JPS62249970A - ピリドン−3−カルボキサミド化合物の製造方法 - Google Patents
ピリドン−3−カルボキサミド化合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、1.4−ジヒドロ−4−オキソ−3−ピリ
ジンカルボキサミド類の製造方法に関するもであり、こ
の発明によって得られる化合物は、医薬、農薬あるいは
それらの中間体として有用である。
ジンカルボキサミド類の製造方法に関するもであり、こ
の発明によって得られる化合物は、医薬、農薬あるいは
それらの中間体として有用である。
(従来技術)
従来、1.4−ジヒドロ−4−オキソ−3−ピリジンカ
ルボキサミド類のうち、1,4−ジヒドロ−2,6−ジ
メチル−4−オキソ−3−ピリジンカルボキサミド誘導
体に属する化合物は、適当な3−アミノクロトンアミド
誘導体にジケテンを無溶媒下に作用さでることによって
生成プることか知られでいた。gなわち、加齢ら(帖学
昶誌、1o1゜4(L−47(1981) )の報告に
よると、3種類の3−1\ンジルアアミクロトン77ニ
リド化合物(式(T)において、R1−フェニル基、4
−メトキシフにル基または4−クロロフェニル基:R’
=7〕ニル基;R3=メヂル基そしてn=iの場合に対
応する)に溶媒を使用せず、coないし90℃の加熱下
にジケテンを作用させて得られた反応混合物から、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーによって単離し得る、
1.4−ジヒドロ−2,6−シメチルー4−オキソ−N
−フェニル−1−フェニルメチル−3−ピリジンカルボ
キサミドおよびその誘導体(式(III)において、R
1=フェニル基、4−メトキシフェニル基まlcは4−
クロロフェニル基;R2−フェニル基:R′=メヂル基
そしてn=iの場合に各々対応する)が2ないし9%の
収率で得られる。この方法は、工業的に容易に入手し得
るジケテンを用い、単に加熱下に反応させる操作上の単
純さを持つものであるが、報告されたどの場合も低収率
であり、工業的に応用しうる製造り法とは考えられない
。加藤等の方法による反応の主生成物はむしろ4−ヒド
ロ1シー 6−メチル−1−フェニル−3−(1−(〕
1ニルメチルイミノ)エチル〕−2(月」)−ビリジノ
ンないしぞの誘導体である。
ルボキサミド類のうち、1,4−ジヒドロ−2,6−ジ
メチル−4−オキソ−3−ピリジンカルボキサミド誘導
体に属する化合物は、適当な3−アミノクロトンアミド
誘導体にジケテンを無溶媒下に作用さでることによって
生成プることか知られでいた。gなわち、加齢ら(帖学
昶誌、1o1゜4(L−47(1981) )の報告に
よると、3種類の3−1\ンジルアアミクロトン77ニ
リド化合物(式(T)において、R1−フェニル基、4
−メトキシフにル基または4−クロロフェニル基:R’
=7〕ニル基;R3=メヂル基そしてn=iの場合に対
応する)に溶媒を使用せず、coないし90℃の加熱下
にジケテンを作用させて得られた反応混合物から、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーによって単離し得る、
1.4−ジヒドロ−2,6−シメチルー4−オキソ−N
−フェニル−1−フェニルメチル−3−ピリジンカルボ
キサミドおよびその誘導体(式(III)において、R
1=フェニル基、4−メトキシフェニル基まlcは4−
クロロフェニル基;R2−フェニル基:R′=メヂル基
そしてn=iの場合に各々対応する)が2ないし9%の
収率で得られる。この方法は、工業的に容易に入手し得
るジケテンを用い、単に加熱下に反応させる操作上の単
純さを持つものであるが、報告されたどの場合も低収率
であり、工業的に応用しうる製造り法とは考えられない
。加藤等の方法による反応の主生成物はむしろ4−ヒド
ロ1シー 6−メチル−1−フェニル−3−(1−(〕
1ニルメチルイミノ)エチル〕−2(月」)−ビリジノ
ンないしぞの誘導体である。
またカナタ国特清第1,115,278号によるとN−
(4−クロロフェニル)−3−(エチルアミノ)−2−
ブテンアミド(式(T)においてR1−4−クロロフェ
ニル基、(CH2)n R2=エチル基およびR3−
メチル基の場合に対応する)のトルエン溶液に、トリエ
チルアミンおよびジケテン(50%アセトン溶液)を加
え4時間還流下に加熱し、冷却後反応混合物に10%塩
酸を加えると油状物が分離する。この油状物からまず1
−エチル−1,4−ジヒドロ−2,6−シメチルー 4
−オキソ−N−(4−クロロフェニル)−3−ピリジン
カルボキサミドの塩酸塩が得られ、さらに遊離のカルボ
キサミドが得られる(前出特許実施例14参照)。
(4−クロロフェニル)−3−(エチルアミノ)−2−
ブテンアミド(式(T)においてR1−4−クロロフェ
ニル基、(CH2)n R2=エチル基およびR3−
メチル基の場合に対応する)のトルエン溶液に、トリエ
チルアミンおよびジケテン(50%アセトン溶液)を加
え4時間還流下に加熱し、冷却後反応混合物に10%塩
酸を加えると油状物が分離する。この油状物からまず1
−エチル−1,4−ジヒドロ−2,6−シメチルー 4
−オキソ−N−(4−クロロフェニル)−3−ピリジン
カルボキサミドの塩酸塩が得られ、さらに遊離のカルボ
キサミドが得られる(前出特許実施例14参照)。
この方法は、反応に溶媒を用いること、トリエチルアミ
ンの共存下にジケテンを反応させること、反応生成物を
塩酸塩として不溶化することなどにおいて、前記した加
藤等の方法と異なるものであるが、生成物の収率は記載
されておらり゛、製造方法としての有用性は不明である
。
ンの共存下にジケテンを反応させること、反応生成物を
塩酸塩として不溶化することなどにおいて、前記した加
藤等の方法と異なるものであるが、生成物の収率は記載
されておらり゛、製造方法としての有用性は不明である
。
7 ankowska −J asinskaらは(B
ul 1.A cad。
ul 1.A cad。
pot、 3ci、、 Ser、3ci、 Chim
、 1975.23(111901参照)ベンゾイル
アセトアニリド誘導体とアニリン誘導体とによるエナミ
ンの塩酸やホスゲンによる自己繰合反応により、1.4
−ジヒドロ−4−オキソ−3−ごリジン力ルポキザミド
誘導体を合成しているが、この方法によると、2位およ
び6位が同一のものしか合成することはできない。
、 1975.23(111901参照)ベンゾイル
アセトアニリド誘導体とアニリン誘導体とによるエナミ
ンの塩酸やホスゲンによる自己繰合反応により、1.4
−ジヒドロ−4−オキソ−3−ごリジン力ルポキザミド
誘導体を合成しているが、この方法によると、2位およ
び6位が同一のものしか合成することはできない。
また彼らは(Z esz、N auk、U niw、J
agellonian、。
agellonian、。
Pr 、 Chem、1976、21. 141参照)
ベンゾイルアセトアニリド誘導体、アセトアセトアニリ
ド誘導体およびそれらのS h1ffm基のコハク酸ク
ロリドを触媒とした自己縮合反応により種々の1,4−
ジヒドロ−4−オキソ−3−ピリジンカルボキサミド誘
導体を合成している。この方法においても、2位および
6位が同一のものしか合成することができない。
ベンゾイルアセトアニリド誘導体、アセトアセトアニリ
ド誘導体およびそれらのS h1ffm基のコハク酸ク
ロリドを触媒とした自己縮合反応により種々の1,4−
ジヒドロ−4−オキソ−3−ピリジンカルボキサミド誘
導体を合成している。この方法においても、2位および
6位が同一のものしか合成することができない。
(発明の目的)
以上に述べた先行技術から明らかなように、1゜4−ジ
ヒドロ−4−Jキソ−3−ビリジンカルポキυミド類を
収率よく得る方法は従来知られていなかたった。それは
目的の生成物を選択的に与える条イ1が見いだされてい
なかった理由によるものである。本発明者等は、1.4
−ジヒドロ−4−オキソ−3−ピリジンカルボキサミド
化合物の簡便でかつ高収率な合成法をもとめ鋭意検討し
た結果、β−ケトアミドと1級アミンによるエナミン(
I)とジケテンとケトンの付加体(II)による1、4
−ジヒドロ−4−オキソ−3−ピリジンカルボキサミド
化合物を有利に製造する本発明を完成した。
ヒドロ−4−Jキソ−3−ビリジンカルポキυミド類を
収率よく得る方法は従来知られていなかたった。それは
目的の生成物を選択的に与える条イ1が見いだされてい
なかった理由によるものである。本発明者等は、1.4
−ジヒドロ−4−オキソ−3−ピリジンカルボキサミド
化合物の簡便でかつ高収率な合成法をもとめ鋭意検討し
た結果、β−ケトアミドと1級アミンによるエナミン(
I)とジケテンとケトンの付加体(II)による1、4
−ジヒドロ−4−オキソ−3−ピリジンカルボキサミド
化合物を有利に製造する本発明を完成した。
(以下余白、次頁へ続く。)
(発明の構成)
この発明は式(J):
(式中R1はアリール基、Wi累環基、シクロアルキル
基、または第2級あるいは第3級の低級アルキル基を表
わし、R′は水素原子、アリール基、複素環基、C1C
11の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級ア
ルキルチオ基または低級アルコキシ基を表わし、R3は
C2〜C11の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、ア
ラルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハ
ロゲン化低級アルキル基、低級アルコキシアルキル基を
表わす。0はコないし4の整数を表わす。)で表わされ
る化合物と、 式(■璽 O (式中R4およびR5はC1C4のアルキル基である。
基、または第2級あるいは第3級の低級アルキル基を表
わし、R′は水素原子、アリール基、複素環基、C1C
11の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級ア
ルキルチオ基または低級アルコキシ基を表わし、R3は
C2〜C11の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、ア
ラルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハ
ロゲン化低級アルキル基、低級アルコキシアルキル基を
表わす。0はコないし4の整数を表わす。)で表わされ
る化合物と、 式(■璽 O (式中R4およびR5はC1C4のアルキル基である。
)
で表わされる化合物とを不活性溶媒中で加熱反応させ、
式(■):
(式中R” 、R2、R3およびnの定義は式(I)中
のものと同一) で表わされる化合物を得ることを特徴とする1、4−ジ
ヒドロ−6−メヂルー 4−オキソ−3−ピリジンカル
ボキサミド化合物の製造法に関4る。
のものと同一) で表わされる化合物を得ることを特徴とする1、4−ジ
ヒドロ−6−メヂルー 4−オキソ−3−ピリジンカル
ボキサミド化合物の製造法に関4る。
この発明の方法に用いる原料の一〇は式(1)で表わさ
れる化合物であり、一般的には次の式(IV )で表わ
されるクトアミド化合物と、式(V)で表わされる第1
級アミン ト12 N (C1」 2 )TL R
’ (V)との
脱水縮合反応の生成物として得られる物質である。式(
I)で表わされる化合物をこの発明の目的に使用する場
合は、精製した物質を用いる必要はなく、上記脱水縮合
反応の粗反応混合物をそのまま利用できる。従って、式
(rV)および式(V)で表わされる化合物の脱水縮合
反応を、溶媒中で行なう場合は、式(I)と式(I[)
との反応で用いる不溶性溶媒と同一のものを選ぶことに
よりプロセスを簡単にすることができる。
れる化合物であり、一般的には次の式(IV )で表わ
されるクトアミド化合物と、式(V)で表わされる第1
級アミン ト12 N (C1」 2 )TL R
’ (V)との
脱水縮合反応の生成物として得られる物質である。式(
I)で表わされる化合物をこの発明の目的に使用する場
合は、精製した物質を用いる必要はなく、上記脱水縮合
反応の粗反応混合物をそのまま利用できる。従って、式
(rV)および式(V)で表わされる化合物の脱水縮合
反応を、溶媒中で行なう場合は、式(I)と式(I[)
との反応で用いる不溶性溶媒と同一のものを選ぶことに
よりプロセスを簡単にすることができる。
式(I)で表わされる化合物の中には、R1がフJニル
基あるいtよナフチル基などのアリール基、より具体的
には無置換のフェニル基の他に、炭素数1ないし3のア
ルニ1ル基、同アルコキシカルボニル基、同アルコキシ
基、同アルキルヂオ基、フェノ4シ基、シアノ基、トリ
フルオロメチル基、ニトロ基、フッ素、塩素、臭素等の
ハロゲン原子、アセチ1ルアミノ基の中から選ばれた置
換基1ないし5個で置換されたフェニル基および1−ナ
フチル基が含まれる。またR1が複索環基である場合と
しては、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基な
どの6員環の基、イミダゾリル基、オキサシリル基、イ
ソオキサシリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、
オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基などの5員環の
基が含まれる。さらに式(T)中のR”はシクロアルキ
ル基、第2級および第3級の低級アルキル基でもよく、
この中にはシクロペンデル基、シクロヘキシル基、1−
フェニルエチル基、1−ブチル基、2−フェニルブロピ
ル基などの基が含まれる。
基あるいtよナフチル基などのアリール基、より具体的
には無置換のフェニル基の他に、炭素数1ないし3のア
ルニ1ル基、同アルコキシカルボニル基、同アルコキシ
基、同アルキルヂオ基、フェノ4シ基、シアノ基、トリ
フルオロメチル基、ニトロ基、フッ素、塩素、臭素等の
ハロゲン原子、アセチ1ルアミノ基の中から選ばれた置
換基1ないし5個で置換されたフェニル基および1−ナ
フチル基が含まれる。またR1が複索環基である場合と
しては、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基な
どの6員環の基、イミダゾリル基、オキサシリル基、イ
ソオキサシリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、
オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基などの5員環の
基が含まれる。さらに式(T)中のR”はシクロアルキ
ル基、第2級および第3級の低級アルキル基でもよく、
この中にはシクロペンデル基、シクロヘキシル基、1−
フェニルエチル基、1−ブチル基、2−フェニルブロピ
ル基などの基が含まれる。
式(1)中のR′は水系原子、アリール基、複索環基、
C1〜C11の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、低
級アルクニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基
、低級アルキルチオ基、あるいは低級アルコキシ基を表
わし、nはコないし4の整数を表わす。従って、(CH
2)−R2の基として、具体的には、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンデル、イソペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシ
ルなどのアルキル基:フェニルメチル基、2−フェニル
エチル基、3−フェニルプロピル基、4−フェニルブチ
ル基およびこれらのフェニル基上に置換基を有するアラ
ルキル基:ビリジルメチル基、フリルメチル基、チェニ
ルメチル基、テトラヒドロフリルメチル基などの複素環
を有するアルキル基:アリル基、3−ブテニル基、プロ
パルギル基などの低級アルケニル基および低級アルキニ
ル基;シクロペンデルメヂル基、シクロヘキシルメチル
基などのシクロアルキル基を有するアルキルM:2−メ
ブルブAエチル基、2−■チルヂオエチル基、3−メチ
ルブオプロビル基、3−エチルチオプロピル基などの低
級アルキルチオアル4ル基:2−メ1〜キシエチル基、
2−■トキシエチル基、3−メト1ジプロピル基、3−
エトキシプロピル基、3−イソプロポキシプロビル基な
どの低級アルコキシアルキル基が掲げられる。
C1〜C11の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、低
級アルクニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基
、低級アルキルチオ基、あるいは低級アルコキシ基を表
わし、nはコないし4の整数を表わす。従って、(CH
2)−R2の基として、具体的には、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンデル、イソペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシ
ルなどのアルキル基:フェニルメチル基、2−フェニル
エチル基、3−フェニルプロピル基、4−フェニルブチ
ル基およびこれらのフェニル基上に置換基を有するアラ
ルキル基:ビリジルメチル基、フリルメチル基、チェニ
ルメチル基、テトラヒドロフリルメチル基などの複素環
を有するアルキル基:アリル基、3−ブテニル基、プロ
パルギル基などの低級アルケニル基および低級アルキニ
ル基;シクロペンデルメヂル基、シクロヘキシルメチル
基などのシクロアルキル基を有するアルキルM:2−メ
ブルブAエチル基、2−■チルヂオエチル基、3−メチ
ルブオプロビル基、3−エチルチオプロピル基などの低
級アルキルチオアル4ル基:2−メ1〜キシエチル基、
2−■トキシエチル基、3−メト1ジプロピル基、3−
エトキシプロピル基、3−イソプロポキシプロビル基な
どの低級アルコキシアルキル基が掲げられる。
R3はC2C11の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基
、アラルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基
、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルコキシアルキル
基を表わす。従ってR3の基として具体的にはエチル、
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシ
ルなどのアルキル基;フェニルメチル基、2−フェニル
エチル基、3−フェニルプロピル基、4−フェニルブチ
ル基およびこれらのフェニル基上にta基を有するアラ
ルキル基; アリル基、3−ブテニル基、プロパルギル基などの低級
アルケニル基および低級アルキニル基;1〜リフルオロ
メチル基、クロロメチル基などのハロゲン化低級アル1
ル基;メトキシメチル基、Jトキシメチル基、プロポキ
シメチル基、ブ1−キシメヂル基などの低級アルコオシ
アル4ル基などを表わず。
、アラルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基
、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルコキシアルキル
基を表わす。従ってR3の基として具体的にはエチル、
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシ
ルなどのアルキル基;フェニルメチル基、2−フェニル
エチル基、3−フェニルプロピル基、4−フェニルブチ
ル基およびこれらのフェニル基上にta基を有するアラ
ルキル基; アリル基、3−ブテニル基、プロパルギル基などの低級
アルケニル基および低級アルキニル基;1〜リフルオロ
メチル基、クロロメチル基などのハロゲン化低級アル1
ル基;メトキシメチル基、Jトキシメチル基、プロポキ
シメチル基、ブ1−キシメヂル基などの低級アルコオシ
アル4ル基などを表わず。
この発明の方法に用いる他の原料は式(U)で表わされ
る41−1−1.3−ジオキシン−4−オン化合物であ
り、例えば、エム、1フ、キャO−ル(M、 F、 C
aroll )らによって報告された方法(ジャーナル
・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティLJ
、 Amer、Chem、Soc、 ) 、 75゜5
400 (1953)参照〕に従い、ジケテンと対応す
るケトンとから製造することができる。ジケテンとアセ
トンとの場合は、それらの混合物にパラトルエンスルホ
ン酸を少量加え、3時間還流下に保ち、ジケテンの臭気
が消失したら過剰のアセトンを留去し、生成物【ま減圧
下(21orr )に蒸留するとジケテンに対して91
%の収率で得られる記述がある。本発明者等の検討によ
れば、上記生成物の蒸留は薄膜蒸発型の装置を用いて行
なうことを必要とし、バッチ方式の単蒸留によると所期
の成粘を17られないことが明らかとなった9、この欠
点を回避しかつプロセスを筒中にするために、ジケテン
とアセ1〜ンとの粗反応q−成物を、精製工程を賢ずに
そのままこの発明の方法の原料として用いることを検討
したところ、前記のキャロールらの方法によって精製し
た標品を用いた場合と同等の反応成績が得られることが
iir認された。式(I)で表わされる化合物の中で、
この発明の目的に適するものは、ジケテンと低級アルキ
ルケトンとの付加反応で得られるものであり、例えばジ
ケテンとアセトン、メチルエチルケトンあるいはメチル
インブチルケトンとの付加物が挙げられるが、実用上特
に有利に使用できるものはジケテンとアセトンとの付加
物である。
る41−1−1.3−ジオキシン−4−オン化合物であ
り、例えば、エム、1フ、キャO−ル(M、 F、 C
aroll )らによって報告された方法(ジャーナル
・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティLJ
、 Amer、Chem、Soc、 ) 、 75゜5
400 (1953)参照〕に従い、ジケテンと対応す
るケトンとから製造することができる。ジケテンとアセ
トンとの場合は、それらの混合物にパラトルエンスルホ
ン酸を少量加え、3時間還流下に保ち、ジケテンの臭気
が消失したら過剰のアセトンを留去し、生成物【ま減圧
下(21orr )に蒸留するとジケテンに対して91
%の収率で得られる記述がある。本発明者等の検討によ
れば、上記生成物の蒸留は薄膜蒸発型の装置を用いて行
なうことを必要とし、バッチ方式の単蒸留によると所期
の成粘を17られないことが明らかとなった9、この欠
点を回避しかつプロセスを筒中にするために、ジケテン
とアセ1〜ンとの粗反応q−成物を、精製工程を賢ずに
そのままこの発明の方法の原料として用いることを検討
したところ、前記のキャロールらの方法によって精製し
た標品を用いた場合と同等の反応成績が得られることが
iir認された。式(I)で表わされる化合物の中で、
この発明の目的に適するものは、ジケテンと低級アルキ
ルケトンとの付加反応で得られるものであり、例えばジ
ケテンとアセトン、メチルエチルケトンあるいはメチル
インブチルケトンとの付加物が挙げられるが、実用上特
に有利に使用できるものはジケテンとアセトンとの付加
物である。
さて、前記式(I>で表わされる化合物と式(II)で
表わされる化合物との反応条件のうち特に考miべきも
のは、反応温度、使用する不活性溶媒の選択などである
。反応温度についてはグー。
表わされる化合物との反応条件のうち特に考miべきも
のは、反応温度、使用する不活性溶媒の選択などである
。反応温度についてはグー。
イエーガー(G、 JSioer)ら〔リービツヒス・
アンナーレン・デル・ヒエミー(i 1ebi(IS
A nn。
アンナーレン・デル・ヒエミー(i 1ebi(IS
A nn。
Chem 、、 ) 1976q、1689−171
2頁参照)の報への記述が一つの止釘を与える。’71
なわちシリ5ンとアセトンとのイ4加物である2、2.
6− トリメデル−41−1−1,3−ジオキシン−4
−71ンは120℃以上の温度に加熱するとアセミーン
とアセデルケテンとに分解覆る。従って他の4H−1,
3−ジオキシン−4−オン誘導体の場合も、同様に熱分
解の温度を目安として反応温度を設定する。実際上反応
温度は約110℃から約140℃の間である。
2頁参照)の報への記述が一つの止釘を与える。’71
なわちシリ5ンとアセトンとのイ4加物である2、2.
6− トリメデル−41−1−1,3−ジオキシン−4
−71ンは120℃以上の温度に加熱するとアセミーン
とアセデルケテンとに分解覆る。従って他の4H−1,
3−ジオキシン−4−オン誘導体の場合も、同様に熱分
解の温度を目安として反応温度を設定する。実際上反応
温度は約110℃から約140℃の間である。
また式(If)で表わされる化合物の使用量は、式(I
)で表わされる化合物に対し、1.5〜3倍モルが望ま
しい。
)で表わされる化合物に対し、1.5〜3倍モルが望ま
しい。
次に反応に使用する不活性溶媒の選択は、化学的な反応
活性、沸点、無水溶媒の作り易さ、この発明の目的とす
る生成物の室温における溶解度などを考慮して行なう。
活性、沸点、無水溶媒の作り易さ、この発明の目的とす
る生成物の室温における溶解度などを考慮して行なう。
具体的には芳香族炭化水素系の溶媒が適しており、ベン
ゼン、1−ルエン、キシレンあるいはこれらの混合物の
使用が望ましい。
ゼン、1−ルエン、キシレンあるいはこれらの混合物の
使用が望ましい。
これらの溶媒の使用はまた、反応の進行に従って生成す
る下式(Vl )で表わされるりトン類、(式中[テ′
および](1″はC+〜C4のアルキル基であり、式(
n)中のR4およびR5の定義に同じ) 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等と共沸混合物を形成しないために、蒸留分離
操作が容易となり、上記ケトンの回収再使用に有利であ
る。反応で生成するケトンを回収しジケテンと反応させ
ることによって、前記式(II)で表わされる4H−1
,3−ジオキシン−4−オン化合物を得ることが出来る
ので、実質的にジケテンのみの消費によって本発明の方
法は1.4−ジヒドロ−6−メチル−4−オキソ−3=
ピリジン力ルボキサミド化合物の製造を可能にするもの
である。
る下式(Vl )で表わされるりトン類、(式中[テ′
および](1″はC+〜C4のアルキル基であり、式(
n)中のR4およびR5の定義に同じ) 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等と共沸混合物を形成しないために、蒸留分離
操作が容易となり、上記ケトンの回収再使用に有利であ
る。反応で生成するケトンを回収しジケテンと反応させ
ることによって、前記式(II)で表わされる4H−1
,3−ジオキシン−4−オン化合物を得ることが出来る
ので、実質的にジケテンのみの消費によって本発明の方
法は1.4−ジヒドロ−6−メチル−4−オキソ−3=
ピリジン力ルボキサミド化合物の製造を可能にするもの
である。
以下実施例によって、この発明をさらに具体的に説明す
る。
る。
参名例1゜
ジケラン(327(]、 3.89 ’Eル)、アセ
トン(240g、 4.13モル)およびパラ1ヘル
Jンスルホン酸1丞和物(1,0(] )を1リットル
の3つロフラスコにけり取り、撹拌機、還流冷5J器お
よび温度削を取り付(プて、撹拌しなから油浴で加熱し
た。
トン(240g、 4.13モル)およびパラ1ヘル
Jンスルホン酸1丞和物(1,0(] )を1リットル
の3つロフラスコにけり取り、撹拌機、還流冷5J器お
よび温度削を取り付(プて、撹拌しなから油浴で加熱し
た。
反応混合物の温度は24℃から1時間後に75℃となり
、2時間後に90℃に1貸した。その後さらに加熱を続
(プ反応混合物の温度を97ないし100℃に保ち、加
熱開始から5時間後に油浴を除き、暗褐色の反応混合物
を室温にて放冷した。粗反応生成物の重量は564gで
あった。反応収率を100%とすると、この粗反応生成
物i、oogは2,2,6.−1−リメチル−48−1
,3−ジオキシン−4−オン6.9mmolを含むこと
になる。
、2時間後に90℃に1貸した。その後さらに加熱を続
(プ反応混合物の温度を97ないし100℃に保ち、加
熱開始から5時間後に油浴を除き、暗褐色の反応混合物
を室温にて放冷した。粗反応生成物の重量は564gで
あった。反応収率を100%とすると、この粗反応生成
物i、oogは2,2,6.−1−リメチル−48−1
,3−ジオキシン−4−オン6.9mmolを含むこと
になる。
参考例2゜
ジケテン(110(]、 11.31モル、メチルイ
ソブチルケトン(145G、 1.48モル)および
パラトルエンスルホンM1水和物(0,5g >を50
0ミリリツトルの3つロフラスコに秤り取り、撹拌機、
還流冷動揺おJ、び1■1を取り付【ブて、tjH1’
Lなから油浴で95ないし98℃に10時間加熱した。
ソブチルケトン(145G、 1.48モル)および
パラトルエンスルホンM1水和物(0,5g >を50
0ミリリツトルの3つロフラスコに秤り取り、撹拌機、
還流冷動揺おJ、び1■1を取り付【ブて、tjH1’
Lなから油浴で95ないし98℃に10時間加熱した。
この反応粗液の21(]を分取しクーグル[コール蒸留
し、↑留13.9(] (0,2Torr、 106
℃)を得た。標品はデヒドロ酢酸を含み、核磁気共鳴吸
収スベク1〜ルのシグナル槓分値から、純度91%と推
定された。
し、↑留13.9(] (0,2Torr、 106
℃)を得た。標品はデヒドロ酢酸を含み、核磁気共鳴吸
収スベク1〜ルのシグナル槓分値から、純度91%と推
定された。
N、M、R,シグナル(CDCI s ):δ(+1゜
0、m、) o、97 (61−1,d 、、J= 6Hz )、
1.62 (31−1,s、 )、1.93 (3
H,s、 )、5.13 (IH,s、 )。
0、m、) o、97 (61−1,d 、、J= 6Hz )、
1.62 (31−1,s、 )、1.93 (3
H,s、 )、5.13 (IH,s、 )。
実施例1゜
2−ブチル−1,4−ジヒドロ−6−メチル−4−オキ
ソ−N−フェニル−1−フェニルメチル−3−ピリジン
カルボキサミドの合成 3−オキソヘプタン酸アニリド2.93 (] (1
3,4mmol)、ベンジルアミン1.43g (13
,4mmol> 、酢酸2)l]およびトルエン20
xiの混合物を、撹拌しながら1.5時間還流温度に保
ち、その間に生成する水を約121のトルエンと共に系
外に留去した。この反応混合物を速流下に保らなから、
2,2.6−t・リメチル−41−1−1,;也−ジオ
キシン−4−7Iン4.74G (33,4111m0
1)の1−ル]ン(12厭〉溶液を30分間かけで滴下
した後、さらに 1.り萌12!1加熱しlζ。
ソ−N−フェニル−1−フェニルメチル−3−ピリジン
カルボキサミドの合成 3−オキソヘプタン酸アニリド2.93 (] (1
3,4mmol)、ベンジルアミン1.43g (13
,4mmol> 、酢酸2)l]およびトルエン20
xiの混合物を、撹拌しながら1.5時間還流温度に保
ち、その間に生成する水を約121のトルエンと共に系
外に留去した。この反応混合物を速流下に保らなから、
2,2.6−t・リメチル−41−1−1,;也−ジオ
キシン−4−7Iン4.74G (33,4111m0
1)の1−ル]ン(12厭〉溶液を30分間かけで滴下
した後、さらに 1.り萌12!1加熱しlζ。
反応液を室温に冷NI Lp後、減圧下淵縮し、得らね
た有色油状物をカラムクロマ1〜グラフイーにより分離
し、題記化合物を1.78g (収率35.6%)得た
。
た有色油状物をカラムクロマ1〜グラフイーにより分離
し、題記化合物を1.78g (収率35.6%)得た
。
融点132−134℃
実施例2゜
2−ブチル−N−(2−クロロフェニル)−1,4−ジ
ヒドロ−6−メチル〜 4−オキソ−1−フェニルメチ
ル−3−ピリジンカルボキサミドの合成 N−(2−クロロフェニル)−3−オキソヘプタン酸ア
ミド3.10g (12,2mmol> 、ベンジルア
ミン1,31o (12,2mmol ) 、酢酸2滴
およびトルエン20ij(7)混合物を撹拌させながら
1.5時間遠流温度に保ちその間に生成する水を約12
r!の1−ルエンと共に系外に留去した。この反応混合
物を還流温度(こ程J)イアがら、2−丁チル− 2.
6−ジメザル− 41+ 1,3 ジオ:4シン−
4−オン4.7h (30,61mmol)を30分間
かけ″c滴下した後、ひらニ1.!+時間加熱を続りた
。反応液を室溜11J冷ツクした後、減B]−に淵縮し
1行られたか色浦私物をカラムクロマトグラフィーにて
精製し題記化合物をL5.J(収率 31 % )i@
Iこ 。
ヒドロ−6−メチル〜 4−オキソ−1−フェニルメチ
ル−3−ピリジンカルボキサミドの合成 N−(2−クロロフェニル)−3−オキソヘプタン酸ア
ミド3.10g (12,2mmol> 、ベンジルア
ミン1,31o (12,2mmol ) 、酢酸2滴
およびトルエン20ij(7)混合物を撹拌させながら
1.5時間遠流温度に保ちその間に生成する水を約12
r!の1−ルエンと共に系外に留去した。この反応混合
物を還流温度(こ程J)イアがら、2−丁チル− 2.
6−ジメザル− 41+ 1,3 ジオ:4シン−
4−オン4.7h (30,61mmol)を30分間
かけ″c滴下した後、ひらニ1.!+時間加熱を続りた
。反応液を室溜11J冷ツクした後、減B]−に淵縮し
1行られたか色浦私物をカラムクロマトグラフィーにて
精製し題記化合物をL5.J(収率 31 % )i@
Iこ 。
融点121− 123°C
実施例3゜
2−ブブルーN−(2,6−ジエチルフ]ニル)−1,
4−ジヒドロ−1,6−シメチルー 4−オキソ−3−
ビリジンカルホキ勺ミドの合成 N−<2.6−ジニチルフエニル)−3−オキソ−へブ
タン酸アミド5,86(+ (21,3tu+ol )
をトルエン251!に溶解し、メチルアミン40%水溶
液3,31(1(42,6ml′1lol )および酢
M2滴を加えi’lにて3時間撹拌した。
4−ジヒドロ−1,6−シメチルー 4−オキソ−3−
ビリジンカルホキ勺ミドの合成 N−<2.6−ジニチルフエニル)−3−オキソ−へブ
タン酸アミド5,86(+ (21,3tu+ol )
をトルエン251!に溶解し、メチルアミン40%水溶
液3,31(1(42,6ml′1lol )および酢
M2滴を加えi’lにて3時間撹拌した。
次いで反応混合物を還流温度まで熱し、水分を約151
1のトルエンと共に系外に留去した。還流を続けながら
、2,2.6−1−リメチル−41−1−1,3−ジA
キシンー4〜Aンの2.f1M+・ルエン溶油2 Fi
、 71!を30分か(Jて滴干し、さら*−二45
分間加熱を続(→だ。この間に201の留出物を系外に
除1、L、 7: 、、反応混合物4シlj 7Jゲル
クロマトグラフィー(、二より分因1し、題記化合物を
3,440(収率45.(i%)得た。
1のトルエンと共に系外に留去した。還流を続けながら
、2,2.6−1−リメチル−41−1−1,3−ジA
キシンー4〜Aンの2.f1M+・ルエン溶油2 Fi
、 71!を30分か(Jて滴干し、さら*−二45
分間加熱を続(→だ。この間に201の留出物を系外に
除1、L、 7: 、、反応混合物4シlj 7Jゲル
クロマトグラフィー(、二より分因1し、題記化合物を
3,440(収率45.(i%)得た。
融点95.5−96.0℃
実施例4゜
1−ブチル−1,4−ジヒドロ−6−メヂルー 4−Δ
キソーN−フJニル−2−プに1ビル−3−ピリジンカ
ルボキサミドの合成 3−オキソ−ヘキサン酸アニリド4.16(1(20,
3mmol) 、ブチルアミン2.08(+ (28,
4mmol >およびトルエン251!の混合物に酢酸
3敵を加え、室温で撹拌した後ゆっくりと還流温度まで
加熱した。
キソーN−フJニル−2−プに1ビル−3−ピリジンカ
ルボキサミドの合成 3−オキソ−ヘキサン酸アニリド4.16(1(20,
3mmol) 、ブチルアミン2.08(+ (28,
4mmol >およびトルエン251!の混合物に酢酸
3敵を加え、室温で撹拌した後ゆっくりと還流温度まで
加熱した。
1.5時間の還流の間に生成する水および過剰のアミン
をトルエン約12 xiと共に系外に留出した。
をトルエン約12 xiと共に系外に留出した。
さらに2,2.6− トリメチル−4H−1,3−ジオ
キシン−4−オン7.2gの1〜ルエン(20嘗り溶液
を30分間かけて滴下し、生成づる低沸分を留出しなが
ら45分間加熱還流を続けた後、反応液を室温下に7i
51冒した1、以下前例と同様にしτ、黄色油状物7・
ある題記化合物を 1.39g(収率21.0%)得た
。
キシン−4−オン7.2gの1〜ルエン(20嘗り溶液
を30分間かけて滴下し、生成づる低沸分を留出しなが
ら45分間加熱還流を続けた後、反応液を室温下に7i
51冒した1、以下前例と同様にしτ、黄色油状物7・
ある題記化合物を 1.39g(収率21.0%)得た
。
融点116・〜117℃
実施例5・〜・11゜
対応句るβ−ケトアミドと1 I11アミンを用い実施
例1の方法に従って反応をおこない次の化合物を得た。
例1の方法に従って反応をおこない次の化合物を得た。
1.4−ジヒドロ−6−メチル−4−オキソ−N−フに
ルー1.2−ビス−()■ニルメチル)−3−ピリジン
カルボキサミド(実施例5) 収率 36.4% 融点 190.5−193℃ 2−エチル−1,4−ジヒドロ−6−メチル−4−オキ
ソ−N−フェニル−1−フェニルメチル−3−ピリジン
カルボキリミド(実施例6) 収率 35,4% 融点 155−157℃ 1.4−ジヒドロ−6−メチル−1−(4−メチル)I
ニルメチル)−4−オキソ−2−ベングルN−フェニル
−3−ピリジンカルボ−11フミド(実施例7) 収率 20.0% 融点 1!+1−152.5℃ 1.4−ジヒドロ−6−メチル−4−オキソ−2−ペン
チル−N−フェニル−1−フェニルメチル−3−ピリジ
ンカルボキサミド(実施例8)収率 40.0% 融点 114−115.5°C 1−(4−クロロフェニルメチル)−1,II−ジヒド
ロ−6−メチル−N−(2−メチルフェニル)=4−オ
キソ−2−ペンチル−3−ピリジンカルボキサミド(実
施例9) 収率 3 (1、6% 融点 155−156.5℃ N−(2−クロロフェニル)−2−エチル−1,4−ジ
ヒドロ−6−メーfルー4J4ソー 1−フにルメチル
ー3−ピリジンカルlトキリミド(実施例収率 42
.0% 融貞 17/1.!+−177°02− (2−−
フリル)−1,4−ジヒド0−6−メヂルー4−オキソ
−N−フJニル−1−フェニルメチル−3−ピリジンカ
ルボキサミド(実施例11)収率 25%(油状) 以上実施例記載の合成によって得られた化合物の分子式
および赤外吸収スペクトル(IR)、プロトン核磁気共
鳴スペクトル(Il−1−NMR)のデーターを表■に
記した。なお、NMRの溶媒はCDCl sを用い、I
RはKBr法で測定した。
ルー1.2−ビス−()■ニルメチル)−3−ピリジン
カルボキサミド(実施例5) 収率 36.4% 融点 190.5−193℃ 2−エチル−1,4−ジヒドロ−6−メチル−4−オキ
ソ−N−フェニル−1−フェニルメチル−3−ピリジン
カルボキリミド(実施例6) 収率 35,4% 融点 155−157℃ 1.4−ジヒドロ−6−メチル−1−(4−メチル)I
ニルメチル)−4−オキソ−2−ベングルN−フェニル
−3−ピリジンカルボ−11フミド(実施例7) 収率 20.0% 融点 1!+1−152.5℃ 1.4−ジヒドロ−6−メチル−4−オキソ−2−ペン
チル−N−フェニル−1−フェニルメチル−3−ピリジ
ンカルボキサミド(実施例8)収率 40.0% 融点 114−115.5°C 1−(4−クロロフェニルメチル)−1,II−ジヒド
ロ−6−メチル−N−(2−メチルフェニル)=4−オ
キソ−2−ペンチル−3−ピリジンカルボキサミド(実
施例9) 収率 3 (1、6% 融点 155−156.5℃ N−(2−クロロフェニル)−2−エチル−1,4−ジ
ヒドロ−6−メーfルー4J4ソー 1−フにルメチル
ー3−ピリジンカルlトキリミド(実施例収率 42
.0% 融貞 17/1.!+−177°02− (2−−
フリル)−1,4−ジヒド0−6−メヂルー4−オキソ
−N−フJニル−1−フェニルメチル−3−ピリジンカ
ルボキサミド(実施例11)収率 25%(油状) 以上実施例記載の合成によって得られた化合物の分子式
および赤外吸収スペクトル(IR)、プロトン核磁気共
鳴スペクトル(Il−1−NMR)のデーターを表■に
記した。なお、NMRの溶媒はCDCl sを用い、I
RはKBr法で測定した。
(以下余白、次頁に続く。)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はアリール基、複素環基、シクロアルキル
基、または第2級あるいは第3級の低級アルキル基を表
わし、R^2は水素原子、アリール基、複素環基、C_
1−C_1_1の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル
基、低級アルキルチオ基または低級アルコキシ基を表わ
し、R^3はC_2−C_1_1の直鎖状あるいは分岐
状のアルキル基、アラルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、ハロゲン化低級アルキル基、低級アル
コキシアルキル基を表わす。nは1ないし4の整数を表
わす。)で表わされる化合物と、 式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R^4およびR^5はC_1−C_4のアルキル
基である。) で表わされる化合物とを不活性溶媒中で加熱反応させ、 式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R^1、R^2、R^3およびnの定義は式(
I )中のものと同一) で表わされる化合物を得ることを特徴とする1,4−ジ
ヒドロ−6−メチル−4−オキソ−3−ピリジンカルボ
キサミド化合物の製造方法。 2、式(II)におけるR^4およびR^5がメチル基、
エチル基またはイソブチル基の化合物である特許請求の
範囲第1項に記載の製造方法。 3、式(II)におけるR^4およびR^5がともにメチ
ル基の化合物である特許請求の範囲第1項記載の製造方
法。 4、式(II)の化合物が、ジケテンとアセトンとの混合
物を約100℃以下の温度で反応させて得られる粗反応
液からなる特許請求の範囲第1項に記載の製造方法。 5、式( I )の化合物が式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) の化合物と式(V) H_2N(CH_2)_nR^2(V) (式(IV)中のR^1およびR^3、式(V)中のR^
2は各々式( I )中で定義されたものと同一)の化合
物とを不活性溶媒中で脱水縮合した粗反応液からなる特
許請求の範囲第1項に記載の製造方法。 6、不活性溶媒がトルエンまたはキシレン又はメシチレ
ンである特許請求の範囲第1項〜第4項の何れか1つに
記載の製造方法。 7、不活性溶媒がトルエンまたはキシレン又はメシチレ
ンである特許請求の範囲第5項に記載の製造方法。 8、不活性溶媒がトルエンである特許請求の範囲第5項
に記載の製造方法。 9、不活性溶媒が同一であって、トルエンである特許請
求の範囲第1項〜第5項の何れか1つに記載の製造方法
。 10、反応中に生成するケトンを回収し再使用する特許
請求の範囲第1項に記載の製造方法。 11、式( I )のR^1及びR^2のアリール基がフ
ェニル基または置換フェニル基の化合物である特許請求
の範囲第1項に記載の製造方法。 12、式( I )の化合物と式(II)の化合物との反応
温度が110℃〜140℃である特許請求の範囲第1項
に記載の製造方法。 13、式(II)の化合物が式( I )の化合物に対して
1.5〜3倍モル使用される特許請求の範囲第1項また
は第12項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9402986A JPH0710847B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | ピリドン−3−カルボキサミド化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9402986A JPH0710847B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | ピリドン−3−カルボキサミド化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62249970A true JPS62249970A (ja) | 1987-10-30 |
JPH0710847B2 JPH0710847B2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=14099137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9402986A Expired - Lifetime JPH0710847B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | ピリドン−3−カルボキサミド化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0710847B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010528141A (ja) * | 2007-05-23 | 2010-08-19 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | β−ケトカルボニル官能性有機ケイ素化合物の製造方法 |
-
1986
- 1986-04-23 JP JP9402986A patent/JPH0710847B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010528141A (ja) * | 2007-05-23 | 2010-08-19 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | β−ケトカルボニル官能性有機ケイ素化合物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0710847B2 (ja) | 1995-02-08 |
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