JPS6235340A - 表面処理された積層体 - Google Patents

表面処理された積層体

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JPS6235340A
JPS6235340A JP17548285A JP17548285A JPS6235340A JP S6235340 A JPS6235340 A JP S6235340A JP 17548285 A JP17548285 A JP 17548285A JP 17548285 A JP17548285 A JP 17548285A JP S6235340 A JPS6235340 A JP S6235340A
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JP
Japan
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acid
layer
film
resin
molecule
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JP17548285A
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Kazuhiro Shinohara
篠原 和浩
Junichi Sakamoto
淳一 坂本
Hideo Miyake
英男 三宅
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Toyobo Co Ltd
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Toyobo Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は耐擦傷性、密着性および表面硬度に優nた表面
処理さnた積層体、特に可撓性有機高分子フィルムの少
なくとも片面に画像形成層?設けた積層体に関する。
〔従来の技術〕
印刷版の製作は、まず原稿ケコンタクトスクリーンを用
いてカメラワークにより原稿の拡大または縮小と同時に
網点分解する。この網点分解フィルムt、返し用リスフ
ィルムにより密着反転画像に変え、所望の画像にするた
めこの操作を数回繰り返す。得らnた画像tPS版、感
光性樹脂板などの印刷版に露光し、現像して、印刷版が
作製ざnる。従来からこのような返し用リスフィルムと
しては、銀塩系感光性乳剤あるいは染料−V′顔料な通
常、リスフィルムの感光乳剤層Vi露出さnており、そ
の感光乳剤層は非常に軟らかく容易に傷がつくため、リ
スフィルムの使用回数が増加すると、マスク合せ工程な
どで発生する感光乳剤層の傷により画像形成の正確さが
低下してくる。また感光乳剤層は有機溶剤あるいは酸、
アルカリ水溶液で容易に溶解するため、塵埃あるいはレ
ジスト  ルムをなどの付着したリスフィルムを洗浄す
る場合にも   (間問題を生じる。        
          本発このような欠点を改善する目
的で画像か形成さ  ムの表nたリスフィルムの表面硬
度を高め、耐擦傷性を  研究を付与する表面処理方法
が種々提案されてきた。し  しかもかしながら、エポ
キシ樹脂、ウレタン樹脂および  /νよシリコーン樹
脂などの熱硬化型樹脂による表面処  リレー理にけ高
温および長時間を費するためにリスフィ  ミノシルム
が変形する。また、紫外線硬化型樹脂の表面  円に8
処理ではフィルム面と感光乳剤層面の両者への密  タ
クリ着性を十分付与することができず□、密着性、耐擦
  せ之に偏性および表面硬度など全て満足するものは
なか  前記しった。このような状況から優れた密着性
、耐擦傷  点か解性および表面硬度を付与する低温硬
化の表面処理   すな本発明の目的は密着性、耐擦傷
性および表面硬  基ま之提供することにある。
照点を解決するための手段) 間者らは、上記積層体、例えばリスフィル面処理のこf
Lまでの欠点を解決すべく鋭意重ね之結果、2増以上の
多層コート方式で、分子内に2個以上のアクリロイル基
ま友はびメタクリロイル基を有するエポキシアクト樹脂
、共1合ポリエステル樹脂νよひアラン化合物會共に含
有させ之最゛下j@と分子個以上のアクリロイル基また
は/νよひメロイル基に7Nする光重合性化分物を含有
さ上wIt紫外線硬化方式に主りコートすれは、たりス
フィルムのこnまでの表面処理の欠決さnること紫見い
出し本発明に到達した。
わち、本発明は可撓性有機高分子フィルムくとも片面に
画像形成層を設けた積層体の最下層が分子内に2個以上
のアクリロイルは/およびメタクリロイル基を有するエ
ボクリレート樹脂、共重合ポリエステル樹脂アミノシラ
ン化分物を含有する樹脂組成物からなり、最上層が分子
内に8個以上のアクリロ耐擦傷性2よび表面硬度に優れ
ている。また、紫外線硬化方式のため低温硬化かでき積
層体の熱変形もなく、しかも生産性の大巾な向上が可能
となった6 本発明の可撓性有機高分子フィルムさしては、ポリエス
テル、ポリプロピレン、ポリエチレン、。
ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、酢酸セルロー
ス、ニトロセルロースなどのフィルムがあるO 高分子フィルムは未延伸の状懇のものでも使用可能であ
るが、延伸加工、特に二軸延伸加工することにより、機
械的性質、熱的性質、寸法安定性が向上し好ましい。高
分子フィルムの厚さは特に制限はないか、約5〜500
 ?rn s 好ましくは約200μmが好ましい◎ 子フィルムの少なくとも片面に設けた画像とは、文字、
線、網点などの画像をパター形成した層である。画像形
成材料として汀感光乳剤、染料や顔料などを含む非銀塩
系剤などがある。画像形成層の厚さは特に制限はないが
、通常約1x100pm、好ましくは約1〜60Prr
lである・ 本発明の積層体の具体例としてはリスフィルムの壷1か
に製図原図、第211X図、平版、・ラベルなどの印刷
、製版材料、光学マスク、回路配線、表示板、写真写植
機文字板などの画像形成材料、ホトレジストフィルムな
どが挙げられる。
本発明にνいて積層体の画像形成層表面に、紫外線硬化
型樹脂を用いて少なくとも2層液eILを施した積層体
としては、積層体の画像形成層の表面に最下層を形成す
る紫外線硬化型樹脂組成物ft塗布し、紫外線照射した
後、最上層を形成する紫外□1□□□1、いややわ、え
、庄4いす枯木発明に2いては最上層と最下層との間に
中間層が設けてもよいか、一般的には2層コート方式が
採用さnる。本発明に用いらrLる分子内に2個以上の
アクリロイル基またFi/シーよびメタクリロイル基ケ
有するエポキシアクリレート樹脂とは1分子中にエポキ
シ基を2個以上有するエポキシ化合物の(メタ)アクリ
レート化合物(メタアクリレート化合物とアクリレート
化合物全表わす。
以下同機に略記する。)であシ、その出発原料であるエ
ポキシ化合物のエボギシ当fは100〜4 、000、
好ましくは100−1.000である。
代表的な光重合性エポキシ(メタ)アクリレート樹脂と
しては、(1)2価以上の多価フェノール類のポリグリ
シジルエーテルの(メタ)アクリレート化合物類、例え
ばビスフェノールA、ビスフェノールF、ハロゲン化ビ
スフェノールAなどのジグリシジルエーテルであるビス
フェノール型エポキシ樹脂やフェノールノボラック、ク
レゾールノボラックなどのポリグリシジルエーテルであ
るノボラック型エポキシ樹脂の(メタ)アクリレート化
合物類など、(II) 2価以上の多価アルコール類の
ポリグリシジルエーテルの(メタ)アクリレート化合物
類、例えばエチレングリコール、グロビレンクリコール
、ネオペンチルグリコール、1.4−ブタンジオール、
1.6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパンな
どの2価以上の脂肪族アルコール類のポリグリシジルエ
ーテルの(メタ)アクリレート化合物類など、(IH)
:yタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘ
キサヒドロフタル酸、アジピン酸などの2価以上の多価
カルボン酸類のポリグリシジルエステルの(メタ)アク
リレート化合物類、幌アニリン、イソシアヌール酸など
の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換し
たポリグリシジルエーテルの(メタ)アクリレート化合
物類、(v)分子内のオレフィン結合をエポキシ化して
得らnるビニル7クロヘキセンジエボキシド、3.4−
エポキシシクロヘキシルメチル−8,4−エポキシシク
ロへ千サンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシ
)シクロヘキシル−515−スピロ(8,4−エポキシ
)シクロヘキサン−m−ジオキサンなどの指環族ポリエ
ポキシ化合物の(メタ)アクリレート化合物類、 (v
l)N、N・N’、 N’−テトラグリシジルメタキシ
レンジアミン、N、N、N’、N’−テトラグリシジル
−1,8−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンなどの
アミノボリエ詠シ化合物の(メタ)アクリレート化合物
類などがある。こnらのエポキシアクリレート樹脂は単
独捷たけ2種以上併用して使用する。
これらの中で好ましいエポキシアクリレート樹脂として
は、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、フェノ
ールノボラック型ポリエポキシ化合物、クレゾールノボ
ラック型ポリエポキシ化合物、多価アルコールのポリエ
ポキシ化合物の(メタ)アクリレート化合物などがあげ
らnる。
また、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテルなどの分子内にエポキシ基r1個有するエポキ
シ化合物の(メタ)アクリレート化合物を併用して使用
することもできる。
本発明に使用さnる共重合ポリエステルとは、□少なく
とも1種の飽和多価カルボン酸2よびその誘導体と少な
くとも1&の多価アルコール類から合成される共重合ポ
リエステルである。
飽和多価カルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソ
フタル酸、オルソフタル酸、2.6−ナフタレンジカル
ボン酸等の芳香族ジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸
、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸、l、
4−シクロヘキサンジカルボン酸、テトラヒドロフタル
酸、ヘキサヒドロフタル酸、りpレンド酸などの脂肪族
または脂環族ジカルボン酸、さらに5−ナトリウムスル
ホイソフタル酸、4−ナトリウムスルホフ夛ル酸などの
スルホン酸金属塩基含有芳、香族ジカルボン酸などかあ
けらnる。
芳香族ジカルボン酸成分としては特にテレフタル酸およ
び/ま友はイソフタル酸が好ましく、飽和多価カルボン
酸成分の20〜100モルチ、好ましくは40モルチ〜
lOOモル慢使用芒ILる。
またスルホン酸金属塩基金M芳香族ジカルボン酸は、接
着性の同上に有用であり、飽和多価カルボン酸成分の0
.5〜20モル条、好ましくは1.0〜10モルーの範
囲で共重合することも可能である。
飽和多価カルボン酸成分としては前記の化合物の他にト
リメリット酸、ピロメリット酸等の8官能以上の多価カ
ルボン酸を併用することも可能であり、その場合に#′
iIOモルチ以下であることが望ましい。
多価アルコール成分としては、例えばエチレンクリコー
ル、プロピレングリコール、l、4−ブタンジオール、
1.6−ヘキサンジオール、1.5−ベンタンジオール
、ネオペンチルグリコール等のアルキレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレン、グリコール、テ
トラ以上のポリエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリ以上のポリプロピレングリコール、ポリテト
ラメチレングリコールなどのポリオキシアル−レンゲリ
コール、ジブロモネオペンチルグリコールなどのハロゲ
ン化アルキレングリコール、1.4−シクロヘキサンジ
オール、ビスフェノールAのエチレンオキシドまたは/
およびプロピレンオキシド付加物、l、4−シクロヘキ
サンジメタツールなどか挙げらrLる。こnらのグリコ
ール成分は単独Kまたは併用して使用される。
多価アルコール成分としては上記グリコール成分の他に
トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペン
タエリスリトールなどの8価以上の多価アルコールをl
Oモルチ以下の量で併用することも可能である。上記飽
和多価カルボン酸2よび多価アルコールのほかに必要に
応じて、1価カルボン酸や1価アルコール?少量併用す
ることもある。
本発明の共重合ポリエステルの製造方法には特に制限は
なく、エステル交換法、直接エステル化法などの方法が
用いらrL必要に応じて、テトラ−n−ブチルチタネー
ト、シュウ酸第1スズ、酢酸亜鉛と三酸化アンチモンな
どの公知の触媒が使用さnる。
本発明で使用さnる共重合ポリエステルの好ましい成分
の例tあげると、酸成分として、テレフタル酸とイソフ
タル酸の二成分系、テレフタル酸、イソフタル酸および
アジピン酸の三成分系、テレフタル酸とアジピン酸の二
成分系、テレフタル酸とセバシン酸の二成分系、テレフ
タル酸、イソフタル酸とセバシン酸の三成分系などがあ
り、また前記のスルホン酸金属塩基含有芳香族ジカルボ
ン酸を共重合する場合もあり、その場合多価カルボン酸
成分は三成分系以上となる。多価アルコール成分として
はエチレングリコールとプロピレングリコールの二成分
系、エチレングリコールと1.6−ヘキサンジオールの
二成分系、エチレングリコールとネオペンチルグリコー
ルの二成分系などがある。
本発明で使用さrLる共重合ポリエステルの添加量ハ、
共重合ポリエステル/エポキシアクリレート樹脂の配合
割合が5/95〜70780の重量比で添加さnるのか
好ましい。
本発明に用いられるアミノシラン化合物としてはアミン
メチルトリメトキシシラン、アミノメチルトリエトキシ
シラン、アミノメチルトリーn −プロポキシシラン、
アミノメチルトリrn−ブトキシシラン、アミノエチル
トリエトキシ7ラン、アミノエチルトリエトキシ7ラン
、アミノエチル) IJ −n−プロポキシシラン、ア
ミノエチルトリーn−ブトキシ7ラン、アミノ−n−プ
ロピルトリメトキシクラン、アミノ−n−プロピルトリ
エトキシシラン、アミノ−n−プロビルト17− fi
 −プロポキシシラン、アミノ−n−プロピルトリーn
−ブトキシシラン、N−アミノメチル−アミノエチルト
リエトキシ7ラン、N−アミノメチル−アミツメチルト
リエトキシシラン、N−アミノメチル−アミノメチルト
リーn−プ、ロボキシシラン、N−アミノメチル−アミ
ツメチルトIJ −n−ブトキシシラン、N−β−アミ
ノエチル−β−アミノエテルトリメトキシシラン、N−
β−アミノエチル−β−アミンエチルトリエトキシシラ
ン、N−β−アミノエチル−β−アミノエチル−n−プ
ロポキシシラン、N−β−アミノエチル−β−アミノエ
チルトリーn−ブトキシシラン、N−γ−アミ/−n−
グロビルーγ−アミノ−n−プロピルトリメトキシシラ
ン、N−1−アミノ−n−プロビル−ツーアミノ−n−
プロピルトリエトキシシラン、N−γ−アミノーn−プ
ロピルーγ−アミノ−n−プロピルトリーn−プロポキ
シシラン、N−7−アミノ−n−プロピル−γ−アミノ
ーn−プロピルトリブトキシシラン、N−アミノメチル
−β−アミノエチルトリメトキシシラン、N−アミノメ
チル−β−アミノエチルトリーn−ブトキシシラン、N
−アミノエチル−7−アミノ−n−プロピルトリメトキ
シシラン、N−アミノメチル−γ−アミノーn−プロピ
ルトリーn−ブトキシシラン、N−β−7ミノエチルー
アミンメテルトリメトキシシラン、N−β−アミノエテ
ル−アミノメチルトリーn−ブトキシシラン、ヘーアミ
ノメチル−7−アミノーn−プロピルトリメトキシシラ
ン、N−アミノチメルーフーアミノーn−プロビルトリ
ーn−ブトキシシラン、N−γ−アミノーn−プロピル
ーアミノメチルトリメトキシシラン、N−γ−アミノー
n−プロピルーアミノメチルトリーn−ブトキシシラン
、N−丁−アミノ−n−プロピル−β−アミノエチルト
リメトキシシラン、へ−γ−アミノーn−プロヒルーβ
−アミノエチルトリーn−ブトキシシラン、N−β−ア
ミノエチル−γ−アミノーn−プロピルトリメトキシシ
ラン、N−β−アミノエチル−γ−アミノーn−プロピ
ルトリーn−ブトキシシラン等かあげらnる。甲でも特
に好ましいものはN−β−アミノエチルーγ−アミノー
n−プロピルトリメトキシシランである。
て0,05〜4o1rt部、好ましくは0.1〜aO*
創部である。
本発明で使用さnる分子内に8個以上のアクリロイル基
または/およびメタカリロイル基に有する光重合性化合
物としては、例えは、(1))リメテロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(
メタ〕7クリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ
)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールへΦす(メタ)
アクリレートなどの3fflI以上の脂肪族多価アルコ
ールのポリ(メタ〕アクリレート類、8価以上のハロゲ
ン置換脂肪族多価アルコールのポリ(メタ)アクリレー
ト類、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシ
アヌレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシプロピ
ルイソシアヌレート、トリス(メタ)アクリロイルオキ
シブチルイソシアヌレートなどのトリス(メタ)アクリ
ロイルアルキルイソシアヌレート類などがある。
これらの3官能以上の(メタ)アクリレート系化合物は
1種単独で用いるほか、2種以上を混合して使用しても
よい。また必要に応じて他の各種オリゴマーやポリマー
ジよび2官能以下の(メタ)アクリレートモノマーを併
用して使用することもできる。
本発明の紫外線硬化型樹脂の光重合反応を促進する光開
始剤としては、例えば、ベンジルジメチルケタールなど
のケタール類、ペンゾインチメルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ペンツイン−1−プロピルエーテル、
ベンゾイン、a−メチルベンゾインなどのベンゾインa
、9.10−アントラキノン、l−クロルアントラキノ
ン、2−クロルアントラキノン、2−エチルアントラキ
ノンなどのアントラキノン類、ベンゾフェノン、P−ク
ロルベンゾフェノン、P−ジメチルアミノベンゾフェノ
ンなどのベンゾフェノン類、2−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロピオフェノン、1−(4−イアプロピルフェニル
)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノンなど
のグロビオフエノベ゛ ン類、ジ疏ンゾスベロンなどのスペロン類、ジフェニル
ジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チ
オキサントンなどの含イオウ化合物、メチレンブルー、
エオシン、フルオレセインナトの色素類などがあげらn
、とnらの光開始剤は単独にまたは2槙以上併用して使
用さnる。
光開始剤の添加髪は、最下層または最上層を形成する紫
外線硬化型樹脂の樹脂成分に対して0.05〜20重童
チ、好ましくVio・5〜lO重量%である。
本発明の表面処理剤はそn(:′n相溶性のある有機溶
剤にて希釈して使用することも可能であり、このような
希釈剤として汀、アルコール系、エーテル系、エステル
系、ケトン系、芳香族炭化水素系、塩素系炭化水素系、
多価アルコール誘導体系などの溶剤かある。希釈剤は1
種単独で用いてもよく、また2種以上を混合使用するこ
ともできる。
さらに必要に応じて本発明の表面処理剤に表面平滑剤、
帯電防止剤、消泡剤、界面活性剤、着色剤などの各種添
加剤を加えても良い。
本発明に2いて積層体を表面処理する前に積層体上に付
着している塵埃などを除去するために、クリーン・ブロ
ーによる吹きつけやイオン交換水による超音波洗浄など
の前処理を施すのが一般的である。
積層体への紫外線硬化型樹脂の塗布方法は通常の方法、
すなわち浸漬法、スプレー法、スピンコード法、ロール
コート法、バーコード法などで塗布できる。
塗布層の厚みは、最下層としては0.1〜20PrrL
好ましくは0゜3〜l Q pm、また最上層としては
0.5〜30μm、好ましくは1〜20pmの厚さに塗
布することが望ましい。最下層の膜厚が0.1部m未満
の場合は最上層との密着性が不十分となり、また2 0
 pmを超える場合は塗膜にクラックか発生しやすくな
り好ましくない。また最上層の膜厚が0.5μm未満の
場合は耐擦傷性および表面硬度が不十分となり、また8
 0 pm″r:超える場合は塗膜のクラックや剥離な
どが発生しやすくなり好ましくない。
本発明の塗布した紫外線硬化型樹脂を硬化させるには、
200〜450nmの波長域の紫外線を照射する方法が
用いらnる。紫外線照射による塗膜の硬化を行なう場合
は、窒素ガス、炭酸ガスなどの不活性ガス雰囲気下で照
射硬化させるのが好ましいO 本発明では積層体の画像形成層の表面に最下層を形成す
る紫外線硬化型樹脂を塗布した後、紫外線照射して硬化
させ、次いで最上層を形成する紫外線硬化型樹脂を塗布
した後、紫外線照射して硬化させる方法が好ましい。
(発明の効果) 本発明では表面処理によって、光透過率および表面平滑
性力・優fしていることは勿論のこと密着性、耐擦傷性
および表面@!度に優れているため積層体の擦傷r防止
し、かつ積層体の洗浄を容易にし、しかも所望の画像が
正確に形成し得る積層体を得ることかできる。一方紫外
線硬化によるため、低温で硬化できるので熱による積層
体の変形も起らず、その硬化時間も大巾に短縮さn、生
産性の大巾な向上が可能となる。
(実施例) 以下、実施例により本発明?さらに詳細に説明するか、
本発明はこnら実施例に何んら限定さnるものではない
実施例中の測定方法は次の方法に従った。
耐擦傷性試′Dニスチールクール5oooo番を用い呑
IKfの荷M?11″かけ30回Q擦し、たのちの傷つ
きの程度を測定した。
密着性試験(JISDO202):コート面に1鵡間隔
で縦横11本ずつの傷倉入れ(クロスカットし)、この
上にセロハンテープを密着し、こnt45°方向に強く
引きはがし、剥離しないます目のt用いて、45°の角
度でコート面に強く押し当てて擦過させて傷付の有無に
より測定した。実施例および比較例中、部とあるのは重
量部をあられす。
合成例1 攪拌機、温度計2よび部分還流式冷却管を具備したステ
ンレス・スチール製オートクレーブにテレフタル酸ジメ
チル194部、イソフタル酸ジメチル194部、エチレ
ンクリコール191g、1.6−ヘキサンジオール16
6部2よびテトラ−n−プチルチタネー) 0.25部
を加え、反応温度が220℃となるまで徐々に昇温して
220℃で2時間反応させた。次いで徐々に減圧り、1
0a)(fの減圧下260℃の温度で1時間反応させて
飽和共重合ポリエステル(A) を得た。得られた飽和
共重合ポリエステルの分子量は8.700であった。
NMRにより測定した組成は次の通りであった。
多価カルボン酸成分: テレフタル#1       50モルチイソフタル酸
        50モルチ多価アルコール成分: エチレングリコール     40モル饅1.6−ヘキ
サ/ジオール   60モルチ合成例2 合成例1と同じ反応容器にジメチルテレフタレート19
4部、ジメチルイソフタレート194部、エチレングリ
コール142部、ネオ→ンチルグリコール220部、酢
酸亜鉛帆2部2よび三酸化アンチモン0.2部を仕込み
、140℃〜220℃で3時間かけてエステル交換反応
を行ない、次いで徐々に減圧して10mHfの減圧下2
60℃で1時間反応させた。得らnた飽和共重合ポリエ
ステル(B)の分子iは2,800 であっ九。NMR
によシ測定した組成は次の通シであった。
多価カルボン酸成分: テレフタル#         50モルチイソフタル
酸        50モルチ多価アルコール成分: エチレングリコール     40モル饅ネオヘンチル
グリコール   60モルチ合成例8 攪拌機、温度計および部分速流式冷却管を具備フ゛。
したステンレス・スチール製オートクレーブに、テレフ
タル酸ジメチル18634、イソフタル酸ジメチル18
6部、エチレングリコール191部、1.6−ヘキサン
ジオール156部およびテトラ−n−ブチルチタネート
0.25部?加え、反応温度が220℃になるまで徐々
に昇温して220℃で2時間反応させた。次いで、5−
す) IJウムスルホインフタル酸22部1に添加し2
20〜260℃で1時間反応させた後1O−Hfの減圧
下260℃の温度で1時間反応きせて飽和共重合ポリエ
ステル(C) k得た。得られた飽和共重合ポリエステ
ル(C)の分子tは8.200  であった。N Ni
 Rにより測定した組成は次の通りであった。
多価カルボン酸成分: テレフタル酸        48モル係イソフタル酸
        48モルチ5−ナトリウムスルホイソ
フタル酸    4モルチ多価アルコール成分: エチレンf 17 =r−ル     40モルチ系感
光乳剤ヶ塗布し、パターン状に画像を形成しりIJスフ
ィルムに、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹
脂であるリポキシ5P−5003(「昭和高分子」製)
5部、合成例1で得た共重合ポリエステル(A)5部、
テトラヒドロフルフリルアクリレート2部、ビスフェノ
ールAのエチレンオキシド4−1ニル付加物のジアクリ
レート2部、N−β−7ミノエチルーγ−アミノ−n−
プロピルトリメトキシシラン1部、2−ヒドロキシ−2
−メチルプロピオフェノンo、ai、メチルセロソルブ
80部、トルエン80部および、酢酸エチル80部から
なる紫外線硬化型樹脂をスピナーで塗布し、60℃、5
分間の熱風乾燥後、不活性ガス雰囲気下で80W/cI
nの水冷式高圧水銀灯?15のの距離で40秒間照射し
硬化させ友。
次に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート40部
、2−ヒドロ°キシー2−メチルグロビオフエノンLg
mおよびトルエン60部からなる紫外線硬化型樹脂を同
様にスピナーで塗布し、同様にして20秒間照射し硬化
させた。表面処理さ、rしたりスフィルムの測定結果は
次の通シであった。
密着性: 100/100 耐擦傷性:無傷 わりに共重合ポリエステル(13)を使用する以外は実
施例1と同様にしてリスフィルムを表面処理した。表面
処理したリスフィルムの測定結果は次の通りであった。
密着性: 100/100 耐擦傷性:無傷 表面硬度:5H 実施例8 実施例1に2いて共重合ポリエステル(A)のかv り
 K共重合ポリエステル(C) !に使用する以外は実
施例1と同様にしてリスフィルム4表面処理した。表面
9&理したリスフィルムの測定結果は次の通りであった
密着性: 100/100 耐擦傷性:無傷 表面f&度=5H 比較例1 実施例1と同様のリスフィルムにペンタエリスリトール
テトラアクリレート40部、N−β−アミノエチル−r
−アミノ−n−プロピルトリメトキシシラン2部、2−
ヒドロキシ−2−メチルグロヒオフエノン1,2部およ
びトルエン60部からなる糸外線硬化型樹脂?スヒナー
で塗布し、60℃、5分間の熱風乾燥後、不活性ガス雰
囲気下で80 W / crsの水冷式高圧水銀灯11
5cfRの距離で40秒間照射し、硬化させた。表面処
理したリスフィルムの測定結果は次の通シであった。
密ンU件:0/100 耐擦傷性:無傷 表面硬度=5H 比較例2 実施例1と同様のリスフィルムに実施例1の表面処理方
法にh−いて共重合ポリエステル(A) ’に添加しな
い以外は実施例1と同様にしてリスフィルムr表面処理
した。表面処理したリスフィルムの測定結果は次の通り
であった。
密着性: 80/100゜ 耐擦傷性;無傷 表面硬度=5H 比較例8 実施例1と同様のリスフィルムに実施例1の表面処理に
2いてN−β−アミノエチル−γ−アミノーn−プロピ
ルトリメトキシシランを添加しない以外は実施例1と同
様にしてリスフィルムを表面処理した。表面処理したリ
スフィルムの測定結果は次の通シであった。
密着性: 20/100 耐擦傷性:無傷 表面硬度:5H 比較例4 実施例1と同様のリスフィルムに実施例10表面処理方
法にPいてビスフェノールA型エポキシアクリレート化
合物リポキシ5P−5008(前出)を添加しない以外
は実施例1と同様にしてリスフィルムを表面処理した。
表面処理したリスフィルムの測定結果は次の通りであっ
た。
密着性: 0/100 耐擦gb件:、無傷 表面硬度:5H 比較例5 実施例1と同様のリスフィルムに、実施例1の表面9J
I4理方法にPいて下層と上層の表面処理順序を逆にし
てスビーナーで塗布し、実施例1と同様の硬化条件にて
塗膜を硬化させた。表面処理したリスフィルムの測定結
果は次の通りであった。
@層性: 0/100 耐擦傷性:擦傷発生 表面硬度二F 比較例6 実施例1と同様のリスフィルムに実施例1の表面処理方
法に2いてペンタエリスリトールテトラアクリレートの
かわりにトリエテレングリコールジアクリレー)k使用
する以外は実施例1と同様にしてリスフィルムを表面処
理した。表面処理し之リスフィルムの測定結果は次の通
りであった。
密着性: 0/100 (上層のみ剥離した〕耐擦傷性
:擦傷発生 表面硬度:HB 実施例4〜6 実施例1のN−β−アミノエテル−T−アミノ−n−プ
ロピルトリメトキシクランのかVすに第1表に記載し之
アミノシラン化合物を使用し、実施例1と同様にしてリ
スフィルムを表面処理した。
表面処理したリスフィルムの測定結果?f−第1表に示
した。
第  l  表 特許邑願人 東洋紡績株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 可撓性有機高分子フィルムの少なくとも片面に画像形成
    層を設けた積層体の画像形成層表面に、最下層が分子内
    に2個以上のアクリロイル基または/およびメタクリロ
    イル基を有するエポキシアクリレート樹脂、共重合ポリ
    エステル樹脂およびアミノシラン化合物を含有する樹脂
    組成物からなり、最上層が分子内に3個以上のアクリロ
    イル基または/およびメタクリロイル基を有する光重合
    性化合物を含有する紫外線硬化型樹脂からなる、硬化さ
    れた少なくとも2層を設けたことを特徴とする表面処理
    された積層体。
JP17548285A 1985-08-08 1985-08-08 表面処理された積層体 Granted JPS6235340A (ja)

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JP17548285A JPS6235340A (ja) 1985-08-08 1985-08-08 表面処理された積層体

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JPS6235340A true JPS6235340A (ja) 1987-02-16
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0222652A (ja) * 1988-07-09 1990-01-25 Konica Corp 写真要素及びその製造方法

Cited By (1)

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JPH0222652A (ja) * 1988-07-09 1990-01-25 Konica Corp 写真要素及びその製造方法

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