JPS62258328A - 合成ガスからのエチレンの選択的合成方法 - Google Patents
合成ガスからのエチレンの選択的合成方法Info
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- JPS62258328A JPS62258328A JP61102471A JP10247186A JPS62258328A JP S62258328 A JPS62258328 A JP S62258328A JP 61102471 A JP61102471 A JP 61102471A JP 10247186 A JP10247186 A JP 10247186A JP S62258328 A JPS62258328 A JP S62258328A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、エタノール合成用触媒とアルコール脱水用触
媒を組み合わせた複合触媒により、合成ガスから一段で
エチレンを選択的に合成する方法に関するものである。
媒を組み合わせた複合触媒により、合成ガスから一段で
エチレンを選択的に合成する方法に関するものである。
近年石油資源の枯渇化に伴い1石油以外の炭素資源から
石油化学製品を作り出す技術開発が盛んである。例えば
C工化学技術が良い例である。石油化学製品のうちでも
、エチレン、プロピレンは。
石油化学製品を作り出す技術開発が盛んである。例えば
C工化学技術が良い例である。石油化学製品のうちでも
、エチレン、プロピレンは。
最も重要な基礎化学品であり年間数百万tが消費されて
いる。このエチレン、プロピレンを石油以外の炭素資源
から製造する方法として合成ガスから改良型フィッシャ
ー・トロプシュ触媒を用いて製造する方法が検討されて
いるが、エチレン・プロピレン選択性の向上にはシュル
ツフローり則の制約もあり、多くの困難が存在している
。
いる。このエチレン、プロピレンを石油以外の炭素資源
から製造する方法として合成ガスから改良型フィッシャ
ー・トロプシュ触媒を用いて製造する方法が検討されて
いるが、エチレン・プロピレン選択性の向上にはシュル
ツフローり則の制約もあり、多くの困難が存在している
。
また1合成ガスから容易に合成することができるメタノ
ールからZSM−5等の特異なゼオライト触媒により、
エチレン・プロビレを選択的に合成する方法も見い出さ
れている。しかしこの方法ではエチレンよりもプロピレ
ンの選択率が多いという欠点がありエチレンを選択的に
合成することはむづかしい。
ールからZSM−5等の特異なゼオライト触媒により、
エチレン・プロビレを選択的に合成する方法も見い出さ
れている。しかしこの方法ではエチレンよりもプロピレ
ンの選択率が多いという欠点がありエチレンを選択的に
合成することはむづかしい。
一方、最近合成ガスから直接エタノールを合成する触媒
も見い出されている。(特開昭58−1本発明者らは、
これらの先行技術をふまえ、またこれらの欠点を克服す
べく、合成ガスから一段でエチレンの選択的合成方法を
鋭意検討した結果、エタノール合成用触媒と特定の脱水
素用触媒を組み合わせた複合系触媒により、合成ガスか
らエチレンを選択的に合成するプロセスを見い出すに至
った・ 〔目的〕 本発明は、複合系触媒により合成ガスから一段で選択的
にエチレンを合成する方法を提供することを目的として
なされたものである。
も見い出されている。(特開昭58−1本発明者らは、
これらの先行技術をふまえ、またこれらの欠点を克服す
べく、合成ガスから一段でエチレンの選択的合成方法を
鋭意検討した結果、エタノール合成用触媒と特定の脱水
素用触媒を組み合わせた複合系触媒により、合成ガスか
らエチレンを選択的に合成するプロセスを見い出すに至
った・ 〔目的〕 本発明は、複合系触媒により合成ガスから一段で選択的
にエチレンを合成する方法を提供することを目的として
なされたものである。
すなわち、本発明によれば、合成ガスからエタノールを
生成する触媒とエタノールを脱水してエチレンを生成す
る触媒を組み合わせ、合成からエタノールを合成する反
応条件で同時にエタノールの脱水反応を行い合成ガスか
ら一段で効率良くエチレンを生成するプロセスが提供さ
れる。
生成する触媒とエタノールを脱水してエチレンを生成す
る触媒を組み合わせ、合成からエタノールを合成する反
応条件で同時にエタノールの脱水反応を行い合成ガスか
ら一段で効率良くエチレンを生成するプロセスが提供さ
れる。
本発明で用いるエタノール合成用触媒としてはRhを主
活性金属種として含む、−元系あるいは多元担持Rh触
媒であれば任意である。好ましくは、Rh/ S x
Ox、 Rh−Fe/ S iOz、Rh−Ti−Fe
/5in2.Rh−Ti−Fe−Ir/SiO*、Ri
−Mn−Fa/SiO□、等のエタノールの選択率が比
較的に高いものが良い。
活性金属種として含む、−元系あるいは多元担持Rh触
媒であれば任意である。好ましくは、Rh/ S x
Ox、 Rh−Fe/ S iOz、Rh−Ti−Fe
/5in2.Rh−Ti−Fe−Ir/SiO*、Ri
−Mn−Fa/SiO□、等のエタノールの選択率が比
較的に高いものが良い。
本発明で用いる脱水触媒としては既存の金属酸化物ある
いはゼオライト等の脱水用酸性物質で良いが、好ましく
はシリカライト、チャバサイト、エリオナイト、ゼオロ
ン500H,ゼオロン400Hのゼオライトが良い。
いはゼオライト等の脱水用酸性物質で良いが、好ましく
はシリカライト、チャバサイト、エリオナイト、ゼオロ
ン500H,ゼオロン400Hのゼオライトが良い。
本発明で用いる複合触媒系は、上述した触媒を混合して
も良いし、エタノール合成用触媒を上段に、脱水用触媒
を下段に8111シても良い。また両触媒の割合は任意
であるが脱水用触媒が多いほうが好ましい。
も良いし、エタノール合成用触媒を上段に、脱水用触媒
を下段に8111シても良い。また両触媒の割合は任意
であるが脱水用触媒が多いほうが好ましい。
本発明の用いる反応条件は合成ガス反応が進行すれば任
意であるが反応温度として100℃〜450℃、反応圧
力1 a t m〜200kg/al、反応流速として
1ml/min/g−Cat〜1000m/mi n/
gca t、合成ガス比H,/C0=10/1〜1/1
0であれば任意である。好ましくは250℃〜350℃
、1 a t m〜50kg/cj、50m l 〜8
00 m l / m i n、合成ガス比H2/10
=4/1〜1/4が良い。
意であるが反応温度として100℃〜450℃、反応圧
力1 a t m〜200kg/al、反応流速として
1ml/min/g−Cat〜1000m/mi n/
gca t、合成ガス比H,/C0=10/1〜1/1
0であれば任意である。好ましくは250℃〜350℃
、1 a t m〜50kg/cj、50m l 〜8
00 m l / m i n、合成ガス比H2/10
=4/1〜1/4が良い。
本発明の方法によれば、合成ガスから一段反応で収良く
、エチレンを合成することができるというすぐれた効果
を奏する。
、エチレンを合成することができるというすぐれた効果
を奏する。
次に本発明を実施例に基づき詳細に説明する。
実施例1
固定床加圧流通式反応装置の反応管(内径8mm。
長さ150aa)の上段にエラノル合成用触媒としてR
h (1) −Fe (0,3)/5in2(カッコ内
は原子比、Rh4.7wt%)を0.5g、下段に脱水
用触媒としてH−シリカライトを1.5gを仕込んだ。
h (1) −Fe (0,3)/5in2(カッコ内
は原子比、Rh4.7wt%)を0.5g、下段に脱水
用触媒としてH−シリカライトを1.5gを仕込んだ。
合成ガス反応に先立ってH2気流(300ml/m1n
)中400℃で1h還元処理を行った。H2気流中で放
冷した後、室温に七合成ガス(H,/C0=1)に切り
替え反応温度280℃1反応圧力50kg/cd、流速
100m1/minで反応を行った。反応開始1時間後
のCO転化率は5%であり、生成物の選択率(炭素効率
)はCH,48,3%、C2H,2,5%、C2H,2
9,3%、C,H,0,7%、 C,H。
)中400℃で1h還元処理を行った。H2気流中で放
冷した後、室温に七合成ガス(H,/C0=1)に切り
替え反応温度280℃1反応圧力50kg/cd、流速
100m1/minで反応を行った。反応開始1時間後
のCO転化率は5%であり、生成物の選択率(炭素効率
)はCH,48,3%、C2H,2,5%、C2H,2
9,3%、C,H,0,7%、 C,H。
2、7%、CH,OH7,0%、C2H5OH0゜0%
、 C2Hs OC2Hs微量、C2含酸素化合物5.
2%、Co23.3%、その他 1.0%であった。
、 C2Hs OC2Hs微量、C2含酸素化合物5.
2%、Co23.3%、その他 1.0%であった。
実施例2
固定床加圧流通式反応装置の反応管(内径8IIfi、
長さ150nm)の上段にエラノル合成用触媒としてR
h (1) Ti (1) −Fe (0,3) −
I r(0,5)/5in2Cカッコ内は原子比、Rh
4.7wt%)を0.5g、下段に脱水用触媒としてH
−シリカライトを1.5gを仕込んだ。合成ガス反応に
先立ってH2気流(300ml/m1n)中400’C
で1h還元処理を行った。H2気流中で放冷した後、室
温にて合成ガス(H,/C0=1)に切り替え反応温度
260℃1反応圧力50kg1a!、流速100 m
l / m i nで反応を行った。
長さ150nm)の上段にエラノル合成用触媒としてR
h (1) Ti (1) −Fe (0,3) −
I r(0,5)/5in2Cカッコ内は原子比、Rh
4.7wt%)を0.5g、下段に脱水用触媒としてH
−シリカライトを1.5gを仕込んだ。合成ガス反応に
先立ってH2気流(300ml/m1n)中400’C
で1h還元処理を行った。H2気流中で放冷した後、室
温にて合成ガス(H,/C0=1)に切り替え反応温度
260℃1反応圧力50kg1a!、流速100 m
l / m i nで反応を行った。
反応開始1時間後のco転化率は6.2%であり、生成
物の選択率(炭素効率)はCH,32,7%。
物の選択率(炭素効率)はCH,32,7%。
C2HG 3.6%、C2H,44,7%、 C,H。
1.2%、C,H,2,4%、CH,OH5,9%、C
2Hs○HO,0%、C2H,0C2H,1゜5%、C
2含酸素化合物5.8%、Co□ 3.1%、その他○
。6%であった。
2Hs○HO,0%、C2H,0C2H,1゜5%、C
2含酸素化合物5.8%、Co□ 3.1%、その他○
。6%であった。
実施例3
固定床加圧流通式反応装置の反応管(内径8I、長さ1
50111!りの上段にエラノル合成用触媒としてRh
(1) −Ti (1) −Fe (0,3) −I
r(0,5)/S io、(’カッ:I内は原子比、
Rh+。
50111!りの上段にエラノル合成用触媒としてRh
(1) −Ti (1) −Fe (0,3) −I
r(0,5)/S io、(’カッ:I内は原子比、
Rh+。
7wt%)を0.5g、下段に脱水用触媒としてゼオロ
ン500Hを1.5gを仕込んだ0合成ガス反応に先立
ってH2気流(300m l / m i n )中4
00℃で1h還元処理を行った。H2気流中で放冷した
後、室温にて合成ガス(H2/ G O=1)に切り替
え反応温度260’C,反応圧力50kg/a+T、流
速100 m l / m i nで反応を行った。
ン500Hを1.5gを仕込んだ0合成ガス反応に先立
ってH2気流(300m l / m i n )中4
00℃で1h還元処理を行った。H2気流中で放冷した
後、室温にて合成ガス(H2/ G O=1)に切り替
え反応温度260’C,反応圧力50kg/a+T、流
速100 m l / m i nで反応を行った。
反応開始1時間後のco転化率は6.1%であり、生成
物の選択率(炭素効率)はCH,34,2%、C2H,
11,9%、C,H,41,9%、CffH。
物の選択率(炭素効率)はCH,34,2%、C2H,
11,9%、C,H,41,9%、CffH。
1.6%、 C,HG微量、CH,OH微量、C,H、
OHO,0%、Cx Hs OC−Hs微量、C2含酸
素化合物微量、Co、10.9%、ソノ他0゜3%であ
った。
OHO,0%、Cx Hs OC−Hs微量、C2含酸
素化合物微量、Co、10.9%、ソノ他0゜3%であ
った。
実施例4
固定床加圧流通式反応装置の反応管(内径8on。
長さ150011)の上段にエラノル合成用触媒として
Rh (1)−Ti (1) −Fa (0,3)
I r(0,5)/Sin、Cカッコ内はgチル、Rh
+、7wt%)を0.5g、下段に脱水用触媒としてゼ
オロン200Hを1.5gを仕込んだ。合成ガス反応に
先立ってH2気流(300ml/m1n)中400℃で
1h還元処理を行った。H2気流中で放冷した後、室温
にて合成ガス(H,/C0=1)に切り替え反応温度2
60’C1反応圧カ5゜kg/d、流速100m1/m
inで反応を行った。
Rh (1)−Ti (1) −Fa (0,3)
I r(0,5)/Sin、Cカッコ内はgチル、Rh
+、7wt%)を0.5g、下段に脱水用触媒としてゼ
オロン200Hを1.5gを仕込んだ。合成ガス反応に
先立ってH2気流(300ml/m1n)中400℃で
1h還元処理を行った。H2気流中で放冷した後、室温
にて合成ガス(H,/C0=1)に切り替え反応温度2
60’C1反応圧カ5゜kg/d、流速100m1/m
inで反応を行った。
反応開始1時間後のco転化率は6.2%であり、生成
物の選択率(炭素効率)はCH,44,8%、C,H,
5,2%、c2H423,9%、C,H。
物の選択率(炭素効率)はCH,44,8%、C,H,
5,2%、c2H423,9%、C,H。
8.7%、C,H,微量、CH,08002%、C,H
,OHO,0%、C,H5QC2H,微量、C2含酸素
化合物微量、Co、10.9%、その他0.3%であっ
た。
,OHO,0%、C,H5QC2H,微量、C2含酸素
化合物微量、Co、10.9%、その他0.3%であっ
た。
比較例1
固定床加圧流通式反応装の反応管(内径8I、長さ15
0++yn)の上段にエタノール合成用触媒としてRh
(1)−Fe (0,3)/Sin、(カッコ内は原
子比、Rh4.7wt%)を0.5g、仕込んだ。合成
ガス反応に先立ってH2気流(300m l / m
i n )中400℃で1h還元処理を行った。H2気
流中で放冷した後、室温にて合成ガス(H2/C○=1
)に切り替え反応温度280℃、反応圧力50kg/c
d、流速100m1/minで反応を行った。反応開始
1時間後のCO転化率は5.0%であり、生成物の選択
率(炭素効率)はCH,35,6%、C,H,1,4%
、C,H40゜1%、C3Hs 、 O−2%、C:、
H,微量、CH,OH19,8%、C,H,OH32,
6%、C,H。
0++yn)の上段にエタノール合成用触媒としてRh
(1)−Fe (0,3)/Sin、(カッコ内は原
子比、Rh4.7wt%)を0.5g、仕込んだ。合成
ガス反応に先立ってH2気流(300m l / m
i n )中400℃で1h還元処理を行った。H2気
流中で放冷した後、室温にて合成ガス(H2/C○=1
)に切り替え反応温度280℃、反応圧力50kg/c
d、流速100m1/minで反応を行った。反応開始
1時間後のCO転化率は5.0%であり、生成物の選択
率(炭素効率)はCH,35,6%、C,H,1,4%
、C,H40゜1%、C3Hs 、 O−2%、C:、
H,微量、CH,OH19,8%、C,H,OH32,
6%、C,H。
○C2H,微量、C2含酸素化合物39.5%、Co2
2.3%、その他1.1%であった。
2.3%、その他1.1%であった。
比較例2
固定床加圧流通式反応装の反応管(内径8m、長さ15
0m)の上段にエタノール合成用触媒としてRh (1
) Ti (1)−Fe (0,3)Ir(0,5
) / 5xOz (h ッ:I内は原子比、Rh4゜
7wt%)を0.5g、仕込んだ。合成ガス反応に先立
ってH2気流(300ml/m1n)中400℃で1h
還元処理を行った。H2気流中で放冷した後、室温にて
合成ガス(H2/C0=1)に切り替え反応温度260
℃、反応圧力50kg/d、流速100 m l /
m i nで反応を行った。反応開始1時間後のCO転
化率は6.3%であり。
0m)の上段にエタノール合成用触媒としてRh (1
) Ti (1)−Fe (0,3)Ir(0,5
) / 5xOz (h ッ:I内は原子比、Rh4゜
7wt%)を0.5g、仕込んだ。合成ガス反応に先立
ってH2気流(300ml/m1n)中400℃で1h
還元処理を行った。H2気流中で放冷した後、室温にて
合成ガス(H2/C0=1)に切り替え反応温度260
℃、反応圧力50kg/d、流速100 m l /
m i nで反応を行った。反応開始1時間後のCO転
化率は6.3%であり。
生成物の選択率(炭素効X$)はCH,’21.5%、
C,H61,3%、C,H40,1%、C,H,0゜5
%、C1H,0,4%、CH30H3,7%、C2H,
OH50,7%、C2H,○c2H9微量、C2含酸素
化合物65.0%、Co24.2%、その他3.3%で
あった。
C,H61,3%、C,H40,1%、C,H,0゜5
%、C1H,0,4%、CH30H3,7%、C2H,
OH50,7%、C2H,○c2H9微量、C2含酸素
化合物65.0%、Co24.2%、その他3.3%で
あった。
比較例3
固定床加圧流通式反応装の反応管(内径8rrn、長さ
150011)の上段にエタノール合成用触媒としてR
h (1)−Ti (1)−Fe (0,3)Ir(0
,5)/Sin、(カッコ内は原子比、Rh4゜7wt
%)を0.5g、下段に脱水用触媒としてγ−A1.O
,を1.5gを仕込んだ1合成ガス反応に先立ってH2
気流(300ml/m1n)中400℃で1h還元処理
を行った。H2気流中で放冷した後、室温にて合成ガス
(H,/C0=1)に切り替え反応温度260℃1反応
圧力50kg/d、流速100m1/minで反応を行
った6反C,H,OH17,7%、C,H,OC,Hs
22゜4%、02含酸素化合物41.1%、Go、5゜
8%、その他4.4%であった。
150011)の上段にエタノール合成用触媒としてR
h (1)−Ti (1)−Fe (0,3)Ir(0
,5)/Sin、(カッコ内は原子比、Rh4゜7wt
%)を0.5g、下段に脱水用触媒としてγ−A1.O
,を1.5gを仕込んだ1合成ガス反応に先立ってH2
気流(300ml/m1n)中400℃で1h還元処理
を行った。H2気流中で放冷した後、室温にて合成ガス
(H,/C0=1)に切り替え反応温度260℃1反応
圧力50kg/d、流速100m1/minで反応を行
った6反C,H,OH17,7%、C,H,OC,Hs
22゜4%、02含酸素化合物41.1%、Go、5゜
8%、その他4.4%であった。
比較例4
固定床加圧流通式反応装の反応管(内径8■。
長さ150閣)の上段にエタノール合成用触媒としてR
h (1)−Ti (1)−Fe (0,3)Ir(0
,5)/5xOz (カッ=を内は原子比、Rh4゜7
wt%)を0.5g、下段に脱水用触媒としてH−ZS
M−5を1.5gを仕込んだ1合成ガス反応に先立って
H2気流(300ml/m1n)中400℃で1h還元
処理を行った。H2気流中で放冷した後、室温にて合成
ガス(H,/GO=1)に切り替え反応温度260℃1
反応圧力50kg/cd、流速100m1/minで反
応を行った。
h (1)−Ti (1)−Fe (0,3)Ir(0
,5)/5xOz (カッ=を内は原子比、Rh4゜7
wt%)を0.5g、下段に脱水用触媒としてH−ZS
M−5を1.5gを仕込んだ1合成ガス反応に先立って
H2気流(300ml/m1n)中400℃で1h還元
処理を行った。H2気流中で放冷した後、室温にて合成
ガス(H,/GO=1)に切り替え反応温度260℃1
反応圧力50kg/cd、流速100m1/minで反
応を行った。
反応開始1時間後のGo転化率は6.1%であり、生成
物の選択率(炭素効率)はCH,23,3%、C,H,
1,4%、C,H40,5%、 C,H,0゜3%、C
,H,0,7%、CH,OH12,2%、C,H,OH
42,8%、C,HsOC,H,微量。
物の選択率(炭素効率)はCH,23,3%、C,H,
1,4%、C,H40,5%、 C,H,0゜3%、C
,H,0,7%、CH,OH12,2%、C,H,OH
42,8%、C,HsOC,H,微量。
C2含酸素化合物55.6%、Go、3.5%、その他
2.6%であった。
2.6%であった。
比較例5
固定床加圧流通式反応装の反応管(内径8I、長さ15
0m)の上段にエタノール合成用触媒としてRh (1
) −Ti (1)−Fa (0,3)Ir(0,5)
/Sin、(カッコ内は原子比、Rh4゜7wt%)を
0.5g、下段に脱水用触媒としてH−ZSM−5を1
.5gを仕込んだ0合成ガス反応に先立ってH2気流(
300ml/m1n)中400℃で1h還元処理を行っ
た。H3気流中で放冷した後、室温にて合成ガス(H,
/C0=1)に切り替え反応温度260℃1反応圧力5
0kg/d、流速100 m l / m i nで反
応を行った。
0m)の上段にエタノール合成用触媒としてRh (1
) −Ti (1)−Fa (0,3)Ir(0,5)
/Sin、(カッコ内は原子比、Rh4゜7wt%)を
0.5g、下段に脱水用触媒としてH−ZSM−5を1
.5gを仕込んだ0合成ガス反応に先立ってH2気流(
300ml/m1n)中400℃で1h還元処理を行っ
た。H3気流中で放冷した後、室温にて合成ガス(H,
/C0=1)に切り替え反応温度260℃1反応圧力5
0kg/d、流速100 m l / m i nで反
応を行った。
反応開始0.5時間後のCO転化率は6.2%であり、
生成物の選択率(炭素効率)はCH,66゜0%、02
H,4,6%、C,H,1,8%、03H,1,1%、
C,H,2,2%、CH,OH6゜5%、C2H,○H
1,4%、 C,H,OC,H,微量、C2含酸素化合
物5.1%、Co、11.5%、その他 1.2%であ
った。
生成物の選択率(炭素効率)はCH,66゜0%、02
H,4,6%、C,H,1,8%、03H,1,1%、
C,H,2,2%、CH,OH6゜5%、C2H,○H
1,4%、 C,H,OC,H,微量、C2含酸素化合
物5.1%、Co、11.5%、その他 1.2%であ
った。
比較例6
Claims (1)
- 合成ガスからエタノールを合成する触媒とアルコール脱
水用触媒を組み合わせた触媒により、合成ガスから一段
でエチレンを選択的に得る方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61102471A JPS62258328A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | 合成ガスからのエチレンの選択的合成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61102471A JPS62258328A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | 合成ガスからのエチレンの選択的合成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62258328A true JPS62258328A (ja) | 1987-11-10 |
JPH0468292B2 JPH0468292B2 (ja) | 1992-11-02 |
Family
ID=14328363
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61102471A Granted JPS62258328A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | 合成ガスからのエチレンの選択的合成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62258328A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6333342A (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-13 | Agency Of Ind Science & Technol | 合成ガスからのエチレンの製造法 |
JPH01164445A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-28 | Jgc Corp | 触媒の再生方法 |
JP2006116439A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | エチレン製造用触媒およびこの触媒を用いるエチレンの製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4734671B2 (ja) * | 2006-10-30 | 2011-07-27 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | エチレン製造用触媒 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5692825A (en) * | 1979-12-18 | 1981-07-27 | Haldor Topsoe As | Method and catalyst for manufacturing gas mixture containing high quantity of c22hydrocarbons |
JPS57159723A (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-01 | Idemitsu Kosan Co Ltd | Selective preparation of lower unsaturated hydrocarbons |
JPS60246329A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 炭化水素の合成方法 |
JPS6183134A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-26 | Agency Of Ind Science & Technol | 不飽和炭化水素の製造法 |
-
1986
- 1986-05-02 JP JP61102471A patent/JPS62258328A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5692825A (en) * | 1979-12-18 | 1981-07-27 | Haldor Topsoe As | Method and catalyst for manufacturing gas mixture containing high quantity of c22hydrocarbons |
JPS57159723A (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-01 | Idemitsu Kosan Co Ltd | Selective preparation of lower unsaturated hydrocarbons |
JPS60246329A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 炭化水素の合成方法 |
JPS6183134A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-26 | Agency Of Ind Science & Technol | 不飽和炭化水素の製造法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6333342A (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-13 | Agency Of Ind Science & Technol | 合成ガスからのエチレンの製造法 |
JPH01164445A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-28 | Jgc Corp | 触媒の再生方法 |
JP2006116439A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | エチレン製造用触媒およびこの触媒を用いるエチレンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0468292B2 (ja) | 1992-11-02 |
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---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |