JPS625547A - 基板表面上の異物観察装置 - Google Patents
基板表面上の異物観察装置Info
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- JPS625547A JPS625547A JP60142628A JP14262885A JPS625547A JP S625547 A JPS625547 A JP S625547A JP 60142628 A JP60142628 A JP 60142628A JP 14262885 A JP14262885 A JP 14262885A JP S625547 A JPS625547 A JP S625547A
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- Japan
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- laser beam
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、例えば半導体製造用真空装置のような真空プ
ロセス装置に使用され得る基板表面上の異物観察装置に
関するものである。
ロセス装置に使用され得る基板表面上の異物観察装置に
関するものである。
従 来 の 技 術
例えば、半導体製造技術等において、ウェハ等の基板表
面上に付着しているダスト粒子等の異物を観察、検査す
ることは、歩留り向上の観点からも重要なことである。
面上に付着しているダスト粒子等の異物を観察、検査す
ることは、歩留り向上の観点からも重要なことである。
従来用いられてきた基板表面上の異物を観察づ”る方法
としては、 (1)レーず光線等の光を利用してその散乱光により異
物の粒径等を検出する方法: (2)顕微鏡を利用して観察する方法:(3)走査型電
子顕微鏡を用いて異物の形を観察する方法 等がある。
としては、 (1)レーず光線等の光を利用してその散乱光により異
物の粒径等を検出する方法: (2)顕微鏡を利用して観察する方法:(3)走査型電
子顕微鏡を用いて異物の形を観察する方法 等がある。
第一の光学的方法は散乱光強度を測定するため、異物の
実際の形状や大きさを特定することができない。散乱光
は当然形状により異なるものであり、しばしばあやまっ
た情報を提供することになる。
実際の形状や大きさを特定することができない。散乱光
は当然形状により異なるものであり、しばしばあやまっ
た情報を提供することになる。
第二の顕微鏡による観察は人気中でしか利用できず、工
程の途中での利用は困難である。また異物を探すのに時
間が掛かり、サブミクロン粒子の検出は困難である。ま
た第三の方法では、走査型電子顕微鏡は真空中で異物の
形状や大きさをその場観察できるものであるが、サブミ
クロン粒子の検出(例えば、5インチウェハに10個以
下)には膨大な時間を要し、工程ラインで使用するには
適当でない。
程の途中での利用は困難である。また異物を探すのに時
間が掛かり、サブミクロン粒子の検出は困難である。ま
た第三の方法では、走査型電子顕微鏡は真空中で異物の
形状や大きさをその場観察できるものであるが、サブミ
クロン粒子の検出(例えば、5インチウェハに10個以
下)には膨大な時間を要し、工程ラインで使用するには
適当でない。
発明が解決しようとする問題点
このように、従来の光学的方法では散乱光の強度を検出
するだけであり、異物の実際の粒径を特定できないとい
う欠点があり、顕微鏡を利用して観察する方法は、大気
中でしか利用できないため工程の途中での利用が困難で
あるだけでなく、異物検出に時間がかかるという欠点を
持っている。
するだけであり、異物の実際の粒径を特定できないとい
う欠点があり、顕微鏡を利用して観察する方法は、大気
中でしか利用できないため工程の途中での利用が困難で
あるだけでなく、異物検出に時間がかかるという欠点を
持っている。
さらに、走査型電子顕微鏡を用いる方法では、サブミク
ロン粒子を検出するのに非常な時間を必要とするので、
工程ライン中で実質的に使用することができないという
問題がある。
ロン粒子を検出するのに非常な時間を必要とするので、
工程ライン中で実質的に使用することができないという
問題がある。
そこで、本発明の目的は、レーザ光線と走査型電子顕微
鏡とを組合せて利用し、真空プロセスライン中で異物を
容易にかつ迅速にその場観察できる基板表面上の異物観
察装置を提供することにある。
鏡とを組合せて利用し、真空プロセスライン中で異物を
容易にかつ迅速にその場観察できる基板表面上の異物観
察装置を提供することにある。
問題点を解決するための手段
上記の目的を達成するために、本発明による基板表面上
の異物観察装置は、レーザ貸物位置検出装置および走査
型電子顕微鏡を有し、上記レーザ異物位置検出装置が、
真空容器に設けたレーザ光線導入用真空窓を通って真空
容器内の基板表面上に導入されるレーザ光線を上記基板
表面上でX。
の異物観察装置は、レーザ貸物位置検出装置および走査
型電子顕微鏡を有し、上記レーザ異物位置検出装置が、
真空容器に設けたレーザ光線導入用真空窓を通って真空
容器内の基板表面上に導入されるレーザ光線を上記基板
表面上でX。
Y方向に走査させるレーザスキャナと基板上の異物によ
って乱反射したレーザ光線を検出できる位置に配置され
た検出器とを備え、また上記真空容器には基板上で鏡面
反射したレーザ光線を外部へ導出づるレーザ光線導出・
用真空窓を設け、上記検出器で検出された異物検出信号
に応じて基板を上記走査型電子顕微鏡に対して動かすよ
うにしたことを特徴どしている。
って乱反射したレーザ光線を検出できる位置に配置され
た検出器とを備え、また上記真空容器には基板上で鏡面
反射したレーザ光線を外部へ導出づるレーザ光線導出・
用真空窓を設け、上記検出器で検出された異物検出信号
に応じて基板を上記走査型電子顕微鏡に対して動かすよ
うにしたことを特徴どしている。
基板は、X、Y方向に動くことのできる可動テーブル上
にのせられ1、上記可動テーブルは、検出器で検出され
た異物検出信号に応じて上記走査型電子顕微鏡に対して
位置制御され得る。
にのせられ1、上記可動テーブルは、検出器で検出され
た異物検出信号に応じて上記走査型電子顕微鏡に対して
位置制御され得る。
作 用
このように構成した本発明による基板表面上の異物観察
装置においては、真空容器に設けたレーザ光線導入用真
空窓を通って真空容器内の基板表面上にレーザ光線が導
入され、このレーザ光線により基板表面上をX、Y方向
に走査する。もしこの基板表面上に何らかの異物が存在
していると、導入されたレーザ光線は基板上で鏡面反射
してレーザ光線導出用真空窓を通って外部へ導出されず
、その異物に画突したレーザ光線部分は乱反射して面上
のどこに異物が存在しているかを検出する。
装置においては、真空容器に設けたレーザ光線導入用真
空窓を通って真空容器内の基板表面上にレーザ光線が導
入され、このレーザ光線により基板表面上をX、Y方向
に走査する。もしこの基板表面上に何らかの異物が存在
していると、導入されたレーザ光線は基板上で鏡面反射
してレーザ光線導出用真空窓を通って外部へ導出されず
、その異物に画突したレーザ光線部分は乱反射して面上
のどこに異物が存在しているかを検出する。
検出器で検出された異物位置検出信号は基板をのせた可
動テーブルの駆動制御装置に供給され、これにより可動
テーブルは、走査型電子顕微鏡の視野に基板上の異物を
位置させるように動かされる。
動テーブルの駆動制御装置に供給され、これにより可動
テーブルは、走査型電子顕微鏡の視野に基板上の異物を
位置させるように動かされる。
その結果、基板上の異物は走査型電子顕微鏡によってそ
の形状、大きさ等について観察される。この一連の異物
観察操作は基板が真空プロセスラインにある間に行なう
ことができる。
の形状、大きさ等について観察される。この一連の異物
観察操作は基板が真空プロセスラインにある間に行なう
ことができる。
実 施 例
以下、添附図面を参照して本発明の実施例について説明
する。
する。
図面には本発明による基板表面上の異物観察装置の構成
を示し、1は真空容器で、この真空容器1にはX、Y方
向に動くことのできる可動テーブル2が設けられ、この
可動テーブル2上には基板ホルダ3が取付けられ、その
上に基板4が装着されている。真空容器1は、基板4に
対して予定の大剣角度でレーザ光線を導入できる位置に
設けられたレーf完杓道λ…百11aと7の1ノー(f
キ簡導入用真空窓1aを通って基板4に入射したレーザ
光線が鏡面反射して進む位置に設けられたレーザ光線導
出用真空窓(図示してない)とを備えている。また真空
容器1には図示実施例では基板4に相対した位置に走査
型電子顕微鏡5が配置されている。6はレーザ光線導入
用真空窓1aに取付られたレーザ光線発生導入装置で、
レーザ光線を基板4上でX、Y方向に走査させるスキャ
ナ7を備えている。一方レーザ光線発生導入装置6とレ
ーザ光線導出用真空窓1aとレーザ光線導出用真空窓と
を通る平面に対して所要の角度を成して検出器8が真空
容器1に取付(プられている。検出器8は増幅器9およ
びインターフェース10を介してコンピュータ装置11
に接続されている。スキ17す7はスキャナ制御装置1
2に接続され、このスキャナ制御装置12はインターフ
ェース13を介してコンピータ装置11により動作制御
されるように接続されている。またコンピュータ装置1
1はインターフェース14を介して可動テーブル2の駆
動を制御する駆動制御装置15に接続され、この駆動制
御装置15の動作を制御する。
を示し、1は真空容器で、この真空容器1にはX、Y方
向に動くことのできる可動テーブル2が設けられ、この
可動テーブル2上には基板ホルダ3が取付けられ、その
上に基板4が装着されている。真空容器1は、基板4に
対して予定の大剣角度でレーザ光線を導入できる位置に
設けられたレーf完杓道λ…百11aと7の1ノー(f
キ簡導入用真空窓1aを通って基板4に入射したレーザ
光線が鏡面反射して進む位置に設けられたレーザ光線導
出用真空窓(図示してない)とを備えている。また真空
容器1には図示実施例では基板4に相対した位置に走査
型電子顕微鏡5が配置されている。6はレーザ光線導入
用真空窓1aに取付られたレーザ光線発生導入装置で、
レーザ光線を基板4上でX、Y方向に走査させるスキャ
ナ7を備えている。一方レーザ光線発生導入装置6とレ
ーザ光線導出用真空窓1aとレーザ光線導出用真空窓と
を通る平面に対して所要の角度を成して検出器8が真空
容器1に取付(プられている。検出器8は増幅器9およ
びインターフェース10を介してコンピュータ装置11
に接続されている。スキ17す7はスキャナ制御装置1
2に接続され、このスキャナ制御装置12はインターフ
ェース13を介してコンピータ装置11により動作制御
されるように接続されている。またコンピュータ装置1
1はインターフェース14を介して可動テーブル2の駆
動を制御する駆動制御装置15に接続され、この駆動制
御装置15の動作を制御する。
このように構成した図示装置の動作において、まずレー
ザ光線発生導入装置6で発生されたレーザ光線をスキャ
ナ7によってスキレンし、レーザ光線導入用真空窓1a
を通って可動テーブル2上の基板4上をX、Y方向に走
査する。レーザ光線で走査した基板に異物がなければ、
シー11光線はその基板で鏡面反射して図示してないレ
ーザ光線導出用真空窓を通って真空容器1外へ出て行く
。しかし基板に異物があれば、その異物に衝突したレー
ザ光線部分は散乱され、この散乱光は検出器8により検
出され、検出器8は出力信号を増幅器9を介してコンピ
ュータ装置11に供給し、基板4上の異物の位置を記憶
させる。こうしてレーザ光線による走査が終了した後、
コンピュータ装置11は異物位置信号をインターフェー
ス14を介して可動テーブル2の駆動を制御する駆動制
御装置15に供給し、可動テーブル2を駆動させて基板
上の異物が走査型電子顕微鏡5の視野に入るようにされ
る。こうして走査型電子顕微鏡5で基板上の異物の形状
、大ぎさ等を観察することができる。
ザ光線発生導入装置6で発生されたレーザ光線をスキャ
ナ7によってスキレンし、レーザ光線導入用真空窓1a
を通って可動テーブル2上の基板4上をX、Y方向に走
査する。レーザ光線で走査した基板に異物がなければ、
シー11光線はその基板で鏡面反射して図示してないレ
ーザ光線導出用真空窓を通って真空容器1外へ出て行く
。しかし基板に異物があれば、その異物に衝突したレー
ザ光線部分は散乱され、この散乱光は検出器8により検
出され、検出器8は出力信号を増幅器9を介してコンピ
ュータ装置11に供給し、基板4上の異物の位置を記憶
させる。こうしてレーザ光線による走査が終了した後、
コンピュータ装置11は異物位置信号をインターフェー
ス14を介して可動テーブル2の駆動を制御する駆動制
御装置15に供給し、可動テーブル2を駆動させて基板
上の異物が走査型電子顕微鏡5の視野に入るようにされ
る。こうして走査型電子顕微鏡5で基板上の異物の形状
、大ぎさ等を観察することができる。
なお、図示実施例では走査型電子顕微鏡5は基板4の真
上に配置されているが、走査型電子顕微鏡5は基板の異
物を観察できる位置であればどの位置に設けてもよい。
上に配置されているが、走査型電子顕微鏡5は基板の異
物を観察できる位置であればどの位置に設けてもよい。
また検出器8の位置も基板上の異物で乱反射した光を検
出できる位置であればよい。さらに、可動テーブル2は
図示実施例では真空容器1の外部に取付けられているが
、必要により真空容器1の内部に設けて外部から駆動す
るようにすることもできる。
出できる位置であればよい。さらに、可動テーブル2は
図示実施例では真空容器1の外部に取付けられているが
、必要により真空容器1の内部に設けて外部から駆動す
るようにすることもできる。
発 明 の 効 果
以上説明してさたように、本発明による基板表面上の異
物観察装置においては、レーザ光線による基板上の異物
の位置検出手段と走査型電子顕微鏡とを組合せることに
よって、従来半導体製造装置等のその場観察が困難であ
ったライン用真空装置にも容易に組込むことができ、ま
た異物の正確な位置、形状、大きさ等を従来の方法より
も高速で検出、観察することができる。さらに、本発明
I′″←ス廿砿主需り小川−鎗會壮屑I−拳1へ丁IJ
lfl物の形状を観察すること′ができるので、異
物の発生源を推測することができ、例えばその異物が真
空装置に由来するものであれば、装置のメンテナンス時
期等の目安をたてることができ、その結果製品の歩留り
を向上させることができる。
物観察装置においては、レーザ光線による基板上の異物
の位置検出手段と走査型電子顕微鏡とを組合せることに
よって、従来半導体製造装置等のその場観察が困難であ
ったライン用真空装置にも容易に組込むことができ、ま
た異物の正確な位置、形状、大きさ等を従来の方法より
も高速で検出、観察することができる。さらに、本発明
I′″←ス廿砿主需り小川−鎗會壮屑I−拳1へ丁IJ
lfl物の形状を観察すること′ができるので、異
物の発生源を推測することができ、例えばその異物が真
空装置に由来するものであれば、装置のメンテナンス時
期等の目安をたてることができ、その結果製品の歩留り
を向上させることができる。
図面は本発明の一実施例による装置の構成を示す概略線
図である。 図中、1:真空容器、2:可動テーブル、4:基板、5
:走査型電子顕微鏡、6,7,8:レーザ異物位置検出
装置。
図である。 図中、1:真空容器、2:可動テーブル、4:基板、5
:走査型電子顕微鏡、6,7,8:レーザ異物位置検出
装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、レーザ異物位置検出装置および走査型電子顕微鏡を
有し、上記レーザ異物位置検出装置が、真空容器に設け
たレーザ光線導入用真空窓を通つて真空容器内の基板表
面上に導入されるレーザ光線を上記基板表面上でX、Y
方向に走査させるレーザスキャナと基板上の異物によつ
て乱反射したレーザ光線を検出できる位置に配置された
検出器とを備え、また上記真空容器には基板上で鏡面反
射したレーザ光線を外部へ導出するレーザ光線導出用真
空窓を設け、上記検出器で検出された異物検出信号に応
じて基板を上記走査型電子顕微鏡に対して動かすように
したことを特徴とする基板表面上の異物観察装置。 2、基板をX、Y方向に動くことのできる可動テーブル
上にのせ、上記可動テーブルを検出器で検出された異物
検出信号に応じて位置制御するようにした特許請求の範
囲第1項に記載の基板表面上の異物観察装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60142628A JPS625547A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 基板表面上の異物観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60142628A JPS625547A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 基板表面上の異物観察装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS625547A true JPS625547A (ja) | 1987-01-12 |
JPH0527939B2 JPH0527939B2 (ja) | 1993-04-22 |
Family
ID=15319761
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60142628A Granted JPS625547A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 基板表面上の異物観察装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS625547A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997028422A1 (fr) * | 1996-01-31 | 1997-08-07 | Advantest Corporation | Detecteur de matieres etrangeres, et analyseur et procede associe |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5833154A (ja) * | 1981-08-24 | 1983-02-26 | Hitachi Ltd | 検査装置 |
JPS58115741A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-09 | Fujitsu Ltd | 複合ビ−ム照射装置 |
-
1985
- 1985-07-01 JP JP60142628A patent/JPS625547A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5833154A (ja) * | 1981-08-24 | 1983-02-26 | Hitachi Ltd | 検査装置 |
JPS58115741A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-09 | Fujitsu Ltd | 複合ビ−ム照射装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997028422A1 (fr) * | 1996-01-31 | 1997-08-07 | Advantest Corporation | Detecteur de matieres etrangeres, et analyseur et procede associe |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0527939B2 (ja) | 1993-04-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |