JPS6251931A - 植物育成方法 - Google Patents
植物育成方法Info
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- JPS6251931A JPS6251931A JP19111585A JP19111585A JPS6251931A JP S6251931 A JPS6251931 A JP S6251931A JP 19111585 A JP19111585 A JP 19111585A JP 19111585 A JP19111585 A JP 19111585A JP S6251931 A JPS6251931 A JP S6251931A
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- Japan
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- light
- plant
- illuminance
- light irradiation
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- Pending
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- Cultivation Of Plants (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し座業上の利用分野〕
この発明は、植物育成方法に関し、特VC環境条件のう
ち少なくとも光を制帥するものに関する。
ち少なくとも光を制帥するものに関する。
植物の生長は環境に大きく依存するのに周知の通りであ
る。しかるは、地球上の自然環境に変動し、植物の生産
性から見た場合、必ずしも過当でない。生産に通した条
件を備えt期間は、地域により全く無かったり、おった
としてもごく短w3間である。他物の生産性低下をもた
らす環境要因を人工的VC補い、生産性をできるだけ保
持しようとするのが施設裁層である。しかし、この施設
栽培においてもやにり自然環境から光分に脱却したと1
2言い娠<、したがって、生*注にも限界があつfc。
る。しかるは、地球上の自然環境に変動し、植物の生産
性から見た場合、必ずしも過当でない。生産に通した条
件を備えt期間は、地域により全く無かったり、おった
としてもごく短w3間である。他物の生産性低下をもた
らす環境要因を人工的VC補い、生産性をできるだけ保
持しようとするのが施設裁層である。しかし、この施設
栽培においてもやにり自然環境から光分に脱却したと1
2言い娠<、したがって、生*注にも限界があつfc。
そこで、自然環境から完全Vc切り離さfた人工環視の
もとで、植物の持つ生長力を最大限に発揮させようとす
る試みがなさnている。いわゆる燻物工場で必る。他物
工場は、任意に制御できる環境のもとての植物栽培であ
り、完全に制御さ几た主題が町舵でめるなど多くのメリ
ットを有している。
もとで、植物の持つ生長力を最大限に発揮させようとす
る試みがなさnている。いわゆる燻物工場で必る。他物
工場は、任意に制御できる環境のもとての植物栽培であ
り、完全に制御さ几た主題が町舵でめるなど多くのメリ
ットを有している。
し刀・しながら1人工的に塊視を作るため、どうしても
エネルギ消費によるコストがかかり、経済性が問題とし
て残る。植物工場のメリットを生かし実用化するためK
11l、土地生産性および省エネルギを追求することが
大きな蛛題である。そのためは、特開昭55−2400
0号公報に記載さn7’hように植物が成熟し大きくな
るのに伴って植物体の間隔を増大させるように移動し、
生前中密植状態を保って栽培することにより栽培面積を
小さくする工夫がなさルている。
エネルギ消費によるコストがかかり、経済性が問題とし
て残る。植物工場のメリットを生かし実用化するためK
11l、土地生産性および省エネルギを追求することが
大きな蛛題である。そのためは、特開昭55−2400
0号公報に記載さn7’hように植物が成熟し大きくな
るのに伴って植物体の間隔を増大させるように移動し、
生前中密植状態を保って栽培することにより栽培面積を
小さくする工夫がなさルている。
上記のような成熟に伴って植物体の間隔を増大させる方
法では、植物体に照射する元が低照度で6nば、植物体
の葉か大きくなり、隣接する植物体の来が憲なるためは
、均一で高品位な植物体が侍らnなくなるという問題点
があった。また、その分、栽培面稙か大きくなってしま
うという問題がめった。この問題点?:除去するためK
は、尚照度の光を組物に照射するのがM初であると考え
らnるが、上記で説明したように人工光源を用いた組物
数理装置では、煕明電力を出来るだけ低減することか重
要であり、高照度の光を植物体に照射することは好まし
くない。
法では、植物体に照射する元が低照度で6nば、植物体
の葉か大きくなり、隣接する植物体の来が憲なるためは
、均一で高品位な植物体が侍らnなくなるという問題点
があった。また、その分、栽培面稙か大きくなってしま
うという問題がめった。この問題点?:除去するためK
は、尚照度の光を組物に照射するのがM初であると考え
らnるが、上記で説明したように人工光源を用いた組物
数理装置では、煕明電力を出来るだけ低減することか重
要であり、高照度の光を植物体に照射することは好まし
くない。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
几たもので、低照度の光照射でも均一でかつ高品位な植
物体を得ることができ、さらに栽培面積を小さくできる
植物育成方法乞提供することを目的としている。
几たもので、低照度の光照射でも均一でかつ高品位な植
物体を得ることができ、さらに栽培面積を小さくできる
植物育成方法乞提供することを目的としている。
この発明に係る植物育成方法は、環境条件のうち少なく
とも光を制御する植物育成方法において他物体VC光を
連続的に照射する場合の2倍以上の照度の光を、上記植
物体に間欠的に照射するようにしたものでるる。
とも光を制御する植物育成方法において他物体VC光を
連続的に照射する場合の2倍以上の照度の光を、上記植
物体に間欠的に照射するようにしたものでるる。
間欠的に強い照度の光を照射することにより。
植物体がこの光に対応し、41L物体の葉が小さくなる
。
。
植物の生長と環境俄因との関係は複雑であり。
光分に明らかにさnておらず、こnらの関係を調べる研
究に努力が払わnている。
究に努力が払わnている。
この発明は1間欠元照射の明期の照度が植物体の葉の形
状に及ぼす効果KN目してなさまたものであり、明期と
暖期の平均照度が低照度でかつ明期の照度が連続的に光
を照射する場合の照度よりも高照度の光を植物体に間欠
的に照射するよりにしたものである。
状に及ぼす効果KN目してなさまたものであり、明期と
暖期の平均照度が低照度でかつ明期の照度が連続的に光
を照射する場合の照度よりも高照度の光を植物体に間欠
的に照射するよりにしたものである。
以下0図を用いてさらに詳しく説明する。
第1図はこの発明の一実施例に係わる植物栽培装置を示
す構成図である。図において、(1)は光照射装置(4
)を収納する植物栽培装置、(2)に温度および湿度を
i、I4節する空調@、 (31は炭酸ガス注入口。
す構成図である。図において、(1)は光照射装置(4
)を収納する植物栽培装置、(2)に温度および湿度を
i、I4節する空調@、 (31は炭酸ガス注入口。
(5)は恒温水槽、(6)は仕切板、(7)は間欠光照
射電源。
射電源。
(8)に連続光照射電源、(9)は空気供給器、 (I
Gは人工光源、αυは水耕槽、α3iI水耕液、α3は
タンク、α4はポンプ、ttcJa間欠光照射室、αI
は連続光照射室。
Gは人工光源、αυは水耕槽、α3iI水耕液、α3は
タンク、α4はポンプ、ttcJa間欠光照射室、αI
は連続光照射室。
(L′0は植物体8例えばブラダ菜である。
図中、英綴の矢印は水耕液の供給の流f′Lを示し。
点線の矢印は空気の供給の流f′L?:示す。
上記光照射装k(4)は植物栽培装[(11内に収納さ
n、仕切板+61 Kよって間欠光照射室(I!9と連
続光照射室αeの2つのセクションに分けら几ている。
n、仕切板+61 Kよって間欠光照射室(I!9と連
続光照射室αeの2つのセクションに分けら几ている。
光照射室a5及びae内に周囲面からの光反射をなくす
るために1例えば黒色ゴムシートで覆わ几ている。
るために1例えば黒色ゴムシートで覆わ几ている。
植物栽培装[(11内の気温及び湿度が空調機(2)に
より調節さ几、また水耕液(Izの温度が恒温水槽(5
)により調節さル、植物栽培装kTll内の環境条件が
植物体面の生育にとって好適な条件に制御さする。
より調節さ几、また水耕液(Izの温度が恒温水槽(5
)により調節さル、植物栽培装kTll内の環境条件が
植物体面の生育にとって好適な条件に制御さする。
また、所定の濃度の水耕液cLzは、空気供給器(9)
によりエアレーションされて光分な溶存酸素Q度が保だ
nている。さらに植物栽培装置(1)内の炭販ガス濃度
が所定の濃度となるようは、注入口(3)から炭酸ガス
を注入する。光照射gu!9及び住e内に設置さnたフ
ァン(図示せず)Kエフ、上記のように調節さnfc植
物裁培栽培置装11内の空気が光照射室αつ及び住[9
T?3に送気さnる。
によりエアレーションされて光分な溶存酸素Q度が保だ
nている。さらに植物栽培装置(1)内の炭販ガス濃度
が所定の濃度となるようは、注入口(3)から炭酸ガス
を注入する。光照射gu!9及び住e内に設置さnたフ
ァン(図示せず)Kエフ、上記のように調節さnfc植
物裁培栽培置装11内の空気が光照射室αつ及び住[9
T?3に送気さnる。
従って、光照射室u!9及び−内の環境条件は1元条件
を除いて同一となる。その友、サラダ菜q力が光照射室
aS及びtte内の水耕槽α1)K植えらル9間欠光照
射呈(15及び連続光照射室(119の人工光源aOが
そ几ぞf′L電源(7)及び+81VCより点灯さ几て
植物の裁培が開始さnる。この際0間欠光照射の明期の
照度を1例えば連続光照射のそnの5倍とするVCは。
を除いて同一となる。その友、サラダ菜q力が光照射室
aS及びtte内の水耕槽α1)K植えらル9間欠光照
射呈(15及び連続光照射室(119の人工光源aOが
そ几ぞf′L電源(7)及び+81VCより点灯さ几て
植物の裁培が開始さnる。この際0間欠光照射の明期の
照度を1例えば連続光照射のそnの5倍とするVCは。
電源(71Kよジ明期と暗期の比率を1:4とし、かつ
人工光源αQの点灯本数を連続光照射の場合の5倍とす
る。このようにすnば1間欠光照射の平均照度が連続光
照射のそnと等しくな)1間欠光照射の明期の照度が植
物体αDの形状に及ぼす効果を調べることができる。
人工光源αQの点灯本数を連続光照射の場合の5倍とす
る。このようにすnば1間欠光照射の平均照度が連続光
照射のそnと等しくな)1間欠光照射の明期の照度が植
物体αDの形状に及ぼす効果を調べることができる。
上記のように構成さ几た植物栽培装置t filを用い
て2間欠光照射の明期の照度を、連続に光を照射し几場
合の照度の2〜10倍まで変化させ、栽培後の生体重量
が100PKなった時のサラダ菜σDの葉の寸法を測定
した。
て2間欠光照射の明期の照度を、連続に光を照射し几場
合の照度の2〜10倍まで変化させ、栽培後の生体重量
が100PKなった時のサラダ菜σDの葉の寸法を測定
した。
表1Vcこ几らの結果を示す。このとき2間欠元照射の
周期に10m5.気温は20℃、炭酸ガス濃度は400
01p、相対湿度は80%1周速に0.5m/ sec
、水耕液住zの温度、@度2よびPHはそ几ぞn21℃
、12ミリモーl 5〜a、5.日長に24時間であつ
几。また1人工元源αOとして蛍光灯を用いている。
周期に10m5.気温は20℃、炭酸ガス濃度は400
01p、相対湿度は80%1周速に0.5m/ sec
、水耕液住zの温度、@度2よびPHはそ几ぞn21℃
、12ミリモーl 5〜a、5.日長に24時間であつ
几。また1人工元源αOとして蛍光灯を用いている。
表 1゜
表tVcおけるKは
?示すものであり、生体重量が10ofのサラダ菜の大
きさは、第zHvcおける縦の長さくa)(iX横の長
さくb)(yt) Y示すものである。
きさは、第zHvcおける縦の長さくa)(iX横の長
さくb)(yt) Y示すものである。
表1に示すようは、この実施例にょルば、明期と暗期の
平均照度が9 klxの低照度でも、従来の連続光照射
の20 klX (?ラダ菜の光飽和照度;照度を高く
しても生長速度が増大しない照度)での植物体形状に匹
敵するものが得ら几る。
平均照度が9 klxの低照度でも、従来の連続光照射
の20 klX (?ラダ菜の光飽和照度;照度を高く
しても生長速度が増大しない照度)での植物体形状に匹
敵するものが得ら几る。
従来の連続的に光を照射する方法において、9に1xの
低照度でに植物体の葉が著しく大きくなり低品位で不均
一なものになっていた。こ′nに比べて9明期と暗期の
平均照度が9 klXで、かつ明期の照度が連続的に光
を照射した場合の2倍以上の尚照度の光を間欠的に照射
して裁培すると、サラダ菜σηの葉はまとまりよく小さ
くなり、均一で藺品位なものが得らnる。平均照度”:
t 5 klx K下げても、サラダ菜αηの葉は尚品
位で均一なものが得らルるが、明期の照度が連続的に光
を照射した場合の2倍未満だと、従来と同程度の葉の大
きさになジ、あまり効果がない。また8平均前度が連続
照射の場合の元飽和照度よりも高い照度にしても植物体
に影響する効果は2元飽和照度の時の効果と同程度にな
る。
低照度でに植物体の葉が著しく大きくなり低品位で不均
一なものになっていた。こ′nに比べて9明期と暗期の
平均照度が9 klXで、かつ明期の照度が連続的に光
を照射した場合の2倍以上の尚照度の光を間欠的に照射
して裁培すると、サラダ菜σηの葉はまとまりよく小さ
くなり、均一で藺品位なものが得らnる。平均照度”:
t 5 klx K下げても、サラダ菜αηの葉は尚品
位で均一なものが得らルるが、明期の照度が連続的に光
を照射した場合の2倍未満だと、従来と同程度の葉の大
きさになジ、あまり効果がない。また8平均前度が連続
照射の場合の元飽和照度よりも高い照度にしても植物体
に影響する効果は2元飽和照度の時の効果と同程度にな
る。
上記実施例では、明期の照度が高照度の間欠光照射を単
独で行なっているが、平均照度が51(lx程度の低照
度の間欠光照射と一定照度1例えば数klxの低照度の
連続光照射とを四時に行なっても上記実施例と同様の効
果が得らnる。
独で行なっているが、平均照度が51(lx程度の低照
度の間欠光照射と一定照度1例えば数klxの低照度の
連続光照射とを四時に行なっても上記実施例と同様の効
果が得らnる。
また、上記実施例では間欠光照射の周期を10m日とし
たが1間欠元照射の周期にi m8 から1060、m
s の範囲でも上記と同様の効果が得ら几る。また、炭
酸ガス濃度が大気Iik度より数倍以上において上記と
同様の効果が得ら几る。さらに気温が20℃から30℃
において上記と同様の効果が得らnる。
たが1間欠元照射の周期にi m8 から1060、m
s の範囲でも上記と同様の効果が得ら几る。また、炭
酸ガス濃度が大気Iik度より数倍以上において上記と
同様の効果が得ら几る。さらに気温が20℃から30℃
において上記と同様の効果が得らnる。
以上説明したようは、この発明によ几ば、環境条件のう
ち少なくとも光を制御する植物育底力法において、植物
体に光を連続的に照射する場合の2倍以上の照度の光を
、上記植物体に間欠的に照射することにより、平均照度
が低い光照射でも。
ち少なくとも光を制御する植物育底力法において、植物
体に光を連続的に照射する場合の2倍以上の照度の光を
、上記植物体に間欠的に照射することにより、平均照度
が低い光照射でも。
均一で高品位な植物体が得らn、さらに栽培面積を小さ
くできる効果がある。
くできる効果がある。
第1図はこの発明における植物育底力法の−実捲例に係
わる植物育成装置を示す構成図、第2図はこの実施例に
係わる植物体を示す上面図である。 (11・・・植物栽培装置、(2)・・・空調機、(3
)・・・炭酸ガス注入口、(4)・・・光照射装置、(
5)・・・恒温水槽、(7)・・・間欠光照射電源、(
9)・・・空気供給器、αQ・・・人工光源。 αト・−水耕槽、住z・・・水耕液、α3・・・タンク
、(14・・・ポンプ、住訃・・間欠光照射室、α訃・
・植物体。 なお0図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
わる植物育成装置を示す構成図、第2図はこの実施例に
係わる植物体を示す上面図である。 (11・・・植物栽培装置、(2)・・・空調機、(3
)・・・炭酸ガス注入口、(4)・・・光照射装置、(
5)・・・恒温水槽、(7)・・・間欠光照射電源、(
9)・・・空気供給器、αQ・・・人工光源。 αト・−水耕槽、住z・・・水耕液、α3・・・タンク
、(14・・・ポンプ、住訃・・間欠光照射室、α訃・
・植物体。 なお0図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (3)
- (1)環境条件のうち少なくとも光を制御する植物育成
方法において、植物体に光を連続的に照射する場合の2
倍以上の照度の光を、上記植物体に間欠的に照射するこ
とを特徴とする植物育成方法。 - (2)植物体に間欠的に照射する光の明期と暗期の平均
照度は、光を連続的に照射する場合の光飽和照度よりも
低くしたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
植物育成方法。 - (3)植物体に間欠的に光を照射すると同時に、一定照
度の光を植物体に連続的に照射することを特徴とする特
許請求の範囲第1項または第2項記載の植物育成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19111585A JPS6251931A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | 植物育成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19111585A JPS6251931A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | 植物育成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6251931A true JPS6251931A (ja) | 1987-03-06 |
Family
ID=16269112
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19111585A Pending JPS6251931A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | 植物育成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6251931A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0491661U (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-10 | ||
US6387497B1 (en) | 1997-12-19 | 2002-05-14 | Matsumoto Yushi-Seiyaku Co Ltd | Synthetic organic particles, process for the production of the same, and use thereof |
US7084633B2 (en) | 2002-05-20 | 2006-08-01 | Neomax Co., Ltd. | Magnetic field generating device and MRI equipment using the device |
WO2022071129A1 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-04-07 | Mirai株式会社 | 栽培環境制御装置 |
-
1985
- 1985-08-30 JP JP19111585A patent/JPS6251931A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0491661U (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-10 | ||
US6387497B1 (en) | 1997-12-19 | 2002-05-14 | Matsumoto Yushi-Seiyaku Co Ltd | Synthetic organic particles, process for the production of the same, and use thereof |
US7084633B2 (en) | 2002-05-20 | 2006-08-01 | Neomax Co., Ltd. | Magnetic field generating device and MRI equipment using the device |
WO2022071129A1 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-04-07 | Mirai株式会社 | 栽培環境制御装置 |
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