JPS626415A - 複合磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
複合磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS626415A JPS626415A JP14536085A JP14536085A JPS626415A JP S626415 A JPS626415 A JP S626415A JP 14536085 A JP14536085 A JP 14536085A JP 14536085 A JP14536085 A JP 14536085A JP S626415 A JPS626415 A JP S626415A
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/265—Structure or manufacture of a head with more than one gap for erasing, recording or reproducing on the same track
- G11B5/2652—Structure or manufacture of a head with more than one gap for erasing, recording or reproducing on the same track with more than one gap simultaneously operative
- G11B5/2654—Structure or manufacture of a head with more than one gap for erasing, recording or reproducing on the same track with more than one gap simultaneously operative for recording or erasing
- G11B5/2655—Structure or manufacture of a head with more than one gap for erasing, recording or reproducing on the same track with more than one gap simultaneously operative for recording or erasing with all the gaps disposed within the track or "guard band" between tracks, e.g. with erase gaps operative on track edges, with wide erase gap followed by narrow write gap
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3186—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes parallel to the gap plane, e.g. "vertical head structure"
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばフロッピーディスク等の磁気ディスク
に対して高密度記録をするのに使用して好適な複合磁気
ヘッドの製造方法に関し、詳細には、上記複合磁気ヘッ
ドを構成する消去ヘッドのギャップが所要の角度を有し
てなる複合磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
に対して高密度記録をするのに使用して好適な複合磁気
ヘッドの製造方法に関し、詳細には、上記複合磁気ヘッ
ドを構成する消去ヘッドのギャップが所要の角度を有し
てなる複合磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
本発明は、消去ヘッドと記録再生用の薄膜磁気ヘッドと
が一体化されてなる複合磁気ヘッドを製造するに際し、 酸化物磁性材料よりなる磁性基板の一平面に所要の角度
を有する溝を形成し、ギャップスペーサを介して前記一
平面上に磁性薄膜を形成することにより消去ヘッドを作
製し、この消去ヘッドに対し基板上に形成された磁性薄
膜により記録再生が行われる薄膜磁気ヘッドを一体化す
ることにより、各ヘッド間のクロストークを防止できる
複合磁気ヘッドを効率良く生産しようとするものである
。
が一体化されてなる複合磁気ヘッドを製造するに際し、 酸化物磁性材料よりなる磁性基板の一平面に所要の角度
を有する溝を形成し、ギャップスペーサを介して前記一
平面上に磁性薄膜を形成することにより消去ヘッドを作
製し、この消去ヘッドに対し基板上に形成された磁性薄
膜により記録再生が行われる薄膜磁気ヘッドを一体化す
ることにより、各ヘッド間のクロストークを防止できる
複合磁気ヘッドを効率良く生産しようとするものである
。
磁気ディスクの一例である例えばフロ、７ピーデイスク
は、取扱が比較的簡単で、しかも大容量の信号を記録で
きるので、ミニコンピユータ、オフィスコンピュータ、
パーソナルコンピュータ等の外部記憶装置としての使用
が拡大されている。
は、取扱が比較的簡単で、しかも大容量の信号を記録で
きるので、ミニコンピユータ、オフィスコンピュータ、
パーソナルコンピュータ等の外部記憶装置としての使用
が拡大されている。
一般に、磁気ディスクを用いたフロッピーディスクにお
いては、所定のデータの記録に略円形のトラックを形成
しているので、記録再生用ヘッドのギャップ消去用ヘッ
ドのギャップとの距離が大きいと位置ずれ（オフトラッ
ク）等が生じ易く、さらに近年、上記ギャップ間距離を
小さくすることが要望されている。
いては、所定のデータの記録に略円形のトラックを形成
しているので、記録再生用ヘッドのギャップ消去用ヘッ
ドのギャップとの距離が大きいと位置ずれ（オフトラッ
ク）等が生じ易く、さらに近年、上記ギャップ間距離を
小さくすることが要望されている。
そこで、第１１図に示すように、記録再生用として薄膜
形成技術で作製した薄膜磁気ヘッド（５１）を使用し、
消去用としてフェライトコアを使用した、いわゆるバル
クタイプの消去ヘッド（５７）を使用し、これら薄膜磁
気ヘッド（５１）と消去ヘッド（５７）をガラス等で接
合合体した複合磁気ヘッドが提案されている。
形成技術で作製した薄膜磁気ヘッド（５１）を使用し、
消去用としてフェライトコアを使用した、いわゆるバル
クタイプの消去ヘッド（５７）を使用し、これら薄膜磁
気ヘッド（５１）と消去ヘッド（５７）をガラス等で接
合合体した複合磁気ヘッドが提案されている。
上記薄膜磁気ヘッド（５１）は、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライ
ト等よりなる基板（５２）上にギャップ膜（５３）を介
してコイル導体（図示せず）が形成されるとともに、ト
ラック幅を規制する磁性薄膜（５４）が形成され、この
コイル導体に駆動電流を供給することにより、上記基板
（５２）と磁性薄膜（５４）で閉磁路を形成し、記録再
生用のヘッドとして作動するように構成されている。さ
らに、上記磁性薄膜（５４）上には保護膜（５５）を介
してガラス等よりなる非磁性接着材（５６）が充填され
ている。この薄膜磁気ヘッド（５１）において、上述の
ギャップ膜（５３）、磁性薄膜（５４）、保護膜（５５
）、コイル導体等は薄膜形成技術やフォトリソグラフィ
技術等で形成されており、極めて薄く形成されている。
ト等よりなる基板（５２）上にギャップ膜（５３）を介
してコイル導体（図示せず）が形成されるとともに、ト
ラック幅を規制する磁性薄膜（５４）が形成され、この
コイル導体に駆動電流を供給することにより、上記基板
（５２）と磁性薄膜（５４）で閉磁路を形成し、記録再
生用のヘッドとして作動するように構成されている。さ
らに、上記磁性薄膜（５４）上には保護膜（５５）を介
してガラス等よりなる非磁性接着材（５６）が充填され
ている。この薄膜磁気ヘッド（５１）において、上述の
ギャップ膜（５３）、磁性薄膜（５４）、保護膜（５５
）、コイル導体等は薄膜形成技術やフォトリソグラフィ
技術等で形成されており、極めて薄く形成されている。
一方、この薄膜磁気ヘッド（５１）に隣接して融着され
る消去ヘッド（５７）は、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト等よ
りなる磁性コア（５８） 、 （５９）で、ギャップ膜
（６０）を挟んで、ガラス等の接着材（６１）で接合さ
れている。従って、磁気コア（５９）に捲回されたコイ
ル（図示せず）に駆動電流を供給することにより、上記
各磁気コア（５８） 、 （５９）で閉磁路を形成し、
消去ヘッド（５７）として作動するように構成されてい
る。
る消去ヘッド（５７）は、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト等よ
りなる磁性コア（５８） 、 （５９）で、ギャップ膜
（６０）を挟んで、ガラス等の接着材（６１）で接合さ
れている。従って、磁気コア（５９）に捲回されたコイ
ル（図示せず）に駆動電流を供給することにより、上記
各磁気コア（５８） 、 （５９）で閉磁路を形成し、
消去ヘッド（５７）として作動するように構成されてい
る。
したがって、磁気ディスクを第１１図中矢印Ｚ方向に移
動することにより、消去ヘッド（５７）で不用な信号を
消去した後、薄膜磁気ヘッド（５１）で記録するように
なっている。
動することにより、消去ヘッド（５７）で不用な信号を
消去した後、薄膜磁気ヘッド（５１）で記録するように
なっている。
このような構成の複合磁気ヘッドは、記録再生用ヘッド
として薄膜磁気ヘッド（５１）を使用しているため、比
較的小型に形成できるとともに、消去ヘッド（５７）が
薄膜磁気へノド（５１）に隣接して配設されているので
、薄膜磁気ヘッド（５１）のギャップｇと消去ヘッドの
ギャップｇ′との距ｍＡを小さくすることができ、磁気
ディスクに対して高密度記録をするのに適した複合磁気
ヘッドとなる。
として薄膜磁気ヘッド（５１）を使用しているため、比
較的小型に形成できるとともに、消去ヘッド（５７）が
薄膜磁気へノド（５１）に隣接して配設されているので
、薄膜磁気ヘッド（５１）のギャップｇと消去ヘッドの
ギャップｇ′との距ｍＡを小さくすることができ、磁気
ディスクに対して高密度記録をするのに適した複合磁気
ヘッドとなる。
しかしながら、上記複合磁気ヘッドにあっては、磁気デ
ィスクの小径化や高密度記録化に伴って、ギャップ間距
離Ａが小さく構成されているので、消去ヘッド（５７）
のギャップｇ で再生した信号が薄膜磁気ヘッド（５１
）に漏洩（いわゆるクロストーク）し易く、疑似信号と
して記録再生してしまうという問題がある。例えば、上
述の構造を有する複合磁気ヘッドにおいて、ギャップ間
距離Ａを２００μｍとしたときは一２２ｄＢ程度のクロ
ストークが現れることがわかった。したがって、上記複
合磁気ヘッドを用いてデータや画像の記録再生行うと、
クロストークの影響が大きく良好な記録再生ができなく
なる。
ィスクの小径化や高密度記録化に伴って、ギャップ間距
離Ａが小さく構成されているので、消去ヘッド（５７）
のギャップｇ で再生した信号が薄膜磁気ヘッド（５１
）に漏洩（いわゆるクロストーク）し易く、疑似信号と
して記録再生してしまうという問題がある。例えば、上
述の構造を有する複合磁気ヘッドにおいて、ギャップ間
距離Ａを２００μｍとしたときは一２２ｄＢ程度のクロ
ストークが現れることがわかった。したがって、上記複
合磁気ヘッドを用いてデータや画像の記録再生行うと、
クロストークの影響が大きく良好な記録再生ができなく
なる。
この原因としては、消去ヘッド（５７）を構成する磁気
コア（５８） （記録再生ヘッド（５２）との対接側）
が大きいため、消去ヘッド（５９）の磁束が記録再生ヘ
ッド（５２）に飛び込むために生じると考えられる。
コア（５８） （記録再生ヘッド（５２）との対接側）
が大きいため、消去ヘッド（５９）の磁束が記録再生ヘ
ッド（５２）に飛び込むために生じると考えられる。
特に、このクロストークの影響はギャップｇ及びｇ′が
平行に形成されたときに顕著となる。
平行に形成されたときに顕著となる。
このクロストークによる影響を防止するための方法とし
ては、例えば消去ヘッドの消去用ギャップと薄膜磁気ヘ
ッドの記録再生用ギャップとが異なる角度で配置される
ように構成し、消去へノドの再生出力をアジマス損失に
より抑制する方法が考えられるが、このような薄膜磁気
ヘッドを製造するには、ギャップに対して斜めにスライ
シング加工を施さなければならないこと、したがって突
き合わせが難しいこと、等から生産性や信転性に劣ると
いう問題が生しる。
ては、例えば消去ヘッドの消去用ギャップと薄膜磁気ヘ
ッドの記録再生用ギャップとが異なる角度で配置される
ように構成し、消去へノドの再生出力をアジマス損失に
より抑制する方法が考えられるが、このような薄膜磁気
ヘッドを製造するには、ギャップに対して斜めにスライ
シング加工を施さなければならないこと、したがって突
き合わせが難しいこと、等から生産性や信転性に劣ると
いう問題が生しる。
そこで本発明は、上述の問題点を解決するために提案さ
れたものであって、クロ不トークが少なく信頬性に優れ
た複合磁気ヘッドを生産性良く製造するすることが可能
な複合磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とす
る。
れたものであって、クロ不トークが少なく信頬性に優れ
た複合磁気ヘッドを生産性良く製造するすることが可能
な複合磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とす
る。
この目的を達成するために、本発明の複合磁気へノドの
製造方法は、酸化物磁性材料よりなる磁性基板の一平面
に所要の角度を有する溝を形成し、ギャップスペーサを
介して前記一平面上に磁性薄膜を形成することにより消
去ヘッドを作製し、この消去ヘッドに対し基板上に形成
された磁性薄膜により記録再生が行われるＦ［！磁気ヘ
ッドを一体化することを特徴とするものである。
製造方法は、酸化物磁性材料よりなる磁性基板の一平面
に所要の角度を有する溝を形成し、ギャップスペーサを
介して前記一平面上に磁性薄膜を形成することにより消
去ヘッドを作製し、この消去ヘッドに対し基板上に形成
された磁性薄膜により記録再生が行われるＦ［！磁気ヘ
ッドを一体化することを特徴とするものである。
したがって、予め基板の一平面に所要の角度を存する溝
を形成した後、ギャップスペーサを介して上記一平面上
に磁性薄膜を形成することにより、消去用ギャップが所
定のアジマスをもった消去ヘッドが形成される。そして
、この消去ヘッドと薄膜磁気ヘッドとを一体化すること
により、クロストークのない複合磁気ヘッドが簡単に製
造できる。
を形成した後、ギャップスペーサを介して上記一平面上
に磁性薄膜を形成することにより、消去用ギャップが所
定のアジマスをもった消去ヘッドが形成される。そして
、この消去ヘッドと薄膜磁気ヘッドとを一体化すること
により、クロストークのない複合磁気ヘッドが簡単に製
造できる。
以下、本発明による複合磁気ヘッドの製造方法の一実施
例を図面を参照しながら説明する。
例を図面を参照しながら説明する。
まず、複数の消去ヘッド素子を有する消去ブロックの製
造方法について説明する。
造方法について説明する。
上記消去ブロックを作製するには、第１図に示すように
、表面をラップ処理等により平行度及び平滑度良く鏡面
加工された基板（１）に対して、この上面（１ａ）に所
望のアジマス角を有するレジン系砥石を用いてトラック
幅を規制するための溝（２）を複数平行に形成する。こ
の溝（２）の加工方法は、上記砥石で接触加工を施し、
上面（１ａ）と所要の傾斜角度θを存する切り欠き面（
２ａ）を形成後、非接触加工にて再度この溝（２）上を
移動させて行う。従って、ギャップ形成面に対応する切
り欠き面（２ａ）の面粗度は、小さく抑えることができ
規定値（±０．３μｍ以内）を達成することができる。
、表面をラップ処理等により平行度及び平滑度良く鏡面
加工された基板（１）に対して、この上面（１ａ）に所
望のアジマス角を有するレジン系砥石を用いてトラック
幅を規制するための溝（２）を複数平行に形成する。こ
の溝（２）の加工方法は、上記砥石で接触加工を施し、
上面（１ａ）と所要の傾斜角度θを存する切り欠き面（
２ａ）を形成後、非接触加工にて再度この溝（２）上を
移動させて行う。従って、ギャップ形成面に対応する切
り欠き面（２ａ）の面粗度は、小さく抑えることができ
規定値（±０．３μｍ以内）を達成することができる。
上記ギャップ形成面に対応する切り欠き面（２ａ）の傾
斜角度θは、上面（１ａ）に対し３″以上に設定され、
７°あるいは８″程度に設定することが好ましい。ここ
で、傾斜角度αが３″未満ではクロストークの影響を充
分に防止することができない。
斜角度θは、上面（１ａ）に対し３″以上に設定され、
７°あるいは８″程度に設定することが好ましい。ここ
で、傾斜角度αが３″未満ではクロストークの影響を充
分に防止することができない。
また、上記基板（１）としては、例えばＭ ｎ −Ｚ
ｎ系フェライトやＮ １−Ｚｎ系フェライト等の強磁性
酸化物基板が使用される。
ｎ系フェライトやＮ １−Ｚｎ系フェライト等の強磁性
酸化物基板が使用される。
次に、第２図に示すように、上記基板＋１１に対して、
所定のギヤノブ幅となるように、ギャップスペーサ（３
）をスパッタリング等の真空薄膜形成技術により被着形
成する。上記ギャップスペーサ（３）としてはＳｉＣ，
、Ｚｒ○ｔ 、Ｔａ２ ｏｓ 、Ｃｒ等、通常ギャップ
スペーサとして使用されるものであれば如何なるもので
あっても良い。
所定のギヤノブ幅となるように、ギャップスペーサ（３
）をスパッタリング等の真空薄膜形成技術により被着形
成する。上記ギャップスペーサ（３）としてはＳｉＣ，
、Ｚｒ○ｔ 、Ｔａ２ ｏｓ 、Ｃｒ等、通常ギャップ
スペーサとして使用されるものであれば如何なるもので
あっても良い。
次いで、第３図に示すように、上記ギャップスペーサ（
３）上にパーマロイあるいはセンダスト等の強磁性金属
材料よりなる磁性薄膜（４）を被着形成する。この磁性
薄膜（４）は、上記磁性基板（１）と磁路を形成したと
きに良好な磁気特性を得るために１０μｍ以上の厚みに
形成することが好ましい。また、この膜付は方法は、フ
ラッシュ蒸着、ガス中蒸着。
３）上にパーマロイあるいはセンダスト等の強磁性金属
材料よりなる磁性薄膜（４）を被着形成する。この磁性
薄膜（４）は、上記磁性基板（１）と磁路を形成したと
きに良好な磁気特性を得るために１０μｍ以上の厚みに
形成することが好ましい。また、この膜付は方法は、フ
ラッシュ蒸着、ガス中蒸着。
イオンブレーティング、スパッタリング、フライスラー
・イオンビーム等に代表される真空薄膜形成技術が採用
される。
・イオンビーム等に代表される真空薄膜形成技術が採用
される。
続いて、第４図に示すように、上記磁性薄膜（４）の上
面（４ａ）に対して、平面研削あるいは鏡面加工を施す
ことにより、この上面（４ａ）を平坦化する。
面（４ａ）に対して、平面研削あるいは鏡面加工を施す
ことにより、この上面（４ａ）を平坦化する。
これは、後工程の記録再生ヘッドとの接合の信頼性向上
を図るためである。さらに、この平坦化された磁性薄膜
（４）上に、記録再生ヘッドとの絶縁を図るために、Ｓ
ｉＯ□等よりなる絶縁膜（５）を３〜５μｍ程度被着形
成する。以上で薄膜を積層した消去ブロック（６）を完
成する。
を図るためである。さらに、この平坦化された磁性薄膜
（４）上に、記録再生ヘッドとの絶縁を図るために、Ｓ
ｉＯ□等よりなる絶縁膜（５）を３〜５μｍ程度被着形
成する。以上で薄膜を積層した消去ブロック（６）を完
成する。
一方、上記消去ブロック（６）の製造と平行して記録再
生用の薄膜磁気ヘッド素子を複数有する薄膜ブロックα
ｅを製造する。
生用の薄膜磁気ヘッド素子を複数有する薄膜ブロックα
ｅを製造する。
この薄膜ブロックαｅは、通常採用される″ｉｉｉ膜磁
気ヘッドの製造方法で作製すれば良い。
気ヘッドの製造方法で作製すれば良い。
すなわち、第５図を用いてこの製造方法を説明すると、
まず、予めＳｉｎｇ等の絶縁材料からなる第１絶縁膜叩
を基板αυを用意し、この基板αυ上にスパッタリング
や真空蒸着等の手法でＣｕやＡ１等の導体薄膜を被着形
成した後、この導体薄膜に対してフォトリソグラフィ技
術によりパターンエツチングを施し、コイル導体（図示
せず）を形成する。
まず、予めＳｉｎｇ等の絶縁材料からなる第１絶縁膜叩
を基板αυを用意し、この基板αυ上にスパッタリング
や真空蒸着等の手法でＣｕやＡ１等の導体薄膜を被着形
成した後、この導体薄膜に対してフォトリソグラフィ技
術によりパターンエツチングを施し、コイル導体（図示
せず）を形成する。
上記基板Ｑｌ）としては前記消去ブロック（６）の基板
（１）と同一の酸化物磁性材料よりなる磁性基板、また
は、Ａｆｆｉｘ ０３−Ｔｉｃ、Ｂａ０−ＴｆＯ，。
（１）と同一の酸化物磁性材料よりなる磁性基板、また
は、Ａｆｆｉｘ ０３−Ｔｉｃ、Ｂａ０−ＴｆＯ，。
Ｌｉｚ ＯＳｔｏｗ 、Ｍｎ０−Ｎｉ○、Ｃａ０−Ｔｉ
Ｏ□等よりなる非磁性基板上にパーマロイ（Ｆ ｅ −
Ｎ ｉ系合金）やセンダスト（Ｆｅ−ＡＩｔ−３ｔ系合
金）等の強磁性金属薄膜を積層した複合基板、あるいは
、上記磁性基板上にパーマロイやセンダスト等の強磁性
金属薄膜を積層した複合基板等がある。
Ｏ□等よりなる非磁性基板上にパーマロイ（Ｆ ｅ −
Ｎ ｉ系合金）やセンダスト（Ｆｅ−ＡＩｔ−３ｔ系合
金）等の強磁性金属薄膜を積層した複合基板、あるいは
、上記磁性基板上にパーマロイやセンダスト等の強磁性
金属薄膜を積層した複合基板等がある。
また、これら基板（１）、αυは同程度の熱膨張係数を
有するものを使用すれば、複合磁気ヘッドとして使用し
た場合、熱による歪等が生じ難くなり、良好な磁気特性
が得られる。
有するものを使用すれば、複合磁気ヘッドとして使用し
た場合、熱による歪等が生じ難くなり、良好な磁気特性
が得られる。
さらに、上記コイル導体の巻線構造はスパイラル型、ヘ
リカル型、ジグザグ型環如何なる構造であっても良い。
リカル型、ジグザグ型環如何なる構造であっても良い。
続いて、上記コイル導体上に被着形成した第２絶縁膜（
図示せず）を介してセンダストやパーマロイ等の強磁性
金属材料よりなる磁性薄膜α濁を真空薄膜形成技術被着
形成し、フォトリソグラフィ技術により所望の形状にエ
ツチングを施し、トラック幅を規制する０次いで、この
磁性薄膜Ｑ３）上にＳ ｉ Ｏ雪等よりなる保護膜α船
を形成した後、ガラス等の非磁性材よりなる無機接着材
α９を不活性ガス雰囲気中でコーティングし、平坦化し
て、薄膜ブロックαｅを作製する。
図示せず）を介してセンダストやパーマロイ等の強磁性
金属材料よりなる磁性薄膜α濁を真空薄膜形成技術被着
形成し、フォトリソグラフィ技術により所望の形状にエ
ツチングを施し、トラック幅を規制する０次いで、この
磁性薄膜Ｑ３）上にＳ ｉ Ｏ雪等よりなる保護膜α船
を形成した後、ガラス等の非磁性材よりなる無機接着材
α９を不活性ガス雰囲気中でコーティングし、平坦化し
て、薄膜ブロックαｅを作製する。
上記接着材αｅは、磁性薄膜α暑の磁気特性が劣化しな
い温度、例えばこの磁性薄膜０暑としてセンダストを用
いた場合には軟化点が６５０℃以下のものを使用する。
い温度、例えばこの磁性薄膜０暑としてセンダストを用
いた場合には軟化点が６５０℃以下のものを使用する。
次に、第６図に示すように、以上で作製された消去ブロ
ック（６）と記録再生ブロックαｅとを精度良くトラッ
ク合わせを行い、治具で固定した後、不活性ガス雰囲気
中で軟化点（６５０℃以下）融着する。
ック（６）と記録再生ブロックαｅとを精度良くトラッ
ク合わせを行い、治具で固定した後、不活性ガス雰囲気
中で軟化点（６５０℃以下）融着する。
さらに、第６図中ａ−ａ線及びａ′−ａ′線の位置でス
ライシング加工を施し、記録再生ヘッドと消去ヘッドが
一体化されてなる複数のヘッドチップを切り出す。
ライシング加工を施し、記録再生ヘッドと消去ヘッドが
一体化されてなる複数のヘッドチップを切り出す。
続いて、第７図に示すように、上記へラドチップを構成
する消去ヘッド（６ａ）に対して、レーザビームしを磁
性基板（１１と磁性薄膜（４）にまたがるように照射す
ることにより、巻線溝α刀を形成する。
する消去ヘッド（６ａ）に対して、レーザビームしを磁
性基板（１１と磁性薄膜（４）にまたがるように照射す
ることにより、巻線溝α刀を形成する。
最後に、上記ヘッドチップに対し、磁気ディスクとの当
りを確保するために、磁気ディスク対接面Ｑｌに臨む各
基板（１）、αＤのエツジ部を切り欠いた後、コイルＯ
Ｉを巻線して複合磁気ヘッドを完成する。なお、上記複
合磁気ヘッドと磁気ディスクとの当りを確保するために
、磁気ディスク対接面α埠を略球面状に研磨しても良い
ことはいうまでもない、この球面研磨を行った場合には
、その最頂点が各ヘッドのギャップ間に位置する如く行
う、この最頂点が記録再生ヘッド（１６ａ）の基板（１
）側に位置すると、消去ヘッド（６ａ）の当たりが悪く
なって、消去不良の原因となり、一方、消去ヘッド（６
ａ）の基板αυ側に位置すると、記録再生ヘッド（１６
ａ）の当たりが悪くなって、スペーシングロスが生じ易
くなり短波長の記録再生が不可能になる。
りを確保するために、磁気ディスク対接面Ｑｌに臨む各
基板（１）、αＤのエツジ部を切り欠いた後、コイルＯ
Ｉを巻線して複合磁気ヘッドを完成する。なお、上記複
合磁気ヘッドと磁気ディスクとの当りを確保するために
、磁気ディスク対接面α埠を略球面状に研磨しても良い
ことはいうまでもない、この球面研磨を行った場合には
、その最頂点が各ヘッドのギャップ間に位置する如く行
う、この最頂点が記録再生ヘッド（１６ａ）の基板（１
）側に位置すると、消去ヘッド（６ａ）の当たりが悪く
なって、消去不良の原因となり、一方、消去ヘッド（６
ａ）の基板αυ側に位置すると、記録再生ヘッド（１６
ａ）の当たりが悪くなって、スペーシングロスが生じ易
くなり短波長の記録再生が不可能になる。
以上の製造方法で作製された複合磁気ヘッドに対して、
記録再生ヘッド（１６ａ） と消去ヘッド（６ａ）との
クロストークを調べたところ、−３０ｄＢ以下であるこ
とがわかった。
記録再生ヘッド（１６ａ） と消去ヘッド（６ａ）との
クロストークを調べたところ、−３０ｄＢ以下であるこ
とがわかった。
このように、本実施例の複合磁気ヘッドは、記録再生ヘ
ッド（１６ａ）のギャップと消去ヘッド（６ａ）間の距
離を小さくしても、従来の複合磁気ヘッドに比べて各ヘ
ッド（１６ａ） 、 （６ａ）間のクロストークを大幅
に改善できる。これは、消去ヘッド（６ａ）のギャップ
と記録再生ヘッド（１６ａ）のギャップとで異なる角度
を有しているので、消去ヘッド（６ａ）で再生した信号
が、アジマス損失により消滅し、記録再生ヘッド（１６
ａ）に漏洩することがなくるためである。
ッド（１６ａ）のギャップと消去ヘッド（６ａ）間の距
離を小さくしても、従来の複合磁気ヘッドに比べて各ヘ
ッド（１６ａ） 、 （６ａ）間のクロストークを大幅
に改善できる。これは、消去ヘッド（６ａ）のギャップ
と記録再生ヘッド（１６ａ）のギャップとで異なる角度
を有しているので、消去ヘッド（６ａ）で再生した信号
が、アジマス損失により消滅し、記録再生ヘッド（１６
ａ）に漏洩することがなくるためである。
なお、本発明は上述の実施例に限定されるもではなく、
例えば、第９図に示すように、消去ブロック（６）と記
録再生ブロックαＱとを一体接合した後、上記消去ブロ
ック（６）に対して一連に巻線溝（２０）を形成するよ
うにしても良い。すなわち、一体接合された消去ブロッ
ク（６）に対して、回転砥石等を用いて基板（１）側よ
り磁性薄膜（４）の中途部まで切り欠いた後、この基板
（１）側にフェライト等よりなる磁性薄板（２１）を融
着接合して、巻線溝（２０）を形成するようにしても良
い。
例えば、第９図に示すように、消去ブロック（６）と記
録再生ブロックαＱとを一体接合した後、上記消去ブロ
ック（６）に対して一連に巻線溝（２０）を形成するよ
うにしても良い。すなわち、一体接合された消去ブロッ
ク（６）に対して、回転砥石等を用いて基板（１）側よ
り磁性薄膜（４）の中途部まで切り欠いた後、この基板
（１）側にフェライト等よりなる磁性薄板（２１）を融
着接合して、巻線溝（２０）を形成するようにしても良
い。
あるいは、消去ブロック（６）と記録再生ブロックＯｅ
とを一体接合した後、第１０図に示すように、磁気ディ
スク対接面に段差をもたせる如くスライシング加工を施
しても良い。このような構成とすることにより、磁気デ
ィスクとの接触を確保するとともに、複合磁気ヘッドの
強度を高めることができる。
とを一体接合した後、第１０図に示すように、磁気ディ
スク対接面に段差をもたせる如くスライシング加工を施
しても良い。このような構成とすることにより、磁気デ
ィスクとの接触を確保するとともに、複合磁気ヘッドの
強度を高めることができる。
以上の説明からも明らかなように、本発明は、消去ヘッ
ドと記録再生用の薄膜磁気ヘッドで構成される複合磁気
ヘッドを製造するにあたって、酸化物磁性材料よりなる
磁性基板の一平面に所要の角度を有する溝を形成し、ギ
ャップスペーサを介して前記一平面上に磁性薄膜を形成
することにより消去ヘッドを作製し、この消去ヘッドに
対し基板上に形成された磁性薄膜により記録再生が行わ
れる薄膜磁気ヘッドを一体化し、スライシング加工を施
して複合磁気ヘッドを製造している。従って、上記の磁
気ギャップと薄膜磁気ヘッドの磁気ギャップとが所定の
角度で傾斜し、クロストークの少ない磁気ヘッドを生産
性良く製造することが可能である。また、得られる複合
磁気ヘッドは、信転性の点でも優れたものとなる。
ドと記録再生用の薄膜磁気ヘッドで構成される複合磁気
ヘッドを製造するにあたって、酸化物磁性材料よりなる
磁性基板の一平面に所要の角度を有する溝を形成し、ギ
ャップスペーサを介して前記一平面上に磁性薄膜を形成
することにより消去ヘッドを作製し、この消去ヘッドに
対し基板上に形成された磁性薄膜により記録再生が行わ
れる薄膜磁気ヘッドを一体化し、スライシング加工を施
して複合磁気ヘッドを製造している。従って、上記の磁
気ギャップと薄膜磁気ヘッドの磁気ギャップとが所定の
角度で傾斜し、クロストークの少ない磁気ヘッドを生産
性良く製造することが可能である。また、得られる複合
磁気ヘッドは、信転性の点でも優れたものとなる。
第１図ないし第８図は本発明の複合磁気ヘッドの製造方
法をその工程順序に従って示す概略的な斜視図である。 ここで、第１図ないし第４図は消去ブロックの製造工程
を示す概略的な斜視図であり、第１図は溝の形成工程、
第２図はギャップスペーサの形成工程、第３図は磁性薄
膜の形成工程、第４図は絶縁膜の形成工程を示すもので
ある。 第５図は薄膜ブロックの製造方法を説明するものである
。 第６図は上記消去ブロックと上記薄膜ブロックの融着工
程、第７図は巻線溝の形成工程、第８図は磁気ディスク
対接面の研磨工程を示すものである。 第９図は巻線溝の形成工程の他の例を示す概略的な斜視
図、第１０図はスライシング加工工程の他の例を示す概
略的な斜視図である。 第１１図は従来の複合磁気ヘッドを示す磁気ディスク対
接面の平面図である。 １．１１・・・基板 ２・・・・・・溝 ２ａ・・・・・切り欠き面 ３・・・・・・ギャップスペーサ ４．１３・・・磁性薄膜 ６・・・・・・消去ブロック ６ａ・・・・・消去ヘッド １６・・・・・薄膜ブロック １６ａ・・・・薄膜磁気ヘッド
法をその工程順序に従って示す概略的な斜視図である。 ここで、第１図ないし第４図は消去ブロックの製造工程
を示す概略的な斜視図であり、第１図は溝の形成工程、
第２図はギャップスペーサの形成工程、第３図は磁性薄
膜の形成工程、第４図は絶縁膜の形成工程を示すもので
ある。 第５図は薄膜ブロックの製造方法を説明するものである
。 第６図は上記消去ブロックと上記薄膜ブロックの融着工
程、第７図は巻線溝の形成工程、第８図は磁気ディスク
対接面の研磨工程を示すものである。 第９図は巻線溝の形成工程の他の例を示す概略的な斜視
図、第１０図はスライシング加工工程の他の例を示す概
略的な斜視図である。 第１１図は従来の複合磁気ヘッドを示す磁気ディスク対
接面の平面図である。 １．１１・・・基板 ２・・・・・・溝 ２ａ・・・・・切り欠き面 ３・・・・・・ギャップスペーサ ４．１３・・・磁性薄膜 ６・・・・・・消去ブロック ６ａ・・・・・消去ヘッド １６・・・・・薄膜ブロック １６ａ・・・・薄膜磁気ヘッド
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 酸化物磁性材料よりなる磁性基板の一平面に所要の角度
を有する溝を形成し、ギャップスペーサを介して前記一
平面上に磁性薄膜を形成することにより消去ヘッドを作
製し、 この消去ヘッドに対し基板上に形成された磁性薄膜によ
り記録再生が行われる薄膜磁気ヘッドを一体化すること
を特徴とする複合磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14536085A JPS626415A (ja) | 1985-07-02 | 1985-07-02 | 複合磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14536085A JPS626415A (ja) | 1985-07-02 | 1985-07-02 | 複合磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS626415A true JPS626415A (ja) | 1987-01-13 |
Family
ID=15383397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14536085A Pending JPS626415A (ja) | 1985-07-02 | 1985-07-02 | 複合磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS626415A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01133208U (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-11 |
-
1985
- 1985-07-02 JP JP14536085A patent/JPS626415A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01133208U (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-11 |
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