JP2000128742A - 頭髪用化粧料 - Google Patents
頭髪用化粧料Info
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- JP2000128742A JP2000128742A JP10306504A JP30650498A JP2000128742A JP 2000128742 A JP2000128742 A JP 2000128742A JP 10306504 A JP10306504 A JP 10306504A JP 30650498 A JP30650498 A JP 30650498A JP 2000128742 A JP2000128742 A JP 2000128742A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高分子シリコーンを含有しながら、ベタつき
や重さ、パサつきが改善され、適度なまとまりのよさ、
指すべりのよさ、つやを付与できる使用性、使用感に優
れた頭髪用化粧料を提供すること。 【解決手段】 高分子シリコーンを含有する頭髪用化粧
料において、さらに次の成分、３−［４−ヒドロキシ−
３，５−ビス（３−メチル−２−ブテニル）フェニル］
−２−プロペノイックアシッド、ベンゼンプロパノイッ
クアシッド ４−（２−カルボキシエテニル）−２−
（３−メチル−２−ブテニル）フェニルエステル及びこ
れらの塩から選ばれる少なくとも１種を含有することを
特徴とする頭髪用化粧料。
や重さ、パサつきが改善され、適度なまとまりのよさ、
指すべりのよさ、つやを付与できる使用性、使用感に優
れた頭髪用化粧料を提供すること。 【解決手段】 高分子シリコーンを含有する頭髪用化粧
料において、さらに次の成分、３−［４−ヒドロキシ−
３，５−ビス（３−メチル−２−ブテニル）フェニル］
−２−プロペノイックアシッド、ベンゼンプロパノイッ
クアシッド ４−（２−カルボキシエテニル）−２−
（３−メチル−２−ブテニル）フェニルエステル及びこ
れらの塩から選ばれる少なくとも１種を含有することを
特徴とする頭髪用化粧料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、頭髪用化粧料に関
し、更に詳細には、高分子シリコーンとプロポリス等の
天然物から得られる特定の化合物を含み、ベタつきや重
さを生ずる事なく、適度なまとまりのよさ、指すべりの
よさ、つやを付与できる頭髪用化粧料に関する。
し、更に詳細には、高分子シリコーンとプロポリス等の
天然物から得られる特定の化合物を含み、ベタつきや重
さを生ずる事なく、適度なまとまりのよさ、指すべりの
よさ、つやを付与できる頭髪用化粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、頭髪用化粧料には、スタイル
形成やパサつき防止等の使用性の向上を目的としてシリ
コーン、特に高分子シリコーンが汎用されてきた。
形成やパサつき防止等の使用性の向上を目的としてシリ
コーン、特に高分子シリコーンが汎用されてきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、頭髪用
化粧料に低粘度の高分子シリコーンを配合した場合は、
髪のパサつきが見られ、スタイル形成性が乏しいという
欠点があり、逆に高粘度の高分子シリコーンを配合した
場合は、パサつき防止効果はあるものの、ベタついてく
し通りが悪いなどの欠点があった。このため頭髪用化粧
料に配合する高分子シリコーンの量を調節していたが、
必ずしもその効果は十分でなく、改善が望まれていた。
化粧料に低粘度の高分子シリコーンを配合した場合は、
髪のパサつきが見られ、スタイル形成性が乏しいという
欠点があり、逆に高粘度の高分子シリコーンを配合した
場合は、パサつき防止効果はあるものの、ベタついてく
し通りが悪いなどの欠点があった。このため頭髪用化粧
料に配合する高分子シリコーンの量を調節していたが、
必ずしもその効果は十分でなく、改善が望まれていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、頭髪用化
粧料における高分子シリコーンの使用性を向上させるべ
く鋭意検討を行った結果、プロポリス等の天然物から得
られる特定の化合物を、高分子シリコーンを含有する頭
髪用化粧料に配合することにより、スタイル形成性やパ
サつき防止効果に優れた頭髪用化粧料が得られることを
見出し、本発明を完成させるに至った。
粧料における高分子シリコーンの使用性を向上させるべ
く鋭意検討を行った結果、プロポリス等の天然物から得
られる特定の化合物を、高分子シリコーンを含有する頭
髪用化粧料に配合することにより、スタイル形成性やパ
サつき防止効果に優れた頭髪用化粧料が得られることを
見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００５】すなわち、本発明は、高分子シリコーンを
含有する頭髪用化粧料において、さらに次の成分、３−
［４−ヒドロキシ−３，５−ビス（３−メチル−２−ブ
テニル）フェニル］−２−プロペノイックアシッド、ベ
ンゼンプロパノイックアシッド ４−（２−カルボキシ
エテニル）−２−（３−メチル−２−ブテニル）フェニ
ルエステル及びこれらの塩から選ばれる少なくとも１種
を含有することを特徴とする頭髪用化粧料を提供するも
のである。
含有する頭髪用化粧料において、さらに次の成分、３−
［４−ヒドロキシ−３，５−ビス（３−メチル−２−ブ
テニル）フェニル］−２−プロペノイックアシッド、ベ
ンゼンプロパノイックアシッド ４−（２−カルボキシ
エテニル）−２−（３−メチル−２−ブテニル）フェニ
ルエステル及びこれらの塩から選ばれる少なくとも１種
を含有することを特徴とする頭髪用化粧料を提供するも
のである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明に使用される３−［４−ヒ
ドロキシ−３，５−ビス（３−メチル−２−ブテニル）
フェニル］−２−プロペノイックアシッド（以下、「化
合物（１）」という）およびベンゼンプロパノイックア
シッド ４−（２−カルボキシエテニル）−２−（３−
メチル−２−ブテニル）フェニルエステル（以下「化合
物（２）」という）並びにこれらの塩は、公知の手段に
よって合成的に、或は、これらを含有する動・植物もし
くはその生産物等の天然物、例えばプロポリスやキク科
の植物の葉茎等から抽出等して調製することができる。
特に、プロポリスは、上記化合物（１）、化合物（２）
またはこれらの塩を豊富に含有しているため、これらの
供給源としてプロポリスから抽出した物を用いることが
望ましい。プロポリス、植物等の天然物より、化合物
（１）、化合物（２）またはこれらの塩を調製する場合
は、例えば、特開平６−２５６１７７号公報等に記載の
方法を採用することができる。化合物（１）や化合物
（２）は、必ずしも純粋な化合物として単離する必要は
なく、本発明に使用するに当たり効果を有する程度の純
度に精製された物であればよく、抽出溶媒と共に用いる
こともできる。
ドロキシ−３，５−ビス（３−メチル−２−ブテニル）
フェニル］−２−プロペノイックアシッド（以下、「化
合物（１）」という）およびベンゼンプロパノイックア
シッド ４−（２−カルボキシエテニル）−２−（３−
メチル−２−ブテニル）フェニルエステル（以下「化合
物（２）」という）並びにこれらの塩は、公知の手段に
よって合成的に、或は、これらを含有する動・植物もし
くはその生産物等の天然物、例えばプロポリスやキク科
の植物の葉茎等から抽出等して調製することができる。
特に、プロポリスは、上記化合物（１）、化合物（２）
またはこれらの塩を豊富に含有しているため、これらの
供給源としてプロポリスから抽出した物を用いることが
望ましい。プロポリス、植物等の天然物より、化合物
（１）、化合物（２）またはこれらの塩を調製する場合
は、例えば、特開平６−２５６１７７号公報等に記載の
方法を採用することができる。化合物（１）や化合物
（２）は、必ずしも純粋な化合物として単離する必要は
なく、本発明に使用するに当たり効果を有する程度の純
度に精製された物であればよく、抽出溶媒と共に用いる
こともできる。
【０００７】また、化合物（１）、化合物（２）の塩と
しては、例えばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム
塩、マグネシウム塩、亜鉛塩、アンモニウム塩、アルミ
ニウム塩、鉄塩等の塩類を使用できる。上記化合物
（１）、化合物（２）またはこれらの塩は、１種または
２種以上を組合わせて用いることができる。
しては、例えばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム
塩、マグネシウム塩、亜鉛塩、アンモニウム塩、アルミ
ニウム塩、鉄塩等の塩類を使用できる。上記化合物
（１）、化合物（２）またはこれらの塩は、１種または
２種以上を組合わせて用いることができる。
【０００８】一方、上記化合物（１）、（２）またはこ
れらの塩を配合する頭髪用化粧料は、高分子シリコーン
を配合するものである。この頭髪用化粧料に配合される
高分子シリコーンとしては、特に制限なく利用できる
が、好ましい例として、ジメチルポリシロキサン、メチ
ルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコー
ン、アミノ変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、
アルコキシ変性シリコーン等が挙げられる。これらの高
分子シリコーンは、１種又は２種以上を組合わせて用い
ることができる。
れらの塩を配合する頭髪用化粧料は、高分子シリコーン
を配合するものである。この頭髪用化粧料に配合される
高分子シリコーンとしては、特に制限なく利用できる
が、好ましい例として、ジメチルポリシロキサン、メチ
ルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコー
ン、アミノ変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、
アルコキシ変性シリコーン等が挙げられる。これらの高
分子シリコーンは、１種又は２種以上を組合わせて用い
ることができる。
【０００９】上記高分子シリコーンのうち、２５℃にお
ける粘度が１０００ｃｓ以上、特に１０万ｃｓ以上のジ
メチルポリシロキサンは、毛髪に付着した後、容易に脱
落し難いので特に好ましい。
ける粘度が１０００ｃｓ以上、特に１０万ｃｓ以上のジ
メチルポリシロキサンは、毛髪に付着した後、容易に脱
落し難いので特に好ましい。
【００１０】また、高粘度のシリコーン類を使用する場
合には、低粘度（５００ｃｓ以下）のメチルポリシロキ
サンや揮発性環状シリコーン、揮発性イソパラフィン等
で希釈して低粘度化して用いてもよい。
合には、低粘度（５００ｃｓ以下）のメチルポリシロキ
サンや揮発性環状シリコーン、揮発性イソパラフィン等
で希釈して低粘度化して用いてもよい。
【００１１】本発明頭髪用化粧料中の化合物（１）、化
合物（２）またはこれらの塩の配合量は、特に制限され
ないが、全組成中に０．０００１〜０．５重量％（以
下、単に「％」という）程度で配合することが好まし
く、特に０．００１〜０．１％の範囲で配合すると高分
子シリコーンのベタつきや重さを生ずる事なく、適度な
まとまりのよさ、指すべりのよさ、つや等を付与するこ
とができるためより好ましい。
合物（２）またはこれらの塩の配合量は、特に制限され
ないが、全組成中に０．０００１〜０．５重量％（以
下、単に「％」という）程度で配合することが好まし
く、特に０．００１〜０．１％の範囲で配合すると高分
子シリコーンのベタつきや重さを生ずる事なく、適度な
まとまりのよさ、指すべりのよさ、つや等を付与するこ
とができるためより好ましい。
【００１２】また、本発明頭髪用化粧料中の高分子シリ
コーンの配合量は、その粘度等により変動するため特に
限定はされないが、全組成中に０．１〜３０％の範囲で
配合することが好ましく、特に１〜２０％の範囲で配合
すると、化合物（１）、化合物（２）およびこれらの塩
との組合わせの効果によりベタつきや重さを生ずる事が
なく、適度なまとまりのよさ、指すべりのよさ、つや等
を付与できるためより好ましい。
コーンの配合量は、その粘度等により変動するため特に
限定はされないが、全組成中に０．１〜３０％の範囲で
配合することが好ましく、特に１〜２０％の範囲で配合
すると、化合物（１）、化合物（２）およびこれらの塩
との組合わせの効果によりベタつきや重さを生ずる事が
なく、適度なまとまりのよさ、指すべりのよさ、つや等
を付与できるためより好ましい。
【００１３】本発明の頭髪用化粧料には、上記成分の
他、必要に応じて通常の頭髪用化粧料に配合される成
分、例えば、界面活性剤、油性成分、水、多価アルコー
ル、エタノール、殺菌剤、収れん剤、抗フケ剤、ビタミ
ン類等の薬効剤、パラベン等の防腐剤、増粘剤、染料、
香料、色素、ｐＨ調整剤、エアゾール噴射剤等を本発明
の効果を損なわない範囲で適宜配合することができる。
他、必要に応じて通常の頭髪用化粧料に配合される成
分、例えば、界面活性剤、油性成分、水、多価アルコー
ル、エタノール、殺菌剤、収れん剤、抗フケ剤、ビタミ
ン類等の薬効剤、パラベン等の防腐剤、増粘剤、染料、
香料、色素、ｐＨ調整剤、エアゾール噴射剤等を本発明
の効果を損なわない範囲で適宜配合することができる。
【００１４】本発明の頭髪用化粧料は、常法に従い各成
分を混合することによって調製でき、例えばシャンプ
ー、リンス、トリートメント、ヘアコンディショナー、
ヘアムース、ヘアオイル、ジェル、ミスト、育毛料等と
して利用される。
分を混合することによって調製でき、例えばシャンプ
ー、リンス、トリートメント、ヘアコンディショナー、
ヘアムース、ヘアオイル、ジェル、ミスト、育毛料等と
して利用される。
【００１５】以下、本発明を実施例で詳細に述べるが、
本発明はこれに何ら制約されるものではない。
本発明はこれに何ら制約されるものではない。
【００１６】実施例１ シャンプー：表１に示す組成および下記製法にてシャン
プーを調製し、これらについて下記方法で使用テストを
行った。
プーを調製し、これらについて下記方法で使用テストを
行った。
【００１７】（組成）
【表１】
【００１８】（製法） Ａ．成分（１）〜（４）及び（１２）を加熱混合し、均
一に溶解する。 Ｂ．Ａを冷却し、成分（５）〜（１１）を適宜添加して
均一に混合してシャンプーを得た。
一に溶解する。 Ｂ．Ａを冷却し、成分（５）〜（１１）を適宜添加して
均一に混合してシャンプーを得た。
【００１９】（試験方法）２０〜３５才の女性パネル６
０名をパネルとし、２０名を１組として本発明品と比較
品を２週間使用してもらい、指通り、パサつき等の使用
感について以下の基準で評価した。この結果を表２に示
す。
０名をパネルとし、２０名を１組として本発明品と比較
品を２週間使用してもらい、指通り、パサつき等の使用
感について以下の基準で評価した。この結果を表２に示
す。
【００２０】（評価基準） ＜評価＞ ＜内 容＞ 有 効 指通りが非常に良く、パサつきがない やや有効 指通りが良く、パサつきがない 無 効 指通りが悪い、もしくはパサつく
【００２１】
【表２】
【００２２】表２の結果に示される如く、化合物（１）
または（２）と高分子シリコーンとを組合せた本発明品
は、これを毛髪に適用することにより、指通り、パサつ
き等を抑え良好な感触を得ることができた。
または（２）と高分子シリコーンとを組合せた本発明品
は、これを毛髪に適用することにより、指通り、パサつ
き等を抑え良好な感触を得ることができた。
【００２３】実施例２ シャンプー：次に示す処方及び下記製法でシャンプーを
調製した。 （処方） （％） （１）ラウリルポリオキシエチレン ２５．０ 硫酸エステルナトリウム塩（３０％溶液） （２）ラウリン酸ジエタノールアミド ５．０ （３）ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン ５．０ （４）ジステアリン酸エチレングリコール ２．０ （５）高重合メチルポリシロキサン（１０万ｃｓ）（＊１） １３．０ （６）カチオン化セルロース ０．２ （７）タンパク質加水分解物 ０．０５ （８）化合物（１）（＊２） ０．０４ （９）防腐剤 適 量 （１０）香料 適 量 （１１）色素 適 量 （１２）精製水 残 量 ＊１ 東レ・ダウコーニング社製 ＊２ 林原生物化学研究所社製
調製した。 （処方） （％） （１）ラウリルポリオキシエチレン ２５．０ 硫酸エステルナトリウム塩（３０％溶液） （２）ラウリン酸ジエタノールアミド ５．０ （３）ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン ５．０ （４）ジステアリン酸エチレングリコール ２．０ （５）高重合メチルポリシロキサン（１０万ｃｓ）（＊１） １３．０ （６）カチオン化セルロース ０．２ （７）タンパク質加水分解物 ０．０５ （８）化合物（１）（＊２） ０．０４ （９）防腐剤 適 量 （１０）香料 適 量 （１１）色素 適 量 （１２）精製水 残 量 ＊１ 東レ・ダウコーニング社製 ＊２ 林原生物化学研究所社製
【００２４】Ａ．成分（１）〜（６）及び（１２）を加
熱混合し、均一に溶解する。 Ｂ．Ａを冷却し、成分（７）〜（１１）を添加して均一
に混合してシャンプーを得た。
熱混合し、均一に溶解する。 Ｂ．Ａを冷却し、成分（７）〜（１１）を添加して均一
に混合してシャンプーを得た。
【００２５】得られたシャンプーは毛髪のパサつき、枝
毛、色調の変化等のダメージを防止し、優れたヘアケア
効果を有し、良好な感触を有していた。
毛、色調の変化等のダメージを防止し、優れたヘアケア
効果を有し、良好な感触を有していた。
【００２６】実施例３ ヘアトリートメント：次に示す処方及び下記製法でヘア
トリートメントを調製した。 （処方） （％） （１）流動パラフィン ２．０ （２）高重合メチルポリシロキサン（１００万ｃｓ）（＊１） ２．０ （３）メチルフェニルポリシロキサン（＊２） ４．０ （４）セチルアルコール ２．０ （５）ステアリルアルコール １．０ （６）グリセリン ３．０ （７）塩化ステアリルトリメチルアンモニウム ２．０ （８）防腐剤 適 量 （９）香料 適 量 （１０）色素 適 量 （１１）化合物（２）（＊３） ０．０２ （１２）精製水 残 量 ＊１ 信越化学工業社製 ＊２ 東レ・ダウコーニング社製 ＊３ 林原生物化学研究所社製
トリートメントを調製した。 （処方） （％） （１）流動パラフィン ２．０ （２）高重合メチルポリシロキサン（１００万ｃｓ）（＊１） ２．０ （３）メチルフェニルポリシロキサン（＊２） ４．０ （４）セチルアルコール ２．０ （５）ステアリルアルコール １．０ （６）グリセリン ３．０ （７）塩化ステアリルトリメチルアンモニウム ２．０ （８）防腐剤 適 量 （９）香料 適 量 （１０）色素 適 量 （１１）化合物（２）（＊３） ０．０２ （１２）精製水 残 量 ＊１ 信越化学工業社製 ＊２ 東レ・ダウコーニング社製 ＊３ 林原生物化学研究所社製
【００２７】Ａ．（１）〜（５）の各成分を加熱混合
し、７０℃に保つ。 Ｂ．（６）〜（１０）および（１２）の各成分を加熱混
合し、７０℃に保つ。 Ｃ．上記Ｂを先のＡに加えて混合し、均一に乳化し、３
０℃まで冷却して成分（１１）を加えて均一に撹拌しヘ
アトリートメントを得た。
し、７０℃に保つ。 Ｂ．（６）〜（１０）および（１２）の各成分を加熱混
合し、７０℃に保つ。 Ｃ．上記Ｂを先のＡに加えて混合し、均一に乳化し、３
０℃まで冷却して成分（１１）を加えて均一に撹拌しヘ
アトリートメントを得た。
【００２８】得られたヘアトリートメントは、経時安定
性に優れ、また洗い流した後のきしみがなく、使用後の
コンディショニング効果も良好であった。
性に優れ、また洗い流した後のきしみがなく、使用後の
コンディショニング効果も良好であった。
【００２９】実施例４ ヘアムース： （処方） （％） （１）ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 １．５ （２）オリーブ油 ０．５ （３）高重合メチルポリシロキサンエマルション ５．０ （４）エタノール １５．０ （５）カチオン化セルロース ２．０ （６）１．３−ブチレングリコール ０．５ （７）アクリル樹脂アルカノールアミン液（３０％） ５．０ （８）メチルセルロース ０．５ （９）防腐剤 適 量 （１０）香料 適 量 （１１）化合物（１）＊２ ０．０５ （１２）精製水 残 量 （１３）噴射剤 ３０．０ ＊１ 東レ・ダウコーニング社製 ＊２ 林原生物化学研究所社製
【００３０】Ａ．（１）〜（４）の各成分を混合溶解す
る。 Ｂ．（５）〜（９）および（１２）の各成分を混合溶解
する。 Ｃ．ＡをＢに加えて均一に乳化し、成分（１０）〜（１
１）を加えて均一に撹拌する。耐圧容器に充填した後、
成分（１３）を充填してムースを得た。
る。 Ｂ．（５）〜（９）および（１２）の各成分を混合溶解
する。 Ｃ．ＡをＢに加えて均一に乳化し、成分（１０）〜（１
１）を加えて均一に撹拌する。耐圧容器に充填した後、
成分（１３）を充填してムースを得た。
【００３１】得られたヘアムースは、経時安定性に優
れ、また使用後の感触が良好であり、きしみやベタつき
等がなく、使用後のコンディショニング効果も良好であ
った。
れ、また使用後の感触が良好であり、きしみやベタつき
等がなく、使用後のコンディショニング効果も良好であ
った。
【００３２】実施例５ ヘアスプレー： （％） （１）アクリル樹脂アルカノールアミン液（５０％） ７．０ （２）セチルアルコール １０．０ （３）液状ラノリン １．５ （４）ジメチルポリシロキサン（１万ｃｓ）（＊１） ２０．０ （５）プロピレングリコール ２．０ （６）香料 適 量 （７）防腐剤 適 量 （８）加水分解ケラチン液 ０．１ （９）化合物（１）（＊２） ０．０１ （１０）化合物（２）（＊３） ０．０３ （１１）エタノール 残 量 （１２）噴射剤 １０．０ ＊１ 信越化学工業社製 ＊２ 林原生物化学研究所社製 ＊３ 林原生物化学研究所社製
【００３３】Ａ．（１）〜（７）および（１１）の各成
分を混合溶解する。 Ｂ．（８）〜（１０）の各成分を添加混合する。 Ｃ．均一に撹拌した後、耐圧容器に充填した後成分（１
２）を充填してヘアスプレーを得た。
分を混合溶解する。 Ｂ．（８）〜（１０）の各成分を添加混合する。 Ｃ．均一に撹拌した後、耐圧容器に充填した後成分（１
２）を充填してヘアスプレーを得た。
【００３４】得られたヘアスプレーは、経時安定性に優
れ、また使用後の感触が良好であり、きしみベタつき等
がなく、使用後のコンディショニング効果も良好であっ
た。
れ、また使用後の感触が良好であり、きしみベタつき等
がなく、使用後のコンディショニング効果も良好であっ
た。
【００３５】
【発明の効果】以上記述したように、本発明の頭髪用化
粧料は、高分子シリコーン特有のベタつきや重さを生ず
る事なく、適度なまとまりのよさ、指すべりのよさ、つ
やを付与でき、頭髪用化粧料として優れたものである。 以 上
粧料は、高分子シリコーン特有のベタつきや重さを生ず
る事なく、適度なまとまりのよさ、指すべりのよさ、つ
やを付与でき、頭髪用化粧料として優れたものである。 以 上
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近藤 千春 東京都北区栄町48番18号 株式会社コーセ ー研究本部内 (72)発明者 妹尾 正巳 東京都北区栄町48番18号 株式会社コーセ ー研究本部内 (72)発明者 竹内 叶 岡山県岡山市山崎113−９ Ｆターム(参考） 4C083 AA071 AA122 AC022 AC072 AC102 AC122 AC331 AC332 AC392 AC432 AC471 AC472 AC542 AC642 AC692 AC712 AC782 AD092 AD132 AD151 AD152 AD262 AD412 AD512 CC33 CC38 DD08 DD23 EE01 EE06 EE07
Claims (4)
- 【請求項１】 高分子シリコーンを含有する頭髪用化粧
料において、さらに次の成分、３−［４−ヒドロキシ−
３，５−ビス（３−メチル−２−ブテニル）フェニル］
−２−プロペノイックアシッド、ベンゼンプロパノイッ
クアシッド ４−（２−カルボキシエテニル）−２−
（３−メチル−２−ブテニル）フェニルエステル及びこ
れらの塩から選ばれる少なくとも１種を含有することを
特徴とする頭髪用化粧料。 - 【請求項２】 ３−［４−ヒドロキシ−３，５−ビス
（３−メチル−２−ブテニル）フェニル］−２−プロペ
ノイックアシッド、ベンゼンプロパノイックアシッド
４−（２−カルボキシエテニル）−２−（３−メチル−
２−ブテニル）フェニルエステル及びこれらの塩の含有
量が０．０００１〜０．５重量％である請求項１記載の
頭髪用化粧料。 - 【請求項３】 ３−［４−ヒドロキシ−３，５−ビス
（３−メチル−２−ブテニル）フェニル］−２−プロペ
ノイックアシッド、ベンゼンプロパノイックアシッド
４−（２−カルボキシエテニル）−２−（３−メチル−
２−ブテニル）フェニルエステル及びこれらの塩がプロ
ポリス由来のものである請求項１または２記載の頭髪用
化粧料。 - 【請求項４】 高分子シリコーンが、２５℃において１
０００ｃｓ以上の粘度を有するジメチルポリシロキサン
である請求項１ないし３のいずれかの項記載の頭髪用化
粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10306504A JP2000128742A (ja) | 1998-10-28 | 1998-10-28 | 頭髪用化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10306504A JP2000128742A (ja) | 1998-10-28 | 1998-10-28 | 頭髪用化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000128742A true JP2000128742A (ja) | 2000-05-09 |
Family
ID=17957830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10306504A Withdrawn JP2000128742A (ja) | 1998-10-28 | 1998-10-28 | 頭髪用化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000128742A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1138554A2 (en) | 2000-03-30 | 2001-10-04 | Shin-Kobe Electric Machinery Co. Ltd | Power system and state of charge estimating method |
| WO2014065274A1 (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-01 | 野口 秀人 | パーマ液および頭髪用調整剤 |
| JP2014084293A (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-12 | Sogo Akita | パーマ液および頭髪用調整剤 |
| JP2014177438A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Sogo Akita | パーマ液および頭髪用調整剤 |
| JP2014218440A (ja) * | 2013-05-01 | 2014-11-20 | 相互 秋田 | 毛髪修復剤 |
-
1998
- 1998-10-28 JP JP10306504A patent/JP2000128742A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1138554A2 (en) | 2000-03-30 | 2001-10-04 | Shin-Kobe Electric Machinery Co. Ltd | Power system and state of charge estimating method |
| WO2014065274A1 (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-01 | 野口 秀人 | パーマ液および頭髪用調整剤 |
| JP2014084293A (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-12 | Sogo Akita | パーマ液および頭髪用調整剤 |
| JP2014177438A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Sogo Akita | パーマ液および頭髪用調整剤 |
| JP2014218440A (ja) * | 2013-05-01 | 2014-11-20 | 相互 秋田 | 毛髪修復剤 |
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| A761 | Written withdrawal of application |
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