JPS62286945A - クロロ−又はブロムアセトアルデヒドジアルキルアセタ−ルの製造方法 - Google Patents
クロロ−又はブロムアセトアルデヒドジアルキルアセタ−ルの製造方法Info
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- JPS62286945A JPS62286945A JP61274233A JP27423386A JPS62286945A JP S62286945 A JPS62286945 A JP S62286945A JP 61274233 A JP61274233 A JP 61274233A JP 27423386 A JP27423386 A JP 27423386A JP S62286945 A JPS62286945 A JP S62286945A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/48—Preparation of compounds having groups
- C07C41/50—Preparation of compounds having groups by reactions producing groups
-
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- C07C41/48—Preparation of compounds having groups
- C07C41/58—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
本発明はα−ハロゲン化されたアルデヒドのアセタール
の新規製造方法に関する。更に特にクロロアセトアルデ
ヒドジメチルアセタールの改良製造法に関する。
の新規製造方法に関する。更に特にクロロアセトアルデ
ヒドジメチルアセタールの改良製造法に関する。
クロロアセトアルデヒドアセタールの多くのChemi
e、第4版(1975)、第9巻、第375頁にはビニ
ル化合物をアルコール媒体中で塩素化してクロロアセト
アルデヒドアセタールを製造することが記載されている
。米国特許 第2,803,668号及びまた米国特許第4,180
,592号明細書には副−生成物として多量の1.1.
2−トリクロルエタンを生じる塩化ビニルの塩素化が述
べられている。その似かよった沸点のために、所望のク
ロロアセトアルデヒドジメチルアセタールから副−生成
物を分離するのは困難である。その上この方法の特別な
欠点は塩化ビニル出発化合物の高い毒性性質にある。
e、第4版(1975)、第9巻、第375頁にはビニ
ル化合物をアルコール媒体中で塩素化してクロロアセト
アルデヒドアセタールを製造することが記載されている
。米国特許 第2,803,668号及びまた米国特許第4,180
,592号明細書には副−生成物として多量の1.1.
2−トリクロルエタンを生じる塩化ビニルの塩素化が述
べられている。その似かよった沸点のために、所望のク
ロロアセトアルデヒドジメチルアセタールから副−生成
物を分離するのは困難である。その上この方法の特別な
欠点は塩化ビニル出発化合物の高い毒性性質にある。
酢酸ビニルとハロゲンの過剰アルコール中での反応は数
年来公知である:米国特許 第2,830,570号及び第2,411,826号明
細書並びタールを常法で、たとえば水の添加によって及
び次いで水不溶性溶剤、たとえばエーテル、クロロホル
ム又はベンゼンでアセタール層ヲ抽出して反応混合物か
ら単離する。有機抽出物を水及び(又は)水性アルカリ
溶液、たとえば重炭酸ナトリウム溶液で洗滌して、酸又
は他の水溶性側−生成物を除去する。その後有機溶剤を
留去し、アセタールを蒸留によって精製する。比較的に
少ない収率(約46〜53%)のために及びまた多量の
溶剤を留去しなければならないために、この方法は工業
的規模でのクロロアセトアルデヒドジメチルアセタール
の製造に不適当である。
年来公知である:米国特許 第2,830,570号及び第2,411,826号明
細書並びタールを常法で、たとえば水の添加によって及
び次いで水不溶性溶剤、たとえばエーテル、クロロホル
ム又はベンゼンでアセタール層ヲ抽出して反応混合物か
ら単離する。有機抽出物を水及び(又は)水性アルカリ
溶液、たとえば重炭酸ナトリウム溶液で洗滌して、酸又
は他の水溶性側−生成物を除去する。その後有機溶剤を
留去し、アセタールを蒸留によって精製する。比較的に
少ない収率(約46〜53%)のために及びまた多量の
溶剤を留去しなければならないために、この方法は工業
的規模でのクロロアセトアルデヒドジメチルアセタール
の製造に不適当である。
米国特許第4,440,959号明細書(1984年4
月3日登録、Wacker−Chemie Gmbtp
には酢酸ビニルと塩素とをメタノール性溶液中で20℃
よりも低い温度で反応させることによるクロロアセトア
ルデヒドジメチルアセクールの改良製造方法が記載され
ている。塩素の添加が終了した時、低沸点成分を一部又
は完全に反応混合物から留去する。液体残留物を酸化−
又は炭酸−カルシウム及びマグネシウム固体で中和し、
一方20〜60℃の温度を水性抽出物が5より大きいp
Hを有するまで維持する。中和が完了した時、反応混合
物は2つの液層を生じ、所望の生成物を含有する上部有
機層を分離し、分別蒸留する。
月3日登録、Wacker−Chemie Gmbtp
には酢酸ビニルと塩素とをメタノール性溶液中で20℃
よりも低い温度で反応させることによるクロロアセトア
ルデヒドジメチルアセクールの改良製造方法が記載され
ている。塩素の添加が終了した時、低沸点成分を一部又
は完全に反応混合物から留去する。液体残留物を酸化−
又は炭酸−カルシウム及びマグネシウム固体で中和し、
一方20〜60℃の温度を水性抽出物が5より大きいp
Hを有するまで維持する。中和が完了した時、反応混合
物は2つの液層を生じ、所望の生成物を含有する上部有
機層を分離し、分別蒸留する。
この公知方法は純粋なりロロアセトアルデヒドジメチル
アセタールが主留分として酢酸ビニルの量あたりで計算
して90%以上!収率で得られることを示す。
アセタールが主留分として酢酸ビニルの量あたりで計算
して90%以上!収率で得られることを示す。
しかしながら米国特許第4,440,959号、に記載
された方法はパッチ型処理であシ、この出願人はこの様
な化合物の製造に関して連続又は半一連続方法の使用を
全く気づいていないばかりかこのことにふれてもいない
。
された方法はパッチ型処理であシ、この出願人はこの様
な化合物の製造に関して連続又は半一連続方法の使用を
全く気づいていないばかりかこのことにふれてもいない
。
したがって特に大規模な工業的処理が行われる場合、α
−ハロゲン化されたアルデヒドのアセタールの安全かつ
経済的な連続製造方法が要求される。
−ハロゲン化されたアルデヒドのアセタールの安全かつ
経済的な連続製造方法が要求される。
ここに記載したアセタールは市場で使用される他の化合
物の製造に於いて中間体として有用である。
物の製造に於いて中間体として有用である。
本発明の方法によればα−)・ロゲン化されたアルデヒ
ドのアセタールを半一連続法で製造することができる。
ドのアセタールを半一連続法で製造することができる。
この方法で塩素又は臭素元素とで使用される 1半一連
続“なる言葉は粗アセタール生成物の形成に関しては連
続法を、アセタールを反応混合物から単離し、次いでそ
れを精製することに関してはバッチ−型方法を意味して
いる。
続“なる言葉は粗アセタール生成物の形成に関しては連
続法を、アセタールを反応混合物から単離し、次いでそ
れを精製することに関してはバッチ−型方法を意味して
いる。
この場合の半一連続法は塩素又は臭素のどちらを用いて
も同様に実施できるが、臭素がより高価のために塩素の
使用が好ましい。便宜上以下に塩素と述べる時は塩素又
は臭素のどちらかを意味する。
も同様に実施できるが、臭素がより高価のために塩素の
使用が好ましい。便宜上以下に塩素と述べる時は塩素又
は臭素のどちらかを意味する。
塩素と酢酸ビニル及びメタノールの混合物との反応は実
質上瞬間的であり、連続反応法として進行する。塩素及
び酢酸ビニル/メタノール混合物を別個の入口(出入口
)から塩素及び酢酸ビニルに関する化学量論量で供給し
、発熱反応を開始する。この反応は反応域で約55℃よ
りも高い温度、好ましくは56〜58℃を生じかつその
温度を保つ。低沸点副−生成物を反応の発熱した熱で蒸
発し、留出物として集める。
質上瞬間的であり、連続反応法として進行する。塩素及
び酢酸ビニル/メタノール混合物を別個の入口(出入口
)から塩素及び酢酸ビニルに関する化学量論量で供給し
、発熱反応を開始する。この反応は反応域で約55℃よ
りも高い温度、好ましくは56〜58℃を生じかつその
温度を保つ。低沸点副−生成物を反応の発熱した熱で蒸
発し、留出物として集める。
カラム内に形成されたこれよシ高い沸点のアセタール生
成物は液体として残存する。この液体はカラムの下方へ
流れ、適する冷却されたレシーバ−中に集められる。粗
アセタールが次の操作に都合のよい量で底部レシーバ−
中に集められた時、出発化合物の供給を止め、反応を終
了する。反応を終了する必要がない様に、底部レシーバ
−に排出バルブを取り付けることができるので、レシー
バ−を連続又は半一連続法で操作することができる。本
発明の説明で次のことが明らかである。すなわち純粋な
生成物を得るための粗アセタールの処理は公知のバッチ
型操作によって行われる。
成物は液体として残存する。この液体はカラムの下方へ
流れ、適する冷却されたレシーバ−中に集められる。粗
アセタールが次の操作に都合のよい量で底部レシーバ−
中に集められた時、出発化合物の供給を止め、反応を終
了する。反応を終了する必要がない様に、底部レシーバ
−に排出バルブを取り付けることができるので、レシー
バ−を連続又は半一連続法で操作することができる。本
発明の説明で次のことが明らかである。すなわち純粋な
生成物を得るための粗アセタールの処理は公知のバッチ
型操作によって行われる。
この半一連続法を使用することによって多くの利点が公
知のバッチ−型方法以上に得られる。
知のバッチ−型方法以上に得られる。
かくして改良された経済性及び効率が得られる。
なぜならばこの際反応熱を蒸発に利用し、副生成物を単
離し、それによって外部エネルギー投入の必要性が減少
するからである。比較的少量の反応化学物質が反応域で
の処理下にバッチ型処理に比べるといつでも存在する。
離し、それによって外部エネルギー投入の必要性が減少
するからである。比較的少量の反応化学物質が反応域で
の処理下にバッチ型処理に比べるといつでも存在する。
改良された、処理の調節は連続系が多くの操作要因、た
とえば供給割合及びカラムの高さ−これは最大変換率及
び処理効率を調整することができる−を有する場合に得
られる。
とえば供給割合及びカラムの高さ−これは最大変換率及
び処理効率を調整することができる−を有する場合に得
られる。
装置に関して、添附された第1図が本発明の方法を実施
するために配置された2つの適当に設置されたカラムを
図式的に示す。かくして本発明の方法は1つの入口で塩
素ガスの連続添加及びもう1つの入口で酢酸ビニルとメ
タノールの液体混合物の添加を可峠にする2つの側面入
口を有する垂直な、充填されたカラムを必要とする。第
1図中でこの反応器を1下部カラム“と呼称する。この
カラムの下部開口部に粗アセタール生成物を集めるのに
適合する冷却された底部生成物レシーバ−を設置する。
するために配置された2つの適当に設置されたカラムを
図式的に示す。かくして本発明の方法は1つの入口で塩
素ガスの連続添加及びもう1つの入口で酢酸ビニルとメ
タノールの液体混合物の添加を可峠にする2つの側面入
口を有する垂直な、充填されたカラムを必要とする。第
1図中でこの反応器を1下部カラム“と呼称する。この
カラムの下部開口部に粗アセタール生成物を集めるのに
適合する冷却された底部生成物レシーバ−を設置する。
カラムの上部開口部にもう一つの充填されたカラム(通
常、下部カラムの長さの約1〜2倍)を設置する。
常、下部カラムの長さの約1〜2倍)を設置する。
“上部カラム“の上部開口部に還流スプリッター、蒸気
温度熱電対、水冷却コンデンサーを設置するのが好まし
い。コンデンサーは残シの蒸気をアルカリ性ガス洗浄器
中に排出するのに適合する。
温度熱電対、水冷却コンデンサーを設置するのが好まし
い。コンデンサーは残シの蒸気をアルカリ性ガス洗浄器
中に排出するのに適合する。
下部及び上部カラムに使用される充填剤はセラミックサ
ドルタイプのものが有利である。しかしガラス玉、プラ
スチック性のはちの巣及びその他の通常の耐腐食性充填
剤も使用することができる。2つのカラム、還流スプリ
ッター及びコンデンサーは通常ガラスで内張シされてい
るかあるいはガラス又は本発明による方!法で使用され
る又は形成される化学物質の腐食性質に耐えることので
きるその他の材料から成る。2つのカラムは場合により
熱の損失を妨げるために減圧のジャケットをかぶせてよ
い。第1図は図式的に本発明の方法を実施するのに有用
な装置を示しているが、本発明は上述の装置に限定され
ない。たとえば下部に2つの側面入口を有し、かつ下部
開口部に冷却された底部生成物レシーバ−が設置され、
上部開口部に還流スプリッター、蒸発温度熱電対、水冷
却コンデンサー及び留出物レシーバ−が設置された1つ
の垂直な、充填されたカラムを6下部“及び1上部“カ
ラムの代り忙使用することができる。装置に於ける重要
な変動又は変化は記載された本発明による半一連続法を
必ずしも変える又は無効にするものではない。
ドルタイプのものが有利である。しかしガラス玉、プラ
スチック性のはちの巣及びその他の通常の耐腐食性充填
剤も使用することができる。2つのカラム、還流スプリ
ッター及びコンデンサーは通常ガラスで内張シされてい
るかあるいはガラス又は本発明による方!法で使用され
る又は形成される化学物質の腐食性質に耐えることので
きるその他の材料から成る。2つのカラムは場合により
熱の損失を妨げるために減圧のジャケットをかぶせてよ
い。第1図は図式的に本発明の方法を実施するのに有用
な装置を示しているが、本発明は上述の装置に限定され
ない。たとえば下部に2つの側面入口を有し、かつ下部
開口部に冷却された底部生成物レシーバ−が設置され、
上部開口部に還流スプリッター、蒸発温度熱電対、水冷
却コンデンサー及び留出物レシーバ−が設置された1つ
の垂直な、充填されたカラムを6下部“及び1上部“カ
ラムの代り忙使用することができる。装置に於ける重要
な変動又は変化は記載された本発明による半一連続法を
必ずしも変える又は無効にするものではない。
本発明によるクロロアセトアルデヒドジメチルアセター
ルの製造に於て、塩素ガスの流れを供給される酢酸ビニ
ルとメタノールとの混合物の液体に接触させる。供給さ
れる2つの成分を別個の入口から垂直な、充填された下
部カラムの反応域に導入する。そこでこれらの成分は発
熱反応を開始する。適する反応を生じるために、酢酸ビ
ニルと過剰のメタノールとを混合して酢酸ビニル/メタ
ノール混合物を得ることが必要である。通常混合物は酢
酸ビニル1モルあたりメタノール3.5〜6モル、好ま
しくは酢酸ビニル1モルあたりメタノール約4〜4.5
モルカラ成る。無水アルコール、すなわち乾燥メタノー
ルを使用するのが有利である。塩素及び酢酸ビニル/メ
タノールを化学量論量でモル7分で測定される一定の割
合で供給するので、塩素1モルが酢酸ビニル1緬ルとの
反応に利用される。
ルの製造に於て、塩素ガスの流れを供給される酢酸ビニ
ルとメタノールとの混合物の液体に接触させる。供給さ
れる2つの成分を別個の入口から垂直な、充填された下
部カラムの反応域に導入する。そこでこれらの成分は発
熱反応を開始する。適する反応を生じるために、酢酸ビ
ニルと過剰のメタノールとを混合して酢酸ビニル/メタ
ノール混合物を得ることが必要である。通常混合物は酢
酸ビニル1モルあたりメタノール3.5〜6モル、好ま
しくは酢酸ビニル1モルあたりメタノール約4〜4.5
モルカラ成る。無水アルコール、すなわち乾燥メタノー
ルを使用するのが有利である。塩素及び酢酸ビニル/メ
タノールを化学量論量でモル7分で測定される一定の割
合で供給するので、塩素1モルが酢酸ビニル1緬ルとの
反応に利用される。
カラム反応域に供給する割合は主に処理が行われる装置
の大きさに左右される。たとえば充填されたカラムの内
径及びその高さは出発化合物を反応域に供給するパラメ
ーターを決定するのに重要な因子である。有用な指針と
して、処理が(結合された)高さ約110〜120Cm
で内径5Qmmをカラム中で行われる場合、塩素及び酢
酸ビニル反応成分は約0.06〜O,OSモル/分の割
合で供給することができる。従業者は困難なく適する割
合にこの供給を調整することができる。
の大きさに左右される。たとえば充填されたカラムの内
径及びその高さは出発化合物を反応域に供給するパラメ
ーターを決定するのに重要な因子である。有用な指針と
して、処理が(結合された)高さ約110〜120Cm
で内径5Qmmをカラム中で行われる場合、塩素及び酢
酸ビニル反応成分は約0.06〜O,OSモル/分の割
合で供給することができる。従業者は困難なく適する割
合にこの供給を調整することができる。
処理を反応成分の反応域への流入によって開始した場合
、反応熱は低沸点−副生成物、主に酢酸メチル、メタノ
ール及び水性塩酸を蒸発するのに十分な熱を生じる。低
沸点蒸気は上方へ上部充填されだカラム内に移動する。
、反応熱は低沸点−副生成物、主に酢酸メチル、メタノ
ール及び水性塩酸を蒸発するのに十分な熱を生じる。低
沸点蒸気は上方へ上部充填されだカラム内に移動する。
そこには還流スプリッター装置が約70℃より低い、好
ましくは約56〜57℃より低い沸点を有する留出物−
を集めるために備えつけられている。上記範囲内のより
高い温度で還流スプリッター装置を用いて留出物を集め
ることは底部レシーバ−中により高濃度の粗アセタール
を供給する。
ましくは約56〜57℃より低い沸点を有する留出物−
を集めるために備えつけられている。上記範囲内のより
高い温度で還流スプリッター装置を用いて留出物を集め
ることは底部レシーバ−中により高濃度の粗アセタール
を供給する。
留出物を、所望の温度に還流スプリットを調節する外部
装置に連結された還流スプリッターの用いて集めるのが
有利である。通常還流スプリッターを有するカラムの上
部開口部に水冷却コンデンサーを設置する。そこに残存
する蒸気を水性アルカリガス洗浄器に導く。アセタール
の経済的製造を保つために、留出物を工程中に循環する
ことができるメタノールを回収するのに使用する。それ
によって留出物をpH10,0〜10.2に水性水酸化
す) IJウムで調整し、その後分別蒸留してメタノー
ルの良好な回収が行われる。
装置に連結された還流スプリッターの用いて集めるのが
有利である。通常還流スプリッターを有するカラムの上
部開口部に水冷却コンデンサーを設置する。そこに残存
する蒸気を水性アルカリガス洗浄器に導く。アセタール
の経済的製造を保つために、留出物を工程中に循環する
ことができるメタノールを回収するのに使用する。それ
によって留出物をpH10,0〜10.2に水性水酸化
す) IJウムで調整し、その後分別蒸留してメタノー
ルの良好な回収が行われる。
反応熱はまた充填されたカラム中で粗アセタール生成物
知対して部分的に還流するのに十分な熱を供給する。そ
のカラムで液体−蒸気平衡は液体粗アセタール(いわゆ
る1底部”)が下部の充填されたカラムに設置された冷
却レシーバ−に反応域から下方へ流れることで明らかで
ある。
知対して部分的に還流するのに十分な熱を供給する。そ
のカラムで液体−蒸気平衡は液体粗アセタール(いわゆ
る1底部”)が下部の充填されたカラムに設置された冷
却レシーバ−に反応域から下方へ流れることで明らかで
ある。
アセタールを粗アセタール反応混合物からあるいくつか
の好都合な公知の操作によらて回収する。この様な操作
の1で、酸化カルシウム又は水酸化カルシウムを混合物
に加え、3より大きい、好ましくは3.1〜3.4のp
Hを生じ、かっ2層を生じる:有°機の上層及び水性の
下層。生成物を含有する上層を分別蒸留てよって又は2
0〜30%水性水酸化ナトリウムの添加、次いで加水分
解された酢酸メチルからクロロアセトアルデヒドジメチ
ルアセタールの層分離によって精製して高純度生成物を
得ることができる。
の好都合な公知の操作によらて回収する。この様な操作
の1で、酸化カルシウム又は水酸化カルシウムを混合物
に加え、3より大きい、好ましくは3.1〜3.4のp
Hを生じ、かっ2層を生じる:有°機の上層及び水性の
下層。生成物を含有する上層を分別蒸留てよって又は2
0〜30%水性水酸化ナトリウムの添加、次いで加水分
解された酢酸メチルからクロロアセトアルデヒドジメチ
ルアセタールの層分離によって精製して高純度生成物を
得ることができる。
次の例は本発明による方法を説明するものであるが、本
発明はこれによって限定されるものではない。
発明はこれによって限定されるものではない。
例1
第1図に記載された装置に類似する装置を組み立て、ク
ロロアセトアルデヒドジメチルアセタールの半一連続製
造方法を実施する。
ロロアセトアルデヒドジメチルアセタールの半一連続製
造方法を実施する。
減圧のジャケットをかぶせた、ガラス製の上部カラム(
内径5 Q mm 、高さ8層cm)をセラミックサド
ルで充填し、上部開口部に還流スプリッター、蒸気温度
熱電対及び最上部のコンデンサー/レシーバ−t−設u
−t−ル。レジ−ハーバ水性アルカリ溶液を含有する。
内径5 Q mm 、高さ8層cm)をセラミックサド
ルで充填し、上部開口部に還流スプリッター、蒸気温度
熱電対及び最上部のコンデンサー/レシーバ−t−設u
−t−ル。レジ−ハーバ水性アルカリ溶液を含有する。
上部カラムの下部開口部に下部カラム(内径50 mm
、高さ3 Q cm )を連結し、このカラムは同様
にジャケットをかぶされ、充填され、連続的に化合物を
添加するための2つの側面入口を有する。1つの入口を
塩素の定量添加のために設置し、一方もう1つの入口を
酢酸ビニル/メタノール混合物の定量添加のために設置
する。
、高さ3 Q cm )を連結し、このカラムは同様
にジャケットをかぶされ、充填され、連続的に化合物を
添加するための2つの側面入口を有する。1つの入口を
塩素の定量添加のために設置し、一方もう1つの入口を
酢酸ビニル/メタノール混合物の定量添加のために設置
する。
処理の開始時に、酢酸ビニル860g(10モル)及び
無水メタノール1280g (40モル)の混合物から
成る供給物を1つの入口から一定割合14.8g/分で
添加する。同時にもう一つの入口からの塩素添加を一定
割合4.7g/分で開始する。
無水メタノール1280g (40モル)の混合物から
成る供給物を1つの入口から一定割合14.8g/分で
添加する。同時にもう一つの入口からの塩素添加を一定
割合4.7g/分で開始する。
還流スプリッターは蒸気温度が上部カラムの最上部で〈
57℃を示した時のみ、系から縮合物の除去を行う。処
理は記載した条件で操作しながら約2.5時間連続的に
進行し、その後塩素及び酢酸ビニル/メタノール混合物
の流出を中止することによって終了する。
57℃を示した時のみ、系から縮合物の除去を行う。処
理は記載した条件で操作しながら約2.5時間連続的に
進行し、その後塩素及び酢酸ビニル/メタノール混合物
の流出を中止することによって終了する。
酢酸メチル及びメタノールの酢酸混合物(684g )
から成る集められた留出物を水性水酸化ナトリウムで中
和してpH10,0〜10.2となし、次いで分別蒸留
してメタノール384g(12モル)を再生利用する。
から成る集められた留出物を水性水酸化ナトリウムで中
和してpH10,0〜10.2となし、次いで分別蒸留
してメタノール384g(12モル)を再生利用する。
底部生成物レシーバ−中に集められた粗アセタール反応
生成物(1,800g)を酸化カルシウム286gで中
和し、p)(3,1〜3.3となす。中和混合物を層分
離(分離テ斗を用いて)して70.3%クロロアセトア
ルデヒドジメチルアセタール1452g(82%収率)
を有する上部生成物層を生じる。その後上部生成物層を
減圧下に分別蒸留して、クロロアセトアルデヒドジメチ
ルアセタール1,000gが得られる。これは沸点55
℃(50mmHgで)、ガスクロマトグラフィーによっ
て測定して99%より高い純度を示す。純粋な化合物は
20℃で屈折率1.4148±0.0005及び25℃
で比重1.09〜1.10を有する。
生成物(1,800g)を酸化カルシウム286gで中
和し、p)(3,1〜3.3となす。中和混合物を層分
離(分離テ斗を用いて)して70.3%クロロアセトア
ルデヒドジメチルアセタール1452g(82%収率)
を有する上部生成物層を生じる。その後上部生成物層を
減圧下に分別蒸留して、クロロアセトアルデヒドジメチ
ルアセタール1,000gが得られる。これは沸点55
℃(50mmHgで)、ガスクロマトグラフィーによっ
て測定して99%より高い純度を示す。純粋な化合物は
20℃で屈折率1.4148±0.0005及び25℃
で比重1.09〜1.10を有する。
例2
例1の処理をくり返し行う。しかし還流スプリッターは
上部カラムの最上部での蒸気温度が(60℃を示した時
、縮合物の除去を行う。生じた生成物層中のクロロアセ
トアルデヒドジメチルアセタールの濃度は75%に上昇
する。
上部カラムの最上部での蒸気温度が(60℃を示した時
、縮合物の除去を行う。生じた生成物層中のクロロアセ
トアルデヒドジメチルアセタールの濃度は75%に上昇
する。
例3
例1の処理をくり返し行う。しかし水酸化カル・/ラム
(8TTg) を粗アセタール生成物を中和する際に酸
化カルシウムの代シに使用する。
(8TTg) を粗アセタール生成物を中和する際に酸
化カルシウムの代シに使用する。
例4
例1の処理をくり返し行う。しかし中和した±5℃でp
H10,0−10,2となす。この混合物を層分離して
蒸留せずに95%以上のりooアセトアルデヒドジメチ
ルアセタールを有スる上部層を生じることができる。
H10,0−10,2となす。この混合物を層分離して
蒸留せずに95%以上のりooアセトアルデヒドジメチ
ルアセタールを有スる上部層を生じることができる。
処理を大気圧で開放系中で実施するとして記載したが、
処理を減圧で及びほんの少し変化した温度で密閉系で実
施することもできる。かくして一定温度が環境圧力での
処理の実施に要求される場合、従業者は圧力を所望され
る系内で、たとえば好ましくは100−800mmHg
に下げ、処理の実施に相応する温度を容易に算出するこ
とができる。密閉系の使用は通常生成物の収率を改良す
る。
処理を減圧で及びほんの少し変化した温度で密閉系で実
施することもできる。かくして一定温度が環境圧力での
処理の実施に要求される場合、従業者は圧力を所望され
る系内で、たとえば好ましくは100−800mmHg
に下げ、処理の実施に相応する温度を容易に算出するこ
とができる。密閉系の使用は通常生成物の収率を改良す
る。
減圧で処理を行う場合、この際使用されるメタノールを
他のアルコール、たとえばエタノール、インプロパノー
ル、n−プロパノール等々に代えることができる。これ
は従業者にとってほんの僅かな変化であることは明白で
ある。この様なアルコールの使用は対応するジアルキル
アセタールを生じる。
他のアルコール、たとえばエタノール、インプロパノー
ル、n−プロパノール等々に代えることができる。これ
は従業者にとってほんの僅かな変化であることは明白で
ある。この様なアルコールの使用は対応するジアルキル
アセタールを生じる。
本発明の好ましい要件を詳細に記載したので、種々の変
化及びそれに対する進歩性は当業者にとって容易に明き
らかである。したがって本発明の目的及び範囲は前記特
許請求の範囲によって限定される。
化及びそれに対する進歩性は当業者にとって容易に明き
らかである。したがって本発明の目的及び範囲は前記特
許請求の範囲によって限定される。
第1図は本発明の方法を実施するための垂直な、充填た
れた2つのカラムを示す装置である。
れた2つのカラムを示す装置である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)a)並行した入口を有する垂直な、充填されたカラ
ム、低沸点留出物を集めるための装置及び上部末端に連
結された水−冷却コンデンサー及び下部末端に連結され
た冷却された底部レシーバーを備え、 b)塩素又は臭素及び酢酸ビニルと過剰のメタノールと
の混合物を一定の割合及び塩素又は臭素及び酢酸ビニル
に関する化学量論量で別個の入口から垂直な、充填され
たカラムの反応域に導入し、この際発熱反応が生じ及び
温度を約56−58℃の範囲に維持し、 c)約70℃よりも低い沸点を有する蒸気から形成され
た低沸点留出物を集め、 d)粗アセタール液体生成物を反応域から下方へ導き、
冷却された底部レシーバーに集める工程から成るクロロ
−又はブロムアセトアルデヒドジメチルアセタールの半
−連続製造方法。 2)酢酸ビニルとメタノールとの混合物は酢酸ビニルモ
ル当たりメタノール3.5−6モルを含有する特許請求
の範囲第1項記載の方法。 3)低沸点留出物を集める装置は還流スプリッター及び
熱電対コントロールを有する特許請求の範囲第1項記載
の方法。 4)熱電対コントロールが約75℃より低い沸点を有す
る留出物を集めるために設置される特許請求の範囲第3
項記載の方法。 5)底部レシーバーに集められた粗アセタール生成物を
酸化カルシウム又は水酸化カルシウムで処理してpH3
.1−3.4となし、生成物層を水層から分離し、減圧
で分別蒸発して純粋なクロロ−又はブロムアセトアルデ
ヒドジメチルアセタールを生じる特許請求の範囲第1項
記載の方法。 6)垂直な、充填されたカラムはガラスカラムであり、
ガラス玉又はセラミックサドルタイプパッキングを有す
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 7)垂直な、充填されたカラムは1つの垂直な、充填さ
れたカラムとこれに連結されたもう1つの垂直な、充填
されたカラムの組み合わせである特許請求の範囲第6項
記載の方法。 8)塩素又は臭素及び酢酸ビニルとモル過剰のメタノー
ルとの混合物を反応させ、次いで粗反応生成物からクロ
ロ−又はブロムアセトアルデヒドジメチルアセタールを
単離する工程を有するクロロ−又はブロムアセトアルデ
ヒドジメチルアセタールの半−連続製造方法に於いて、 a)連続的に塩素又は臭素及び酢酸ビニルとメタノール
との混合物を別個の入口から下部の垂直な、充填された
カラムの反応域に供給し、その際塩素又は臭素及び酢酸
ビニルを化学量論量で、発熱反応が生じ、反応温度を約
55℃より高く維持する条件で供給し、 b)低沸点副−生成物の蒸気を上部充填されたカラム及
び還流スプリッター及びそれに連結された水−冷却コン
デンサーを通して上方へ導き、約70℃よりも低い沸点
を有する副−生成物を留出物として集め、次いで c)粗アセタール生成物の流出物を反応域から下部充填
されたカラムに設置された冷却された底部レシーバーに
集める工程から成る、 上記化合物の改良製造方法。 9)酢酸ビニルとメタノールとの混合物は酢酸ビニルモ
ル当たりメタノール3.5−6モルを含有する特許請求
の範囲第8項記載の方法。 10)a)並行した入口を有する垂直な、充填されたカ
ラム、低沸点留出物を集めるための装置及び上部末端に
連結された水−冷却コンデンサー及び下部末端に連結さ
れた冷却された底部レシーバーから成る減圧処理用密閉
系を備え、b)塩素又は臭素及び酢酸ビニルと過剰のア
ルコールとの混合物を一定の割合及び塩素又は臭素及び
酢酸ビニルに関する化学量論量で垂直な充填されたカラ
ムの反応域への別個の入口から減圧系に導入し、この際
アルコールはメタノール、エタノール、プロパノール及
びイソプロパノールら選ばれ、 c)副−生成物蒸気から形成された低沸点留出物を集め
、 d)粗アセタール液体生成物を反応域から下方へ導き、
冷却された底部レシーバーに集める工程から成るクロロ
−又はブロムアセトアルデヒドジアルキルアセタールの
半−連続製造方法。 11)アルコールはメタノールであり、酢酸ビニルと過
剰のメタノールとの混合物は酢酸ビニルモル当たりメタ
ノール3.5−6モルを含有する特許請求の範囲第10
項記載の方法。 12)密閉系内の圧力は100−300mmHgであり
、反応域の温度は環境圧で56−58℃に相当する特許
請求の範囲第11項項記載の方法。 13)低沸点留出物を集めるための装置は還流スプリッ
ター及び熱電対コントロールから成る特許請求の範囲第
12項記載の方法。 14)熱電対コントロールが環境圧で約70℃より低い
沸点を有する留出物を集めるために設置される特許請求
の範囲第13項記載の方法。 15)底部レシーバー中に集められた粗アセタール生成
物を酸化カルシウム又は水酸化カルシウムで処理してp
H3.1−3.4となし、生成物層を水性層から分離し
、減圧で分別蒸発して純粋なクロロ−又はブロムアセト
アルデヒドジアルキルアセタールを生じる特許請求の範
囲第10項記載の方法。 16)底部レシーバー中に集められた粗アセタール生成
物を酸化カルシウム又は水酸化カルシウムで処理してp
H3.1−3.4となし、生成物層を水性層から分離し
、水性水酸化カルシウムで処理し、上層を水性層から分
離して高純度クロロ−又はブロムアセトアルデヒドジア
ルキルアセタールを生じる特許請求の範囲第10項記載
の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US868456 | 1986-05-30 | ||
US06/868,456 US4642389A (en) | 1986-05-30 | 1986-05-30 | Process for the manufacture of chloroacetaldehyde dialkyl acetals |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62286945A true JPS62286945A (ja) | 1987-12-12 |
Family
ID=25351720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61274233A Pending JPS62286945A (ja) | 1986-05-30 | 1986-11-19 | クロロ−又はブロムアセトアルデヒドジアルキルアセタ−ルの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4642389A (ja) |
EP (1) | EP0247233B1 (ja) |
JP (1) | JPS62286945A (ja) |
DE (1) | DE3665573D1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0413643A (ja) * | 1990-05-07 | 1992-01-17 | Kureha Chem Ind Co Ltd | クロロアセタール類の製造方法 |
CN107954869A (zh) * | 2017-11-22 | 2018-04-24 | 临沂优盛新材料科技有限公司 | 一种氯乙醛缩二甲醇的制备方法 |
CN110950744A (zh) * | 2019-10-29 | 2020-04-03 | 上海开荣化工科技有限公司 | 氯乙醛缩二甲醇的合成工艺 |
CN111875510B (zh) * | 2020-08-20 | 2022-12-06 | 厦门优孚利生物医药科技有限公司 | 一种制备氨基乙醛缩二甲醇的方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58105933A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-24 | ワツカ−−ヒエミ−・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | クロルアセトアルデヒドジメチルアセタ−ルの製法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2411826A (en) * | 1946-11-26 | Haloacetals | ||
US2330570A (en) * | 1943-09-28 | Halo acetal | ||
US2803668A (en) * | 1957-08-20 | Process for making chloroacetal | ||
US4130592A (en) * | 1967-11-11 | 1978-12-19 | Dynamit Nobel Aktiengesellschaft | Method for the preparation of chloroacetaldehydedimethyl acetal |
-
1986
- 1986-05-30 US US06/868,456 patent/US4642389A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-10-24 DE DE8686114815T patent/DE3665573D1/de not_active Expired
- 1986-10-24 EP EP86114815A patent/EP0247233B1/en not_active Expired
- 1986-11-19 JP JP61274233A patent/JPS62286945A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58105933A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-24 | ワツカ−−ヒエミ−・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | クロルアセトアルデヒドジメチルアセタ−ルの製法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0247233A1 (en) | 1987-12-02 |
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