JPS6274374A - ハイパ−サ−ミア装置 - Google Patents

ハイパ−サ−ミア装置

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JPS6274374A
JPS6274374A JP21637685A JP21637685A JPS6274374A JP S6274374 A JPS6274374 A JP S6274374A JP 21637685 A JP21637685 A JP 21637685A JP 21637685 A JP21637685 A JP 21637685A JP S6274374 A JPS6274374 A JP S6274374A
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heating
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electrode
probe
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忠 伊藤
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は加温治療を行なうための/\イパーサーミア
装置に関する。
従来の技術 温熱療法(ハイパーサーミア)は、癌の治療に優れた効
果をあげるものとして知られているが、加温中に体内温
度分布をモニタしていないと予期しない場所が高温にな
ったり、あるいは所定の温度(43℃以上)に達してい
ないことがある。
そこで、高周波誘導加熱方式(第3図)またはマイクロ
波加熱方式(第4図)で生体を加温するが、従来では第
3図または第4図のようにして生体内の温度をAll!
定するようにしている。高岡波誘導加熱方式のハイパー
サーミア装置では、第3図のように加熱エネルギ源lか
ら発生する高周波(周波数5〜2450MHz)エネル
ギが電極21.22に印加され、生体3が誘導加熱され
る。
マイクロ波加熱方式のハイパーサーミア装置では、第4
図のように加熱エネルギ源1からのエネルギがアプリケ
ータ(アンテナ)4より生体3内に放射され、加熱され
る。流体層51.52は。
これらの高周波加熱またはマイクロ波加熱において、生
体3の表面の冷却のため、および電極21.22、アプ
リケータ4と生体3とのインピータンス整合のために、
生体3の表面と電極21.22またはアプリケータ4と
の間に置かれることが多い。
生体3内の温度は、サーミスタや熱電対などの温度掻出
素子6を生体3内に刺込れ、測温装置7によってJll
+定される。そして、Δ11温装′j!17で温度表示
したり、その温度測定信号を制御装置8にフィードバッ
クする。制御装置8は測定した温度に応じて加熱エネル
ギ源lの電圧、周波数、位相等を制御し、生体3を目的
の温度に維持する。
発明が解決しようとする問題点 しかし、従来のハイパーサーミア装置のように、サーミ
スタや熱電対を患者体内に刺入れて温度を測定したり、
加温制御を行なうというのでは、患者の負担が大きく好
ましいことではない。
しかも、サーミスタや熱電対では限られた点しかδ11
定できないので、ホットスポットが生じても分らずに加
温を続は患者に火傷を負わす危険もある。
この発明は、加温中の生体内温度分布を無侵襲に測定す
ることによって、患者に負担を与えず、しかも安全なハ
イパーサーミア装置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 この発明によるハイパーサーミア装置は、加熱エネルギ
源と、流体を介して生体表面にあてがわれ、上記加熱エ
ネルギ源よりエネルギ供給を受ける電極またはアプリケ
ータと、上記電極またはアプリケータと一体に形成され
るプローブを備える超音波測温装置とからなる。
作    用 加温治療中の生体温度を、超音波測温装置により無侵襲
に測定することができる。したがって1、p者に負担を
かけることなしに、加温中の体内温度分布をモニタした
り、温度制御を行なったりできる。しかも、超音波側温
装置のプローブは加温用の一心極またはアプリケータと
一体であるため、加温中に随時温度測定することが容易
であるとともに、加温用電極およびアプリケータの位置
再現性もよい。
実施例 第1図A、Hにおいて、流体層51内に回転軸11が設
けられ、この軸11に加温用の電極21とプローブ9と
が一体に設けられて、軸11によって一体に回転するよ
うにされている。このプローブ9はaR波測温装置10
のプローブであり、ここから扇形の超音波の送・受波が
なされる。加熱エネルギ源1からの高周波エネルギは、
生体3をはさんで対向配置された電極21と′上極22
に供給され、生体3が誘導加熱される。流体層5工、5
2は、電極21.22と生体3とのインピーダンス整合
のため、および生体3の表面の冷却のために使用される
加温時には第1図Aのように電極21が生体3に近づけ
ちれ、プローブ9は退避した位置にある。この状態で加
熱エネルギJlから電M121.22にエネルギが供給
されることによって生体3が1誘導加熱される。
つぎにAll+温時には第1図Bの状態とされる。すな
わち、制御装置8からの指令などにより回転軸11が第
1図Aの状態から矢印のように回転してプローブ9が生
体3に近づけられ、電極21は退避する。このとき、電
極21.22にエネルギを供給することは停止され、超
音波側温装置10が動作して、プローブ9から超音波の
扇形ビームが送波され、その後受波される。この受波信
号の減衰や周波数特性等の温度依存性を利用して、超音
波測温装置lOにより生体3内の広い範囲での温度分布
を求めることができる。こうして求められる生体3内の
温度分布は制御装置8にフィードパンクされ、加熱エネ
ルギ源工の加熱パラメータ(電圧、位相、周波数等)が
制御される。
こうして、つぎに加温状態とされたときに、生体3内の
温度分布が所望のものとなるよう制御されながら加温さ
れることになる。この際、電極21とプローブ9と′が
回転軸11に取り付けられて一体に回転するため、加温
と311温とを筒中に切り換え、る、−一とができると
ともに、電極21およびプローブ9の位置再現性も良好
で、常に同じ状態で加温、Jl+温を行なうことができ
、長い時間の温熱療法を安定に遂行できる。このように
して、たとえば5分の加温と30秒の411温とを繰り
返して30〜90分の加温治療を行なえば、所望の温度
分布での温熱療法を実行できる。
なお、上記では高周波誘導加熱方式を例に説明したが、
マイクロ波加熱方式の場合でも同様である。
また、高周波誘導加熱方式の場合、上記のように電極2
1とプローブ9とを一体に回転させるのでなく、第2図
A、Bのように、加熱時には電極21a、21bが一体
となり(第2図A)、測温時には相互に分離して離れる
(第2図B)ような構造をとることもできる。
発明の効果 この発明のハイパーサーミア装着を用いれば。
加温中の生体内温度分布を無侵襲にモニタすることがで
き、温度制御も正確になる。無侵襲に温度′All+定
できることによって、7m者に負担を与えずにすむ。し
かも限られた測定点ではなく、広い範囲での温度の1)
7を測定することができるので、所望の温度分布での温
熱療法を行なうことができ、治療効果が大きい、さらに
、ホットスポットなどが生じてもそれを直ちに発見でき
、きわめて安全である。
【図面の簡単な説明】
第1図A、Bはこの発明の一実施例を示すもので、第1
図Aは加温中の状態を示すブロック図、第1図Bは温度
測定中の状態を示すブロック図、第2図A、Bは他の実
施例に関するもので、第2図Aは加温中の状態を、第2
図Bは温度測定中の状j島をそれぞれ示すブロック図、
第3図および第4図はそれぞれ従来例を示すブロック図
である。 J・・・加熱エネルギ源  21.22・・・電極3・
・・生体        4・・・アプリh−タ51.
52・・・流体層  6・・・温用検出未f7・・・測
温装置     8・・・制御装置9・・・プローブ 
    10・・・超音波M1温装置11・・・回転軸

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)加熱エネルギ源と、流体を介して生体表面にあて
    がわれ、上記加熱エネルギ源よりエネルギ供給を受ける
    電極またはアプリケータと、上記電極またはアプリケー
    タと一体に形成されるプローブを備える超音波測温装置
    とからなるハイパーサーミア装置。
JP60216376A 1985-09-30 1985-09-30 ハイパ−サ−ミア装置 Expired - Lifetime JP2503952B2 (ja)

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JPS6274374A true JPS6274374A (ja) 1987-04-06
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JPS63252172A (ja) * 1987-04-10 1988-10-19 オリンパス光学工業株式会社 ハイパ−サ−ミア装置
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JP2503952B2 (ja) 1996-06-05

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