JPS62267220A - 毛髪化粧料 - Google Patents

毛髪化粧料

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JPS62267220A
JPS62267220A JP10961986A JP10961986A JPS62267220A JP S62267220 A JPS62267220 A JP S62267220A JP 10961986 A JP10961986 A JP 10961986A JP 10961986 A JP10961986 A JP 10961986A JP S62267220 A JPS62267220 A JP S62267220A
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JP
Japan
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cyclodextrin
group
carbon atoms
hair cosmetic
alkyl
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JP10961986A
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English (en)
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Yoshibumi Yamagata
義文 山縣
Masahiro Sato
政宏 佐藤
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Lion Corp
Original Assignee
Lion Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産1U邸欠村−#分−野 本発明は、頭皮具及び汗臭の抑制効果が高いと共に、こ
の抑制効果が長時間持続する毛髪化粧料に関する。
W米り捉術υ−発1vL英解迭−以ようとする」1嘉頭
部から発生する人に不快感を与える臭気として、頭皮具
及び汗臭が挙げられる。このため、毛髪化粧料は頭皮具
や汗臭の抑制効果を有し、しかもこの抑制効果が長時間
持続するものであることが望ましいが、従来頭皮具や汗
臭を抑制するために充分有効な提案は何らなされていな
いのが実情であった。
この場合、香り、味覚物質、医薬品等を封じ込めるマイ
クロカプセル物質として用いられるシクロデキストリン
が脱臭効果を有することが従来知られており、例えば特
開昭53−41440号公報にはシクロデキストリンが
腋臭、足臭、1」臭等の悪臭の脱臭に効果があり、シク
ロデキストリンを配合することにより人畜無害で二次的
な欠点がなく、適用制限のない脱臭剤を得られることが
記載されている。また、毛髪への適用に関しては。
例えば特開昭59−84809号公報及び同59−84
810号公報に、メルカプト化合物を主剤とするパーマ
ネントウェーブ用剤の第1剤中にp−ニトロアセトフェ
ノン、メチル−β−ナフチルケトン等の化合物とシクロ
デキストリンとを配合することにより、第1剤特有のメ
ルカプタン臭を抑制したり、第1剤を頭髪に適用した際
に発生する多量のメルカプタン臭を抑制することが記載
されている。
しかしながら、シクロデキストリンの頭皮具及び汗臭に
対する脱臭効果は必ずしも充分なものではなく、特に効
果の持続性に劣り、シクロデキストリンを毛髪化粧料に
配合しても頭部から臭気が生じることを確実に防止する
ことはできなかった。
本発明は、−,1−i’L!11(情に鑑みなされたも
ので、優れた頭皮具及び汗臭の抑制効果を有し、しかも
この抑制効果の持続性の高い毛髪化粧料を提供すること
を目的とする。
側I7【1煎抜濾−4にめq手−ば及で止惟本発明者ら
は、」二記ロ的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、カ
チオン界面活性剤、特に下記(1)〜(3)式で示され
る活性剤とシクロデキストリンとを併用した場合、これ
ら両者が相乗的に作用し、頭皮具及びtf臭に対する充
分な防臭効果が得られると」ζに、この防臭効果が長時
間持続することを知見し、本発明をなすに至った。
従って、本発明は、カチオン界面活性剤とシクロデキス
トリンとを配合したことを特徴とする毛髪化粧料を提供
するものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明毛髪化粧料の第1の必須成分はカチオン界面活性
剤である。ここで、カチオン界面活性剤の種類に制限は
ないが、下記一般式(1)(但し、R□は炭素数8〜2
2のアルキル基又はヒドロキシアルキル基、R2及びR
3はそれぞれ炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3
のヒドロキシアルキル基又はベンジル基を表わす。R4
はR1又はR2と同一の置換基のいずわかを示す。
Xはハロゲン原子又は炭素数1〜3のアルキル基を有す
るモノアルキル硫酸基を示す。)で示される化合物、 下記一般式(2) (但し、R,、R,、R,、のうち2つ又は3つは炭素
数8〜20のアルキル基、残りはメチル基、エチル基又
はヒドロキシエチル基、TIは3〜10の整数、x2は
ハロゲン原子、メチル硫酸基又はエチル硫酸基を示す。
) で示される化合物及び下記−・般式(3)(但し、R,
は炭素数10〜22のアルキル基、R9は炭素数2〜2
2のアルキル基を示す。)で示される化合物が特に有効
であり、これらの1種又は2種以上を用いることが好ま
しい。
この場合、上記(1)式の化合物として、具体的にはセ
チルトリメチルアンモニウムクロライド、セ1〜ステア
リルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルト
リメチルアンモニウムクロライド、エイコシルトリメチ
ルアンモニウムクロライド、ベヘニルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、エイコシルジメチルアンモニウムク
ロライド、ステアリルベンジルアンモニウムクロライド
、ベヘニルジメチルベンジルアンモニウムクロライド等
を挙げることができ、これらの1種又は2種以上を好適
に使用できる。
また、(2)式の化合物として、具体的にはジステアリ
ルポリエテノキシメチルアンモニウムハライド、シバル
ミチルポリエテノキシエチルアンモニウムハライド、シ
バルミチルポリエテノキシヒドロキシエチルアンモニウ
ム、トリステアリルポリエテノキシアンモニウムハライ
ド、ジステアリルポリエテノキシエチルアンモニウムエ
チルサルフェート等を挙げることができ、これらの1種
又は2種以上を好適に使用できる。
更に、(3)式の化合物として、具体的にはNa−ココ
イル−L−アルギニンエチルエステル−DL−ピロリド
ンカルボン酸塩、Na−ココイル−L−アルギニンメチ
ルエステル−DL−ピロリドンカルボン酸塩、Na−ミ
リストイル−L−アルギニンエチルエステル−DL−ピ
ロリドンカルボン酸塩、Na−バルミトイル−L−アル
ギニンエチルエステル−DL−ピロリドンカルボン酸塩
、N(x−ステアロイル−L−アルギニンエチルエステ
ル−DL−ピロリドンカルボン酸塩等を挙げることがで
き、これらの1種又は2種以上を好適に使用できる。
本発明毛髪化粧料において、カチオン界面活性剤の配合
量は総祉で毛髪化粧料全体の0.01〜3重量%、特に
0.05〜1.5重量%とすることが好ましい。0.0
1重景%未満では仕上り時の髪のなめらかさ、柔らかさ
が劣る場合が生じ、3重量%を越えると髪にベタっきを
生じることがある。
本発明の第2の必須成分はシクロデキストリンであり、
シクロデキストリンとしては、α−シクロデキストリン
、β−シクロデキストリン、チーシクロデキストリン、
δ−シクロデキストリン及びカチオン化シクロデキスト
リンから選ばれる1種又は2種以上を好適に使用し得る
この場合、シクロデキストリンの配合量は化粧料全体の
0.001〜5重量%、特に0.05〜2重量%とする
ことが好ましい。
なお、カチオン界面活性剤とシクロデキストリンとの併
用割合は、重量比として100:1〜1 : 100、
特に30:1〜1:40であることが好ましい。また、
カチオン界面活性剤とシクロデキストリンの合計配合量
は0.01〜8重景%、特に0.1〜3.5重量%であ
ることが好ましい。
本発明の毛髪化粧料は、ヘアブロー剤、ヘアトニック、
泡状整髪料等として調製、適用され得るが、本発明の毛
髪化粧料には上述した成分に加え、その化粧料の種類に
応じてシリコン誘導体、炭化水素、エステル油、高級脂
肪酸、高級アルコール、ラノリン誘導体等の油分、ノニ
オン活性剤、アニオン活性剤、両性活性剤、ビタミンA
 t B b + B x 、IC,D、E、H及びこ
れらの誘導体、タンパク加水分解物、アミノ酸、動植物
エキス、ポリビニルピロリドン及びその誘導体等のノニ
オン樹脂、メチルビニルエーテルマレイン酸ブチルエス
テル共重合体等のアニオン性樹脂、アクリル酸メタアク
リル酸エステル共重合体等の両性樹脂、オキシベンゾン
誘導体、桂皮酸エステル誘導体等の紫外線吸収剤、a−
メン1−−ル、ハツカ油、ニコチン酸ベンジル、トウガ
ラシチンキ、グルコン酸クロルヘキシジン、イソプロピ
ルメチルフェノール、パラベン等の清涼盛付U、剤、刺
激感付与剤、殺菌剤、防腐剤、香料、色素、劣化防止剤
等の公知の任意成分を適宜配合することができる。
免脚件例課一 本発明の毛髪化粧料は、カチオン界面活性剤とシクロデ
キストリンとを併用したことにより、優れた頭皮臭及び
汗臭の抑制効果を有すると共に、この効果の持続性が高
いものである。
次に実施例及び比較例を示し、本発明の効果をより具体
的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるもの
ではない。
〔実施例1〜3.比較例1〜11〕 第1表に示す組成を有する実施例1〜3及び比較例1〜
11のへアブロー剤を調製すると共に、これらへアブロ
ー剤の有する頭皮臭及び汗臭防止効果についてパネル2
0名により下記基準に基づいて官能評価を行なった。結
果を第1表に併記する。なお1表中の配合量は重量%で
ある。
罷i板拳 頭皮臭及び汗臭防止効果又はその持続性◎:非常に高い
○:高い。
Δ:やや悪い。
×:悪い。
第1表の結果より、カチオン界面活性剤とシクロデキス
トリンとを併用した実施例のブロー剤は、頭皮臭、汗臭
防11―効果及びその持続性に優れていることが認めら
れる。
〔実施例4〕へアブロー剤 POE(36)POP(36)   2.o 、。
ブチルエーテル ジメチルポリシロキサン    0.511香    
料              適 量α−シクロデキ
ス1−リン    0,5 〃エタノール      
   25.Q++〔実施例5〕ヘアトニツク セトステアリルメチル Q、  2  n アンモニウムクロライド Q−メントール        0.3112−へキシ
ルデカノール    0.1 〃香     料   
            適 斌γ−シクロデキヌ訃リ
ン    0.1 !lエタノール         
60.0/1精製水     残音じ 計              100.0   I!
〔実施例6〕泡状整髪料 セタノール           1.0IIPOP(
17)グリセリルエーテルl、QI+P OE (2)
ステアリルエーテル Q、5  ツノ香    料  
            適 量カチオン化シクロデキ
ストリン 1.Qu精製氷     残部 計               100.0   !
+上記組成の原液96重量部に液化石油ガス(1’A射
剤)4重景部を加えて泡状整髪料とした。
上述した実施例4〜6の毛髪化粧料は、し1ずれも頭皮
臭、汗臭防止効果に優れ、しかもその持続性が高いもの
であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、カチオン界面活性剤とシクロデキストリンとを配合
    してなることを特徴とする毛髪化粧料。 2、カチオン界面活性剤が、下記一般式(1)▲数式、
    化学式、表等があります▼…(1) (但し、R_1は炭素数8〜22のアルキル基又はヒド
    ロキシアルキル基、R_2及びR_3はそれぞれ炭素数
    1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のヒドロキシアルキ
    ル基又はベンジル基を表わす。R_4はR_1又はR_
    2と同一の置換基のいずれかを示す。 Xはハロゲン原子又は炭素数1〜3のアルキル基を有す
    るモノアルキル硫酸基を示す。) で示される化合物、 下記一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2) (但し、R_5、R_6、R_7のうち2つ又は3つは
    炭素数8〜20のアルキル基、残りはメチル基、エチル
    基又はヒドロキシエチル基、nは3〜10の整数、X_
    2はハロゲン原子、メチル硫酸基又はエチル硫酸基を示
    す。) で示される化合物及び下記一般式(3) ▲数式、化学式、表等があります▼…(3) (但し、R_8は炭素数10〜22のアルキル基、R_
    9は炭素数2〜22のアルキル基を示す。)で示される
    化合物から選ばれる1種又は2種以上である特許請求の
    範囲第1項記載の毛髪化粧料。 3、シクロデキストリンがα−シクロデキストリン、β
    −シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、δ−
    シクロデキストリン及びカチオン化シクロデキストリン
    から選ばれる1種又は2種以上である特許請求の範囲第
    1項又は第2項記載の毛髪化粧料。 4、カチオン界面活性剤の配合量が全体の 0.01〜3重量%である特許請求の範囲第1項乃至第
    3項のいずれか1項に記載の毛髪化粧料。 5、シクロデキストリンの配合量が全体の 0.001〜5重量%である特許請求の範囲第1項乃至
    第4項のいずれか1項に記載の毛髪化粧料。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0294012A (ja) * 1988-09-29 1990-04-04 Canon Inc 薄膜磁気ヘッド
JPH1095725A (ja) * 1996-09-20 1998-04-14 Noevir Co Ltd 抗菌性低刺激化粧料
US7879820B2 (en) 2002-04-22 2011-02-01 L'oreal S.A. Use of a cyclodextrin as pearlescent agent and pearlescent compositions

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JPH1095725A (ja) * 1996-09-20 1998-04-14 Noevir Co Ltd 抗菌性低刺激化粧料
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