JPS62256739A - ガラス - Google Patents
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- JPS62256739A JPS62256739A JP9734586A JP9734586A JPS62256739A JP S62256739 A JPS62256739 A JP S62256739A JP 9734586 A JP9734586 A JP 9734586A JP 9734586 A JP9734586 A JP 9734586A JP S62256739 A JPS62256739 A JP S62256739A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はｒｃフォトマスク基板であるガラス基板の純度
に関する。
に関する。
従来のｔＣフォトマスクガラス基板は、無アルカリガラ
スや石英ガラスであった。ところで、半導体産業は最近
では高密度化が進み４Ｍ−ＤＲＡＭも試作されるように
なった。このように高密度化が進むと、フォトリソに使
用する光源としては紫外光のような短波長の光が必要に
なる。無アルカリガラスは紫外光の透過率が低いため使
用できず、今では、紫外光の透過率の高い石英ガラスが
主流を占めるようになっている。一般に、上のような理
由から、石英ガラスのｒｃフォトマスク基板の紫外光の
透過率は、２００ｎｒｎの光で９０％以上（厚み２．６
．）の透過率が求められている。
スや石英ガラスであった。ところで、半導体産業は最近
では高密度化が進み４Ｍ−ＤＲＡＭも試作されるように
なった。このように高密度化が進むと、フォトリソに使
用する光源としては紫外光のような短波長の光が必要に
なる。無アルカリガラスは紫外光の透過率が低いため使
用できず、今では、紫外光の透過率の高い石英ガラスが
主流を占めるようになっている。一般に、上のような理
由から、石英ガラスのｒｃフォトマスク基板の紫外光の
透過率は、２００ｎｒｎの光で９０％以上（厚み２．６
．）の透過率が求められている。
しかし、前述の石英ガラスは何々の不純物を含んでいる
ために、天然石英ガラスでは、２０１］ｎｍ系外光の透
過率はほぼ８０チ程度で、９０％を超えるものは製造困
難なために、裏通コストが高くつきはとんと使用されて
いない。また、合成石英ガラスは＾純度であるため、２
００ｎｍの透過率はほとんど９０％を超えている。しか
し、非常に高純）ｙにしているため、原料の精製や製造
工程を高度にコントロールしないといけない。そのため
に製造コヌトが高く、合成石英ガラスは天然石英ガラス
よ＃）高コストであるという問題点を有する。
ために、天然石英ガラスでは、２０１］ｎｍ系外光の透
過率はほぼ８０チ程度で、９０％を超えるものは製造困
難なために、裏通コストが高くつきはとんと使用されて
いない。また、合成石英ガラスは＾純度であるため、２
００ｎｍの透過率はほとんど９０％を超えている。しか
し、非常に高純）ｙにしているため、原料の精製や製造
工程を高度にコントロールしないといけない。そのため
に製造コヌトが高く、合成石英ガラスは天然石英ガラス
よ＃）高コストであるという問題点を有する。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、安価で、紫外光の透過率が筒い
（２００ｎｍの光の透過率が９０チを超えるような）ガ
ラスを提供するところにある。
の目的とするところは、安価で、紫外光の透過率が筒い
（２００ｎｍの光の透過率が９０チを超えるような）ガ
ラスを提供するところにある。
本発明のガラスは、ガラス中の不純物であるチタン、あ
るいはチタン化合物の量が（ＬＯ５ｐ ｐｒｏ以下であ
ることを％徴とする。
るいはチタン化合物の量が（ＬＯ５ｐ ｐｒｏ以下であ
ることを％徴とする。
また、上記のガラスは石英ガラスであると、さらに、紫
外光の透過率が高くなるので、石英ガラスであることが
望ましく、さらに、一般の製造法によればチタン不ｆ’
Ｊ［物社をコントロールしにくいので、コントロールの
しやすい、金属アルコキシドや微粉末シリカを原料とす
るゾル−ゲル法による石英ガラスであることが望ましい
。
外光の透過率が高くなるので、石英ガラスであることが
望ましく、さらに、一般の製造法によればチタン不ｆ’
Ｊ［物社をコントロールしにくいので、コントロールの
しやすい、金属アルコキシドや微粉末シリカを原料とす
るゾル−ゲル法による石英ガラスであることが望ましい
。
紫外光、待に２００ｎｍ程度の波長の吸収については、
ガラスの主成分であるＳＩＯ，ではほとんど吸収はない
と考えられ、主に吸収に起因するのはＴＩ化合′吻の不
純物である。その他の不純物では、少しの吸収は有るか
もしれないが、ｐｐｍオーダーの存在量では透過率ケ大
きく下げるようなことはない。従って、不純物中のＴ１
元素のみ注意して除くことができれば、他の不Ｎ物がｐ
ｐｍオーダーで存在しても２００ｎｍＱ元透ａ’４ｆ９
０％以上にすることはできる。つまり、ガラスの製造の
絵に、原料の精製は、従来のように極端に高利度にする
必璧はなく、ＴＩのみに′ｃＥ意して梢表すれば良いの
で、精製の工程が従来よシ簡略化できるので、製造コス
トを下げることができる。
ガラスの主成分であるＳＩＯ，ではほとんど吸収はない
と考えられ、主に吸収に起因するのはＴＩ化合′吻の不
純物である。その他の不純物では、少しの吸収は有るか
もしれないが、ｐｐｍオーダーの存在量では透過率ケ大
きく下げるようなことはない。従って、不純物中のＴ１
元素のみ注意して除くことができれば、他の不Ｎ物がｐ
ｐｍオーダーで存在しても２００ｎｍＱ元透ａ’４ｆ９
０％以上にすることはできる。つまり、ガラスの製造の
絵に、原料の精製は、従来のように極端に高利度にする
必璧はなく、ＴＩのみに′ｃＥ意して梢表すれば良いの
で、精製の工程が従来よシ簡略化できるので、製造コス
トを下げることができる。
ところで、２００ ｎ ｍ （厚み′２．６Ｗ！ＩＡ）
で９０チ以上の透過率￥達成するのに必要なＴ１の不純
物置は、我々の実験によるとほぼ１１０５ｐｐ以下であ
れば良いことが分かつ九。
で９０チ以上の透過率￥達成するのに必要なＴ１の不純
物置は、我々の実験によるとほぼ１１０５ｐｐ以下であ
れば良いことが分かつ九。
つまシ、ガラス原料のｎ製に２いては、Ｔｉ不純物を１
１０５ｐｐ以下にすれば良い。
１０５ｐｐ以下にすれば良い。
実施例１゜
合成石英ガラス原料である市販の５ｌｃｔ、の純度分析
をすると、Ｎ＆：αｌｐｐｍ、Ｔｉα０１ｐｐｍ。
をすると、Ｎ＆：αｌｐｐｍ、Ｔｉα０１ｐｐｍ。
Ａｔ：５ｐｐｍであった。ＴＩ線純度良かったので、酸
水素バーナーな用い火炎加水分解を行って石英ガラスと
した。
水素バーナーな用い火炎加水分解を行って石英ガラスと
した。
この石英ガラスを厚み２．５１に研磨し２００ｎｍの光
透過率を測定すると９１５％であった。これはｒｃフォ
トマスク基板に十分使用できるものであることが分かっ
た。
透過率を測定すると９１５％であった。これはｒｃフォ
トマスク基板に十分使用できるものであることが分かっ
た。
比較例１゜
従来の合成石英ガラスの製造方法では、実施例１で用い
た５ｔｃｚ４は、Ａｔ純度が５ｐｐｍ と悪いために
、蒸留により精製してから石英ガラスを合成していた。
た５ｔｃｚ４は、Ａｔ純度が５ｐｐｍ と悪いために
、蒸留により精製してから石英ガラスを合成していた。
従って、この蒸留の８Ｍ工程が、実施例１に比較して多
いため、高コストである。
いため、高コストである。
つまり、本発明の実施例１ｆｆ用いれば、低コストでＩ
Ｃフオトマヌク基板とすることができる。
Ｃフオトマヌク基板とすることができる。
実施例２
市販のケイ酸エチルＱｘｃｐにより純度分析を行うと、
ＴＩ：Ｑ、０２ｐｐｎｔ、Ａｔ：α１ｐｐｒｎであった
。
ＴＩ：Ｑ、０２ｐｐｎｔ、Ａｔ：α１ｐｐｒｎであった
。
精製しないで以下の工程な行った。
禾１４ｍの市販のケイ酸エチル４．４ｔにエタノール＆
７６、水１．５ｔ、アンモニア水α１ｔを加え攪拌し、
−伎装置した後、エバポレーターで潰縮し２．５ｔにし
た。（Ａゾル） 一方、未精製のケイ酸エチル１．９ｔに０．０２規定の
塩酸ａ、６ｔをカロえ加水分解した。（バブル）上記Ａ
ゾルとバブルを混合し攪拌してからアンモニア水ｆ＆−
滴下しＰＨを４．５にした。このゾル１．２ｔをボリグ
ロピレン容器に加え、ゲル化し、６０Ｃで１０日間°乾
燥しドライゲルとした。ドライゲルを適当な条件で焼箱
し石英ガラスとした後、１７８０℃で１０分間畠湛処理
し念。得られた石英ガラスを５インチロスα０９インチ
厚の大きさに研磨し、２００ｎｍの光透過率を測定する
と９０％であった。これはＩＣ用フォトマスク基板とし
て十分使用できるものであった。
７６、水１．５ｔ、アンモニア水α１ｔを加え攪拌し、
−伎装置した後、エバポレーターで潰縮し２．５ｔにし
た。（Ａゾル） 一方、未精製のケイ酸エチル１．９ｔに０．０２規定の
塩酸ａ、６ｔをカロえ加水分解した。（バブル）上記Ａ
ゾルとバブルを混合し攪拌してからアンモニア水ｆ＆−
滴下しＰＨを４．５にした。このゾル１．２ｔをボリグ
ロピレン容器に加え、ゲル化し、６０Ｃで１０日間°乾
燥しドライゲルとした。ドライゲルを適当な条件で焼箱
し石英ガラスとした後、１７８０℃で１０分間畠湛処理
し念。得られた石英ガラスを５インチロスα０９インチ
厚の大きさに研磨し、２００ｎｍの光透過率を測定する
と９０％であった。これはＩＣ用フォトマスク基板とし
て十分使用できるものであった。
また、ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅ
ｄ Ｐｌａａｒｏａ） によシ得られた石英ガラスの
純度分析を行うと、Ｔｌ：［ＬＯ２ｐｐｒｎ、Ａｔ：０
．＋ｐｐｍで原料と同一であった１゜ 比較例Ｚ 実施例２と同様の操作を、純度がＴｌ：αＩＰ＋””Ｉ
ＡｔＣＬＯ１ｐ ｐｍのケイ酸エチルヶ用いて行った。
ｄ Ｐｌａａｒｏａ） によシ得られた石英ガラスの
純度分析を行うと、Ｔｌ：［ＬＯ２ｐｐｒｎ、Ａｔ：０
．＋ｐｐｍで原料と同一であった１゜ 比較例Ｚ 実施例２と同様の操作を、純度がＴｌ：αＩＰ＋””Ｉ
ＡｔＣＬＯ１ｐ ｐｍのケイ酸エチルヶ用いて行った。
得られた石英ガラスの純度は原料と同一でＴＩ：ｌｌｐ
ｐｍであった。このものの２００ｎｍの光透過率（厚さ
２．３ ｍ ）は、７５チであシ、ｒｃ用フォトマスク
には使えないものであった。
ｐｍであった。このものの２００ｎｍの光透過率（厚さ
２．３ ｍ ）は、７５チであシ、ｒｃ用フォトマスク
には使えないものであった。
以上述べたように、本発明によれば、ＴＩ不純物を０．
Ｏ５ｐｐｍ以下にすることによシ、２００ｎｍの光透過
率を９０％以−ヒ（厚み２．３．）にすることができる
もので、従来よシ原料の精製が容易でい一コストにでき
るという効果を有するものである。
Ｏ５ｐｐｍ以下にすることによシ、２００ｎｍの光透過
率を９０％以−ヒ（厚み２．３．）にすることができる
もので、従来よシ原料の精製が容易でい一コストにでき
るという効果を有するものである。
ツマ、ｂ、ｒｃ用フォトマスク基板を安価にすることが
できる。
できる。
Claims (3)
- （１）ガラス中の不純物であるチタン、あるいはチタン
化合物の量が０．０５ｐｐｍ以下であることを特徴とす
るガラス。 - （２）上記ガラスが石英ガラスであることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のガラス。 - （３）上記石英ガラスが、少なくともシリコンアルコキ
シドや微粉末シリカを原料とするゾル−ゲル法により得
られる石英ガラスであることを特徴とする特許請求の範
囲第２項記載のガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9734586A JPS62256739A (ja) | 1986-04-26 | 1986-04-26 | ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9734586A JPS62256739A (ja) | 1986-04-26 | 1986-04-26 | ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62256739A true JPS62256739A (ja) | 1987-11-09 |
Family
ID=14189889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9734586A Pending JPS62256739A (ja) | 1986-04-26 | 1986-04-26 | ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62256739A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015193521A (ja) * | 2014-03-19 | 2015-11-05 | 日本電気硝子株式会社 | 紫外線透過ガラス及びその製造方法 |
| JPWO2016194780A1 (ja) * | 2015-05-29 | 2018-03-15 | 旭硝子株式会社 | 紫外線透過ガラス |
| JPWO2017057375A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2018-07-19 | 旭硝子株式会社 | 紫外線透過ガラス |
| JP2019147722A (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-05 | 日本電気硝子株式会社 | 紫外線透過ガラス及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-04-26 JP JP9734586A patent/JPS62256739A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015193521A (ja) * | 2014-03-19 | 2015-11-05 | 日本電気硝子株式会社 | 紫外線透過ガラス及びその製造方法 |
| JPWO2016194780A1 (ja) * | 2015-05-29 | 2018-03-15 | 旭硝子株式会社 | 紫外線透過ガラス |
| JPWO2017057375A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2018-07-19 | 旭硝子株式会社 | 紫外線透過ガラス |
| JP2019147722A (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-05 | 日本電気硝子株式会社 | 紫外線透過ガラス及びその製造方法 |
| WO2019167399A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | 日本電気硝子株式会社 | 紫外線透過ガラス及びその製造方法 |
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