回転軸11に取り付けられて一体に回転するため、加温
と311温とを筒中に切り換え、る、−一とができると
ともに、電極21およびプローブ9の位置再現性も良好
で、常に同じ状態で加温、Jl+温を行なうことができ
、長い時間の温熱療法を安定に遂行できる。このように
して、たとえば5分の加温と30秒の411温とを繰り
返して30〜90分の加温治療を行なえば、所望の温度
分布での温熱療法を実行できる。
なお、上記では高周波誘導加熱方式を例に説明したが、
マイクロ波加熱方式の場合でも同様である。
マイクロ波加熱方式の場合でも同様である。
また、高周波誘導加熱方式の場合、上記のように電極2
1とプローブ9とを一体に回転させるのでなく、第2図
A、Bのように、加熱時には電極21a、21bが一体
となり(第2図A)、測温時には相互に分離して離れる
(第2図B)ような構造をとることもできる。
1とプローブ9とを一体に回転させるのでなく、第2図
A、Bのように、加熱時には電極21a、21bが一体
となり(第2図A)、測温時には相互に分離して離れる
(第2図B)ような構造をとることもできる。
発明の効果
この発明のハイパーサーミア装着を用いれば。
加温中の生体内温度分布を無侵襲にモニタすることがで
き、温度制御も正確になる。無侵襲に温度′All+定
できることによって、7m者に負担を与えずにすむ。し
かも限られた測定点ではなく、広い範囲での温度の1)
7を測定することができるので、所望の温度分布での温
熱療法を行なうことができ、治療効果が大きい、さらに
、ホットスポットなどが生じてもそれを直ちに発見でき
、きわめて安全である。
き、温度制御も正確になる。無侵襲に温度′All+定
できることによって、7m者に負担を与えずにすむ。し
かも限られた測定点ではなく、広い範囲での温度の1)
7を測定することができるので、所望の温度分布での温
熱療法を行なうことができ、治療効果が大きい、さらに
、ホットスポットなどが生じてもそれを直ちに発見でき
、きわめて安全である。
第1図A、Bはこの発明の一実施例を示すもので、第1
図Aは加温中の状態を示すブロック図、第1図Bは温度
測定中の状態を示すブロック図、第2図A、Bは他の実
施例に関するもので、第2図Aは加温中の状態を、第2
図Bは温度測定中の状j島をそれぞれ示すブロック図、
第3図および第4図はそれぞれ従来例を示すブロック図
である。 J・・・加熱エネルギ源 21.22・・・電極3・
・・生体 4・・・アプリh−タ51.
52・・・流体層 6・・・温用検出未f7・・・測
温装置 8・・・制御装置9・・・プローブ
10・・・超音波M1温装置11・・・回転軸
図Aは加温中の状態を示すブロック図、第1図Bは温度
測定中の状態を示すブロック図、第2図A、Bは他の実
施例に関するもので、第2図Aは加温中の状態を、第2
図Bは温度測定中の状j島をそれぞれ示すブロック図、
第3図および第4図はそれぞれ従来例を示すブロック図
である。 J・・・加熱エネルギ源 21.22・・・電極3・
・・生体 4・・・アプリh−タ51.
52・・・流体層 6・・・温用検出未f7・・・測
温装置 8・・・制御装置9・・・プローブ
10・・・超音波M1温装置11・・・回転軸
Claims (1)
- (1)加熱エネルギ源と、流体を介して生体表面にあて
がわれ、上記加熱エネルギ源よりエネルギ供給を受ける
電極またはアプリケータと、上記電極またはアプリケー
タと一体に形成されるプローブを備える超音波測温装置
とからなるハイパーサーミア装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60216376A JP2503952B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60216376A JP2503952B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6274374A true JPS6274374A (ja) | 1987-04-06 |
JP2503952B2 JP2503952B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=16687600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60216376A Expired - Lifetime JP2503952B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2503952B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63252172A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-19 | オリンパス光学工業株式会社 | ハイパ−サ−ミア装置 |
JPS63305863A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-13 | Agency Of Ind Science & Technol | ハイパ−サ−ミア装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58116346A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-11 | 株式会社島津製作所 | 超音波診断装置 |
JPS59222163A (ja) * | 1983-05-30 | 1984-12-13 | 山本ビニタ−株式会社 | 高周波加温療法における患部温度検出装置 |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP60216376A patent/JP2503952B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58116346A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-11 | 株式会社島津製作所 | 超音波診断装置 |
JPS59222163A (ja) * | 1983-05-30 | 1984-12-13 | 山本ビニタ−株式会社 | 高周波加温療法における患部温度検出装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63252172A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-19 | オリンパス光学工業株式会社 | ハイパ−サ−ミア装置 |
JP2635585B2 (ja) * | 1987-04-10 | 1997-07-30 | オリンパス光学工業株式会社 | ハイパーサーミア装置 |
JPS63305863A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-13 | Agency Of Ind Science & Technol | ハイパ−サ−ミア装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2503952B2 (ja) | 1996-06-05 |
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