JPS62277412A - 新規重合体 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶性を有する新規重合体に関するものであ
る。さらに詳しくは、オプトエレクトロニクス分野、特
に電卓、時計などのディジタル表示素子、電子光学シャ
ッター、電子光学絞り、光変調器、光通信光路切換スイ
ッチ、メモリー、液晶プリンターへラド、焦点距離可変
レンズなどの種々の電子光学デバイスとして用いられる
液晶性を有する新規重合体に関する。
る。さらに詳しくは、オプトエレクトロニクス分野、特
に電卓、時計などのディジタル表示素子、電子光学シャ
ッター、電子光学絞り、光変調器、光通信光路切換スイ
ッチ、メモリー、液晶プリンターへラド、焦点距離可変
レンズなどの種々の電子光学デバイスとして用いられる
液晶性を有する新規重合体に関する。
従来、低分子液晶を用いた表示素子は電卓、時計などの
ディジタル表示に広く使用されている。
ディジタル表示に広く使用されている。
これらの利用分野では、通常、従来の低分子液晶は間隔
をミクロンオーダーで調整した2枚のガラス基板の間に
はさんで使用されている。しかしながら、このような間
隙の調整は大型画面および湾曲画面では実現が困難であ
り、実際上利用分野が制約されていた。この難点を解決
する1つの手段として、液晶性物質を高分子化し、それ
自体を成形可能ならしめることが試みられている(J、
Polym、Sci、Polym、Lett、、E
d、13.243 (1975)、Polym、Bu
ll、、309.6 (1982)、特開昭55−21
479号公報など)。
をミクロンオーダーで調整した2枚のガラス基板の間に
はさんで使用されている。しかしながら、このような間
隙の調整は大型画面および湾曲画面では実現が困難であ
り、実際上利用分野が制約されていた。この難点を解決
する1つの手段として、液晶性物質を高分子化し、それ
自体を成形可能ならしめることが試みられている(J、
Polym、Sci、Polym、Lett、、E
d、13.243 (1975)、Polym、Bu
ll、、309.6 (1982)、特開昭55−21
479号公報など)。
しかしながら、これらの液晶ポリマーにおいては、電界
など外的因子の変化に対するその透過光量変化等の応答
速度が一般に遅く、未だ十分に満足し得るものは得られ
ていない。
など外的因子の変化に対するその透過光量変化等の応答
速度が一般に遅く、未だ十分に満足し得るものは得られ
ていない。
本発明は、強誘電性を有する新規な高分子重合体に関す
るものであり、比較的低温で強誘電性を示し、外的刺激
に対する応答速度が十分に速い液晶であって、動画表示
、大型画面、湾曲画面の表示素子としても有利に使用し
うる液晶性の新規重合体を提供しようとする−ものであ
る。
るものであり、比較的低温で強誘電性を示し、外的刺激
に対する応答速度が十分に速い液晶であって、動画表示
、大型画面、湾曲画面の表示素子としても有利に使用し
うる液晶性の新規重合体を提供しようとする−ものであ
る。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、前記目的を達成すべく検討を重ねた結果
、アクリル酸またはメタクリル酸エステルの重合体であ
って、特定の分子構造を有する新規重合体が前記目的を
満足する液晶性重合体となりうろことを見出し、この知
見に基づいて本発明に到達した。
、アクリル酸またはメタクリル酸エステルの重合体であ
って、特定の分子構造を有する新規重合体が前記目的を
満足する液晶性重合体となりうろことを見出し、この知
見に基づいて本発明に到達した。
すなわち、本発明の新規重合体は、下記一般式で示され
る構造を包含することを特徴とする。
る構造を包含することを特徴とする。
■
一+−CHz−C+r (I
)COO−4−C1l t +F−0−X −Y −Z
(式中、 R1はCH3−または−Hであり、 Zは −+−CHz h CH−4−CHz−旨−C)
1.であり、R2はCH,−、CI またはCNであ
り、pはO〜10の整数であり、 qは0〜10の整数であり、ただし、R2が−C)+3
である場合にはqは0ではなく、mは10〜1,000
の整数であり、 nは1〜10の整数である。) 本発明の新規重合体の数平均分子量は5.000〜40
0,000であることが好ましい。5゜000未満であ
ると、重合体のフィルム、塗膜としての成形性に支障を
生じる場合があり、一方、400.000を超えると、
応答速度が遅いなどの好ましくない影響の現れることが
ある。数平均分子量の特に好ましい範囲は上記式N)に
おけるZの種類およびその光学純度、nの数値などに依
存するので一概に規定できないが、通常、5゜000〜
200,000の範囲である。
)COO−4−C1l t +F−0−X −Y −Z
(式中、 R1はCH3−または−Hであり、 Zは −+−CHz h CH−4−CHz−旨−C)
1.であり、R2はCH,−、CI またはCNであ
り、pはO〜10の整数であり、 qは0〜10の整数であり、ただし、R2が−C)+3
である場合にはqは0ではなく、mは10〜1,000
の整数であり、 nは1〜10の整数である。) 本発明の新規重合体の数平均分子量は5.000〜40
0,000であることが好ましい。5゜000未満であ
ると、重合体のフィルム、塗膜としての成形性に支障を
生じる場合があり、一方、400.000を超えると、
応答速度が遅いなどの好ましくない影響の現れることが
ある。数平均分子量の特に好ましい範囲は上記式N)に
おけるZの種類およびその光学純度、nの数値などに依
存するので一概に規定できないが、通常、5゜000〜
200,000の範囲である。
以下に、本発明の新規重合体の一般的な合成方法を示す
。
。
本発明の新規重合体は、下記の一般式
%式%
(式中、R’ 、X、Y、Zおよびnは一般式(I)で
規定したと同じものである。) で示されるモノマーを単独または2種以上併用して公知
の方法で重合することにより得ることができる。
規定したと同じものである。) で示されるモノマーを単独または2種以上併用して公知
の方法で重合することにより得ることができる。
重合方法として、熱ラジカル重合、開始剤を用いるラジ
カル重合、紫外線や放射線を用いるラジカル重合、ブチ
ルリチウムなどを開始剤とするアニオン重合などを採用
することができる。
カル重合、紫外線や放射線を用いるラジカル重合、ブチ
ルリチウムなどを開始剤とするアニオン重合などを採用
することができる。
ラジカル重合の開始剤として、各種のものが知られてい
るが、過酸化ベンゾイル、過酢酸、過酸化ラウロイル、
アゾビスイソブチロニトリル(A(BN)などの中温型
開始剤が好適に用いられる。
るが、過酸化ベンゾイル、過酢酸、過酸化ラウロイル、
アゾビスイソブチロニトリル(A(BN)などの中温型
開始剤が好適に用いられる。
重合方式としては、塊状重合、スラリー重合、溶液重合
などの種々の方式が知られており、これらのいずれの方
式を用いてもよい。
などの種々の方式が知られており、これらのいずれの方
式を用いてもよい。
重合温度は、重合方法、とくに開始剤の種類に依存し一
様ではないが、通常、50〜90℃が適当である。
様ではないが、通常、50〜90℃が適当である。
重合時間は重合温度など他の要因によって異なるが、通
常、1〜20時間である。
常、1〜20時間である。
分子量の調節は、公知の分子量調節剤の添加および/ま
たはモノマーに対する開始剤の濃度(通常5%以下)の
調節によって行うことができる。
たはモノマーに対する開始剤の濃度(通常5%以下)の
調節によって行うことができる。
塊状重合方式においては、前記モノマーと開始剤とを十
分に混合し、その混合物を酸素の不存在下に2枚のガラ
ス基板の間に導入し、加熱することによって、重合体を
基板間に密着した状態で直接に固定化することもできる
。
分に混合し、その混合物を酸素の不存在下に2枚のガラ
ス基板の間に導入し、加熱することによって、重合体を
基板間に密着した状態で直接に固定化することもできる
。
スラリー重合、溶液重合方式の場合の溶媒としては、公
知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもベンゼン
、トルエン、キシレンなどの芳香族系の溶媒、テトラヒ
ドロフラン等が好適に用いられる。
知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもベンゼン
、トルエン、キシレンなどの芳香族系の溶媒、テトラヒ
ドロフラン等が好適に用いられる。
重合によって得られた重合体は、公知の成膜法、例えば
キャスティング法、Tダイ法、インフレーション法、カ
レンダー法、延伸法などによってフィルムに成形して用
いることができるうフィルム状の重合体は、2枚の通常
のガラス基板はもとより、大型のガラス基板、湾曲面上
のガラス基板などの間にはさんで液晶ディスプレー、電
子光学シャンク−1電子光学絞りなどの種々のオプトエ
レクトロニクスの分野に利用することができる。また、
適当な溶媒に溶解した重合体溶液をガラス基板などの基
板面に塗布し、溶媒を蒸発させることによって、直接基
板面上に密着した状態でフィルム化することもできる。
キャスティング法、Tダイ法、インフレーション法、カ
レンダー法、延伸法などによってフィルムに成形して用
いることができるうフィルム状の重合体は、2枚の通常
のガラス基板はもとより、大型のガラス基板、湾曲面上
のガラス基板などの間にはさんで液晶ディスプレー、電
子光学シャンク−1電子光学絞りなどの種々のオプトエ
レクトロニクスの分野に利用することができる。また、
適当な溶媒に溶解した重合体溶液をガラス基板などの基
板面に塗布し、溶媒を蒸発させることによって、直接基
板面上に密着した状態でフィルム化することもできる。
本発明の新規重合体は、その相転移温度の測定から、強
誘電相であるカイラルスメクチ・ツク相液晶状態が比較
的低温で、かつ広い温度領域で実現することが確認され
た。また、85℃前後における応答時間もおよそ0.0
6〜0.24秒と速いことが確認された。
誘電相であるカイラルスメクチ・ツク相液晶状態が比較
的低温で、かつ広い温度領域で実現することが確認され
た。また、85℃前後における応答時間もおよそ0.0
6〜0.24秒と速いことが確認された。
本発明の重合体は、スメクチック相液晶が、成形容易な
典型的な重合体の性質と結合しているので、インテグレ
ーテッドオプティクス、オプトエレクトロニクス、情報
記憶の分野に数多(の応用可能性がある。例えば、種々
の形状のディジタル表示ディスプレイなどの液晶ディス
プレイ、電子光学シャッター、光通信用光路切換スイッ
チなどの電子光学スイッチ、電子光学絞り、メモリー素
子、光変調器、液晶光プリンターヘッド、焦点距離可変
レンズなどの種々の電子光学デバイスとして使用するこ
とができる。
典型的な重合体の性質と結合しているので、インテグレ
ーテッドオプティクス、オプトエレクトロニクス、情報
記憶の分野に数多(の応用可能性がある。例えば、種々
の形状のディジタル表示ディスプレイなどの液晶ディス
プレイ、電子光学シャッター、光通信用光路切換スイッ
チなどの電子光学スイッチ、電子光学絞り、メモリー素
子、光変調器、液晶光プリンターヘッド、焦点距離可変
レンズなどの種々の電子光学デバイスとして使用するこ
とができる。
なお、必要に応じて、前記重合体同士の混合、他の重合
体との混合、安定剤、可塑剤などを含めた種々の無機、
有機および金属類等の添加物の添加など、当業界におい
てよく知られている数多くの処理方法により、使用目的
に適合するように改善することができる。
体との混合、安定剤、可塑剤などを含めた種々の無機、
有機および金属類等の添加物の添加など、当業界におい
てよく知られている数多くの処理方法により、使用目的
に適合するように改善することができる。
本発明の重合体の合成に用いられる七ツマ−は、公知の
化合物から公知の方法で製造することができる。
化合物から公知の方法で製造することができる。
以下に、モノマーの製造方法の例を示す1)−設工゛(
■)におけるYが−co−o−テある9合このようなモ
ノマーを製造するには、例えば、下記の(式1)〜(式
5)、 CH2=CI?’C0OH(式1) Br+CH辻7Br (式2
)OH→CHz −+−T−CH−4−CHz −)T
−CH3(式4)(式中、R’ 、R” 、n、pSq
はそれツレ先に規定したと同じ意味を有する) で示されるそれ自体公知の化合物を出発原料として用い
ることができる。
■)におけるYが−co−o−テある9合このようなモ
ノマーを製造するには、例えば、下記の(式1)〜(式
5)、 CH2=CI?’C0OH(式1) Br+CH辻7Br (式2
)OH→CHz −+−T−CH−4−CHz −)T
−CH3(式4)(式中、R’ 、R” 、n、pSq
はそれツレ先に規定したと同じ意味を有する) で示されるそれ自体公知の化合物を出発原料として用い
ることができる。
(式1)の化合物はアクリル酸またはメタクリル酸であ
る。
る。
(式2)の化合物としては、例えば1.6−ジブロモヘ
キサン、1.8−ジブロモオクタン、1゜9−ジブロモ
ノナン、1,1o−ジブロモデカンなどの直鎖状のα、
ω−ジブロモアルカンが挙げられる。
キサン、1.8−ジブロモオクタン、1゜9−ジブロモ
ノナン、1,1o−ジブロモデカンなどの直鎖状のα、
ω−ジブロモアルカンが挙げられる。
(式4)の化合物としては、例えば(R)−2=メチル
ブタノール、(S)−2−メチルブタノール、(R)−
2−クロルブタノール、(S)−2−クロルブタノール
、(R)−2−メチルペンタノール、(S)−2−メチ
ルペンタノール、(R)−3−メチルペンタノール、
(S)−3−メチルペンタノール、(R)−4−メチル
へキサノール、(S)−4−メチルヘキサノール、(R
)−2−クロルプロパツール、(R)−2−シアツブロ
バノール、(S)−2−シアツブロバノール、(R)−
4−クロルペンタノール、(S)−4−クロルペンタノ
ール、(R)−6−メチルオクタツール、(S)−6−
メチルオクタツールなどの光学活性アルコールを挙げる
ことができる。
ブタノール、(S)−2−メチルブタノール、(R)−
2−クロルブタノール、(S)−2−クロルブタノール
、(R)−2−メチルペンタノール、(S)−2−メチ
ルペンタノール、(R)−3−メチルペンタノール、
(S)−3−メチルペンタノール、(R)−4−メチル
へキサノール、(S)−4−メチルヘキサノール、(R
)−2−クロルプロパツール、(R)−2−シアツブロ
バノール、(S)−2−シアツブロバノール、(R)−
4−クロルペンタノール、(S)−4−クロルペンタノ
ール、(R)−6−メチルオクタツール、(S)−6−
メチルオクタツールなどの光学活性アルコールを挙げる
ことができる。
(式1)の化合物と(式2)の化合物とを反応させて(
式6) %式%(6) のエステル体(1)を合成する。
式6) %式%(6) のエステル体(1)を合成する。
(式3)の化合物と(式4)の化合物とを反応させて(
式7) のエステル体(2)を合成する。
式7) のエステル体(2)を合成する。
次いで、(式5)の化合物と上記(式7)のエステル体
(2)とを反応させて(式8)のエステル体(3)を合
成する。ただし、(式3)の化合物として4′−ヒドロ
キシビフェニル−4−カルボン酸を使用した場合は、(
式5)の化合物には4−ヒドロキシ安息香酸を使用し、
(式3の化合物として4−ヒドロキシ安息香酸を使用し
た場合には、(式5)の化合物として4′−ヒドロキシ
ビフェニル−4−カルボン酸を使用する。
(2)とを反応させて(式8)のエステル体(3)を合
成する。ただし、(式3)の化合物として4′−ヒドロ
キシビフェニル−4−カルボン酸を使用した場合は、(
式5)の化合物には4−ヒドロキシ安息香酸を使用し、
(式3の化合物として4−ヒドロキシ安息香酸を使用し
た場合には、(式5)の化合物として4′−ヒドロキシ
ビフェニル−4−カルボン酸を使用する。
最後に上記(弐6)のエステル体(11と上記(式8)
のエステル体(3)とを反応させて、本発明の新規重合
体製造に用いられるモノマーを合成する。
のエステル体(3)とを反応させて、本発明の新規重合
体製造に用いられるモノマーを合成する。
2)一般式(T)におけるYが−0−CO−である場合
このようなモノマーを製造するには、例えば、上記(式
1)および(式2)の化合物ならびに下記の(式9)〜
(式11) ■ HOOC−+CH2hCH−4−CH2+−CH3(式
10)(式中、R2、p、Qはそれぞれ先に規定したと
同じ意味を存する) で示されるそれ自体公知の化合物を出発原料として用い
ることができる。
このようなモノマーを製造するには、例えば、上記(式
1)および(式2)の化合物ならびに下記の(式9)〜
(式11) ■ HOOC−+CH2hCH−4−CH2+−CH3(式
10)(式中、R2、p、Qはそれぞれ先に規定したと
同じ意味を存する) で示されるそれ自体公知の化合物を出発原料として用い
ることができる。
(弐10)の化合物としては、例えば、先に挙げた(式
4)の化合物において、水酸基がカルボキシル基に変わ
った形態の各種カルボン酸などを挙げることができる。
4)の化合物において、水酸基がカルボキシル基に変わ
った形態の各種カルボン酸などを挙げることができる。
これらの化合物を上記のモノマーの合成と同様に順次反
応させ、本発明の新規重合体製造に用いられるモノマー
を合成する。ただし、(式9)の化合物としてビフェニ
ル−4−4′−ジオールを使用した場合は(式11)の
化合物として4−ヒドロキシ安息香酸を使用し、(式9
)の化合物としてハイドロキノンを使用した場合は、(
式11)の化合物として4′−ヒドロキシビフェニル−
4−カルボン酸を使用する。
応させ、本発明の新規重合体製造に用いられるモノマー
を合成する。ただし、(式9)の化合物としてビフェニ
ル−4−4′−ジオールを使用した場合は(式11)の
化合物として4−ヒドロキシ安息香酸を使用し、(式9
)の化合物としてハイドロキノンを使用した場合は、(
式11)の化合物として4′−ヒドロキシビフェニル−
4−カルボン酸を使用する。
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
実施例1
モノマーの合成
■アクリル酸10−プロモデキシルエステル(1)の合
成 アクリル酸0.20mol (14,1g)および水
酸化テトラメチルアンモニウム(5水和tり0.22m
ol (39,9g)をDMF500ml中で2時間
攪拌して均一溶液にした後、1.10−ジブロモデカン
0.30mol (90,0g)を加え、さらに5時
間攪拌した。反応液に水300m1を加え、エーテル抽
出した後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、エ
ステル体1)29.8g(収率51%)を得た。
成 アクリル酸0.20mol (14,1g)および水
酸化テトラメチルアンモニウム(5水和tり0.22m
ol (39,9g)をDMF500ml中で2時間
攪拌して均一溶液にした後、1.10−ジブロモデカン
0.30mol (90,0g)を加え、さらに5時
間攪拌した。反応液に水300m1を加え、エーテル抽
出した後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、エ
ステル体1)29.8g(収率51%)を得た。
■4′−ヒドロキシビフェニルー4−カルボン酸2−メ
チルブチルエステル(2)の合成4′−ヒドロキシビフ
ェニル−4−カルボン酸93mmol (20g)およ
び(S)−(−)−2−メチルブタノール467mmo
l (41g)を濃硫酸(2ml)の存在下、ベンゼン
150m1中で25時間還流した。反応液を濃縮後、ト
ルエン・ヘキサン混合溶媒より再結晶し、エステル体(
21(m、 p。
チルブチルエステル(2)の合成4′−ヒドロキシビフ
ェニル−4−カルボン酸93mmol (20g)およ
び(S)−(−)−2−メチルブタノール467mmo
l (41g)を濃硫酸(2ml)の存在下、ベンゼン
150m1中で25時間還流した。反応液を濃縮後、ト
ルエン・ヘキサン混合溶媒より再結晶し、エステル体(
21(m、 p。
116.2〜117.8℃、(α) z3=+4.35
(CHCl3))を26.0g(収率98%)得た。
(CHCl3))を26.0g(収率98%)得た。
■4’−(4”−ヒドロキシベンゾイルオキシ)ビフェ
ニル−4−カルボン酸2−メチルブチルエステル(3)
の合成 4−ヒドロキシ安息香酸42mmol (5,8g)お
よび4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸2−
メチルブチルエステル(2184mmol (23,8
g)を濃硫酸(2ml)の存在下、トルエン150m1
中で36時間還流した。反応液を濃縮後、カラムクロマ
トグラフィーにより精製し、エステル体(319,5g
(収率56%)を得た。
ニル−4−カルボン酸2−メチルブチルエステル(3)
の合成 4−ヒドロキシ安息香酸42mmol (5,8g)お
よび4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸2−
メチルブチルエステル(2184mmol (23,8
g)を濃硫酸(2ml)の存在下、トルエン150m1
中で36時間還流した。反応液を濃縮後、カラムクロマ
トグラフィーにより精製し、エステル体(319,5g
(収率56%)を得た。
■4’−(4” −(10−アクリロイロキシデ゛シロ
キシ〕ベンゾイルオキシ〕ビフェニル−4−カルボン酸
2−メチルブチルエステル(4)の合成エステル体(1
)25mmol (7,5g) 、:Lステル体(3)
23mmol (9,5g )および炭酸カリウム9
21o1(12,7g)の混合物をアセトン中で6時間
還流した。反応液をろ過、濃縮した後、エタノールによ
り再結晶し、モノマー(4)を5.5g(収率39%)
得た。
キシ〕ベンゾイルオキシ〕ビフェニル−4−カルボン酸
2−メチルブチルエステル(4)の合成エステル体(1
)25mmol (7,5g) 、:Lステル体(3)
23mmol (9,5g )および炭酸カリウム9
21o1(12,7g)の混合物をアセトン中で6時間
還流した。反応液をろ過、濃縮した後、エタノールによ
り再結晶し、モノマー(4)を5.5g(収率39%)
得た。
重澄十ぽ1わ1ユ又2J」す1釦と
上記■で得られたモノマー(4)0.98mmol (
600mg)をTHF4ml中でAlBN2.4mgを
重合開始剤として60℃で14時間反応させた。重合反
応精製物をカラムクロマトグラフィーにより分取精製し
、下式の繰り返し単位を有する液晶ポリマー (C;P
C,PS換算による数平均分子量M n 〜6.000
)を430mg(転化率72%)得た。
600mg)をTHF4ml中でAlBN2.4mgを
重合開始剤として60℃で14時間反応させた。重合反
応精製物をカラムクロマトグラフィーにより分取精製し
、下式の繰り返し単位を有する液晶ポリマー (C;P
C,PS換算による数平均分子量M n 〜6.000
)を430mg(転化率72%)得た。
相転移挙動はCry−ii+5A−L!j+I、。It
s 3゜87g、“−ロ峠Cryであった。
s 3゜87g、“−ロ峠Cryであった。
CH3
−0−CHz−CTI−CJs
(ここで、Cry:結晶質、SA :スメクチックA相
液晶、5c11 :カイラルスメクチックC相液晶、
Iso:等方性液体を意味する。)実施例2 実施例1の■において、1.10−ジブロモデカンにか
えて1.6−ジブロモヘキサンを用いたこと以外は実施
例1と同様にして、下記の繰り返し単位を有する重合体
を製造した。
液晶、5c11 :カイラルスメクチックC相液晶、
Iso:等方性液体を意味する。)実施例2 実施例1の■において、1.10−ジブロモデカンにか
えて1.6−ジブロモヘキサンを用いたこと以外は実施
例1と同様にして、下記の繰り返し単位を有する重合体
を製造した。
lh
■
−0−C1l□−CH−CzHs
実施例3
実施例1の■において2−メチルブタノールにかえて2
−メチルヘプタツールを、4′−ヒドロキシビフェニル
−4−カルボン酸にかえて4−ヒドロキシ安息香酸を用
い、■において4−ヒドロキシ安息香酸にかえて4′−
ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸を用いたこと以
外は実施例1と同様にして、下記の繰り返し単位を有す
る重合体を製造した。
−メチルヘプタツールを、4′−ヒドロキシビフェニル
−4−カルボン酸にかえて4−ヒドロキシ安息香酸を用
い、■において4−ヒドロキシ安息香酸にかえて4′−
ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸を用いたこと以
外は実施例1と同様にして、下記の繰り返し単位を有す
る重合体を製造した。
C11,+
l
−0−C)lz−Ctl−(CHzテrcll。
実施例4
実施例1の■における4′−ヒドロキシビフェニル−4
−カルボン酸にかえて4,4′−ビフェノールを、(S
)−(−)−2−メチルブタノールにかえて6−メチル
カプリル酸を用いたこと以外は実施例1と同様にして、
下記の繰り返し単位を有する重合体を製造した。
−カルボン酸にかえて4,4′−ビフェノールを、(S
)−(−)−2−メチルブタノールにかえて6−メチル
カプリル酸を用いたこと以外は実施例1と同様にして、
下記の繰り返し単位を有する重合体を製造した。
CH3
−CO−(CHz片C11−CzL
実施例5
実施例1の■において1,10−ジブロモデカンにかえ
て1,6−ジブロモヘキサンを用い、■において(S)
−(−)−2−メチルブタノールにかえて(R)−2−
クロロブタノールを用い、4′−ヒドロキシビフェニル
−4−カルボン酸にかえてハイドロキノンを用い、■に
おいて4−ヒドロキシ安息香酸にかえて4′−ヒドロキ
シビフェニル−4−カルボン酸を用いたこと以外は、実
施例1と同様にして、下記の繰り返し単位を有する重合
体を製造した。
て1,6−ジブロモヘキサンを用い、■において(S)
−(−)−2−メチルブタノールにかえて(R)−2−
クロロブタノールを用い、4′−ヒドロキシビフェニル
−4−カルボン酸にかえてハイドロキノンを用い、■に
おいて4−ヒドロキシ安息香酸にかえて4′−ヒドロキ
シビフェニル−4−カルボン酸を用いたこと以外は、実
施例1と同様にして、下記の繰り返し単位を有する重合
体を製造した。
比較例1
七ツマ−の合成
■アクリル酸2−ブロモエチルエステル(5)の合成実
施例1の■において、1,10−ジブロモデカンにかえ
て1,2−ジブロモエタンを用いたこと以外は同様の操
作を行って、目的とするエステル体(5)を合成した。
施例1の■において、1,10−ジブロモデカンにかえ
て1,2−ジブロモエタンを用いたこと以外は同様の操
作を行って、目的とするエステル体(5)を合成した。
■4−ヒドロキシ安患香酸2−メチルブチルエステル(
6)の合成 実施例1の■において、4′−ヒドロキシビフェニル−
4−カルボン酸にかえて4−ヒドロキシ安息香酸を用い
たこと以外は同様の操作を行って、目的とするエステル
体(6)を合成した。
6)の合成 実施例1の■において、4′−ヒドロキシビフェニル−
4−カルボン酸にかえて4−ヒドロキシ安息香酸を用い
たこと以外は同様の操作を行って、目的とするエステル
体(6)を合成した。
■4−(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)安息香酸
2−メチルブチルエステル(7)の合成実施例1の■に
おいて、エステル体(2)にかえて上記エステル体(6
)を用いたこと以外は同様の操作を行って、目的とする
エステル体(7)を合成した。
2−メチルブチルエステル(7)の合成実施例1の■に
おいて、エステル体(2)にかえて上記エステル体(6
)を用いたこと以外は同様の操作を行って、目的とする
エステル体(7)を合成した。
■4− (4’−(2−アクリロイロキシエトキシ)ヘ
ンジイルオキシ〕安息香酸2−メチルブチルエステル(
8)の合成 実施例1の■において、エステル体(1)にかえて上記
エステル体(5)を、エステル体(3)にかえて上記エ
ステル体(7)を用いたこと以外は同様の操作を行って
、目的とする七ツマ−(8)を合成した。
ンジイルオキシ〕安息香酸2−メチルブチルエステル(
8)の合成 実施例1の■において、エステル体(1)にかえて上記
エステル体(5)を、エステル体(3)にかえて上記エ
ステル体(7)を用いたこと以外は同様の操作を行って
、目的とする七ツマ−(8)を合成した。
重合体の製造(ラジカル重合)
実施例1の重合体の製造において、モノマー(4)にか
えて上記モノマー(8)を用いたこと以外は同様の操作
を行って、下式の繰り返し単位を有する液晶ポリマーを
得た。相転移挙動はG−」→ S 144Cryであっ
た。
えて上記モノマー(8)を用いたこと以外は同様の操作
を行って、下式の繰り返し単位を有する液晶ポリマーを
得た。相転移挙動はG−」→ S 144Cryであっ
た。
CHl
−0−CH2−CIl−C2H5
(ここで、Gニガラス、S:スメクチ・ツク相液晶を意
味する。) 比較例2 モノマーの合成 ■アクリル酸6−プロモヘギシルエステル(9)の合実
施例1の■において、1,10−ジブロモデカンにかえ
て1,6−ジブロモヘキサンを用いたこと以外は同様の
操作を行って、目的とするエステル体(9)を合成した
。
味する。) 比較例2 モノマーの合成 ■アクリル酸6−プロモヘギシルエステル(9)の合実
施例1の■において、1,10−ジブロモデカンにかえ
て1,6−ジブロモヘキサンを用いたこと以外は同様の
操作を行って、目的とするエステル体(9)を合成した
。
■4−ヒドロキシー4′−メトキシビフェニル00)の
合成 4.4′−ビフェノールを0.50mol、水酸化カリ
ウム2,011101の3−ペンタノン溶液中にヨード
メタン0.53molを滴下し、温度を徐々に上げ、1
8時間還流した。反応液を濃縮後、トルエン洗浄、HC
I水洗浄、乾燥、濃縮後、カラムクロマトグラフィーに
て精製し、αのを得た。
合成 4.4′−ビフェノールを0.50mol、水酸化カリ
ウム2,011101の3−ペンタノン溶液中にヨード
メタン0.53molを滴下し、温度を徐々に上げ、1
8時間還流した。反応液を濃縮後、トルエン洗浄、HC
I水洗浄、乾燥、濃縮後、カラムクロマトグラフィーに
て精製し、αのを得た。
■4−(4″−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−4′−
メトキシビフェニルαυの合成実施例1の■において、
エステル体(2)にかえて上記4−ヒドロキシ−4′−
メトキシビフェニル0[9を用いたこと以外は同様の操
作を行って、目的とする4−(4″−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−4′−メトキシビフェニルαDを合成し
た。
メトキシビフェニルαυの合成実施例1の■において、
エステル体(2)にかえて上記4−ヒドロキシ−4′−
メトキシビフェニル0[9を用いたこと以外は同様の操
作を行って、目的とする4−(4″−ヒドロキシベンゾ
イルオキシ)−4′−メトキシビフェニルαDを合成し
た。
■4− (4″−(4” ’−ヒドロキシベンゾイルオ
キシ)ベンゾイルオキシ)−4’−メトキシビフェニル
回の合成 実施例1の■において、エステル体(2)にかえて上記
4−(4″−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−4′−メ
トキシビフェニルaυを用いたこと以外は同様の操作を
行って、目的とする4−〔4rr (4rrr−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)ベンゾイルオキシ)−4′
−メトキシビフェニル(2)を合成した。
キシ)ベンゾイルオキシ)−4’−メトキシビフェニル
回の合成 実施例1の■において、エステル体(2)にかえて上記
4−(4″−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−4′−メ
トキシビフェニルaυを用いたこと以外は同様の操作を
行って、目的とする4−〔4rr (4rrr−ヒ
ドロキシベンゾイルオキシ)ベンゾイルオキシ)−4′
−メトキシビフェニル(2)を合成した。
ロキシ)ベンゾイルオキシ〕ベンゾイルオキシを一4′
−メトキシビフェニルαlの合成実施例1の■において
、エステル体(11にかえて上記エステル体(9)を、
エステル体(3)にかえて上記4− (4” −(4”
’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)ベンゾイルオキシ
)−4’−メトキシビフェニル(2)を用いたこと以外
は実施例1の■と同様の操作を行って、目的とする七ツ
マ−OJを合成した。
−メトキシビフェニルαlの合成実施例1の■において
、エステル体(11にかえて上記エステル体(9)を、
エステル体(3)にかえて上記4− (4” −(4”
’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)ベンゾイルオキシ
)−4’−メトキシビフェニル(2)を用いたこと以外
は実施例1の■と同様の操作を行って、目的とする七ツ
マ−OJを合成した。
重合体の製造(ラジカル重合)
実施例1の重合体の製造において、モノマー(4)にか
えて上記七ツマ−Ojを用いたこと以外は同様の操作を
行って、下式の繰り返し単位を有する液晶ポリマーを得
た。相転移挙動はG −4Sμ−→Cryであった。
えて上記七ツマ−Ojを用いたこと以外は同様の操作を
行って、下式の繰り返し単位を有する液晶ポリマーを得
た。相転移挙動はG −4Sμ−→Cryであった。
比較例3
千ツマ−の合成
■1−ブロモー2−メチルブタンα0の合成(S)−(
−) −2−メチルブタノール0.4m。
−) −2−メチルブタノール0.4m。
1に水冷下で三臭化りん0.4molを滴下した。温度
を徐々に上げ、室温で6時間攪拌した。反応後、水20
On+1を加え、エーテル抽出後濃縮し、目的とする1
−ブロモー2−メチルブタン0荀を得た。
を徐々に上げ、室温で6時間攪拌した。反応後、水20
On+1を加え、エーテル抽出後濃縮し、目的とする1
−ブロモー2−メチルブタン0荀を得た。
■1−(4−ヒドロキシフェノキシ)−2−メチルブタ
ンα9の合成 ヒドロキノン0.1mol、水酸化カリウム0.4 m
。
ンα9の合成 ヒドロキノン0.1mol、水酸化カリウム0.4 m
。
lの3−ペンタン溶液中に、上記1−ブロモ−2−メチ
ルブタン1410.1 molを入れ、12時間還流し
た。反応後濃縮し、エーテル抽出、HCI水洗浄、乾燥
後、濃縮し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、目
的とする1−(4−ヒドロキソフェノキシ)−2−メチ
ルブタン09を得た。
ルブタン1410.1 molを入れ、12時間還流し
た。反応後濃縮し、エーテル抽出、HCI水洗浄、乾燥
後、濃縮し、カラムクロマトグラフィーにて精製し、目
的とする1−(4−ヒドロキソフェノキシ)−2−メチ
ルブタン09を得た。
■1− (4−(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)
フェノキシ]−2−メチルブタンOeの合成実施例1の
■において、エステル体(2)にかえて上記1−(4−
ヒドロキシフェノキシ)−2−メチルブタンα9を用い
たこと以外は同様の操作を行って、目的とするl−(4
−(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)フェノキシ〕
−2−メチルプタン0[9を合成した。
フェノキシ]−2−メチルブタンOeの合成実施例1の
■において、エステル体(2)にかえて上記1−(4−
ヒドロキシフェノキシ)−2−メチルブタンα9を用い
たこと以外は同様の操作を行って、目的とするl−(4
−(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)フェノキシ〕
−2−メチルプタン0[9を合成した。
■アクリル酸2−ブロモエチルエステルaηの合成比較
例1の■と同様にしてエステル体αつを合成した。
例1の■と同様にしてエステル体αつを合成した。
■L−/4− (4’ −(2−アクリロイロキシエト
キシ)ベンゾイルオキシ〕フェノキシ)−2−メチルブ
タンα田の合成 実施例1の■において、エステル体(1)にかえて上記
エステル体α力を、エステル体(3)にかえて上記1−
(4−(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)フェノキ
シフ−2−メチルブタンα0を用いたこと以外は同様の
操作を行って、目的とするモノマー0匂を合成した。
キシ)ベンゾイルオキシ〕フェノキシ)−2−メチルブ
タンα田の合成 実施例1の■において、エステル体(1)にかえて上記
エステル体α力を、エステル体(3)にかえて上記1−
(4−(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)フェノキ
シフ−2−メチルブタンα0を用いたこと以外は同様の
操作を行って、目的とするモノマー0匂を合成した。
重合体の製造(ラジカル重合)
実施例1の重合体の製造において、モノマー(4)にか
えて上記モノマーQ16を用いたこと以外は同様の操作
を行って、下式の繰り返し単位を有する液晶ポリマーを
得た。相転移挙動はG4− Sμ」→Cryであった。
えて上記モノマーQ16を用いたこと以外は同様の操作
を行って、下式の繰り返し単位を有する液晶ポリマーを
得た。相転移挙動はG4− Sμ」→Cryであった。
CH3
−0−CHz−CH−Czlls
以上、化合物の構造は、NMR,IR1元素分析により
確認した。また、相転移温度の測定および相の確認は、
それぞれDSCおよび偏光顕微鏡により行った。
確認した。また、相転移温度の測定および相の確認は、
それぞれDSCおよび偏光顕微鏡により行った。
電 応答速度の測
2GXIOtaの(To基板2枚の間に重合体をはさみ
、スペーサーで厚さを25μmに調整し、直流電場E=
2X 10bV/mをかけ、その際の透過光景の変化(
0−90%)の応答時間を測定した。
、スペーサーで厚さを25μmに調整し、直流電場E=
2X 10bV/mをかけ、その際の透過光景の変化(
0−90%)の応答時間を測定した。
以上の結果をまとめて表に示す。
以下余白
〔発明の効果〕
本発明により得られた新規重合体は、液晶性および強誘
電性を示し、また応答時間も速く、さらに、高分子化さ
れていることから大型画面、湾曲画面の表示素子として
も使用することができ、その工業的価値は極めて大であ
る。
電性を示し、また応答時間も速く、さらに、高分子化さ
れていることから大型画面、湾曲画面の表示素子として
も使用することができ、その工業的価値は極めて大であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式で示される構造を包含する新規重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、 R^1はCH_3−または−Hであり、 Xは▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼であり、 Yは−CO−O−または−O−CO−であり、Zは▲数
式、化学式、表等があります▼であり、 R^2はCH_3−、ClまたはCNであり、pは0〜
10の整数であり、 qは0〜10の整数であり、ただし、R^2が−CH_
3である場合にはqは0ではなく、mは10〜1,00
0の整数であり、 nは1〜10の整数である。)
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12031386A JPS62277412A (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 新規重合体 |
US07/000,383 US4844835A (en) | 1985-12-26 | 1986-12-22 | Ferroelectric liquid crystal polymer |
EP86118019A EP0228703B1 (en) | 1985-12-26 | 1986-12-23 | Ferroelectric liquid crystal polymer |
DE86118019T DE3687962T2 (de) | 1985-12-26 | 1986-12-23 | Ferroelektrisches Flüssigkristallpolymer. |
US07/340,033 US4913839A (en) | 1985-12-26 | 1989-04-18 | Ferroelectric liquid crystal polymer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12031386A JPS62277412A (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 新規重合体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62277412A true JPS62277412A (ja) | 1987-12-02 |
Family
ID=14783148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12031386A Pending JPS62277412A (ja) | 1985-12-26 | 1986-05-27 | 新規重合体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62277412A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01253712A (ja) * | 1988-04-04 | 1989-10-11 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 液晶光学素子の製造方法 |
JPH02240048A (ja) * | 1989-03-14 | 1990-09-25 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 強誘電性液晶オリゴマー |
US5473450A (en) * | 1992-04-28 | 1995-12-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device with a polymer between liquid crystal regions |
US5583673A (en) * | 1992-09-30 | 1996-12-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Polymer dispersed liquid crystal display device, and a method for producing the same |
US5638194A (en) * | 1992-12-17 | 1997-06-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Polymer dispersed ferroelectric liquid crystal display device and a method for producing the same |
US5724110A (en) * | 1994-05-27 | 1998-03-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal panel and method for producing the same in which the seal section is formed from a mixture of liquid crystal and resin |
WO2016031831A1 (ja) * | 2014-08-26 | 2016-03-03 | 株式会社トクヤマデンタル | 重合性単量体、硬化性組成物および樹脂部材 |
-
1986
- 1986-05-27 JP JP12031386A patent/JPS62277412A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01253712A (ja) * | 1988-04-04 | 1989-10-11 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 液晶光学素子の製造方法 |
JPH02240048A (ja) * | 1989-03-14 | 1990-09-25 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 強誘電性液晶オリゴマー |
US5473450A (en) * | 1992-04-28 | 1995-12-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device with a polymer between liquid crystal regions |
US5583673A (en) * | 1992-09-30 | 1996-12-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Polymer dispersed liquid crystal display device, and a method for producing the same |
US5608555A (en) * | 1992-09-30 | 1997-03-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Polymer dispersed liquid crystal display device, and a method for producing the same, wherein the polymer forms walls |
US5620630A (en) * | 1992-09-30 | 1997-04-15 | Sharp Kabushiki Kaisha | Polymer dispersed liquid crystal display device, and a method for producing the same |
US5638194A (en) * | 1992-12-17 | 1997-06-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Polymer dispersed ferroelectric liquid crystal display device and a method for producing the same |
US5724110A (en) * | 1994-05-27 | 1998-03-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal panel and method for producing the same in which the seal section is formed from a mixture of liquid crystal and resin |
WO2016031831A1 (ja) * | 2014-08-26 | 2016-03-03 | 株式会社トクヤマデンタル | 重合性単量体、硬化性組成物および樹脂部材 |
CN106661153A (zh) * | 2014-08-26 | 2017-05-10 | 德山齿科株式会社 | 聚合性单体、固化性组合物以及树脂部件 |
JPWO2016031831A1 (ja) * | 2014-08-26 | 2017-06-29 | 株式会社トクヤマデンタル | 重合性単量体、重合性単量体の製造方法、硬化性組成物および樹脂部材 |
CN110229257A (zh) * | 2014-08-26 | 2019-09-13 | 德山齿科株式会社 | 聚合性单体、固化性组合物以及树脂部件 |
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