JPS6226310B2 - - Google Patents
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- Laminated Bodies (AREA)
Description
本発明は選択光透過性積層体に関し、更に触し
くは、可視光透過率並びに太陽エネルギー透過率
が高く、且つ耐スクラツチ性の優れた選択光透過
性積層体に関する。 選択光透過性積層体は、例えば可視光に対して
透明で赤外光に対して反射能を有するものなどが
透明断熱膜として利用されている。かかる性能を
有する積層体は太陽エネルギー集熱器、温水器、
グリーンハウス、建築物の窓、冷凍、冷蔵シヨー
ケース、車輌・航空機の窓等の利用が考えられ、
太陽エネルギーの利用及びエネルギー放散の防止
をはかる透明断熱窓としての機能が今後益々重要
となつてくる。 かかる目的を達成する為に、均質で高性能の選
択光透過性積層体が、工業的に安価、大量に供給
されることが切望されている。 従来、上記の如き性能を有する膜(積層体)と
しては、 1 金、銀、銅、アルミ等の金属薄膜 2 金、銀、銅、アルミニウム等の金属薄膜と、
他の要素との組合わせにより、ある波長領域に
おける透明性を改善したもの。 3 酸化インジウム、酸化スズ、ヨウ化銅等の化
合物半導体膜が知られている。 特に上記2の構成体の代表的なものは、金属薄
膜層を透明高屈折率薄膜層ではさんだ積層体であ
つて、例えば真空蒸着、反応性蒸着、化学コーテ
イング法又はスパツタリング法で形成された
Bi2O2/Au/Bi2O3、ZnS/Ag/ZnS又はTiO2/
Ag/TiO2等の積層体が提案されている。 しかし、該選択光透過性を有する積層体を透明
断面窓として使用する場合は、可視光透過性や赤
外光反射能といつた本来の性能だけでなく耐摩耗
性や耐久性(耐光性・耐熱性)といつた実用性能
も要求される。ところが、一般に上記の如く極め
て薄い金属薄膜や金属酸化物薄膜を積層したもの
は耐摩耗性に於いて不十分である場合が多く、例
えば複層ガラス内に使用する場合においても、施
工時において、コーテイング面に指先がふれるこ
とにより、変色あるいは、スクラツチキズが生じ
やすく、就中直接外部にさらされる場合には保護
層を設ける必要がある。 しかしながら、高分子透明保護膜をこれらの該
選択透過性薄膜に積層した時、適切な条件が選ば
れていない時は可視光透過率及び太陽エネルギー
透過率が約10%も低下することがわかつた。札幌
の南向きの二重窓に該選択透過性薄膜を適用した
場合、暖房の省エネルギー計算において、丸陽エ
ネルギーの透過率が1%向上すれば、省エネルギ
ー量が窓面積1m2あたり40円/m2年増すという結
果が得られている。したがつて、ガラス窓の面積
が10m2の建物において、太陽エネルギー透過率が
約10%低下することは、省エネルギー量が4000
円/年も損することを意味する。又、可視光透過
率が減少することは、居住者に心理的圧迫感をも
たらし、窓としての機能を減退させる。 本発明者らは、太陽エネルギー透過率及び可視
光透過率が減少することなく、選択光透過性薄膜
層に高分子保護膜層に設ける方法について、検討
したところ、金属薄膜層の膜厚に対して、高分子
保護膜との膜厚をある特定の範囲に限定すること
により、可視光透過率及び太陽エネルギー透過率
が減少することなく、また耐摩耗性等が向上した
積層体が得られることを見出し本発明に到達し
た。 すなわち本発明は、 1 透明な成形物基板の少なくとも片面に、1又
は2の高屈接率誘電体薄膜層と金属薄膜層とが
積層され、さらにその上に高分子透明保護層が
積層された選択光透過性を有する積層体であつ
て、当該高分子透明保護層の膜厚d(μm)
が、金属薄膜層の膜厚l(Å)に対して次式(1)
〜(3)を満足するものであることを特徴とする被
覆された積層体である。 (1) 35≦l<130において 0.05<d<9 (2) 130l<180において 0.05<d<−0.052l+9.76 (3) 180l<300において 0.05<d<0.4 金属薄膜層の膜厚に関していえば、膜厚が35Å
未満では、金属が連続的にデポジツトせず島状構
造をとり、熱線反射能が不十分になり、300Å以
上では、金属層の厚さがあつすぎて可視光透過率
が40%以下となり実用に供しえない。 本発明に於て用いられる選択光透過性積層体の
ベースとなる透明な成形物基板としては、例えば
ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレン
ナフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレ
ン樹脂、ポリプロピレン樹脂、その他の樹脂の成
型物があげられる。 これらの成型物は板状、シート状、フイルム
状、等の任意の型に成型されており、またその目
的に応じ着色又は無着色の透明のものが選ばれ
る。ただし加工性の面よりシート状、フイルム
状、板状のものが、中でもフイルム状のものが生
産性の面より特に好ましい。更に二軸配向したポ
リエチレンテレフタレートフイルムが透明性、フ
イルムの強度、寸法安定性、積層体との接着性な
どの点より好ましい。 又ポリプロピレンフイルムは、その赤外線吸収
率が小さいという点で好ましいものの一つであ
る。 本発明に用いられる高屈折率誘電体薄膜層とし
ては、例えば二酸化チタン、酸化チタン、酸化ビ
スマス、硫化亜鉛、酸化錫および酸化インジウム
等からなる薄膜層を挙げることができる。 高屈折率誘電体薄膜層は可視光に対して1.6以
上、好ましくは1.8以上の屈折率を有し、可視光
透過率80%以上、好ましくは90%以上であるが効
果的であり、その膜厚は50〜600Å、好ましくは
120〜400Åである。 これらの薄膜層はスパツタリング、イオンプレ
ーテイング、真空蒸着又は化学コーテイングでも
設けることができる。化学コーテイングの例とし
て、例えばアルキルチタネートを主成分とする溶
質の有機溶液を塗工することにより、酸化チタン
薄膜層を設けることができる。アルキルチタネー
トの膜形成の条件を調節することにより、該薄膜
層中に0.1〜10重量%のアルキル基を残存させた
ものは金属層又は、有機質フイルムとの接着性が
向上し、巾広い波長領域にわたつて透明性もすぐ
れた選択光透過性フイルムを与えるので特に好ま
しい。 高屈折率誘電体薄膜層は、透明成形物基板と金
属薄膜層との間に設けても良いし、あるいは金属
薄膜層と高分子透明保護層の間に設けることがで
きる。又、高屈折率誘電体薄膜層で金属薄膜層を
はさんでも良い。 本発明に用いられる選択光透過性フイルムを構
成する金属薄膜層の材料としては、銀、金、銅お
よびこれらの合金あるいは混合物あるいは多層積
層物が用いられる。 特に、好ましい金属薄膜層としては、銀と銅
の合金層、銀と金との合金層、金層、金と銀
の合金層であり、膜厚はいずれも35〜300Åであ
る。これら合金層は、耐久性の点で好ましいもの
の例である。 金属薄膜層を形成する方法としては、例えば真
空蒸着法、カソードスパツタリング法、プラズマ
溶射法、気相メツキ法、化学メツキ法、電気メツ
キ法およびそれらの組合せのいずれでも可能であ
るが、とりわけ、真空蒸着法は蒸着が効率よく行
なわれるため、又、スパツタリング法は金属薄膜
の組成の時間的変動を小さくできる点で有利であ
る。 高分子透明保護層に用いる素材としては、例え
ばポリ(メタ)アクリレート系塗料;飽和ポリエ
ステル系塗料;エチレン−酢酸ビニル共重合体系
塗料;ポリスチレン系塗料;ポリビニルホルマー
ルあるいはポリビニルブチラール系塗料;ポリ塩
化ビニル、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体或い
は塩化ビニル−塩化ビニリデン等の塩化ビニル系
塗料;アルコール溶性ナイロン;ポリエチレン或
いはポリプロピレン等のポリオレフイン等が例示
される。特に2−エチルヘキシルアルコールやブ
チルアルコールなどの高級脂肪族アルコールの
(メタ)アクリル酸エステルから主としてなるポ
リ(メタ)アクリレート系塗料;エチレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール等の線状或いは分枝状の脂肪族ジオー
ルとアジピン酸や、セバチン酸等の脂肪族ジカル
ボン酸或いはε−オキシカプロン酸等から主とし
て、或る飽和ポリエステル樹脂系塗料;エチレン
−酢酸ビニル共重合系塗料;アクリロニトリル−
スチレン共重合体;ポリスチレン;脂肪族ポリア
ミド共重合体からなるアルコール可溶性ナイロ
ン、アクリルニトリル、メタアクリルニトリル、
ポリプロピレンポリエチレン等が、好適に用いら
れる。 又特に耐スクラツチ性が要求される用途に対し
ては高分子透明膜としては、多官能ポリ(メタ)
アクリレート系塗料やジエチレングリコールビス
アリルカーボネート等の三次元架橋膜;メラミン
樹脂系塗料等の熱硬化性樹脂塗料を加熱硬化して
得られる三次元架橋膜等が挙げられる。 一般に金属薄膜層と誘電体層の積層体における
可視光透過率、太陽エネルギー透過率等は、積層
体の個々の成分の光学特性、すなわち、屈折率、
吸収率の波長依存性が知られているならば、理論
的には公知の方法に基づき計算することができ
る。ところが実際に計算したものに基づき、作製
したサンプルは、計算による予想値とは異なる事
がわかつた。その大きな理由の一つとしては、基
板に高分子フイルムを使う限り、その表面均一性
には限度があり、したがつて、その上に積層され
た膜厚は、マクロスコピツクには一定であるが、
ミクロスコピツクには膜厚が異なるためであろう
と予想している。したがつて、単なる計算では、
好ましい膜厚を予想することはできず、実際にサ
ンプルを種々の条件で検討することによつて、好
ましい積層体を得ることができる。 本発明に関していえば、金属層膜厚と高分子透
明保護膜が、一定条件を満たした時のみ、太陽エ
ネルギー透過率が低下することなく、耐スクラツ
チ性の向上した選択光透過膜が得られることがわ
かつた。 即ち、前記の如く金属薄膜層の膜厚をl(Å)
としたとき、高分子透明保護層の膜厚d(μm)
が以下の式(1)〜(3)を満足することである。 (1) 35≦l<130においては 0.05<d<9 (2) 130l<180においては 0.05<d<−0.052l+9.76 (3) 180l<300においては 0.05<d<0.5 しかしながら、高分子透明保護層の膜厚d(μ
m)が0.4〜1.5の範囲にあつては金属層及び高屈
折率誘電体薄膜層の種類によつては干渉稿を発生
する場合があるので、用いる材質に応じて、注意
深く設ける必要がある。以上に述べたごとく、保
護層を適切に設けることにより、太陽エネルギー
透過率も増加し、且つ耐スクラツチ性も向上した
選択光透過性膜を得ることができる。 かくして得られた積層体は、透明断熱膜として
複層窓内に施工、あるいは、一重窓に貼付する、
あるいはロール状のカーテンとして窓の内側にぶ
らさげる等により、建物窓の断熱性を高めること
ができる。又冷凍、冷蔵シヨーケース等の開口部
あるいは窓に適用することにより、省エネルギー
を得ることができる。 例えば4面ガラスのシヨーケースに適用する
と、約20%の省エネルギー効果が得られる。 本発明の積層体は、施工時及び使用時において
も、スクラツチきずが少く、かつ太陽エネルギー
透過率が低くならないという点ですぐれたもので
ある。 以下、本発明のより具体的な説明を実施例で示
す。なお、太陽エネルギー透過率は、文献ムー
ン・ピー;ジヤーナル オブ フランクリン イ
ンステイチユート(Moon、P.、J.Franklin Inst.
)vol.203 583(1940)の太陽スペクトルの重み
を用いて計算した。 薄膜中の元素組成及び膜厚は、けい光X線分析
法(理学電機ケイ光X線分析装置使用)により定
量して求めた。尚膜厚の大きなものに関しては、
安立電機製デジタル電子マイクロメーター
(K351A型)により測定した。 耐スクラツチ性は、クロツクメーターテスト法
でなされた。クロツクメータ(東洋精機製)の摩
擦面に市販のガーゼを用い、500g/cm2の荷重を
かけて、サンプル表面を往復摩耗させ、金属層が
摩耗するようになるまでの往復回数を求めた。 実施例1及び比較例1 光透過率86%、膜厚25μmの二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフイルムに高屈折率誘電体薄
膜層として、膜厚172Åの酸化チタン層、さらに
その上に金属薄膜層として銀、銅(構成比銀/銅
=92/8)の合金薄膜を設けた。この上にさらに
高屈折率誘電体薄膜層として、膜厚117Åの酸化
チタン層を設けた。金属薄膜層の膜厚は、280
Å、208Å、162Å、131Å、80Å、30Å、と変え
た。これらのサンプルにさらに高分子透明保護層
として、ポリメタアクリルニトリルの膜厚を種々
に変えて作成した。 尚酸化チタン層は、テトラブチルチタネートの
加水分解により設けた。金属薄膜層は、圧力5×
10-3Torr中で、スパツタリング法によりもうけ
た。得られたサンプルの太陽エネルギー透過率を
測定し、結果を表−1に示す。 又高分子透明保護層のないサンプルのクロツク
メーターの往復回数は1〜2回であつたが、高分
子透明保護層が0.1μついたものは、クロツクメ
ーターの往復回数は10〜14回と1桁向上した。さ
らに高分子透明保護層が2μついたものは、3000
回〜4000回というすぐれた値を示した。
くは、可視光透過率並びに太陽エネルギー透過率
が高く、且つ耐スクラツチ性の優れた選択光透過
性積層体に関する。 選択光透過性積層体は、例えば可視光に対して
透明で赤外光に対して反射能を有するものなどが
透明断熱膜として利用されている。かかる性能を
有する積層体は太陽エネルギー集熱器、温水器、
グリーンハウス、建築物の窓、冷凍、冷蔵シヨー
ケース、車輌・航空機の窓等の利用が考えられ、
太陽エネルギーの利用及びエネルギー放散の防止
をはかる透明断熱窓としての機能が今後益々重要
となつてくる。 かかる目的を達成する為に、均質で高性能の選
択光透過性積層体が、工業的に安価、大量に供給
されることが切望されている。 従来、上記の如き性能を有する膜(積層体)と
しては、 1 金、銀、銅、アルミ等の金属薄膜 2 金、銀、銅、アルミニウム等の金属薄膜と、
他の要素との組合わせにより、ある波長領域に
おける透明性を改善したもの。 3 酸化インジウム、酸化スズ、ヨウ化銅等の化
合物半導体膜が知られている。 特に上記2の構成体の代表的なものは、金属薄
膜層を透明高屈折率薄膜層ではさんだ積層体であ
つて、例えば真空蒸着、反応性蒸着、化学コーテ
イング法又はスパツタリング法で形成された
Bi2O2/Au/Bi2O3、ZnS/Ag/ZnS又はTiO2/
Ag/TiO2等の積層体が提案されている。 しかし、該選択光透過性を有する積層体を透明
断面窓として使用する場合は、可視光透過性や赤
外光反射能といつた本来の性能だけでなく耐摩耗
性や耐久性(耐光性・耐熱性)といつた実用性能
も要求される。ところが、一般に上記の如く極め
て薄い金属薄膜や金属酸化物薄膜を積層したもの
は耐摩耗性に於いて不十分である場合が多く、例
えば複層ガラス内に使用する場合においても、施
工時において、コーテイング面に指先がふれるこ
とにより、変色あるいは、スクラツチキズが生じ
やすく、就中直接外部にさらされる場合には保護
層を設ける必要がある。 しかしながら、高分子透明保護膜をこれらの該
選択透過性薄膜に積層した時、適切な条件が選ば
れていない時は可視光透過率及び太陽エネルギー
透過率が約10%も低下することがわかつた。札幌
の南向きの二重窓に該選択透過性薄膜を適用した
場合、暖房の省エネルギー計算において、丸陽エ
ネルギーの透過率が1%向上すれば、省エネルギ
ー量が窓面積1m2あたり40円/m2年増すという結
果が得られている。したがつて、ガラス窓の面積
が10m2の建物において、太陽エネルギー透過率が
約10%低下することは、省エネルギー量が4000
円/年も損することを意味する。又、可視光透過
率が減少することは、居住者に心理的圧迫感をも
たらし、窓としての機能を減退させる。 本発明者らは、太陽エネルギー透過率及び可視
光透過率が減少することなく、選択光透過性薄膜
層に高分子保護膜層に設ける方法について、検討
したところ、金属薄膜層の膜厚に対して、高分子
保護膜との膜厚をある特定の範囲に限定すること
により、可視光透過率及び太陽エネルギー透過率
が減少することなく、また耐摩耗性等が向上した
積層体が得られることを見出し本発明に到達し
た。 すなわち本発明は、 1 透明な成形物基板の少なくとも片面に、1又
は2の高屈接率誘電体薄膜層と金属薄膜層とが
積層され、さらにその上に高分子透明保護層が
積層された選択光透過性を有する積層体であつ
て、当該高分子透明保護層の膜厚d(μm)
が、金属薄膜層の膜厚l(Å)に対して次式(1)
〜(3)を満足するものであることを特徴とする被
覆された積層体である。 (1) 35≦l<130において 0.05<d<9 (2) 130l<180において 0.05<d<−0.052l+9.76 (3) 180l<300において 0.05<d<0.4 金属薄膜層の膜厚に関していえば、膜厚が35Å
未満では、金属が連続的にデポジツトせず島状構
造をとり、熱線反射能が不十分になり、300Å以
上では、金属層の厚さがあつすぎて可視光透過率
が40%以下となり実用に供しえない。 本発明に於て用いられる選択光透過性積層体の
ベースとなる透明な成形物基板としては、例えば
ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレン
ナフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレ
ン樹脂、ポリプロピレン樹脂、その他の樹脂の成
型物があげられる。 これらの成型物は板状、シート状、フイルム
状、等の任意の型に成型されており、またその目
的に応じ着色又は無着色の透明のものが選ばれ
る。ただし加工性の面よりシート状、フイルム
状、板状のものが、中でもフイルム状のものが生
産性の面より特に好ましい。更に二軸配向したポ
リエチレンテレフタレートフイルムが透明性、フ
イルムの強度、寸法安定性、積層体との接着性な
どの点より好ましい。 又ポリプロピレンフイルムは、その赤外線吸収
率が小さいという点で好ましいものの一つであ
る。 本発明に用いられる高屈折率誘電体薄膜層とし
ては、例えば二酸化チタン、酸化チタン、酸化ビ
スマス、硫化亜鉛、酸化錫および酸化インジウム
等からなる薄膜層を挙げることができる。 高屈折率誘電体薄膜層は可視光に対して1.6以
上、好ましくは1.8以上の屈折率を有し、可視光
透過率80%以上、好ましくは90%以上であるが効
果的であり、その膜厚は50〜600Å、好ましくは
120〜400Åである。 これらの薄膜層はスパツタリング、イオンプレ
ーテイング、真空蒸着又は化学コーテイングでも
設けることができる。化学コーテイングの例とし
て、例えばアルキルチタネートを主成分とする溶
質の有機溶液を塗工することにより、酸化チタン
薄膜層を設けることができる。アルキルチタネー
トの膜形成の条件を調節することにより、該薄膜
層中に0.1〜10重量%のアルキル基を残存させた
ものは金属層又は、有機質フイルムとの接着性が
向上し、巾広い波長領域にわたつて透明性もすぐ
れた選択光透過性フイルムを与えるので特に好ま
しい。 高屈折率誘電体薄膜層は、透明成形物基板と金
属薄膜層との間に設けても良いし、あるいは金属
薄膜層と高分子透明保護層の間に設けることがで
きる。又、高屈折率誘電体薄膜層で金属薄膜層を
はさんでも良い。 本発明に用いられる選択光透過性フイルムを構
成する金属薄膜層の材料としては、銀、金、銅お
よびこれらの合金あるいは混合物あるいは多層積
層物が用いられる。 特に、好ましい金属薄膜層としては、銀と銅
の合金層、銀と金との合金層、金層、金と銀
の合金層であり、膜厚はいずれも35〜300Åであ
る。これら合金層は、耐久性の点で好ましいもの
の例である。 金属薄膜層を形成する方法としては、例えば真
空蒸着法、カソードスパツタリング法、プラズマ
溶射法、気相メツキ法、化学メツキ法、電気メツ
キ法およびそれらの組合せのいずれでも可能であ
るが、とりわけ、真空蒸着法は蒸着が効率よく行
なわれるため、又、スパツタリング法は金属薄膜
の組成の時間的変動を小さくできる点で有利であ
る。 高分子透明保護層に用いる素材としては、例え
ばポリ(メタ)アクリレート系塗料;飽和ポリエ
ステル系塗料;エチレン−酢酸ビニル共重合体系
塗料;ポリスチレン系塗料;ポリビニルホルマー
ルあるいはポリビニルブチラール系塗料;ポリ塩
化ビニル、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体或い
は塩化ビニル−塩化ビニリデン等の塩化ビニル系
塗料;アルコール溶性ナイロン;ポリエチレン或
いはポリプロピレン等のポリオレフイン等が例示
される。特に2−エチルヘキシルアルコールやブ
チルアルコールなどの高級脂肪族アルコールの
(メタ)アクリル酸エステルから主としてなるポ
リ(メタ)アクリレート系塗料;エチレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール等の線状或いは分枝状の脂肪族ジオー
ルとアジピン酸や、セバチン酸等の脂肪族ジカル
ボン酸或いはε−オキシカプロン酸等から主とし
て、或る飽和ポリエステル樹脂系塗料;エチレン
−酢酸ビニル共重合系塗料;アクリロニトリル−
スチレン共重合体;ポリスチレン;脂肪族ポリア
ミド共重合体からなるアルコール可溶性ナイロ
ン、アクリルニトリル、メタアクリルニトリル、
ポリプロピレンポリエチレン等が、好適に用いら
れる。 又特に耐スクラツチ性が要求される用途に対し
ては高分子透明膜としては、多官能ポリ(メタ)
アクリレート系塗料やジエチレングリコールビス
アリルカーボネート等の三次元架橋膜;メラミン
樹脂系塗料等の熱硬化性樹脂塗料を加熱硬化して
得られる三次元架橋膜等が挙げられる。 一般に金属薄膜層と誘電体層の積層体における
可視光透過率、太陽エネルギー透過率等は、積層
体の個々の成分の光学特性、すなわち、屈折率、
吸収率の波長依存性が知られているならば、理論
的には公知の方法に基づき計算することができ
る。ところが実際に計算したものに基づき、作製
したサンプルは、計算による予想値とは異なる事
がわかつた。その大きな理由の一つとしては、基
板に高分子フイルムを使う限り、その表面均一性
には限度があり、したがつて、その上に積層され
た膜厚は、マクロスコピツクには一定であるが、
ミクロスコピツクには膜厚が異なるためであろう
と予想している。したがつて、単なる計算では、
好ましい膜厚を予想することはできず、実際にサ
ンプルを種々の条件で検討することによつて、好
ましい積層体を得ることができる。 本発明に関していえば、金属層膜厚と高分子透
明保護膜が、一定条件を満たした時のみ、太陽エ
ネルギー透過率が低下することなく、耐スクラツ
チ性の向上した選択光透過膜が得られることがわ
かつた。 即ち、前記の如く金属薄膜層の膜厚をl(Å)
としたとき、高分子透明保護層の膜厚d(μm)
が以下の式(1)〜(3)を満足することである。 (1) 35≦l<130においては 0.05<d<9 (2) 130l<180においては 0.05<d<−0.052l+9.76 (3) 180l<300においては 0.05<d<0.5 しかしながら、高分子透明保護層の膜厚d(μ
m)が0.4〜1.5の範囲にあつては金属層及び高屈
折率誘電体薄膜層の種類によつては干渉稿を発生
する場合があるので、用いる材質に応じて、注意
深く設ける必要がある。以上に述べたごとく、保
護層を適切に設けることにより、太陽エネルギー
透過率も増加し、且つ耐スクラツチ性も向上した
選択光透過性膜を得ることができる。 かくして得られた積層体は、透明断熱膜として
複層窓内に施工、あるいは、一重窓に貼付する、
あるいはロール状のカーテンとして窓の内側にぶ
らさげる等により、建物窓の断熱性を高めること
ができる。又冷凍、冷蔵シヨーケース等の開口部
あるいは窓に適用することにより、省エネルギー
を得ることができる。 例えば4面ガラスのシヨーケースに適用する
と、約20%の省エネルギー効果が得られる。 本発明の積層体は、施工時及び使用時において
も、スクラツチきずが少く、かつ太陽エネルギー
透過率が低くならないという点ですぐれたもので
ある。 以下、本発明のより具体的な説明を実施例で示
す。なお、太陽エネルギー透過率は、文献ムー
ン・ピー;ジヤーナル オブ フランクリン イ
ンステイチユート(Moon、P.、J.Franklin Inst.
)vol.203 583(1940)の太陽スペクトルの重み
を用いて計算した。 薄膜中の元素組成及び膜厚は、けい光X線分析
法(理学電機ケイ光X線分析装置使用)により定
量して求めた。尚膜厚の大きなものに関しては、
安立電機製デジタル電子マイクロメーター
(K351A型)により測定した。 耐スクラツチ性は、クロツクメーターテスト法
でなされた。クロツクメータ(東洋精機製)の摩
擦面に市販のガーゼを用い、500g/cm2の荷重を
かけて、サンプル表面を往復摩耗させ、金属層が
摩耗するようになるまでの往復回数を求めた。 実施例1及び比較例1 光透過率86%、膜厚25μmの二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフイルムに高屈折率誘電体薄
膜層として、膜厚172Åの酸化チタン層、さらに
その上に金属薄膜層として銀、銅(構成比銀/銅
=92/8)の合金薄膜を設けた。この上にさらに
高屈折率誘電体薄膜層として、膜厚117Åの酸化
チタン層を設けた。金属薄膜層の膜厚は、280
Å、208Å、162Å、131Å、80Å、30Å、と変え
た。これらのサンプルにさらに高分子透明保護層
として、ポリメタアクリルニトリルの膜厚を種々
に変えて作成した。 尚酸化チタン層は、テトラブチルチタネートの
加水分解により設けた。金属薄膜層は、圧力5×
10-3Torr中で、スパツタリング法によりもうけ
た。得られたサンプルの太陽エネルギー透過率を
測定し、結果を表−1に示す。 又高分子透明保護層のないサンプルのクロツク
メーターの往復回数は1〜2回であつたが、高分
子透明保護層が0.1μついたものは、クロツクメ
ーターの往復回数は10〜14回と1桁向上した。さ
らに高分子透明保護層が2μついたものは、3000
回〜4000回というすぐれた値を示した。
【表】
実施例 2
光透過率86%、膜厚25μmの二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフイルムに、金属薄膜層とし
て、金を蒸着により設けた。 金の膜厚は、44Å、57Å、58Å、94Å、156
Å、196Åと変えた。 この上に高屈折率誘電体層として、テトラブチ
ルチタネートを加水分解して得たTiO2膜を150Å
の厚さで設けた。さらにこの上に高分子透明保護
層として、ポリアクリルニトリルの膜厚を種々変
えて、コーテイングした。 実施例1と同様にテストして得られた結果を表
−2に示す。
レンテレフタレートフイルムに、金属薄膜層とし
て、金を蒸着により設けた。 金の膜厚は、44Å、57Å、58Å、94Å、156
Å、196Åと変えた。 この上に高屈折率誘電体層として、テトラブチ
ルチタネートを加水分解して得たTiO2膜を150Å
の厚さで設けた。さらにこの上に高分子透明保護
層として、ポリアクリルニトリルの膜厚を種々変
えて、コーテイングした。 実施例1と同様にテストして得られた結果を表
−2に示す。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 透明な成形物基板の少なくとも片面に、1又
は2の高屈接率誘電体薄膜層と金属薄膜層とが積
層され、さらにその上に高分子透明保護層が積層
された選択光透過性を有する積層体であつて、当
該高分子透明保護層の膜厚d(μm)が、金属薄
膜層の膜厚l(Å)に対して次式(1)〜(3)を満足す
るものであることを特徴とする被覆された積層
体。 (1) 35≦l<130において 0.05<d<9 (2) 130l<180において 0.05<d<−0.052l+9.76 (3) 180l<300において 0.05<d<0.4
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11409879A JPS5638251A (en) | 1979-09-07 | 1979-09-07 | Coated laminate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11409879A JPS5638251A (en) | 1979-09-07 | 1979-09-07 | Coated laminate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5638251A JPS5638251A (en) | 1981-04-13 |
JPS6226310B2 true JPS6226310B2 (ja) | 1987-06-08 |
Family
ID=14629057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11409879A Granted JPS5638251A (en) | 1979-09-07 | 1979-09-07 | Coated laminate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5638251A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4517217A (en) * | 1980-09-09 | 1985-05-14 | Westinghouse Electric Corp. | Protective coating means for articles such as gold-plated jewelry and wristwatch components |
US4533605A (en) * | 1980-09-09 | 1985-08-06 | Westinghouse Electric Corp. | Article such as jewelry or a wristwatch component having composite multi-film protective coating |
US4495254A (en) * | 1981-05-18 | 1985-01-22 | Westinghouse Electric Corp. | Protectively-coated gold-plated article of jewelry or wristwatch component |
JPS58157678A (ja) * | 1982-03-13 | 1983-09-19 | Murata Mach Ltd | 自動ワインダ−における管糸搬送システム |
US4565719A (en) * | 1982-10-08 | 1986-01-21 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Energy control window film systems and methods for manufacturing the same |
JPS61107534U (ja) * | 1984-12-20 | 1986-07-08 | ||
JPH0351145Y2 (ja) * | 1985-06-07 | 1991-10-31 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53128798A (en) * | 1977-04-15 | 1978-11-10 | Teijin Ltd | Method of forming transparent electroconductive coating |
-
1979
- 1979-09-07 JP JP11409879A patent/JPS5638251A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53128798A (en) * | 1977-04-15 | 1978-11-10 | Teijin Ltd | Method of forming transparent electroconductive coating |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5638251A (en) | 1981-04-13 |
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