JPS62227953A - ポリイミド樹脂組成物 - Google Patents
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- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 46
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 73
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 73
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 22
- -1 diaminosiloxane Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 claims abstract description 17
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims abstract description 10
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 3-[[3-aminopropyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]propan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCN GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012844 infrared spectroscopy analysis Methods 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLYCRLGLCUXUPO-UHFFFAOYSA-N 2,6-diaminotoluene Chemical compound CC1=C(N)C=CC=C1N RLYCRLGLCUXUPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVVWBIJMWBNKFV-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dichloro-4,4'-diaminodiphenyl ether Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C(Cl)=C1 IVVWBIJMWBNKFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dichlorobenzidine Chemical group C1=C(Cl)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(Cl)=C1 HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBAUUNCGSMAPFM-UHFFFAOYSA-N 3-(3,4-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O NBAUUNCGSMAPFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYKLCAKICHXQNE-UHFFFAOYSA-N 3-[(2,3-dicarboxyphenyl)methyl]phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(CC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O TYKLCAKICHXQNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(CC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POTQBGGWSWSMCX-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-aminopropoxy)ethoxy]propan-1-amine Chemical compound NCCCOCCOCCCN POTQBGGWSWSMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRJAHFLFCRNNMR-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-(4-aminophenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=C(N)C=CC=C1C(O)=O ZRJAHFLFCRNNMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYZQQAGAHKSMEK-UHFFFAOYSA-N 4,5,7-triphenyl-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=2C=3C=CC=CC=3)=C1C(C=1C=CC=CC=1)=CC=2C1=CC=CC=C1 XYZQQAGAHKSMEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)sulfonylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHECBTWFKAHFAS-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)-6,6-dichlorocyclohexa-1,3-dien-1-amine Chemical compound C1C(Cl)(Cl)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 LHECBTWFKAHFAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNHQPIBXQALMMN-UHFFFAOYSA-N 4-[(3,4-dicarboxyphenyl)-dimethylsilyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1[Si](C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 HNHQPIBXQALMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRTAEHMRKDVKMS-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]sulfanylphenoxy]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1SC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 MRTAEHMRKDVKMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXFZHOJOXNHNDY-UHFFFAOYSA-N 4-[[4-[(3,4-dicarboxyphenyl)-dimethylsilyl]phenyl]-dimethylsilyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1[Si](C)(C)C(C=C1)=CC=C1[Si](C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 AXFZHOJOXNHNDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWKHQQCBFMYAJZ-UHFFFAOYSA-N 4-amino-n-(3-aminophenyl)benzamide Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC(N)=C1 HWKHQQCBFMYAJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMFQOYLCRZRUMB-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-aminophenyl)-4-n-butylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1N(CCCC)C1=CC=C(N)C=C1 VMFQOYLCRZRUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBNFPUAJWZYIOQ-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-aminophenyl)-4-n-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1N(C)C1=CC=C(N)C=C1 LBNFPUAJWZYIOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBRGOFWKNLPACT-UHFFFAOYSA-N 5-methylnonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCC(C)CCCCN MBRGOFWKNLPACT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBBFBKABFFPUIW-UHFFFAOYSA-N C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(C=1C=C(C(C(O)=O)=CC=1)C(O)=O)[SiH2]C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(C=1C=C(C(C(O)=O)=CC=1)C(O)=O)[SiH2]C1=CC=CC=C1 NBBFBKABFFPUIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNQHUWHQMJTWRA-UHFFFAOYSA-N NC1=CC=C(C=C1)C(C[PH2]=O)C1=CC=C(C=C1)N Chemical compound NC1=CC=C(C=C1)C(C[PH2]=O)C1=CC=C(C=C1)N HNQHUWHQMJTWRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBLAIDIBZHTGLV-UHFFFAOYSA-N dodecane-2,11-diamine Chemical compound CC(N)CCCCCCCCC(C)N CBLAIDIBZHTGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- GBASTSRAHRGUAB-UHFFFAOYSA-N ethylenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2=C1C(=O)OC2=O GBASTSRAHRGUAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- KADGVXXDDWDKBX-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 KADGVXXDDWDKBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWRSLSNMQXMRHQ-UHFFFAOYSA-N octadecane-7,7-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)(N)CCCCCC NWRSLSNMQXMRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGGWKXMPICYBKC-UHFFFAOYSA-N phenanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C3C(C(=O)O)=CC=CC3=C21 JGGWKXMPICYBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- RTHVZRHBNXZKKB-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=NC(C(O)=O)=C(C(O)=O)N=C1C(O)=O RTHVZRHBNXZKKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKWDNEXDHDSTCU-UHFFFAOYSA-N pyrrolidine-2,3,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1NC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O YKWDNEXDHDSTCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFNFFQXMRSDOHW-UHFFFAOYSA-N spermine Chemical compound NCCCNCCCCNCCCN PFNFFQXMRSDOHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガラス、シリコン等の無機物表面に良好な接着
性を有するポリイミド樹脂組成物に関する。
性を有するポリイミド樹脂組成物に関する。
ガラス、シリコン等の無機物表面との接着性を改良する
ものとして、特開昭58−13087号公報には、芳香
族テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの重合反応に
よりポリイミド樹脂を合成する際に、上記ジアミンとし
てジアミノシロキサンと、分子内に珪素原子を有しない
ジアミンとを一定の割合で使用し、芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物と反応させて得られるシリコーン変性ポリ
イミド前駆体を使用する方法が示されている。
ものとして、特開昭58−13087号公報には、芳香
族テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの重合反応に
よりポリイミド樹脂を合成する際に、上記ジアミンとし
てジアミノシロキサンと、分子内に珪素原子を有しない
ジアミンとを一定の割合で使用し、芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物と反応させて得られるシリコーン変性ポリ
イミド前駆体を使用する方法が示されている。
特開昭58−13087号公報に示される方法は、接着
性は改善されるものの、被接着物の材質ごとにジアミノ
シロキサンの使用量を変え、樹脂そのものから製造しな
おさないと目的とする接着性を満足しないという問題点
があった。
性は改善されるものの、被接着物の材質ごとにジアミノ
シロキサンの使用量を変え、樹脂そのものから製造しな
おさないと目的とする接着性を満足しないという問題点
があった。
また、ジアミノシロキサンとテトラカルボン酸二無水物
および珪素原子を有しないジアミンとテトラカルボン酸
二無水物の組合わせからなる樹脂溶液を別々に製造した
後、被接着物の材質に合うような割合で混合することで
、接着性を満足させることができれば、たった2種類の
樹脂溶液で上記問題点を解決することができる。しかし
、前記公報には、上記のように2種類の樹脂溶液の混合
物では、接着性を満足させることができないと示されて
いる。
および珪素原子を有しないジアミンとテトラカルボン酸
二無水物の組合わせからなる樹脂溶液を別々に製造した
後、被接着物の材質に合うような割合で混合することで
、接着性を満足させることができれば、たった2種類の
樹脂溶液で上記問題点を解決することができる。しかし
、前記公報には、上記のように2種類の樹脂溶液の混合
物では、接着性を満足させることができないと示されて
いる。
本発明は、ガラス、シリコン等の無機物表面への接着性
に優れる樹脂溶液の混合物からなるポリイミド樹脂組成
物を提供するものである。
に優れる樹脂溶液の混合物からなるポリイミド樹脂組成
物を提供するものである。
本発明のポリイミド樹脂組成物は、一般式(式中、R1
は2価の有機基であり、R2は1価の有機基であり、n
は1−100の整数である。
は2価の有機基であり、R2は1価の有機基であり、n
は1−100の整数である。
で表されるジアミノシロキサンと一般式(式中、R1は
2個以上の炭素原子を有する有機基である。) で表されるテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得
られる樹脂(I)5〜40重量%と、分子内に珪素原子
を有しないジアミンと分子内にエステル結合を有しない
テトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られる樹脂
(ff)60〜95重量%とからなる混合物が、有機極
性溶媒中に5〜50重量%溶解していることを特徴とす
る。
2個以上の炭素原子を有する有機基である。) で表されるテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得
られる樹脂(I)5〜40重量%と、分子内に珪素原子
を有しないジアミンと分子内にエステル結合を有しない
テトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られる樹脂
(ff)60〜95重量%とからなる混合物が、有機極
性溶媒中に5〜50重量%溶解していることを特徴とす
る。
本発明で使用できる樹脂(1)は、次に述べるジアミノ
シロキサンとテトラカルボン酸二無水物とを反応させて
得られるポリエステルイミド樹脂またはその前駆体であ
る。
シロキサンとテトラカルボン酸二無水物とを反応させて
得られるポリエステルイミド樹脂またはその前駆体であ
る。
樹脂(1)の製造に使用し得るジアミノシロキサンの代
表的なものとして以下のようなものがあり、これらのジ
アミノシロキサンは2種以上併用することもできる。
表的なものとして以下のようなものがあり、これらのジ
アミノシロキサンは2種以上併用することもできる。
にHz 0Clh CH3
また、本発明における樹脂(1)の製造に使用し得る上
記テトラカルボン酸二無水物の代表的なものとして、以
下のようなものがあり、これらのテトラカルボン酸二無
水物は2種以上併用することもできる。
記テトラカルボン酸二無水物の代表的なものとして、以
下のようなものがあり、これらのテトラカルボン酸二無
水物は2種以上併用することもできる。
CH3
上記のポリエステルイミド樹脂およびその前駆体は、上
記ジアミノシロキサンおよびテトラカルボン酸二無水物
とをほぼ等モル使用し、有機極性溶媒中ですでに公知の
方法で反応させて得ることができる。
記ジアミノシロキサンおよびテトラカルボン酸二無水物
とをほぼ等モル使用し、有機極性溶媒中ですでに公知の
方法で反応させて得ることができる。
本発明で使用できる有機極性溶媒としては、N。
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルホスホルアミド、フェノール、m−
クレゾールなどの少な(とも1種以上が用いられる。
ミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルホスホルアミド、フェノール、m−
クレゾールなどの少な(とも1種以上が用いられる。
ポリエステルイミド樹脂は、100℃以上、好ましくは
120℃以上で、反応液中に窒素ガスを吹き込むか、モ
レキュラーシーブスなどの脱水剤により縮合水を除去し
ながら反応させることにより得られる。また、ポリエス
テルイミド前駆体の場合には、80℃以下、好ましくは
50℃以下で反応させることにより得られる。
120℃以上で、反応液中に窒素ガスを吹き込むか、モ
レキュラーシーブスなどの脱水剤により縮合水を除去し
ながら反応させることにより得られる。また、ポリエス
テルイミド前駆体の場合には、80℃以下、好ましくは
50℃以下で反応させることにより得られる。
樹脂(I)としてポリエステルイミド樹脂を用いる場合
、そのイミド化率は95%以上であることが好ましい。
、そのイミド化率は95%以上であることが好ましい。
95%未満では、硬化時縮合水によるボイドの生成があ
るので望ましくない。
るので望ましくない。
また、本発明で使用できる樹脂(II)は、分子内に珪
素原子を有しないジアミンと、分子内にエステル結合を
有しないテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得ら
れる公知の有機極性溶媒に可溶なポリイミド樹脂または
その前駆体である。
素原子を有しないジアミンと、分子内にエステル結合を
有しないテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得ら
れる公知の有機極性溶媒に可溶なポリイミド樹脂または
その前駆体である。
本発明の樹脂(II)の製造に使用できるジアミンの例
としては次のようなものがある。
としては次のようなものがある。
2.2−ビス(4−アミノ−フェニル)プロパン、2,
6−ジアミツーピリジン、ベンジジン、3.3−ジクロ
ル−ベンジジン、3.3′−ジメトキシベンジジン、ビ
ス−(4−アミノ−フェニル)エチルホスフィンオキサ
イド、ビス−(4−アミノ−フェニル)−N−ブチルア
ミン、ビス−(4−アミノ−フェニル)−N−メチルア
ミン、3.3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェ
ニル、N−(3−アミノフェニル)−4−アミノベンズ
アミド、4−アミノフェニル−3−アミノ安息香酸、3
.3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタ
ン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルメタン、3,3′−ジエトキシー4.4′−ジアミ
ノジフェニルメタン、3.3′−ジカルボキシ−4,4
′−ジアミノジフェニルメタン、3.3’−ジフロロー
4゜4′−ジアミノジフェニルメタン、3.3’−ジク
ロロ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3.31
−ジブロム−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3
.3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノジフェニル
メタン、3.3’−ジスルホ−4,4′−ジアミノジフ
ェニルメタン、3゜3′−ジメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3.3′−ジメトキシ−4,4
′−ジアミノジフェニルエーテル、3.3′−ジェトキ
シ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3゜3′
−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3.3′−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニ
ルエーテル、3.3’−ジヒドロキシ−4,4′−ジア
ミノジフェニルエーテル、3.3′−ジスルホ−4,4
′−ジアミノジフェニルエーテル、3.3′−ジメチル
−4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3.3’−
ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、
3.3′−ジェトキシ−4,4′−ジアミノジフェニル
スルホン、3.3′−ジカルボキシ−4゜4′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、3.3’−ジクロロ−4,4′
−ジアミノジフェニルスルホン、3.3′−ジヒドロキ
シ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3.3’
−ジスルホ−4゜4′−ジアミノジフェニルプロパン、
3.3’−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルプ
ロパン、3.3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジ
フェニルプロパン、3.3’−ジェトキシ−4゜4′−
ジアミノジフェニルプロパン、3.3’−ジカルボキシ
−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3.3′−
ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3
.3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノジフェニル
プロパン、3゜3′−ジスルホ−4,4′−ジアミノジ
フェニルプロパン、3.3′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフェニルスルファイド、3.3′−ジメトキシ
−4,4′−ジアミノジフェニルスルファイド、3.3
′−ジェトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフ
ァイド、3.3’−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノ
ジフェニルスルファイド、3.3′−ジクロロ−4,4
′−ジアミノジフェニルスルファイド、3.3’−ジヒ
ドロキシ−4゜4′−ジアミノジフェニルスルファイド
、3.3′−ジスルホ−4,4′−ジアミノジフェニル
スルファイド、3.3′−ジアミノジフェニルメタン、
3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、3゜3′−ジ
アミノジフェニルスルホン、3.3’−ジアミノジフェ
ニルプロパン、3,3′−ジアミノジフェニルスルファ
イド、2.4−ジアミノトルエン、2.6−ジアミノト
ルエン、パラ−フェニレンジアミン、メタ−フェニレン
ジアミン、4゜4′−ジアミノジフェニルプロパン、4
.4’−ジアミノジフェニルメタン、3.3’−ジアミ
ノベンゾフェノン、4.4′−ジアミノジフェニルスル
ファイド、4.4’−ジアミノジフェニルスルホン、3
.4′−ジアミノジフェニルエーテル、4.4′−ジア
ミノジフェニルエーテル、1.5−ジアミノナフタレン
、3,3′−ジメトキシベンジジン、2.4−ビス(ベ
ーターアミノ−t−ブチル)トルエン、ビス−(パラ−
ベーターアミノ−t−ブチル−フェニル)エーテル、ビ
ス−パラ−(ベーターメチル−デルタ−アミノ−ペンチ
ル)ベンゼン、とスーパラー(1,1−ジメチル−5−
アミノ−ペンチル)ベンゼン、1−イソプロピル−2,
4−メタフェニレンジアミン、m−キシレンジアミン、
ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オ
クタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメ
チレンジアミン、ジアミノ−プロピルテトラメチレンジ
アミン、3−メチルへブタメチレンジアミン、4,4′
−ジメチルへブタメチレンジアミン、2.11−ジアミ
ノ−ドデカン、1.2−ビス−(3−アミノ−プロポキ
シ)エタン、2,2−ジメチル−プロピレンジアミン、
3−メトキシ−へキサメチレンジアミン、3.3′−ジ
メチルベンジジン、2.5−ジメチルへキサメチレンジ
アミン、2.5−ジメチルへブタメチレンジアミン、5
−メチル−ノナメチレンジアミン、2.17−リアミツ
ーアイコサデカン、1.4−ジアミノ−シクロヘキサン
、1.10−ジアミノ−1,10−ジメチルデカン、1
.12−ジアミノ−オクタデカン、ならびに1゜3.5
−トリアミノベンゼン、2.4.6−トリアミノ−トリ
アジン、1.2.3−トリアミノプロパン、4.4’、
4“−トリアミノトリフェニルメタン、および4.4’
、4’−)リアミノトリフェニルカルビノールのような
トリアミン。
6−ジアミツーピリジン、ベンジジン、3.3−ジクロ
ル−ベンジジン、3.3′−ジメトキシベンジジン、ビ
ス−(4−アミノ−フェニル)エチルホスフィンオキサ
イド、ビス−(4−アミノ−フェニル)−N−ブチルア
ミン、ビス−(4−アミノ−フェニル)−N−メチルア
ミン、3.3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェ
ニル、N−(3−アミノフェニル)−4−アミノベンズ
アミド、4−アミノフェニル−3−アミノ安息香酸、3
.3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタ
ン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルメタン、3,3′−ジエトキシー4.4′−ジアミ
ノジフェニルメタン、3.3′−ジカルボキシ−4,4
′−ジアミノジフェニルメタン、3.3’−ジフロロー
4゜4′−ジアミノジフェニルメタン、3.3’−ジク
ロロ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3.31
−ジブロム−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3
.3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノジフェニル
メタン、3.3’−ジスルホ−4,4′−ジアミノジフ
ェニルメタン、3゜3′−ジメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3.3′−ジメトキシ−4,4
′−ジアミノジフェニルエーテル、3.3′−ジェトキ
シ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3゜3′
−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3.3′−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニ
ルエーテル、3.3’−ジヒドロキシ−4,4′−ジア
ミノジフェニルエーテル、3.3′−ジスルホ−4,4
′−ジアミノジフェニルエーテル、3.3′−ジメチル
−4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3.3’−
ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、
3.3′−ジェトキシ−4,4′−ジアミノジフェニル
スルホン、3.3′−ジカルボキシ−4゜4′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、3.3’−ジクロロ−4,4′
−ジアミノジフェニルスルホン、3.3′−ジヒドロキ
シ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3.3’
−ジスルホ−4゜4′−ジアミノジフェニルプロパン、
3.3’−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルプ
ロパン、3.3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジ
フェニルプロパン、3.3’−ジェトキシ−4゜4′−
ジアミノジフェニルプロパン、3.3’−ジカルボキシ
−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3.3′−
ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3
.3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノジフェニル
プロパン、3゜3′−ジスルホ−4,4′−ジアミノジ
フェニルプロパン、3.3′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフェニルスルファイド、3.3′−ジメトキシ
−4,4′−ジアミノジフェニルスルファイド、3.3
′−ジェトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフ
ァイド、3.3’−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノ
ジフェニルスルファイド、3.3′−ジクロロ−4,4
′−ジアミノジフェニルスルファイド、3.3’−ジヒ
ドロキシ−4゜4′−ジアミノジフェニルスルファイド
、3.3′−ジスルホ−4,4′−ジアミノジフェニル
スルファイド、3.3′−ジアミノジフェニルメタン、
3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、3゜3′−ジ
アミノジフェニルスルホン、3.3’−ジアミノジフェ
ニルプロパン、3,3′−ジアミノジフェニルスルファ
イド、2.4−ジアミノトルエン、2.6−ジアミノト
ルエン、パラ−フェニレンジアミン、メタ−フェニレン
ジアミン、4゜4′−ジアミノジフェニルプロパン、4
.4’−ジアミノジフェニルメタン、3.3’−ジアミ
ノベンゾフェノン、4.4′−ジアミノジフェニルスル
ファイド、4.4’−ジアミノジフェニルスルホン、3
.4′−ジアミノジフェニルエーテル、4.4′−ジア
ミノジフェニルエーテル、1.5−ジアミノナフタレン
、3,3′−ジメトキシベンジジン、2.4−ビス(ベ
ーターアミノ−t−ブチル)トルエン、ビス−(パラ−
ベーターアミノ−t−ブチル−フェニル)エーテル、ビ
ス−パラ−(ベーターメチル−デルタ−アミノ−ペンチ
ル)ベンゼン、とスーパラー(1,1−ジメチル−5−
アミノ−ペンチル)ベンゼン、1−イソプロピル−2,
4−メタフェニレンジアミン、m−キシレンジアミン、
ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オ
クタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメ
チレンジアミン、ジアミノ−プロピルテトラメチレンジ
アミン、3−メチルへブタメチレンジアミン、4,4′
−ジメチルへブタメチレンジアミン、2.11−ジアミ
ノ−ドデカン、1.2−ビス−(3−アミノ−プロポキ
シ)エタン、2,2−ジメチル−プロピレンジアミン、
3−メトキシ−へキサメチレンジアミン、3.3′−ジ
メチルベンジジン、2.5−ジメチルへキサメチレンジ
アミン、2.5−ジメチルへブタメチレンジアミン、5
−メチル−ノナメチレンジアミン、2.17−リアミツ
ーアイコサデカン、1.4−ジアミノ−シクロヘキサン
、1.10−ジアミノ−1,10−ジメチルデカン、1
.12−ジアミノ−オクタデカン、ならびに1゜3.5
−トリアミノベンゼン、2.4.6−トリアミノ−トリ
アジン、1.2.3−トリアミノプロパン、4.4’、
4“−トリアミノトリフェニルメタン、および4.4’
、4’−)リアミノトリフェニルカルビノールのような
トリアミン。
これらジアミン類を2種以上混合して用いることもでき
る。
る。
本発明の樹脂(II)の製造に使用するのに適当な酸無
水物の例としては次のものがある。
水物の例としては次のものがある。
ピロメリット酸二無水物、2,2−ビス(2゜3−ジカ
ルボキシフェニル)へキサフルオロプロパンニ無水物、
3.3’、4.4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物、L 2,5.6−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、2,3,6゜7−ナフタレンテトラカルボン
酸二無水物、2゜2’、3.3’−ジフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、2.2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)プロパンニ無水物、ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)スルホンニ無水物、3.4゜9.10
−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ナフタレン
−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ナフタ
レン−1,4,5゜8−テトラカルボン酸二無水物、2
.6−ジクロルナフタレン−1,4,5,8−テトラカ
ルボン酸二無水物、2,7−ジクロルナフタレン−1゜
4.5.8−テトラカルボン酸二無水物、2,3゜6.
7−チトラクロルナフタレンー1.4,5゜8−テトラ
カルボン酸二無水物、フェナンスレン−1,8,9,1
0−テトラカルボン酸二無水物、2.2−ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)プロパンニ無水物、1.1−
ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンニ無水物
、1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタ
ンニ無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メ
タンニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
メタンニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル
)スルホンニ無水物、ベンゼン−1゜2.3.4−テト
ラカルボン酸二無水物、3.4゜3’、4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、2. 3. 2’、
3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
2,3.3’、4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン
酸二無水物、チオフェン−2,3,4,5−テトラカル
ボン酸二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物、
デカヒドロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボ
ン酸二無水物、4,8−ジメチル−1゜2.3,5,6
.7−へキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テト
ラカルボン酸二無水物、シクロペンクン−1,2,3,
4−テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン−2,3,
4,5−テトラカルボン酸二無水物、1.2.3.4−
ブタンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ−(2,2
゜2)−オクト(7)−エン−2,3,5,6−テトラ
カルボン酸二無水物、2,3.3’、4’−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、3,4゜3’、4’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3.2’、3’
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)ジメチルシランニ無水物、ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)メチルフェニルシ
ラン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
ジフェニルシランニ無水物、ビス(2,3−ジカルボキ
シフェニル)ジメチルシランニ無水物、1.4−ビス(
3,4−ジカルボキシフェニルジメチルシリル)ベンゼ
ンニ無水物、1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)−1,1,3゜3−テトラメチルジシロキサンニ
無水物、2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル
)へキサフロロプロパンニ無水物、2.2−ビス〔4−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕へキサ
フロロプロパンニ無水物、4.4’−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェノキシ)ジフェニルスルファイドニ無水
物、ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フ
ェニル〕スルホンニ無水物、4.4’−(1,4−フェ
ニレン)ビス(3,5,6−)リフェニルフタル酸無水
物)および4.4’−(オキシジー1.4−フェニレン
)ビス(3,5,6−トリフェニルフタル酸無水物)。
ルボキシフェニル)へキサフルオロプロパンニ無水物、
3.3’、4.4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物、L 2,5.6−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、2,3,6゜7−ナフタレンテトラカルボン
酸二無水物、2゜2’、3.3’−ジフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、2.2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)プロパンニ無水物、ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)スルホンニ無水物、3.4゜9.10
−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ナフタレン
−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ナフタ
レン−1,4,5゜8−テトラカルボン酸二無水物、2
.6−ジクロルナフタレン−1,4,5,8−テトラカ
ルボン酸二無水物、2,7−ジクロルナフタレン−1゜
4.5.8−テトラカルボン酸二無水物、2,3゜6.
7−チトラクロルナフタレンー1.4,5゜8−テトラ
カルボン酸二無水物、フェナンスレン−1,8,9,1
0−テトラカルボン酸二無水物、2.2−ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)プロパンニ無水物、1.1−
ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンニ無水物
、1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタ
ンニ無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メ
タンニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
メタンニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル
)スルホンニ無水物、ベンゼン−1゜2.3.4−テト
ラカルボン酸二無水物、3.4゜3’、4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、2. 3. 2’、
3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
2,3.3’、4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン
酸二無水物、チオフェン−2,3,4,5−テトラカル
ボン酸二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物、
デカヒドロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボ
ン酸二無水物、4,8−ジメチル−1゜2.3,5,6
.7−へキサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テト
ラカルボン酸二無水物、シクロペンクン−1,2,3,
4−テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン−2,3,
4,5−テトラカルボン酸二無水物、1.2.3.4−
ブタンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ−(2,2
゜2)−オクト(7)−エン−2,3,5,6−テトラ
カルボン酸二無水物、2,3.3’、4’−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、3,4゜3’、4’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3.2’、3’
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)ジメチルシランニ無水物、ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)メチルフェニルシ
ラン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
ジフェニルシランニ無水物、ビス(2,3−ジカルボキ
シフェニル)ジメチルシランニ無水物、1.4−ビス(
3,4−ジカルボキシフェニルジメチルシリル)ベンゼ
ンニ無水物、1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)−1,1,3゜3−テトラメチルジシロキサンニ
無水物、2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル
)へキサフロロプロパンニ無水物、2.2−ビス〔4−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕へキサ
フロロプロパンニ無水物、4.4’−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェノキシ)ジフェニルスルファイドニ無水
物、ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フ
ェニル〕スルホンニ無水物、4.4’−(1,4−フェ
ニレン)ビス(3,5,6−)リフェニルフタル酸無水
物)および4.4’−(オキシジー1.4−フェニレン
)ビス(3,5,6−トリフェニルフタル酸無水物)。
これら二無水物は2種以上混合して用いることもできる
。
。
本発明で使用する樹脂(1)と樹脂(Il)の量の比率
は、樹脂(I)5〜40重景%重量脂(■)95〜60
重量%の範囲とし、好ましくは樹脂(■)5〜30!l
i量%、樹脂(II)95〜70重星%の比率のものが
よい。樹脂(りの世が5重量%未満の場合には、接着性
向上の効果が小さく、40重量%を超える場合には、耐
熱性に劣るポリイミド樹脂組成物となり、好ましくない
。
は、樹脂(I)5〜40重景%重量脂(■)95〜60
重量%の範囲とし、好ましくは樹脂(■)5〜30!l
i量%、樹脂(II)95〜70重星%の比率のものが
よい。樹脂(りの世が5重量%未満の場合には、接着性
向上の効果が小さく、40重量%を超える場合には、耐
熱性に劣るポリイミド樹脂組成物となり、好ましくない
。
本発明で得られるポリイミド樹脂組成物中の樹脂(樹脂
(1)十樹脂(■))の濃度は、5〜50重量%の範囲
とする。5重量%未満の場合は1回の塗布でできる皮膜
の厚みが薄く、作業性が悪い。また、50重量%を超え
る場合は、溶液の粘度が高くなり、皮膜を形成すること
ができなくなる。
(1)十樹脂(■))の濃度は、5〜50重量%の範囲
とする。5重量%未満の場合は1回の塗布でできる皮膜
の厚みが薄く、作業性が悪い。また、50重量%を超え
る場合は、溶液の粘度が高くなり、皮膜を形成すること
ができなくなる。
また、本発明に使用できる樹脂(りおよび樹脂(II)
を溶解する有機極性溶媒としては、たとえば、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N、N−ジメチルアセトアミド、
N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルスル
ホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、フェノール、
クレゾール、クロルフェノールなどが用いられる。また
、これらの溶媒とともにトルエン、キシレン、セロソル
ブアセテートなどの汎用溶媒を併用することができる。
を溶解する有機極性溶媒としては、たとえば、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N、N−ジメチルアセトアミド、
N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルスル
ホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、フェノール、
クレゾール、クロルフェノールなどが用いられる。また
、これらの溶媒とともにトルエン、キシレン、セロソル
ブアセテートなどの汎用溶媒を併用することができる。
しかし、その使用量は、ポリイミド樹脂の溶解度を低下
させない範囲に限られる。
させない範囲に限られる。
本発明のポリイミド樹脂組成物の調整方法は、特に限定
されないが、有機極性溶媒中で公知の方法により、樹脂
(1)と樹脂(II)の有機極性溶媒溶液を別々に製造
した後、前記比率内で被接着物の材質に最適な割合に混
合して調整するのが一般的である。なお、被接着物の材
質に最適な樹脂(I)と樹脂(n)の比率は当業者であ
れば筒車な実験により求めることができる。
されないが、有機極性溶媒中で公知の方法により、樹脂
(1)と樹脂(II)の有機極性溶媒溶液を別々に製造
した後、前記比率内で被接着物の材質に最適な割合に混
合して調整するのが一般的である。なお、被接着物の材
質に最適な樹脂(I)と樹脂(n)の比率は当業者であ
れば筒車な実験により求めることができる。
このようにして得られるポリイミド樹脂組成物をガラス
、シリコンウェハなどの無機物表面に塗布した後、加熱
処理することにより、強固に接着したポリイミド樹脂皮
膜が得られる。
、シリコンウェハなどの無機物表面に塗布した後、加熱
処理することにより、強固に接着したポリイミド樹脂皮
膜が得られる。
樹脂(1)および樹脂(U)としてポリイミド前駆体を
用いた場合は、塗布後の加熱処理時にポリイミド化する
。
用いた場合は、塗布後の加熱処理時にポリイミド化する
。
本発明のポリイミドを被接着物に塗布する方法としては
、スピンコード、スプレー、はけ塗り等、通常用いられ
ている方法で塗布することができる。
、スピンコード、スプレー、はけ塗り等、通常用いられ
ている方法で塗布することができる。
以下、本発明を実施例によって説明するが、本発明の範
囲は、これら実施例によって限定されるものではない。
囲は、これら実施例によって限定されるものではない。
なお、実施例、比較例で樹脂を基材に塗布する際、作製
した基材上のポリイミド樹脂皮膜の厚みが3〜4μ饋と
なるように調整して行った。
した基材上のポリイミド樹脂皮膜の厚みが3〜4μ饋と
なるように調整して行った。
貰l」土し■1遺
(1) 樹脂A(ポリエステルイミド前駆体)の製造
攪拌装置、冷却管、温度計を備えた500m1フラスコ
に、五酸化リンで乾燥し、減圧蒸留した精製N−メチル
−2−ピロリドン(以下NMPと略す)2633gを仕
込み、次いでビス(3−アミノプロピル)テトラメチル
ジシロキサン 24.8g(0,1モル)を添加し、均
一溶液になるまで攪拌した。次にフラスコを氷冷しなが
ら、内容物が10℃以上にならないようにエチレンビス
トリメリテート(以下EBTAと略す)41g(0,1
モル)を徐々に添加した。EBTAが反応、溶解した後
、10℃で6時間反応を続け、樹脂A(ポリエステルイ
ミド前駆体)のNMP溶液を得た。この溶液中の樹脂A
の濃度は19.1重量%で、粘度は16.3ボイズ(2
5℃)であった。
攪拌装置、冷却管、温度計を備えた500m1フラスコ
に、五酸化リンで乾燥し、減圧蒸留した精製N−メチル
−2−ピロリドン(以下NMPと略す)2633gを仕
込み、次いでビス(3−アミノプロピル)テトラメチル
ジシロキサン 24.8g(0,1モル)を添加し、均
一溶液になるまで攪拌した。次にフラスコを氷冷しなが
ら、内容物が10℃以上にならないようにエチレンビス
トリメリテート(以下EBTAと略す)41g(0,1
モル)を徐々に添加した。EBTAが反応、溶解した後
、10℃で6時間反応を続け、樹脂A(ポリエステルイ
ミド前駆体)のNMP溶液を得た。この溶液中の樹脂A
の濃度は19.1重量%で、粘度は16.3ボイズ(2
5℃)であった。
(2ト樹脂B(ポリエステルイミド樹脂)の製造攪拌装
置、冷却管、温度計、窒素導入管を備えた500m1フ
ラスコに、m−クレゾール 263゜3g、トルエン
52.7 gおよびEBTA 41g(0,1モル)
を仕込んだ。次に、窒素を内容物に吹き込みながらフラ
スコを加熱し、内湯を100℃に昇温した。次いで、ビ
ス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン
24.8g(0゜1モル)を30分かけ、滴下した。滴
下終了後、140℃に昇温した内容物の温度に保ったま
ま6時間反応を行い、樹脂B(ポリエステルイミド樹脂
)のm−クレゾール溶液を得た。この間にトルエン、縮
合水およびm−クレゾールが合わせて62.8g留出し
た。この溶液中の樹脂Bの濃度は19.3重世%、粘度
は10.2ボイズ(30℃)であった。また、得られた
樹脂の赤外線分光分析を行ったところ、1780cm−
’にイミド結合の特性吸収ピークが認められ、アミド結
合の特性吸収ピークが認められなかったので、イミド化
率95%以上のポリエステルイミド樹脂を含有している
ことがわかった。
置、冷却管、温度計、窒素導入管を備えた500m1フ
ラスコに、m−クレゾール 263゜3g、トルエン
52.7 gおよびEBTA 41g(0,1モル)
を仕込んだ。次に、窒素を内容物に吹き込みながらフラ
スコを加熱し、内湯を100℃に昇温した。次いで、ビ
ス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン
24.8g(0゜1モル)を30分かけ、滴下した。滴
下終了後、140℃に昇温した内容物の温度に保ったま
ま6時間反応を行い、樹脂B(ポリエステルイミド樹脂
)のm−クレゾール溶液を得た。この間にトルエン、縮
合水およびm−クレゾールが合わせて62.8g留出し
た。この溶液中の樹脂Bの濃度は19.3重世%、粘度
は10.2ボイズ(30℃)であった。また、得られた
樹脂の赤外線分光分析を行ったところ、1780cm−
’にイミド結合の特性吸収ピークが認められ、アミド結
合の特性吸収ピークが認められなかったので、イミド化
率95%以上のポリエステルイミド樹脂を含有している
ことがわかった。
囲にU口」11遣
(1) 樹脂C(ポリイミド前駆体)の製造撹拌装置
、冷却管、温度計を備えた500m1フラスコに、NM
P 338.4gと4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテル(以下DDEと略す)36.0g(0,18モル
)を仕込み、DDEが溶解するまで攪拌した。次いでフ
ラスコを冷却しながら、内容物が30℃以上にならない
ように3.3’。
、冷却管、温度計を備えた500m1フラスコに、NM
P 338.4gと4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテル(以下DDEと略す)36.0g(0,18モル
)を仕込み、DDEが溶解するまで攪拌した。次いでフ
ラスコを冷却しながら、内容物が30℃以上にならない
ように3.3’。
4.4′−ベンゾフェノンテトラカルポン酸二無水物(
以下BTDAと略す) 28.9 g (0,09モル
)およびピロメリット酸二無水物(以下PMDAと略す
)19.62g (0,09モル)を徐々に添加した。
以下BTDAと略す) 28.9 g (0,09モル
)およびピロメリット酸二無水物(以下PMDAと略す
)19.62g (0,09モル)を徐々に添加した。
BTDAおよびPMDAが完全に溶解するまで内容物の
温度を30℃に保った。次に8゜℃で6時間クツキング
を行い、粘度31ポイズ(25℃)、濃度20.0重量
%の樹脂C(ポリイミド前駆体)のNMP溶液を得た。
温度を30℃に保った。次に8゜℃で6時間クツキング
を行い、粘度31ポイズ(25℃)、濃度20.0重量
%の樹脂C(ポリイミド前駆体)のNMP溶液を得た。
(2) 樹脂D(ポリイミド樹脂)の製造攪拌装置、
冷却管、温度計、窒素導入管を備えた500m1フラス
コに、p−クロルフェノール390gを入れ、50℃に
昇温した。次に、ffTDA 32.2g(0,1モ
ル)、DDE 20g(0,1モル)を添加した。次
いで窒素ガスを内容液に吹き込みながら、160℃まで
約1.5時間で昇温しな。その後、160℃で3時間反
応させて樹脂D(ポリイミド樹脂)の溶液を得た。この
溶液の粘度は70℃で20.1ポイズであり、樹脂りの
濃度は15.3重■%であった。また、得られた樹脂の
赤外線分光分析を行ったところ、1780cm −’に
イミド結合の特性吸収ピークが認められ、アミド結合の
特性吸収ピークが認められなかったので、イミド化率9
5%以上のポリイミド樹脂を含有していることがわかっ
た。
冷却管、温度計、窒素導入管を備えた500m1フラス
コに、p−クロルフェノール390gを入れ、50℃に
昇温した。次に、ffTDA 32.2g(0,1モ
ル)、DDE 20g(0,1モル)を添加した。次
いで窒素ガスを内容液に吹き込みながら、160℃まで
約1.5時間で昇温しな。その後、160℃で3時間反
応させて樹脂D(ポリイミド樹脂)の溶液を得た。この
溶液の粘度は70℃で20.1ポイズであり、樹脂りの
濃度は15.3重■%であった。また、得られた樹脂の
赤外線分光分析を行ったところ、1780cm −’に
イミド結合の特性吸収ピークが認められ、アミド結合の
特性吸収ピークが認められなかったので、イミド化率9
5%以上のポリイミド樹脂を含有していることがわかっ
た。
実施例1〜3
表1に示した比率で樹脂Aと樹脂Cを混合したポリイミ
ド前駆体溶液をシリコンウェハ上にスピンコードした後
、熱風乾燥機中で150℃で1時間、250℃で30分
、350℃で30分加熱してポリイミドへ変換した。ど
の混合比のポリイミド前駆体溶液から形成したポリイミ
ド皮膜も全て強靭であり、常態でのシリコンウェハへの
接着性は良好であった。また、PCT処理後でも工11
離せず、接着性に優れていた。
ド前駆体溶液をシリコンウェハ上にスピンコードした後
、熱風乾燥機中で150℃で1時間、250℃で30分
、350℃で30分加熱してポリイミドへ変換した。ど
の混合比のポリイミド前駆体溶液から形成したポリイミ
ド皮膜も全て強靭であり、常態でのシリコンウェハへの
接着性は良好であった。また、PCT処理後でも工11
離せず、接着性に優れていた。
比較例1
樹脂Aの量と樹脂Cの量との割合を1799で混合した
ポリエステルイミド前駆体およびポリイミド前駆体の混
合溶液を用いたほかは実施例1と同様にしてシリコンウ
ェハへの接着性を調べたところ、常態では剥離していな
かったが、PCT処理後は容易に剥離した。
ポリエステルイミド前駆体およびポリイミド前駆体の混
合溶液を用いたほかは実施例1と同様にしてシリコンウ
ェハへの接着性を調べたところ、常態では剥離していな
かったが、PCT処理後は容易に剥離した。
比較例2
樹脂Aの量と樹脂Cの量との割合を50150で混合し
たポリエステルイミド前駆体およびポリイミド前駆体の
混合溶液を用いたほかは実施例1と同様にしてシリコン
ウェハへの接着性を調べたところ、常態、PCT処理後
ともに剥離せず、接着性は良好であったが、皮膜の熱分
解温度を調べたところ、310℃と劣っていた。
たポリエステルイミド前駆体およびポリイミド前駆体の
混合溶液を用いたほかは実施例1と同様にしてシリコン
ウェハへの接着性を調べたところ、常態、PCT処理後
ともに剥離せず、接着性は良好であったが、皮膜の熱分
解温度を調べたところ、310℃と劣っていた。
実施例4および5
実施例2で使用したポリエステルイミド前駆体およびポ
リイミド前駆体の混合溶液を用い、基材をSin、皮膜
つきガラス板(実施例4)、並板ガラス(実施例5)に
替え、実施例1と同様にしてポリイミド樹脂皮膜を形成
した。接着性を調べたところ、常[PCT処理後ともに
剥離せず、優れた接着性を有していた。
リイミド前駆体の混合溶液を用い、基材をSin、皮膜
つきガラス板(実施例4)、並板ガラス(実施例5)に
替え、実施例1と同様にしてポリイミド樹脂皮膜を形成
した。接着性を調べたところ、常[PCT処理後ともに
剥離せず、優れた接着性を有していた。
実施例6
樹脂Bと樹脂りを20/80の割合で混合したポリイミ
ド樹脂溶液をシリコンウェハ上にスピンコードした後、
熱風乾燥機中で150℃1時間、300℃30分間加熱
して溶媒を除去した。また、接着性を調べたところ、常
態、PCT処理後ともに剥離せず、接着性に優れていた
。
ド樹脂溶液をシリコンウェハ上にスピンコードした後、
熱風乾燥機中で150℃1時間、300℃30分間加熱
して溶媒を除去した。また、接着性を調べたところ、常
態、PCT処理後ともに剥離せず、接着性に優れていた
。
以上の結果を表1に示す。
以下余白
〔発明の効果〕
本発明のポリイミド樹脂組成物は、被接着物の材質等に
あわせた調整が極めて容易であり、また、本発明のポリ
イミド樹脂組成物より作製したポリイミド樹脂皮膜は、
基材との接着性に優れており、その工業的価値は大であ
る。
あわせた調整が極めて容易であり、また、本発明のポリ
イミド樹脂組成物より作製したポリイミド樹脂皮膜は、
基材との接着性に優れており、その工業的価値は大であ
る。
m−へ、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は2価の有機基であり、R_2は1価の
有機基であり、nは1〜100の整数である。) で表されるジアミノシロキサンと一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_3は2個以上の炭素原子を有する有機基で
ある。) で表されるテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得
られる樹脂( I )5〜40重量%と、分子内に珪素原
子を有しないジアミンと分子内にエステル結合を有しな
いテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られる樹
脂(II)60〜95重量%とからなる混合物が、有機極
性溶媒中に5〜50重量%溶解していることを特徴とす
るポリイミド樹脂組成物。 2、樹脂( I )がポリエステルイミド樹脂である特許
請求の範囲第1項記載のポリイミド樹脂組成物。 3、樹脂( I )がポリエステルイミド前駆体である特
許請求の範囲第1項記載のポリイミド樹脂組成物。 4、樹脂( I )のイミド化率が95%以上である特許
請求の範囲第1項または第2項記載のポリイミド樹脂組
成物。 5、樹脂(II)がポリイミド樹脂である特許請求の範囲
第1項記載のポリイミド樹脂組成物。 6、樹脂(II)がポリイミド樹脂前駆体である特許請求
の範囲第1項記載のポリイミド樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7046486A JPS62227953A (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | ポリイミド樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7046486A JPS62227953A (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | ポリイミド樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62227953A true JPS62227953A (ja) | 1987-10-06 |
Family
ID=13432266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7046486A Pending JPS62227953A (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | ポリイミド樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62227953A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006319239A (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-24 | Kaneka Corp | 積層体及びプリント配線板 |
CN114222778A (zh) * | 2019-08-21 | 2022-03-22 | 本州化学工业株式会社 | 树脂原料用组合物 |
-
1986
- 1986-03-28 JP JP7046486A patent/JPS62227953A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006319239A (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-24 | Kaneka Corp | 積層体及びプリント配線板 |
CN114222778A (zh) * | 2019-08-21 | 2022-03-22 | 本州化学工业株式会社 | 树脂原料用组合物 |
CN114222778B (zh) * | 2019-08-21 | 2023-11-14 | 本州化学工业株式会社 | 树脂原料用组合物 |
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