JPS6246916A - シランの製造方法 - Google Patents

シランの製造方法

Info

Publication number
JPS6246916A
JPS6246916A JP60184074A JP18407485A JPS6246916A JP S6246916 A JPS6246916 A JP S6246916A JP 60184074 A JP60184074 A JP 60184074A JP 18407485 A JP18407485 A JP 18407485A JP S6246916 A JPS6246916 A JP S6246916A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
catalyst
polysiloxane
groups
bonded
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60184074A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0341406B2 (ja
Inventor
Mamoru Tachikawa
守 立川
Mitsuharu Shiozawa
塩沢 光治
Yoshiharu Okumura
奥村 義治
Takeo Koyama
小山 武夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tonen General Sekiyu KK
Original Assignee
Toa Nenryo Kogyyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toa Nenryo Kogyyo KK filed Critical Toa Nenryo Kogyyo KK
Priority to JP60184074A priority Critical patent/JPS6246916A/ja
Publication of JPS6246916A publication Critical patent/JPS6246916A/ja
Publication of JPH0341406B2 publication Critical patent/JPH0341406B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術的分野 本発明はクロロ水素化シランの不均化および/又は再分
配反゛応によるシラン類、特にモノシランおよび/また
はクロロクランの製造方法に関する。
従来の技術 シラン、特にモノシランは半導体、アモルファス太陽電
池、IOデバイスや感光体等に有用な素原料である。ク
ロロシランあるいはモノシランは、次式の如く、クロロ
シランを原料に不均化もしくは再分配反応により得られ
ることが知られている。そしてこれらの反応に有用な触
媒の開発が行われている。
2SiH(!/、  コ 1llliB、C/、+81
c/。
2日1m、at、3 5iT1cz、4− stH,a
t281馬at :  SIH,−4−stm、at。
上記の触媒としてはアミン基等を含む不溶性の固体陰イ
オン交換樹脂(特開昭50−119798号公報)、ト
リメチルアミン又はジメチルエチルアミン(特開昭59
−121110号公報)、パラジウム(特開昭54−5
9250号公報)、無機固体塩基(特開昭59−174
515号公報)α−オキソアミン基を含む化合物(特開
昭59−54617号公報)、テトラアルキル尿素(特
公昭55−14046号公報)炭化水素基でN−置換し
たα−ピロリドン(特公昭55−14045号公報)、
スルホン酸基を有する陽イオン交換体(特開昭59−1
61614号公報)、アミノアルコールとシリカの反応
生放物(特開昭59−156907号公報)、などがあ
る。また特に反応生成物と触媒の分離が容易な不均一系
触媒が注目されている。
発明が解決しようとする問題点 クロロ水素化シラ/の不均化および又は再分配反応に有
用な触媒はいくつか提案されているが、特に従来の固体
陰イオン交換樹脂系の触媒り耐熱性、機械的強度に劣り
、イオン交換樹脂特有の膨潤などの問題があり、触媒寿
命も満足するものではなかった。一方ルイス酸やアミン
類等の均一系触媒は生成物と触媒の分離に多大のエネル
ギー2要する。
問題を解決する為の手段 発明の要旨 本発明者等は、上記問題を解決する為の新規な触媒系と
して、多孔性無機固体の表面を炭素に結合した窒素原子
を含有する有機珪素基で化学修飾したもの(特願昭60
−11019号および特願昭60−69966号)、多
孔性無機固体の表面を炭素に結合したホスフィノ基又は
ホスホニウム基?含有する有様珪素基で化学修飾したも
の(特願昭60−20802号)を見出し先に提案した
本発明者等は研究と継続した結果上記触媒よυ更に高活
性の触媒系を見いだした。即ち本発明はポリシロキサン
マトリックスにアミン基、アンモニウム基、ホスフィノ
基、ホスホニウム基の少くとも1種類が結合した触媒の
存在下に5iHnC/4−!l(但し1≦n≦3)で表
わされるクロロシランを不均化および/又は再分配させ
ることt特徴とする7ランの製造方法に関する。
ポリシロキサンはシロキサン結合−!1i−0−占1−
I を主鎖にもち、全部又は一部の側鎖に有機基をもつポリ
マーであり、当業界においては公知である。本発明に使
用されるポリシロキサンマトリックスにアミノ基、アン
モニウム基、ホスフィノ基、ホスホニウム基の少くとも
1種類が結合した触媒は公知の方法、例えばゾル−ゲル
法によυつくることができる。
即ち、官能基及び加水分解基を有する有機珪素試剤(シ
ランカップリング剤等)と珪酸化合物とを加水分解、脱
水縮合し、これを乾燥して官能基含有のポリシロキサン
を得ることが出来る。その際、前記官能基及び加水分解
基を有する有機珪素試剤中の官能基が炭素に結合したア
ミン基、アンモニウム基、ホスフィノ基、するいはホス
ホニウム基である場合は生成したポリシロキサンはその
ま甘木発明の触媒として使用できる。又該官能基が置換
可能な基、あるいは伺加反応可能な基である場合は、多
孔性ポリシロキサン生成後、アミノ基、アンモニウム基
、ホスフィン基、あるいはホスホニウム! ’:x f
Tl 換又は付加反応により結合せしめ、本発明の触媒
とすることができる。アミン基又はホスフィノ基は5級
が特に好ましく、アンモニウム基又ハホスホニウム基は
4級が特に好ましい。
官能基及び加水分解基を有する有機珪素試剤官能基及び
加水分解基を有する有機珪素試剤としては特願昭60−
.11019号、同6〇−20802号、及び同60−
69966号明細書に記載した多孔性無機固体の表面を
化学修飾で表わされ、Yは第1級ないし第3級のアミノ
基−nR1p/”、第1級ないし第4級のアンモニウム
基−NR”R’R”X−1あるいはα−オキソアミノ基
す既に窒素原子を含有するグループでも良いし、置換反
応または付加反応によって窒素含有基に変換可能な官能
基でも良い。置換又は付加反応によって窒素含有基に変
換可能な官能基の中でされるカルボ/酸基の様な脱離基
、そして、付加反応に有用な不飽和結合を有する炭化水
素基がある。この場合ビニルトリエトキシ7ランのよう
にY−R−がビニル基であってもよい。上記の一般式中
でRは負〜C2゜の有機グループであり、酸素原子ある
いはハロゲン原子を含んでいても良く、飽和でも不飽和
でもよく、直鎖でも側鎖を有していても良く環式でも非
環式でも良い。Yが窒素原子含有基の場合R1〜R1・
は水素原子又はC1〜C1゜の炭化水素基であり、ハロ
ゲン、酸素原子等の炭素、水素以外の原子を含有してい
ても良い。また、アミノ基では將と1とが、アンモニウ
ム基ではR”、 R’、R’のうちの2個又は全部が、
そしてα−オキソアミノ基の場合には−と!、あるいは
N、!?、鏝・ のうちの2個又は全部が互いにつなが
っていても良いし、痒〜R16がRの一部であっても良
い。アンモニウム基のX−としてはフッ素、塩素、臭素
、ヨウ素、BFい(310いON、OH,カルボン酸基
等のアニオンがある。y、y、7のうち少なくとも1つ
は加水分解基であり、代表的にはクロライド、ブロマイ
ド、アイオダイド、アルコキシド、アミ7基、アセトキ
シ基などである。加水分解基以外のd、z4.rはRと
同様嶋〜C3゜の酸素原子あるいはハロゲン原子を含ん
でい又も良い炭化水素    □基でR1R1〜RIO
と同じかあるいは異っても良い。
Yがすでに炭素に結合する窒素原子を有t7ている場合
、例えばYがアミン基、アンモニウム基、α−オキソア
ミノ基をどである場合は生成したポリシロキサンはその
ままクロロシランの不均化および又は再分配反応の触媒
として使用できる。またYが炭素に結合する窒素原子を
含まない場合、すなわち、Y・・ハロゲン原子、カルボ
ン酸基、ビニル基等の場合には、ポリシロキサンを生成
した後に、アミン、アミド、尿素などの窒素化合物を付
加あるいは置換反応を行ない炭素に結合する窒素原子を
含有する有機けい素基の結合した本発明に好適な触媒を
得ることができる。
上記有機珪素試剤としてはγ−クロロプロピルトリメト
キシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、ビニルトリクロルシラン、ビニルメチルジクロロシ
ラン、ビニルジメチルクロロシラン、ビニルトリエトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(
β−メトキシエトキシ)シラン、アセトキシエチルトリ
クロロ7ラン、r−アミノプロピルトリエトキシシラン
、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノ
プロピルトリエトキシシラン、γ−ニレイドプロピルト
リエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、4−クロロフェニル
トリクロロシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、
2−クロロエテルトリクロロシラン、クロロメチルトリ
クロロシラン、クロロメチルメトキシジメチルシラン、
8−ブロモオクチルトリクロロシラン、P  (クロロ
メチル)フェニルトリクロロシラン、トリメチル(γ−
トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロリド、
トリメチル(p−4リメトキシシリルベンジル)アンモ
ニウムクロリド、オクタデシルジメチル(3−()リメ
トキシシリル)プロピル〕アンモニウムクロ17)”、
7−4クチニルトリクロロシラン、ドデシルジメチルγ
−(トリメトキシシリル)プロピルアンモニウムクロリ
ド、テトラデシルジメチル(3−トリメトキシシリルプ
ロピル)アンモニウムクロリド、メチル(γ−メチルジ
メトキシシリルプロビル)モルホリニウムクロリ)”、
2−(2−() IJジクロロリル)エチルコピリジン
、1−トリメトキシシリル−2−(p、m−クロロメチ
ル)フェニルエタン、N−()リメトキシシリルブロビ
ル)イミダゾール、N−)リメトキシシリルプロピルー
N、N、N −)ジメチルアンモニウムクロリド等の珪
素化合物を用いることができる。
他の例では、有機珪素試剤は、一般弐Y−R−すでにリ
ン原子を含む有機グループであっても良いし、置換反応
または付加反応にょシリン原子含有基に変換可能な官能
基でも良い。置換または付加反応によって、リン原子含
有基に変換可能な官能基の中で代表的なものとしては、
塩素2臭素、ヨウ素の様なハロゲン原子、あるいはアセ
テート(−o−a−aH,)  で代表されるカルボキ
ンレートの様な脱離基、そして付加反応に有用な不飽和
結合を有する炭化水素基がある。
この場合、ビニルトリエトキシシランのように、Y7R
−がビニル基であっても良い。
上記の一般式中でRはへ〜C2゜の有機グループであり
、酸素原子あるいはハロゲン原子を含んでいてもよく、
飽和でも不飽和でもよく、直鎖でも側鎖を有していても
よく、環式でも非環式でもよい。Yがリン原子含有基の
場合、R1,R”は自〜C!・の炭化水素基であり、ハ
ロゲン、酸素原子等の原子を含有していてもより、鏝と
斧はつながって込ても良い。1〜R1はR’、R”と同
様の炭化水素基あるいは水素原子(但し!、R4,R1
のうち1つのみ水素原子であってよい)であり、互いに
つながっていても良い。ホスホニウム基のX−はフッ素
、塩素、臭素、ヨウ素、 BF、 、1010. 。
ON 、01(、カルボキシレート4゛トのアニオンで
ある。
zt 、7 、zSは少くとも1つが加水分解基であり
、代表的には、クロライド、ブロマイド、アイオダイド
、アルコキシド、アミン基、アセトキシ基などである。
加水分解基以外の、y 、7.7はRと同様C1〜C2
゜の酸素原子あるいはハロゲン原子を営んでいても良い
炭化水素基でR,RE〜lと同じかあるいは異っていて
もよい。Yがすでに炭素に結合するリン原子を有してい
る場合、すなわち、Yがホスフィ7基、ホスホニウム基
である場合は生成したポリシロキサンはそのままクロロ
シランの不均化および/または再分配反応の触媒として
使用できる。またYが炭素に結合するリン原子、すなわ
ち、ホスフ・イノ基またはホスホニウム基を有しないハ
ロゲン原子、カルボキシレートあるいは不飽和結合を有
する炭化水素基などのリン原子含有基に変換可能な官能
基の場合には、ポリシロキサンを生成した後にリン化合
物を付加あるいは置換せしめることにより、目的とする
炭素に結合したホスフィノ基またはホスホニウム基を含
有するポリシロキサンtつくることかできる。
上記、ホスフィノ基は第1級ないし第3級のものでよい
が、第3級が好ましい。また、ホスホニウム基は、第1
級ないし第4級のものでよいが、第3級または第4級が
好ましい。
上記リン化合物としては、トリメチルホスフィン、トリ
エチルホスフィン、トリn−プロピルホスフィンr ト
’J n  7’チルホスフイン、トリククロへキシル
ホスフィ/、メチルジフェニルホスフィン、ジメチルフ
ェニルホスフィン。
ジメチルフェニルホスフィ/、トリフェニルホスフィン
、トリス(2,6−シメトキシフエニル)ホスフィン、
ジフェニルホスフィン、ジメチルホスフィン、ジエチル
ホスフィン、ジシクロへキシルホスフィン、ビス(2,
6−シメトキシフエニル)ホスフィンなどがあげられる
上記試剤としては、トリフェニル(γ−トリメトキシシ
リルプロピル)ホスホニウムクロリド、トリメチル(ト
リメトキシシリルメチル)ホスホニウムクロリド、トリ
フェニル(トリメトキシシリルメチル)ホスホニウムク
ロリド。
ジエチル(トリメトキシシリルメチル)ホスフィン、ト
リフェニル(p−1リメトキシフエニル)ホスホニウム
クロリド等の既にホスフィノ基またはホスホニウム基を
有するものの他、γ−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン。
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキ
シエトキシ)シラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビ
ニルジメチルクロロシラン。
アセトキシエチルトリクロロシラン、4−クロo 7 
z =ルトリクロロ7ラン、クロロメチルトリメトキシ
シラン、2−クロロエテルトリクロロシラン、クロロメ
チルトリクロロシラン、クロロメチルメトキンジメチル
シラン、8−ブロモオクチルトリクロロシラン、p−(
クロロメチル)フェニルトリクロロシラン、7−オクチ
ニルトリクロロシラン、1−トリメトキシシリル−2−
(p、m −10ロメチル)フェニルエタン等のリン原
子含有基に変換可能な官能基を有する有機珪素化合物を
用いることができる。
さらに別の例では、有機珪素試剤は以下の如く、一般式
で表わされる。
(Y−R−) zsiZ4−z       (1= 
2又は5)又はAmN(−R−EliZ、)、rrl(
m as O又は1)又はAnNe(−R−8iZ3 
)a−HXe(n −0、1又は2)Yi、−NH,、
−NHRI 、−NRlm テ表りサレル7 ミノ基、
アルイハ、−HeH,、ze 、 −N”E[、RE−
Xe 。
−N’f3HRIRLxe 、−N$RIR”um−x
’9 テab サレル77 モ【 様な窒素原子含有基であるか、置換反応あるいは付加反
応により窒素原子含有基に変換可能な官能基でもよい。
該官能基としては塩素、臭素、   ′ヨウ素の様なハ
ロゲン原子、あるいは酢酸基(CH,−(!−0−) 
 、の如きカルボン酸基そして付加反応に有用な不飽和
結合を有する炭化水素基がある。この場合、ジビニルジ
ェトキシシランの様にY−R−がビニル基であっても良
い。
R1、H雪、 % は水素原子あるいは炭素数1〜20
の炭化水素基であり、酸素原子、あるいはノ・ロゲン原
子等の炭素、水素以外の原子を含んでいてもよく、飽和
でも、不飽和でもよく、直鎖でも側鎖を有していても良
く、環式でも非環式でも良い。又、Yがアミノ基の場合
はR1、R”は互いにつながっていてもよく、Yがアン
モニウム基の場合RE 、R1、R1のうちの2又は全
てが互いにつながっていてもよく、Yがα−オキソアミ
ノ基の場合には R1、R鵞、R1のうちの2又は全て
が互いにつながるか、あるいは、只の一部であっても良
い。
Rは、炭素数1〜20の炭化水素基であり、酸素原子あ
るいはハロゲン原子等の炭素、水素以外の原子を含んで
いてもよく、飽和でも不飽和でも良く、直鎖でも側鎖を
有していてもよく、環式でも非環式でも良い。
2は、1つの珪素原子に結合しているもののうち、少く
とも1つが加水分解基であり、代表的な加水分解基はハ
ロゲン、アルコキ7基、アミン基、アセトキシ基などで
ある。又2のうち加水分解基以外のものけ炭素数1〜2
0の炭化水素基で、酸素原子あるいはハロゲン原子を含
んでいて良く、互いに同じか、あるいは異っていても良
い。
Aは、水素原子又は炭素数1〜2aの炭化水素基でハロ
ゲン原子、酸素原子等の炭素、水素以外の原子を含有し
ていてもよい。
Xeはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素+ B’4 ect
o、 、 ON 、カルボン酸基等のアニオンである。
上記一般式を更に具体的に示すと次の様になる。
、m−R,n/ ′St 式中、Y′、 Y′l 、 Ylll は、前記Yと、
R’、R”。
yell 、 RIlllは前記Rと、A’ 、 A”
は前記Aと、zl〜z12 は前記2と同じ定義で表わ
される。
上記有機珪素試剤としては、ビス(S −(N。
N−ジメチルアミノ)プロピル〕ジメトキシ7ラン、ト
リス(5−(N、N−ジエチルアミノ)プロピル〕メト
キシ7ラン、ビス(3−() リエトキシシリル)プロ
ピル〕アミン、ビス〔5−(トリエトキシシリル)プロ
ピルコメチルアミン、ビス(p−()リメトキシシリル
)フェニルメチル〕エチルアミン、トリスC3−Cトリ
エトキシシリル)プロピル〕アミン、トリス(p −(
トリエトキシ7リル)フェニルメチル〕アミン、ビス(
3−()リエトキシシリル)プロピルフジメチルアンモ
ニウムクロリド、ビス(p−()!Jメトキシシリル)
フェニルメチル〕ジメチルアンモニウムブロマイド、ト
リス〔3−(トリエトキシ7リル)プロピル〕ベンジル
アンモニウムクロリド、トリス(p−()リメトキシシ
リル)フェニルメチルコメチルアンモニウムクロリド、
テトラキス(3−()リエトキシシリル)プロピル〕ア
ンモニウムクロリド、メチルトリス(γ−トリメトキシ
シリルプロピル)アンモニウムクロリド、トリス(!S
−(トリットキシシリル)プロピル〕アンモニウムクロ
リド、などの窒素原子含有試剤の他、窒素原子非含有試
剤として、ビス(3−クロロプロピル)ジクロロシラン
、トリス(3−クロロプロピル)クロロシラン、ジビニ
ルジェトキシシラン、トリビニルモノエトキシシラン、
等を用いることかできる。
珪酸化合物 珪酸化合物としてけ81(OR)4(Rはメチル。
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、80C〜ブチル、ターシャリ−ブチル等のア
ルキル基であり、全てが同じであっても、互いに異って
もよい。〕で表わされる珪酸エステル、及び珪酸ソーダ
、珪酸カリ等の水溶性の珪酸塩の他、シロキサン結合に
よりオリゴマー化した珪酸化合物、すなわち(RO)、
 5i−o−at(oR)、のシフ0キサン。
OR (RO)、 5l−o−sl−o−sl(oR)、のト
リシロキサン〔ROR は同上の定義〕あるいは、無機珪酸塩がコロイドを形成
しているコロイダルシリカ等を用いることが出来る。
珪酸化合物は次の様なものが例示できる。
エステル類:ケイ酸エチル、ケイ酸メチル、ケイff1
−n−プロピル、ケイ酸イソプロピル、ケイ酸−n−ブ
チル、ケイ酸 −08〇−ブチル、ケイ酸−イノブチ ル、ケイrgt(2−エチルヘキシル)。
ケイ酸(2−メトキシエチル)、ケ イ酸フェニル、ヘキサエトキシジシ ロキサン。
ケイ酸塩:オルトケイ酸ソーダ、水ガラス、メタケイ酸
ソーダ、コロイダルシリカ。
上記原料よりポリシロキサンをつくる方法は、公知の方
法を用いることができる。例えば、金属アルコキシド?
加水分解、脱水縮合しゲル化させ、乾燥して多孔質ゲル
?得ることは云わゆるゾル−ゲル法として当業界におい
てよく知られている。そしてこの場合に酸及び/又はア
ルカリを触媒として、アルコールを溶媒として使用する
ことも知られている。酸は希釈な酸水溶液、例えば希塩
酸、希硫酸が好ましく使用され、アルカリはアンモニア
水の様な弱塩基性のものが好1しく使用される。特にア
ルカリ性触媒の存在により多孔質のゲルを生成しやすい
。心媒は、アルコールの他N、N−ジメチルホルムアミ
ド等の極性溶媒が好ましく使用される。
又ゲル化の温度は通常0℃〜100’Cの範囲で、選ば
れるが多孔質ゲルを得るために、原料。
触媒、触媒濃度(pH)、ゲル化時間等の他の因子と合
わせて、選ばれる。即ち、クロロシランの不均化触媒と
して特に好ましい平均細孔径の大なる多孔質ゲルを得る
様に配慮されるべきである。
これらは、例えば、[新しいガラスとその物性」(紅営
システム研究所発行)1984年版第18章あるいはジ
ャーナル・オプ・クロマトグラフィー(1976年)第
125巻第115頁〜第117頁等に一般的説明、ある
いは具体的方法が記載されている。
次にポリシロキサンの調製方法のいくつかの態様を例示
するがこれらは必ずしも本発明を限定するものではない
(1)珪酸エステルと官能基、加水分解基含有有機珪素
試剤に酸触媒、アルコール溶媒を加え、加水分解、脱水
縮合し、官能基結合ポリアルコキシシロキサンを生成さ
せ、更にアンモニア水、アルコールを加えてゲル化し、
乾燥させて官能基結合のポリシロキサンを得る。
(2)珪酸エステルに酸触媒、アルコールを加え、  
 □ポリアルコキシシロキサンを得、これに官能基、加
水分解基含有の有機珪素試剤、水及びアルコールを加え
、更にアルカリ触媒を加えてゲル化し官能基結合ポリシ
ロキサンを得る。
(3)  コロイダルシリカ及び官能基、加水分解基含
有の有機珪素試剤に酸触媒、水及びアルコールを加え、
乾燥して官能基結合のシリカを   □得る。
(4)珪酸ソーダ水溶液と水溶性シランカップリング剤
の水溶液に酸触媒、水を加えて官能基の結合したポリシ
ロキサンを得る。
不均化および又は再分配反応 りOr:Iシランの不均化およびまたは再分配反応は液
相でも気相でも良く、又、流通式でも回分式でもよいが
気相の方が低圧でおこなえ、かつ触媒と生成物の分離が
容易な気相の方が好ましく、流通式が好ましい。反応温
度は0〜500℃、好ましくは20〜2001:であり
、圧力は常圧〜50 kl/crx” (ゲージ圧)、
接触時間11〜20秒の範囲で行うことができる。
また、原料のクロロシランはBLHrxOlいn(ただ
し1≦n≦3)で表わされるクロロ水素化シランである
。即ちモノクロロシラン、ジクロロシランまたはトリク
ロロシランの中の1種類あるいは2種類以上の任意の組
成の混合物を用いることができ、窒素ガス等の不活性流
体で希釈してもよい。
発明の効果 ポリシロキサ/マトリックスに7ミノ基、アンモニウム
基、ホスフィノ基、ホスホニウム基の少くとも1種類が
結合した本発明の触媒は、先行のイオン交換樹脂系の触
媒の様な膨潤の問題もなく、耐熱性、耐薬品性にすぐれ
、又、多孔性無機固体の表面をシランカップリング剤等
で化学修飾したものよシ、導入しうる官能基の量が多く
、高活性である。
実施例 以下、実施例により、更に詳細に説明するが、本発明を
限定するものではない。
尚、実施例において反応生成物の分析は全て、2雷のク
ロモソープ102充項カラム、カラム温度130℃のT
OD (キャリヤーガスはヘリウム)によるガスクロマ
トグラフで行った。
実施例−1 1)3−クロロプロピル基含有ポリシロキサンの調製 けい酸エチル51.2−と3−クロロプロピルトリメト
キシシラン119 Fを25−のエタノールと混ぜ、こ
れに101規定の塩酸五5−を加え、常温で1時間反応
した後減圧下でエタノールを留去し24tの不揮発性液
体を得た。この不揮発性液体に12−のシクロヘキサン
、20−のエタノール及び60WLtの水を添加し、攪
拌しながら10−の濃アンモニア水を滴下した。生成し
た白色沈殿をろ取、水洗の後100℃で乾燥し、16F
の3−クロロプロピル基含有ポリシロキサンを得た。
上記1)で調製した3−クロロプロピル基含有ポリシロ
キサン2.02Fと2.0−のジメチル−n−ドデシル
アミン及び溶媒として2〇−のN、N−ジメチルホルム
アミドを窒素雰囲気下冷却管付きの50ゴフラスコ中1
50℃、20時間加熱した。ボリア0キサン固体をろ取
し、メタノール、クロロホルムで洗浄の後風乾し、続い
て空気中100℃で12時間乾燥し、第四級アンモニウ
ム基の結合した多孔性ポリシロキサン固体2.2Sfを
得た。
上記2)で調製した多孔性ポリシロキサン固体を触媒と
してガラス製気相常圧流通系反応装置(内径5■)に入
れ、窒素気流中110℃で1時間加熱した後反応層を所
定温度に保ちながら51acl、/馬(5/7 )混合
ガス(1気圧)をフィードとして不均化反応を行なった
。結果を表−1に示す。
表−1 実施例−2 実施例−1で調製しだ3−クロロプロピル基含有ポリシ
ロキサン1.60r、1.Omlのジ−n−オクチルア
ミン及び20−のN、N−ジメチルホルムアミドを冷却
管付きの50wtフラスコに入れ窒素雰囲気下に150
℃、12時間加熱した。続いて実施例−2の要領で生成
物を処理し、第三級アミンの結合した多孔性ポリシロキ
サン固体1.8 S tを得た。
上記実施例−21)で調製した多孔性ポリシロキサン固
体を触媒として、実施例−15)の要領でトリクロロシ
ランの不均化反応を行なった。結果を表−2に示す。
表−2 実施例−3 実施例−11)で調製した3−クロロプロピル基含有ポ
リシロキサンt35f、トリーn−ブチルホスフィン0
.511+7!及び10−のN。
N−ジメチルホルムアミドを実施例−2の要領で150
℃、20時間加熱し、続いてメタノール、クロロホルム
洗浄、風乾の後、空気中100℃で10時間乾燥し、第
四級ホスホニウム基の結合した多孔性ポリシロキサン固
体1.46 Fを得た。
2)トリクロロシランの不均化反応 上記実施例−51)で調製した多孔性ポリシロキサン固
体を触媒として、実施例−13)の方法でトリクロロシ
ランの不均化反応を行なった。結果を表−5に示す。
表−5 実施例−4 応 実施例−1の1)で調製した3−クロロプロピル基含有
ポリシロキサンt 89 f ヲ50−のコンデンサー
付き3つロフラスコに入れ、内部と十分窒素置換した後
30−の1.41−moE/1の4−(リチオ化メチル
)ピリジンのテトラヒドロフラン溶液(テトラヒドロ7
ラン中、金11Jチウム、ブロモベンゼン、及びr−ピ
コリンより調製)を加え、1時間還流加熱した。冷却後
10−のメタノールを加え残存リチウム試薬を分解し、
f過によシ固体部分を集め、メタノール溶媒を用いて1
2時間ソックスレー抽出を行なった。風乾後生気中10
0℃で10時間乾燥し、r−アルキルピリジンの結合し
た多孔質ポリシロキサン固体を得た。
上記実施例−41)で調製した多孔性ポリシロキサ/固
体451n9を触媒として実施例−13)の方法でトリ
クロロシランの不均化反応を行なった。結果を表−4に
示す。
表−4

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ポリシロキサンマトリックスにアミノ基、アンモニウム
    基、ホスフィノ基、ホスホニウム基の少くとも1種類が
    結合した触媒の存在下、SiHnCl_4_−_n(但
    し1≦n≦3)で表わされるクロロシランを不均化及び
    /又は再分配させることを特徴とするシランの製造方法
JP60184074A 1985-08-23 1985-08-23 シランの製造方法 Granted JPS6246916A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60184074A JPS6246916A (ja) 1985-08-23 1985-08-23 シランの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60184074A JPS6246916A (ja) 1985-08-23 1985-08-23 シランの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6246916A true JPS6246916A (ja) 1987-02-28
JPH0341406B2 JPH0341406B2 (ja) 1991-06-24

Family

ID=16146925

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60184074A Granted JPS6246916A (ja) 1985-08-23 1985-08-23 シランの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6246916A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5773969A (en) * 1993-05-12 1998-06-30 Komatsu Ltd. DC-DC converter circuit and inductive load drive device using DC-DC converter circuit
JP2008296066A (ja) * 2007-05-29 2008-12-11 Okayama Univ 環状炭酸エステルの合成のための固定化触媒に用いる触媒架橋剤の製造方法、及びその固定化触媒の製造方法、及びその固定化触媒に用いる触媒架橋剤、及びその固定化触媒
JP2012024765A (ja) * 2004-03-04 2012-02-09 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 環状カーボネート製造用触媒
WO2012080003A1 (de) * 2010-12-14 2012-06-21 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur herstellung höherer halogen- und hydridosilane

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5773969A (en) * 1993-05-12 1998-06-30 Komatsu Ltd. DC-DC converter circuit and inductive load drive device using DC-DC converter circuit
JP2012024765A (ja) * 2004-03-04 2012-02-09 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 環状カーボネート製造用触媒
JP2008296066A (ja) * 2007-05-29 2008-12-11 Okayama Univ 環状炭酸エステルの合成のための固定化触媒に用いる触媒架橋剤の製造方法、及びその固定化触媒の製造方法、及びその固定化触媒に用いる触媒架橋剤、及びその固定化触媒
WO2012080003A1 (de) * 2010-12-14 2012-06-21 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur herstellung höherer halogen- und hydridosilane
US9745200B2 (en) 2010-12-14 2017-08-29 Evonik Degussa Gmbh Process for preparing higher halosilanes and hydridosilanes

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0341406B2 (ja) 1991-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100478346C (zh) 有机基氢硅烷的制造方法
US5110784A (en) Dual surface porous material
KR101263789B1 (ko) 유기 클로로하이드로실란과 이의 제조방법
JPS60222492A (ja) 第3級炭化水素シリル化合物の製造方法
EP0437911A1 (en) Method for producing dual zone materials by catalyzed halosilylation
JPS6246916A (ja) シランの製造方法
JP3753255B2 (ja) オルガノシリコン化合物の製造方法
US8133390B2 (en) Reversed endcapping and bonding of chromatographic stationary phases using hydrosilanes
CN115124566A (zh) 一种多烯丙基硅烷偶联剂的制备方法
JP3877608B2 (ja) シリル化された多孔質シリカの製造方法
US4096161A (en) Process for the preparation of halogenosilanes
JP3122358B2 (ja) 3−クロロプロピルシラン類の製造方法
CN108239103A (zh) 一种含有多肟基硅的硅氮化合物
JPH0768253B2 (ja) 3−(3,4−ジメトキシフェニル)プロピルトリクロロシラン
JP4425013B2 (ja) 第4級アンモニウム基を有するシリカ粉体の製造方法
JP4605018B2 (ja) 有機ケイ素化合物の製造方法並びにジオールを有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法
JP3754479B2 (ja) 3−クロロプロピルトリクロロシラン合成用触媒および3−クロロプロピルトリクロロシランの製造方法
KR860000661B1 (ko) 염화실란의 불균등화 반응촉매의 제조방법
JPS61232214A (ja) シランの製造方法
JPH06263772A (ja) β−シアノアルキルシランの製造法
JP2585295B2 (ja) ビニルシラン類の製造方法
KR900004714B1 (ko) 실리콘 촉매의 제조방법
JP4891536B2 (ja) アミノアリール基含有有機ケイ素化合物の製造方法、並びに、その中間体の製造方法
US6740766B2 (en) Preparation of organochlorosilanes by the silylation of conjugated dienes with trichlorosilane
JPS61174109A (ja) シランの製造方法