JPS6261992A - Ｎ−ホスホノメチルグリシンの製法 - Google Patents

Ｎ−ホスホノメチルグリシンの製法

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JPS6261992A
JPS6261992A JP61211799A JP21179986A JPS6261992A JP S6261992 A JPS6261992 A JP S6261992A JP 61211799 A JP61211799 A JP 61211799A JP 21179986 A JP21179986 A JP 21179986A JP S6261992 A JPS6261992 A JP S6261992A
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phosphonomethylglycine
acid
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water
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ハンスーイエルク・クライネル
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Hoechst AG
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • C07F9/3813—N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、式ｌ で示されるＮ−ホスホノメチルグリシンを製造する新規
な方法に関する。
Ｎ−ホスホノメチルグリシンは、非常に使用範囲の広い
完全除草剤であり、その製造と使用については米国特許
第４７９９．７５８号明細書に記載されている。
今までに知られた製造方法は一般に、塩素イオンの存在
下でホルムアルデヒドを使用する反応に基いている。こ
の場合、発がん性ビスクロロメチルエーテルの生成を避
けることができない。更に、式■ で示されるＮ、Ｎ−ビス−ホスホノメチルグリシンがし
ばしば副生成物として生じる。
ヨーロッパ特許出願公開第α０８１．４５９号明細書に
は、アミノメタンホスホン酸をグリオキサールと水性媒
質中で二酸化硫黄の存在下で反応させることが提案され
ている。この場合にはｌが約７５％までの収率で生じる
が、そのほかに■が副生成物としてかなりの着生じる。
この方法の他の欠点は、二酸化硫黄を使用することであ
る。
最後に、米国特許第４．０９４．９２８号明細書から、
アミノメタンホスホン酸（エステル）ヲグリオキシル酸
（エステル）と有機媒質中で反応させることが知られて
いる。この場合には、水の脱離によって式 ％式％（１） で示されるシック塩基が生じ、これは還元および場合に
よしけん化によって１に変えることができる。この方法
は、数工程の反応を必要とし、収率が相当に少なくなる
ので不利である。
ところで、式■ で示されるアミノメタンホスホン酸またはこれと強塩基
との塩を約二倍モル量のグリオキシル酸と水媒質または
水−有機媒質中で反応させる場合には、既知の方法の欠
点が避けられそしてＮ−ホスホノメチルグリシンが高い
収率および純度で得られるということが見いだされた。
上記の条件では、水が脱離してシック塩基が生じること
は起こらない：その代シに、まだ解明されていない反応
系列で直接に化合物１が生じる：副生成物としてＣＯ，
が生じる。
反応は例えば、グリオキシル酸を濃厚な（３０％の濃度
の）水溶液として供給し、■を固体の形で少しずつ加え
るかまたは水溶液として加えることてよって起る：しか
じ、反対の順序で行なうこともできる。■１部とグリオ
キシル酸２部とのモル比を使用するのが好ましいが、１
部または他の部を過剰に使用することもできる。
１０〜１００℃、特（（３０〜１００℃の温度で反応を
行なう。
遊離酸■の代りにそれと強塩基との塩、例えばアルカリ
塩（Ｎａ”、Ｋ“）、アンモニウム塩ｔたはアミン塩例
えばエチルアばン塩、トリエチルアミン塩、イソプロピ
ルアミン塩モジくはエタノールアミン塩を使用すること
もできる。
反応は、ガスを激しく発生して起こり、ガスの発生ハ温
度が上昇すると増加する。ガスの発生が終った後に反応
混合物を冷却させ、沈殿した反応生成物を単離する。反
応生成物全一層よく分離するために、水混和性有機溶剤
例えばアセトン、アセトニトリルまたはメタノールを反
応のバッチに加えるのが有利であり得る。本方法は連続
的に行なうこともできる。
反応生成物１は、少なくとも７０％の収率で生じ、副生
成物を事実上含んでいない。
以下、例を挙げて本発明を更に詳しく説明する。
例１ ３０％の濃度のグリオキシル収水１ｆｌ夜２９．６ｔ（
Ｃ１２モル）を、かく拌しをがら４０℃に加温した。１
１．１２（（１１モル）のアミノメタンホスホン酸を次
１７ｃ４０〜４５℃で少しずつ加えると、ガスが激しく
発生し始めた。加え終った後に、温度が上昇して８５℃
の内温になった。
約１時間後にガスの発生が終った。１５分間８５℃でか
く拌を続け、少量の水を加え、冷却させた。１（１’の
Ｎ−ホスホノメチルグリシン金得た；融点：５２１〜３
２３℃〔分解〕。母液を濃縮し、沈殿した結晶スラリー
をメタノール／水に浸漬して更に２．５１を得た。従っ
て全収量は、理論量の７４％であった。
例２ ３０％の濃度のグリオキシル酸水溶液３０２（［１，２
０５モル）を、かく拌しながら４０℃に加温し、水６〇
−中アミノメタンホスホン酸１ｔ　１ｙ　（α１モル）
の４０〜３０℃の暖かい溶液を滴加すると、ガスが発生
し始めた。滴加中に温度が６０℃に上昇した。滴加が終
った後（Ｃ１１時間かく拌を続けると、温度が少しずつ
上昇して１００℃になった。ガスの発生が終った後に、
３０分間１００℃でかく拌を続け、次に冷却させた。そ
の際１α５？のＮ−ホスホノメチルグリシンが晶出した
。母液を濃縮して更に２．５２得た。従って全収瞼は、
理論量の７７％であった。
例５ ３０％の濃度のグリオキシル酸水溶ｉ　２９．６ｒ（ｏ
、ｚモル）を６０℃に加温し、水２７ｍｊ中のアミノメ
タンホスホン酸の　Ｎａ塩１ｉ３ｆ（Ｑ、１モル）を、
加熱可能な滴下漏斗から２時間で、かく拌しながら６０
℃で滴加した。その際、温度が少しずつ上昇して１００
℃になった：ガスが発生しなくなるまで更に１０分間か
く拌した。冷却後、水を減圧で蒸留により除き、残った
残渣をＳｏｆの濃塩酸に浸漬し、生じた塩化ナトＩＪウ
ムを吸引戸数した。Ｆ液を減圧で約３０℃で濃縮した。
残った残渣をＫＯＨで乾燥させ、水性メタノール（約３
０％の濃度）に浸漬し、振盪し、吸引戸数し、次にメタ
ノールで洗い、乾燥させた。１２ｆのＮ−ホスホノメチ
ルグリシンを得た：収量は、理論量の７１％であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるＮ−ホスホノメチルグリシンを製造すべく、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるアミノメタンホスホン酸またはこれと強塩基
    との塩を、グリオキシル酸と約１：２のモル比で水媒質
    または水−有機媒質中で反応させることを特徴とする、
    前記Ｎ−ホスホノメチルグリシンの製造方法。 ２、反応を１０ないし１００℃、特に３０ないし１００
    ℃の温度で行なう、特許請求の範囲第１項記載の製造方
    法。 ３、水混和性溶剤例えばアセトン、アセトニトリルまた
    はメタノールを加える、特許請求の範囲第１項記載の製
    造方法。
JP61211799A 1985-09-11 1986-09-10 Ｎ−ホスホノメチルグリシンの製法 Granted JPS6261992A (ja)

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DE19853532344 DE3532344A1 (de) 1985-09-11 1985-09-11 Verfahren zur herstellung von n-phosphonomethylglycin
DE3532344.2 1985-09-11

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JPS6261992A true JPS6261992A (ja) 1987-03-18
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