JPS6253732A - 流動床装置 - Google Patents

流動床装置

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JPS6253732A
JPS6253732A JP61197450A JP19745086A JPS6253732A JP S6253732 A JPS6253732 A JP S6253732A JP 61197450 A JP61197450 A JP 61197450A JP 19745086 A JP19745086 A JP 19745086A JP S6253732 A JPS6253732 A JP S6253732A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、容器と、皿形部材と、浸漬管と、偏向用遮蔽
体とを備え、前記容器は少なくともほぼ垂直なその軸線
に関して少なくともほぼ回転対称であり、かつ下向きに
小さくなる直径を有する下側部分を有し、前記皿形部材
は前記容器の軸線に関して少なくともほぼ回転対称であ
り、少なくともほぼ円筒形の円筒壁を有し、該円筒壁内
に前記容器の下側部分が開口し、前記浸漬管は上方から
前記容器内に軸線方向に突出し、かつ前記浸漬管は該浸
漬管と前記皿形部材の円筒壁との間に狭い環状空間が形
成されるように前記皿形部材内に浸漬され、前記偏向用
遮蔽体は前記容器の上側領域において前記浸漬管の回り
に少なくともほぼ回転対称に配置され、前記浸漬管内を
通って上方から前記皿形部材内に導入されたガスは該皿
形部材によって上向きに偏向され、前記環状空間内を通
って前記容器中に流入し、該容器中に収容されている材
料を運動、特に流動させ、前記ガスによってさらに上向
き方向に同伴される材料を前記遮蔽体によって再び偏向
されるように構成した、粉状または粒状の材料を混合、
乾燥、粒状化、ペレット化、塗布、および／または被覆
するための流動床装置に関するものである。
このような種類の既知の流動床装置（ＢＰ−Ａ−０１０
３８９４号）では、皿形部材内の狭い環状通路は容器の
最大自由環状断面の平均直径より著しく小さい平均直径
を有する。この環状空間から上向き方向に流出して容器
中に流入するガスの流れは浸漬管の回りを上向きに材料
を同伴する。このガスの流れは偏向用遮蔽体によって外
方に偏向し、容器の下側部分の下向きに細くなる内壁に
沿って再度皿形部材の近くに移動する。材料はこの位置
から再び浸漬管の回りを上向き方向に同伴される。この
結果、容器に収容されている材料全体にわたって均一な
転がり運動が起こる。ガス流速が十分大きい場合には、
この転がり運動は材料の完全流動化状態に移行する。
本発明の目的は材料を一層良く混合しかつ渦動させるこ
とができる上述の種類の流動床装置を提供することにあ
る。
本発明は、前記環状空間が該空間と前記偏向用遮蔽体と
の間の前記容器の最大自由環状断面の平均直径に少なく
ともほぼ等しい平均直径を有し、前記偏向用遮蔽体が前
記環状空間より上方に少なくともほぼ対称にアーチ形に
設けられていることを特徴とする流動床装置により上述
の目的を達成する。
そこで、容器に流入するガスの流れ、従ってこのガス流
によって同伴される材料は２種の共軸のトロイド状渦流
すなわち内側渦流および外側渦流を形成し、内側渦流の
場合にはガス流および同伴材料が偏向用遮蔽体で半径方
向に内方に向きを変えて浸漬管の回りを下向きに流れ、
外側渦流は偏向用遮蔽体で半径方向に外方に向きを変え
て容器の下側部分の内壁に沿って下向きに流れる。かか
る２種の渦流は狭い環状空間の上の領域で再び一緒にな
り、頂部への共通の通路において２種の渦流の間で材料
粒子の限定された交換を行うことができる。
本発明の好適例では、下向きに凹面状にアーチ形をした
偏向用遮蔽体の既知の特徴は、この遮蔽体の下側におい
て、中心を同じくする２個の環状アーチ形部分が環状リ
ブを形成し、このリブの直径が前記容器の最大自由環状
断面の平均直径に少なくともほぼ等しい点で、さらに開
発されている。
この結果側渦流は偏向用遮蔽体において特に円滑に向き
を変えることができる。
上述の既知の流動床装置と同じく、本発明装置はガス出
口を好ましくは偏向用遮蔽体の上方に備える。この場合
、一方では偏向用遮蔽体と浸漬管との間に、他方では偏
向用遮蔽体と容器の内壁との間に、少なくともほぼ同じ
大きさの２個の環状通路が自由に通れるように残されて
いるのは、本発明における特に有利な点である。
本発明の流動床装置は、液体および／または固体を容器
中に吹付けるための複数個のノズルが浸漬管の回りに配
置されている点で、上述の既知装置と同じである。この
場合に、本発明の他の特徴として、ノズルの軸線が容器
の最大自由環状断面の平均直径に等しい直径を有する想
像上円筒形のシャケ−／　）の少なくもほぼ上に配置さ
れているのが好ましい。従って、ノズルは環状空間内に
配置され、容器の軸線に平行に上を向いている。
さらに上述の既知の流動床装置と同じく、浸漬管は下向
きに拡開する拡開部とこの拡開部の下で皿形部材内に浸
漬されている少なくともほぼ円筒形の円筒部とからなる
外側外殻表面を有することができる。このような例は、
拡開部が容器を通る軸線に関する半断面図において容器
の下側部分まで少なくともほぼ対称に延びるトランペッ
ト様形状を有する点において、本発明において一層改善
されている。
次に本発明を図面を参照して例について説明する。
図示する流動床装置は、はぼ球形の容器１０を備え、全
体として容器の立て軸線１２に関してほぼ回転対称であ
る。容器１０は上側部分１４と下側部分１６とからなり
、これらの部分はそれぞれカップ形球面領域の形状を有
し、実質的にガラスから作られていて、封鎖するように
互いに衝合するフランジ１８および２０を有する。
容器の上側部分１４には上向き方向に容器頂部２２が続
き、下側部分１６は下向き方向で皿形部材２４に移行す
る。容器頂部２２および皿形部材２４にはそれぞれ２個
のクランプ２６および２８が取付けられている。これら
のクランプは、例えば従来のバスト−デッドセンタ（ｐ
ａｓｔ−ｄｅａｄ　ｃｅｎｔｅｒ）引掛は具または同様
な迅速着脱閉鎖部材で締付けることによって互いに連結
され、容器の部分１４および１６は清浄にするために迅
速に解体することができる。かかる操作中任意の所望の
種類の支持構造体く図示せず）が容器頂部２２を介して
容器の上側部分１４を支持し続けるかあるいは皿形部材
２４を介して下側部分１６を支持し続ける。
容器ＩＯには粉状または粒状の材料３０が収容され、こ
れらの材料は混合または乾燥または粒状化またはベレッ
ト化または塗布処理または被覆処理されつつあるか、あ
るいはこれらの操作の２種以上の組合せを適用されてい
る。第１図は流動状態の材料３０を示し、この状態は装
置の操作中に起る。
皿形部材２４は外方に突出する上側端縁３２を有し、端
縁３２は容器の下側部分１６の下側端縁を取囲んでいる
。
複数個のノズル、図示する例では８個のノズル３４が上
側端縁３２のレベルで開口している。これらのノズルは
下方から皿形部材２４中に挿入され、容器の立て軸線１
２に平行に上向き方向に延在する。
この方向は図示する例では垂直方向である。ノズル３４
は砂糖溶液のような液体を材料３０上に吹付けるように
設計することができる。これらのノズルは、材料３０に
吹付けるための固体用ノズルとして、あるいは液体およ
び／または固体および／またはガスを同時に吹付けるた
めの多数物質用ノズルとして同様に設計することができ
る。とにかく、ノズル３４は互に偏倚させて均一な角間
隔で配置する。
皿形部材２４の上側端縁３２には下向き方向に円筒壁３
６が続き、次に一部が皿形部材２４自体で形成されかつ
他の一部が閉鎖部材３８で形成されている偏向領域が続
き、閉鎖部材３８は皿形部材内で高さを調整することが
できる。閉鎖部材３８および皿形部材２４はいずれもほ
ぼ回転対称で、閉鎖部材は軸線方向に上向きの先端を有
する。
第１図において、閉鎖部材３８はその作動位置が実線で
示されており、この位置で部材３８は皿形部材２４をそ
の底部で緊密に封鎖する。閉鎖部材３８はこの位置から
不連続線で示す開口位置に持上げることができる。閉鎖
部材がこの位置にある場合には、材料３０は皿形部材２
４を通って下向き方向に流出することができる。
浸漬管４０は容器頂部２２を内方に向けて弓形に通過し
、次いで容器１０内を軸線方向に下向き方向に延びて皿
形部材２４の底部の直く上で終端する。浸漬管４０は皿
形部材２４の円筒壁３６と共に円筒形の環状空間４２を
形成する。浸漬管４０の外側端はブロワ−の圧力端に連
結され、ブロワ−によって空気または他のガスが装置を
通って送られる。ブロワ−は流動床装置そのものには属
しておらず、従来設計のものとすることができる。この
ためブロワ−は図示しない。
容器の上側部分１４の内側で浸漬管４０に環状の偏向用
遮蔽体４４が取付けられている。この偏向用遮蔽体４４
の端縁は容器の立て軸線１２に垂直でこの例では水平面
である共通平面内に位置する。一方では遮蔽体４４の端
縁と浸漬管４０との間、および〜他方ではこれらの端縁
と容器１０の内側との間にはそれぞれ、環状通路４６お
よび４８が自由に通れるように残されている。これらの
２個の通路４６および４８によって形成される面積はほ
ぼ同じ大きさなので、作動中単位時間当り同量のガスが
偏向用遮蔽体４４の内側で半径方向に流れ、偏向用遮蔽
体４４の外側を通って上向き方向に流れて容器頂部２２
に入る。
容器頂部２２はブロワ−の吸込端に連結する。
浸漬管４０における偏向用遮蔽体４４の取付は高さは調
整できるので、通路４６対４８の面積の比も変えること
ができる。内側通路４６の幅は高さの調整とは無関係で
あるが、外側通路４８の幅は偏向用遮蔽体４４の高さが
高くなるにつれて狭くなり、低くなるにつれて広くなる
。偏向用遮蔽体４４の取付けは通路４６を上向き方向に
通るガスの流れが言及するに値する程度までは妨害され
ないように設計され、図示の例ではスポーク５０が使用
されている。
偏向用遮蔽板４４の下側は２個の環状アーチ形部分５２
および５４からなり、これらのアーチ形部分は一緒に下
向きに突出する環状リブ５６を形成する。
両アーチ形部分５２および５４とリブ５６との共通軸線
は容器の立て軸線１２と一致する。偏向用遮蔽板４４の
断面形状はリブ５６に関して対称である。
図示の例では浸漬管４０はその全長にわたってほぼ水平
面までほぼ一定の直径を有し、閉鎖部材３８が閉止位置
にある場合には部材３８の先端は前記水平面内に位置す
る。この平面内で浸漬管４０は端縁ビード５８に移行す
る。この端縁ビード５８は容器１０の赤道面で始まる上
部６０を存し、上部６０は赤道面において浸漬管４０の
外径と等しい外径を有する。
上部６０は容器の下側部分１６の下端縁のレベルに位置
する環状端縁６２に達するまで下向き方向にトランペッ
トのように拡開する。端縁６２において端縁ビード５８
の円筒部６４が始まる。この円筒部６４は環状空間４２
を半径方向に内側で限定する。
容器１０はその赤道面に位置する最大自由環状断面を有
し、この赤道面内でフランジ１８および２０は互いに衝
合する。この最大自由環状断面は容器１０の最大内径と
浸漬管４０の外径との算術的平均値である平均直径を有
する。環状空間４２は平均直径０４２を有し、これは皿
形部材２４の円筒壁３６の内径と端縁ビード５８の円筒
部６４の外径との算術的平均値であり、容器１０の最大
自由環状断面の平均直径に正確に一致する。リブ５６の
直径Ｄ５６はこれと全く同じ大きさである。
作動中上述のブロワ−は加熱乾燥状態の空気または不活
性ガスを吸引して第１図に示す矢の方向に図示の装置内
を通し、この際容器内部を周囲圧力より低い圧力が占め
るようにすることができる。
ノズル３４からは粉状、固体および液体の物質を同時ま
たは交互に吹付ける。これらの物質は装置の壁に達する
前に材料３０の上に堆積する。このためこれらの物質は
容器１０の内壁の上または浸漬管４０の上または偏向用
遮蔽体４４の上に蓄債する機会がない。従って図示の装
置は他の装置では処理困難な物質を吹付けるのに特に適
している。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明装置の一例の垂直断面図、第２図は第１
図の■−■線に沿った横断面図である。 １０・・・容器　　　　　　１２・・・軸線１４・・・
容器の上側部分 １６・・・容器の下側部分 １８、２０・・・フランジ２２・・・容器頂部２４・・
・皿形部材 ２６、２８・・・クランプ　　３０・・・粉状または粒
状材料３２・・・皿形部材２４の上側端縁 ３４・・・ノズル　　　　、３６・・・円筒壁３８・・
・閉鎖部材　　　　４０・・・浸漬管４２・・・環状空
間　　　　０４２・・・空間４２の平均直径４４・・・
偏光用遮蔽体 ４６、４８・・・通路　　　　５０・・・スポーク５２
、５４・・・アーチ形部分 ５６・・・環状リブ　　　　０５６・・・リブ５６の直
径５８・・・端縁ビード ６０・・・ビード５８の上部（拡開部）６２・・・環状
端縁 ６４・・・ビード５８の円筒部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、容器（１０）と、皿形部材（２４）と、浸漬管（４
    ０）と、偏向用遮蔽体（４４）とを備え、 −前記容器（１０）は少なくともほぼ垂直なその軸線（
    １２）関して少なくともほぼ回転対称であり、かつ下向
    きに小さくなる直径を有する下側部分（１６）を有し、 −前記皿形部材（２４）は、前記容器の軸線（１２）に
    関して少なくともほぼ回転対称であり、かつ少なくとも
    ほぼ円筒形の円筒壁（３６）を有し、該円筒壁（３６）
    内に前記容器（１０）の下側部分（１６）が開口し、 −前記浸漬管（４０）は上方から前記容器（１０）内に
    軸線方向に突出し、かつ前記浸漬管（４０）は該浸漬管
    （４０）と前記皿形部材（２４）の円筒壁（３６）との
    間に狭い環状空間（４２）が形成されるように前記皿形
    部材（２４）内に浸漬され、−前記偏向用遮蔽体（４４
    ）は前記容器（１０）の上側領域において前記浸漬管の
    回りに少なくともほぼ回転対称に配置され、 −前記浸漬管（４０）内を通って上方から前記皿形部材
    （２４）内に導入されたガスは該皿形部材（２４）によ
    って上向きに偏向され、前記環状空間（４２）内を通っ
    て前記容器（１０）中に流入し、該容器（１０）中に収
    容されている材料（３０）を運動、特に流動させ、前記
    ガスによってさらに上向き方向に同伴される材料を前記
    遮蔽体 （４４）によって再び偏向されるように構成した、粉状
    または粒状の材料を混合、乾燥、粒状化、ペレット化、
    塗布、および／または被覆するための流動床装置におい
    て、 −前記環状空間（４２）が、該空間（４２）と前記偏向
    用遮蔽体（４４）との間の前記容器（１０）の最大自由
    環状断面の平均直径に少なくともほぼ等しい平均直径（
    Ｄ４２）を有し、 −前記偏向用遮蔽体（４４）が前記環状空間（４２）よ
    り上方に少なくともほぼ対称にアーチ形に設けられてい
    ることを特徴とする流動床装置。 ２、下向きに凹面状にアーチ形をした偏向用遮蔽体（４
    ４）を備え、該遮蔽体（４４）の下側において中心に同
    じくする２個の環状アーチ形部分（５２、５４）が環状
    リブ（５６）を形成し、該リブ（５６）の直径（Ｄ５６
    ）が前記容器（１０）の最大自由環状断面の平均直径に
    少なくともほぼ等しい特許請求の範囲第１項記載の装置
    。 ３、前記偏向用遮蔽体（４４）の上方にガス出口を備え
    、一方では前記偏向用遮蔽体（４４）と前記浸漬管（４
    ０）との間に、他方では前記偏向用遮蔽体（４４）と前
    記容器（１０）の内壁との間に、少なくともほぼ同じ大
    きさの２個の環状通路 （４６、４８）が自由に通れるように残されている特許
    請求の範囲第１項または第２項記載の装置。 ４、液体および／または固体を前記容器（１０）中に吹
    付けるための複数個のノズル（３４）の軸線が前記容器
    （１０）の最大自由環状断面の平均直径に等しい直径を
    有する想像上円筒形のジャケットの少なくともほぼ上に
    配置されている特許請求の範囲第１〜３項のいずれか一
    つの項に記載の装置。 ５、前記ノズル（３４）は前記環状空間（４２）内に配
    置され、前記容器の軸線（１２）に平行に上を向いてい
    る特許請求の範囲第４項記載の装置。 ６、前記浸漬管（４０）は下向きに拡開する拡開部（６
    ０）と該拡開部（６０）の下で前記皿形部材（２４）中
    に浸漬されている少なくともほぼ円筒形の円筒部（６４
    ）とからなる外側外殻表面を有し、前記拡開部（６０）
    が前記容器（１０）を通る軸線に関する半断面図におい
    て前記容器（１０）の下側部分（１６）まで少なくとも
    ほぼ対称に延びるトランペット形状を有する特許請求の
    範囲第１〜５項のいずれか一つの項に記載の装置。
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