JPS62216203A - 粉末成型磁石の製造方法 - Google Patents

粉末成型磁石の製造方法

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JPS62216203A JP62037343A JP3734387A JPS62216203A JP S62216203 A JPS62216203 A JP S62216203A JP 62037343 A JP62037343 A JP 62037343A JP 3734387 A JP3734387 A JP 3734387A JP S62216203 A JPS62216203 A JP S62216203A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 工 発明の背景 技術分野 本発明は、セリウム族、イツトリウム族の1種以上から
なる希土類元素RとCoとの金属間化合物を主体とした
R2Col7系Cu置換析出効果型の永久磁石材料を熱
処理して粉末とし、この粉末を用いた粉末成型磁石の製
造方法に関する。
先行技術とその問題点 重量百分比で、22〜28%のR(Rは希土類元素の一
種以上)と、coと、Cuと、Fe、Ni、Mnおよび
Crのうちの1種以上と、Zr、Ti、Hf、Nb、V
およびTaのうちの1種以上とからなる組成を有する希
土類コバルト系のR2Co17系Cu置換析出硬化型の
永久磁石が知られている。
この磁石は、残留磁束密度(Br)、保持力(bHc、
i Hc)が大きく、エネルギー積(B−H)maxが
犬きく、しかもキュリ一温度が高く、温度特性のすぐれ
た永久磁石である。
このような永久磁石を製造するには、公知のいわゆる還
元拡散法あるいは溶解法によって化合物を作製したのち
、これに溶体化処理、時効処理を施して粉砕し、磁場配
向を施して、ゴムやプラスチック樹脂をバインダーとし
て粉末成型磁石としたり、あるいは、化合物を粉砕後、
磁場成型し、その後焼結と溶体化処理を行い、次いで時
効処理を施して焼結磁石としたりしている。
このうち特に粉末成型磁石としては、従来の粉末成型磁
石にない高い磁気特性が期待され、しかも従来の焼結フ
ェライトと比べ、機器の小型化が可能で、成型後の後加
工が不要で複雑形状品が得られるなどのすぐれた利点を
もつ。
このような場合、R2Col7系のCu置換型磁石の時
効処理は、スピノーダル分解を利用して、マトリックス
中に微細な析出物を分散析出させ、この相分離を制御し
て保磁力を高めるための熱処理である。 そして、この
析出および相分・離の状態が磁石の性能を大きく左右す
るため、この時効処理を最適な条件下で実施することが
、製造上きわめて重要なポイントとなるものである。
従来、R2C0.7系のCu置換析出硬化型磁石の時効
処理としては、700〜900℃の温度から400℃近
傍まで多段時効する方法(特開昭50−133106号
公報)や、700〜900℃の温度から400℃近傍ま
で徐冷する方法(特開昭53−106624号公報)が
知られている。
しかし、これら従来の方法による時効処理では、保磁力
、残留磁束密度、エネルギー積、履歴曲線の角形比、着
磁特性等の磁気特性の点で、未だ十分満足のできる特性
が得られるには至っておらず、特に、10wt%以下、
とりわけ8wt%以下の低Cu量、および6wt%以上
、とりわけ10wt%以上の高Fe量の低価格の実用磁
石材料組成においての、磁気特性の改良が望まれている
すなわち、より具体的に説明するならば、これら低Cu
量、高Fe量の実用磁石材料組成では、従来公知の時効
処理を施すことにより、12KG程度のBrがえられ、
30MGOe以上の(B −H) max値が期待され
るにもかかわらず、角形性が悪く、所期の(B−H)+
nax値がえられない。 この場合、10wt%よりわ
ずかに小さいCuJilの組成では、所期の(B−H)
maxより1〜2MGoe程度小さいのみの(B−H)
max値はえられるが、従来の時効処理では、この1〜
2 MGOeのエネルギー積の増大を実現することがで
きず、実用上大きな不都合を生じている。
なお、Cu量を2〜3wt%程度にまで減少させたとき
には、従来の時効処理方法では、Brもきわめて低下し
てしまい、まったく実用に耐える磁石は実現しない。
さらには、従来の希土類コバルト系材料の時効処理は、
時効の開始温度および終了温度における保持時間を長く
とる必要があり、時効所要時間が長いという欠点もある
なお、従来の希土類コバルト系材料の時効処理では、冷
却の制御のしがたのみが着目されており、くりかえし複
数回の加熱冷却を行う例はない。
さらには、特開昭57−161044号公報には、1次
焼結および2次焼結を施し、等温処理後それより高い温
度から冷却する旨が開示されている。 しかし、この方
法は、2回の焼結を行わなければならない点できわめて
煩雑であり、製造へのコストアップにつながるものであ
る。 また減磁曲線の角形比が十分でない。
さらに時効処理方法も、低温での等温処理の後、温度を
上げて次の時効処理を行なう点で本発明の時効処理方法
とは異なるものである。
また、本発明における粉末成型磁石については開示され
ていない。
II  発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであっ
て、その主たる目的は、保磁力、残留磁束密度、エネル
ギー積、角形比、着磁特性等の磁気特性が、高Fe量、
低Cufiにおいて、従来の時効処理と比較して格段と
向上し、実用上十分満足できる磁石特性をもつ実用磁石
が実現し、しかも、時効処理時間も短縮できる熱処理方
法を用いたR2Co17系Cu置換型の粉末成型磁石の
製造方法を提供することにある。
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、重量百分比で、22〜28% R(
Rは希土類元素の一種以上)、2〜10% Cu、 6〜35% T(TはFe、Ni、MnおよびCrのう
ちの1種以上)、0.5〜6% M(MはZr、Ti、
Hf、Nb、VおよびTaのうちの1種以上)、残部C
oを主体とする組成を有する希土類コバルト系金属間化
合物を溶体化処理して急冷し、次いで、750〜950
℃の温度から700℃以下の温度まで冷却する熱処理を
2回以上くりかえし施した後、粉砕してバインダーと混
合し、磁場配向および成型を行うことを特徴とする粉末
成型磁石の製造方法である。
なお、本出願の先願である特開昭58−219704号
に記載された永久磁石の製造方法は本発明と同種の多段
時効を行うものであるが、開示されているものは焼結磁
石についてのみであり、粉末成型磁石については開示さ
れておらず、本発明とは異なるものである。
■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明の粉末成型磁石は、後に詳述する組成を有する希
土類コバルト系金属間化合物を得、これを溶体化処理し
て急冷し、次いで、下記に示す熱処理を施した後、粉砕
して磁場配向と成型を行い、バインダーに分散して製造
している。
本発明の粉末成型磁石を製造するために用いる熱処理方
法においては、時効のための複数回の熱処理に先だって
、上記のように、溶体化処理が施される。
溶体化処理は、1000℃以上行うことが好ましい。 
これは、1000℃未満では、履歴曲線の角形性と保磁
力とが低下するからである。
このような場合、溶体化処理は、通常、1000℃〜1
200℃にて、0.5〜10時間程度施される。
溶体化処理ののち、材料は急冷される。
この急冷は、一般に1〜b の冷却速度で行われる。 そして、急冷は、第1回目の
750〜950℃の冷却開始温度以下の任意の温度まで
行えばよい。
この後、必要に応じ所定の熱処理の冷却開始温度までの
加熱を行ったのち、複数回の熱処理が施される。
すなわち、複数回流される各回の熱処理は、750〜9
50℃の冷却開始温度から、700℃以下の冷却終了温
度までの冷却工程からなる。
そして、このような熱処理を2回以上〈りかえすことに
よって、本発明所定の効果が実現するものである。
この場合、くりかえし回数は、2回以上であれば任意の
回数であってよいが、時効処理時間を短縮化する上では
、2〜4回であることが好ましい。
各回の冷却開始温度は、それぞれ互いに異なっていても
よいが、750〜950℃、好ましくは780〜920
℃である。
冷却開始温度が750℃未満となると析出硬化が不十分
となり、また950℃をこえると析出粒子が粗大化して
、ともに保磁力が低下してしまい不適当である。
各回の冷却終了温度は、それぞれ異なフていてもよいが
、700℃以下である。
冷却終了温度が700℃をこえると、析出粒子が粗大化
したり、あるいは析出硬化が不十分となり、保磁力が低
下してしまい、好ましくない。
この場合、冷却終了温度は、600℃から室温までの範
囲、特に500℃から室温までの範囲とすると、磁気特
性向上の点で、より好ましい結果をうる。 なお、この
ような特性向上は、冷却終了温度を下げるほど大きくな
るが、400℃以下ではほとんど効果はかわらない。
各回の冷却速度については特に制限はないが、通常は、
0.05〜b ましくは2〜b この場合、冷却プロフィールは、一旦温度を保持する多
段冷却としてもよく、必要に応じ途中で冷却速度を変え
る連続冷却であってもよい。 ただ、時効処理時間を短
縮する上では、連続冷却であることが好ましく、特に、
初期より終期の冷却速度を減少させることが好ましい。
なお、冷却プロフィールの最適条件は、組成等の違いに
応じ、実験から容易に求めることができる。
さらに、各回の熱処理時間の加熱プロフィ−ルは任意で
あるが、通常は2〜b 度とする。
なお、冷却開始温度においては、保持時間を設けること
が好ましい。 保持時間は、通常、5分〜20時間程度
であるが、好ましくは10分〜6時間がよい。 この保
持時間は、くりかえしの回数、冷却速度等の組合わせに
より経験的に定める。
一方、冷却終了温度では、必ずしも保持時間を設ける必
要はない。
本発明の粉末成型磁石を製造するために上記のような複
数回の熱処理を施す希土類コバルト系金属間化合物の組
成は、上記のものである。
この場合、22〜28wt%含有される希土類元素Rは
、セリウム系、イツトリウム系いずれの1種以上であっ
てもよいが、特に好ましいのは、サマリウムまたはセリ
ウムを含む場合である。
また、Cuの含有量は2〜10wt%である。
これ以外では、本発明の実効が小さくなる。
この場合、Cu含有量が、2.5〜8wt%、特に3〜
7.5wt%となると、従来の時効処理に対する磁気特
性の増大率はきわめて大きいものとなる。 そして、き
わめて良好な磁気特性をもつ磁石が実現する。 さらに
、Fe。
Ni、Mn、Crの1種以上のTは、6〜35wt%含
有される。 Tが、これ以外の含有量となると、本発明
の実効が小さくなる。
この場合、Tは必須元素としてFeを含み、必要に応じ
、Ni、Mn、Crの1種以上を含有すると、より好ま
しい結果なうる。 そ して、Fe含有量が10〜25
wt%、特に14〜25wt%となると、従来の時効処
理に対する磁気特性の増大率はきわめて大きいものとな
り、きわめて良好な磁気特性をもつ磁石が実現する。
加えて、本発明における永久磁石材料中には、Zr、T
i、Hf、Nb、VおよびTaのうちの少なくとも1種
以上のMが0.5〜6wt%含有される。 Mがこれ以
外の含有量となると、磁気特性が劣化してしまう。
本発明の粉末成型磁石を製造するために使用するバイン
ダーとしては、公知の種々の樹脂が挙げられる。 具体
的には、ゴム・エラストマー、ポリプロピレン(pp)
、ポリエチレン(PE)、ナイロン−11,12,6 (PA)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポ
リフェニレンスルホネート(pps)等の熱可塑性樹脂
、不飽和ポリエステル、エポキシ等の熱硬化性樹脂であ
る。
希土類コバルト系金属間化合物を粉砕したもの(以下金
属粉末という場合がある)とそれを分散するバインダー
との混合割合はバインダーが全体の2〜50重量%とな
るようにするのがよい。
成型方法は、分散するバインダーの種類によって異なり
、熱可塑性樹脂の場合は射出成型、押出成型、圧延成型
等が用いられ、熱硬化性樹脂の場合は圧縮成型等が用い
られる。
一般に射出成型が用いられるが、通常射出中に磁場を印
加する。
本発明の粉末成型磁石を製造する場合、さらに、カップ
リング剤、滑剤、酸化防止剤などを添加してもよい。
また、用いる金属粉末や磁石には表面コーティングを行
ってもよい。
■ 発明の具体的作用効果 本発明によれば、従来の時効処理を行うときと比較して
、保磁力、残留磁束密度、エネルギー積、角形比、着磁
特性等の磁気特性が向上する。
すなわち、10wt%以下の低Cu量、高Fe量の実用
磁石材料組成において、実用上十分満足できる磁気特性
かえられる。
この場合、比較的10wt%に近いCu量範囲、例えば
4〜10wt%、特に4〜8wt%にiいては、従来の
時効処理と比較して、Brを同等以上とした上で、角形
性が向上し、保磁力が向上するので、所期の(B−H)
 max値がえられ、実用上十分満足できる特性を示す
このため、粉末成型磁石としての特性が優れる。
また、従来の時効処理ではまったく実用に耐えなかった
、より低Cu組成、例えば2〜4wt%、特に2.5〜
4wt%では、Br、保磁力ともきわめて高い増大率で
増大する結果、やはり実用上十分満足できる特性を示す
また、各回の冷却過程において、冷却開始ないし終了温
度等での保持時間は従来より短くすることができ、総体
として、時効処理時間は、従来より短縮することができ
る。
■ 発明の具体的実施例 以下、本発明を実施例により、さらに詳細に説明する。
実施例1゜ 重量百分比で、24.5%Sm、5%Cu、15%Fe
、2%Zr、残Coからなる合金を高周波誘導溶解によ
り作製した。
これを溶体化処理し、室温まで冷却した。
これを、第1図のようなプロフィールにて、冷却開始温
度T3、冷却終了温度t1として、T1とtlを変化さ
せて熱処理を2回くりかえした。
第3図に、iHcとT1との関係、第4図にiHcとt
lとの関係を実線にて示す。
なお、第3図、第4図には、第2図で示した従来法であ
る1回のみの多段時効処理のプロフィールにおいて、保
持時間を8=2Hr、b=IHr、c=IHrとした場
合の結果が破線で示される。
これらの結果から、2回以上の所定の時効熱処理を施す
本発明の効果があきらかである。
また、T1は750〜950℃、tlは700℃以下か
好ましいこともわかる。
さらには、トータル時効処理時間も短縮されていること
がわかる。
実施例2゜ 実施例1と同様に溶体化処理したのち、下記熱処理A、
B、Cを施して、表1に示すような合金I八〜10Cを
得た。
A:第1図のプロフィールにおいて、 T、=850℃、t、=400℃。
B:第5図の3回のプロフィールにおいて、T、=90
0℃、T2=850℃、 T3=800℃、t、=500℃、 t2−450℃、t3=400℃。
C:第2図の1回のみのプロフィールにおいて、T、=
850℃、t、=400℃、a=6Hr、b=IHr、
c=4Hrとした場合。
このような合金IA〜IOCを粉砕し、分散するバイン
ダーにナイロン12を用いて、サンプル:バインダーの
混合割合を重量比で94=6として混合したものに、ざ
らにシラン系のカップリング剤をそれぞれ、上記混合物
に対し0.1wt%添加して混合し、その後270℃で
加熱混練した。
その後ベレット化し、磁場中で射出成型した。
この場合射出中の印加磁場は15kOeとした。 この
ように成型した磁石を取出し、着磁を行った。
上記のように作製した磁石を用いた合金IA〜10Cに
応じてサンプルIA〜7Cとする。
サンプルIA〜7Cの磁気特性、Br。
i Hc 、  (B−H) maxを表2に示す。
また、表2には、これら各特性の、処理Cに対する増大
率が示される。
表  2(その1) 合金  磁  気   特 性 I A  6.8[5!J]  ]]1.84H;] 
 ]0.5[9!l;]I B  6.8[5!J] 
 13.1[64!kl  10.7[114k]IC
6,58,09,6 2A  6.6[5$]  14.9[80!J]  
l0.4[11!k]2 B  6.7[6!J]  
18.2[95!j;]  10.6[131]2C6
,3B、3   9.4 3 A  6.8[5!k]  10.9[54!%]
  10.8[14!k13 B  6.8[596]
  12.2[72k]  10.6[14k]、3C
6,57,19,3 4A  7.0[8%;]  9.9[125k]  
]]1.0574k]4 B  7.0[8!k]  
]]0.5]39!l;]  11.2[60!l;]
4C6,54,47,0 表  2(その2) 合 金     磁     気        特 
 性5A  6.3[2!14]  8.1[35!!
]   9.5[]0!!]5 B  6.4[3!I
I;]  ]8.948!l;]   ]9.713m
]5C6,26,08,6 6A  fi、4[34k]  8.3[1]!J] 
  9.6[10!l;]6 B  6.4[3%;]
  ]8.513!k]   9.7[11!Ii]6
C6,27,58,7 7A  7.][34’!]  6.1[69!J] 
  9.2[+30!k]7 B  7.2[36!に
]  6.5[8]!k]   9.6[]4096]
7C5,33,64 表2の結果から、本発明の効果があきらかである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明における熱処理方法の1例を示す温度
一時間プロフィールのグラフである。 第2図は、従来における熱処理方法の例を示す温度一時
間プロフィールのグラフである。 第3図および第4図は、それぞれ第1図および第2図の
プロフィールのT1およびtlをかえたときの、保磁カ
ーT、および保磁カーt1のグラフである。 この場合
、第3図および第4図において、実線が第1図のプロフ
ィールによる、破線が第2図のプロフィールによる場合
である。 第5図は、本発明における熱処理方法の他の例を示す温
度一時間プロフィールのグラフである。 Lミ♀S?co  の <  (N  0(aO阿))
Hl (aQ片) つH!

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、重量百分比で、22〜28%R(Rは希土類元素の
    一種以上)、2〜10%Cu、 6〜35%T(TはFe、Ni、MnおよびCrのうち
    の1種以上)、0.5〜6%M (MはZr、Ti、Hf、Nb、VおよびTaのうちの
    1種以上)、残部Coを主体とする組成を有する希土類
    コバルト系金属間化合物を溶体化処理して急冷し、次い
    で、750〜950℃の温度から700℃以下の温度ま
    で冷却する熱処理を2回以上くりかえし施した後、粉砕
    してバインダーと混合し、磁場配向および成型を行うこ
    とを特徴とする粉末成型磁石の製造方に記載の粉末成型
    磁石の製造方法。 2、希土類コバルト系金属間化合物のCu含有量が2.
    5〜8%である特許請求の範囲第1項に記載の粉末成型
    磁石の製造方法。 3、希土類コバルト系金属間化合物のTが Fe、またはFeとNi、MnおよびCrのうちの1種
    以上との組合わせからなり、Fe含有量が10〜25%
    である特許請求の範囲第1項または第2項に記載の粉末
    成型磁石の製造方法。 4、溶体化処理温度が1000℃以上である特許請求の
    範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載の粉末成型磁
    石の製造方法。 5、溶体化処理後の急冷終了温度が、第1回目の750
    〜950℃の冷却開始温度から室温までの温度範囲内に
    ある特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記
    載の粉末成型磁石の製造方法。 6、熱処理の各回の冷却終了温度が、650℃から室温
    までの温度範囲内にある特許請求の範囲第1項ないし第
    5項のいずれかに記載の粉末成型磁石の製造方法。 7、熱処理のくりかえし回数が2〜4回である特許請求
    の範囲第1項ないし第6項のいずれかに記載の粉末成型
    磁石の製造方法。 8、熱処理での各回の冷却開始温度にて、 5分〜20時間の保持時間を設ける特許請求の範囲第1
    項ないし第7項のいずれかに記載の粉末成型磁石の製造
    方法。 9、熱処理の各回の冷却速度が0.05〜15℃/mi
    nである特許請求の範囲第1項ないし第8項のいずれか
    に記載の粉末成型磁石の製造方法。
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