JPS62214696A - プリント配線板およびその製造方法 - Google Patents
プリント配線板およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS62214696A JPS62214696A JP5735786A JP5735786A JPS62214696A JP S62214696 A JPS62214696 A JP S62214696A JP 5735786 A JP5735786 A JP 5735786A JP 5735786 A JP5735786 A JP 5735786A JP S62214696 A JPS62214696 A JP S62214696A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printed wiring
- wiring board
- insulating resin
- layer
- metal substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 67
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 40
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 34
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims description 26
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 19
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 18
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 16
- 238000007739 conversion coating Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 14
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 8
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 6
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 21
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 10
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 5
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009420 retrofitting Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、プリント配線板に関する。
最近、電子部品の小型化に伴って、プリント配線板上へ
の高密′度実装化が進められている。
の高密′度実装化が進められている。
LEDやトランジスタが搭載された電子部品が高密度で
実装されていると、電子部品により局所的に大きな熱の
発生がある。そこで、プリント配線板には、この熱を効
率良く吸収し、しかも、吸収した熱を素早く放熱する必
要性が生じる。
実装されていると、電子部品により局所的に大きな熱の
発生がある。そこで、プリント配線板には、この熱を効
率良く吸収し、しかも、吸収した熱を素早く放熱する必
要性が生じる。
たとえば、プリント配線板の放熱性を高めるための構造
として、放熱性の高い金属を基板に用いることが考えら
れる。すなわち、アルミニウム。
として、放熱性の高い金属を基板に用いることが考えら
れる。すなわち、アルミニウム。
鉄などからなる金属基板に絶縁樹脂層(接着剤層)を介
して電路を形成するようにするのである。
して電路を形成するようにするのである。
しかし、このプリント配線板は、電路が一層のみである
ので、単位面積あたりの電路数に制限があリ、チップ部
品を高密度に実装することができなかった。また、裏面
に電路を設けてジャンパ線で接続しようとしても、基板
が金属であるため貫通孔側面の絶縁処理が必要で高密度
化が難しがった他方、ガラスエポキシや紙エポキシ等の
有機物質を基板とした多層プリント配線板があるが、こ
れは、基板が有機物質であるため、放熱性が悪いという
欠点があった。そこで、LED、I−ランジスタなどの
比較的発熱の大きい電子部品を多数個実装する必要が生
じた場合は、アルミニウム等からなる放熱板を後付けす
るなど、何らかの放熱手段を設ける必要があった。その
ため、工程1部品点数が増え、コストアップを招いてい
た。
ので、単位面積あたりの電路数に制限があリ、チップ部
品を高密度に実装することができなかった。また、裏面
に電路を設けてジャンパ線で接続しようとしても、基板
が金属であるため貫通孔側面の絶縁処理が必要で高密度
化が難しがった他方、ガラスエポキシや紙エポキシ等の
有機物質を基板とした多層プリント配線板があるが、こ
れは、基板が有機物質であるため、放熱性が悪いという
欠点があった。そこで、LED、I−ランジスタなどの
比較的発熱の大きい電子部品を多数個実装する必要が生
じた場合は、アルミニウム等からなる放熱板を後付けす
るなど、何らかの放熱手段を設ける必要があった。その
ため、工程1部品点数が増え、コストアップを招いてい
た。
このような事情から、放熱性が良く、高密度実装に適し
たプリント配線板が求められていた。
たプリント配線板が求められていた。
〔発明の目的〕
以上の事情に濫みて、この発明は、放熱性が良く、高密
度実装に適したプリント配線板を提供することを目的と
する。
度実装に適したプリント配線板を提供することを目的と
する。
前記目的を達成するため、この発明は、表面に絶縁樹脂
層を有する金属基板上の所望部分に2層以上の電路がそ
れぞれ絶縁樹脂層を介して積み重ねられ、前記各電路が
アディティブ法により形成され、かつ、前記金属基板に
放熱構造を備えているプリント配線板をその要旨とする
。
層を有する金属基板上の所望部分に2層以上の電路がそ
れぞれ絶縁樹脂層を介して積み重ねられ、前記各電路が
アディティブ法により形成され、かつ、前記金属基板に
放熱構造を備えているプリント配線板をその要旨とする
。
以下にこれを、その一実施例をあられす図面を参照しな
がら詳しく説明する。
がら詳しく説明する。
第1図は、この発明にかかるプリント配線板の一実施例
をあられす。
をあられす。
図にみるように、このプリント配線板は、アルミニウム
や鉄からなる金属基板1の表面に第1絶縁樹脂層(第1
接着剤層)2が形成されている。
や鉄からなる金属基板1の表面に第1絶縁樹脂層(第1
接着剤層)2が形成されている。
第1絶縁樹脂N2上の所望部分には、第1電路3および
第2電路4が第2絶縁樹脂層(第2接着剤層)5を介し
て積み重ねられている。第1電路3および第2電路4は
、アディティブ法により形成されている。第1電路3と
第2電路4との間の一部には、第2絶縁樹脂層5が設け
られておらず、その部分で第1電路3と第2電路4とが
導通されている。金属基板1の裏面には、放熱用フィン
6が形成されている。すなわち、金属基板1は、放熱構
造を備えている。
第2電路4が第2絶縁樹脂層(第2接着剤層)5を介し
て積み重ねられている。第1電路3および第2電路4は
、アディティブ法により形成されている。第1電路3と
第2電路4との間の一部には、第2絶縁樹脂層5が設け
られておらず、その部分で第1電路3と第2電路4とが
導通されている。金属基板1の裏面には、放熱用フィン
6が形成されている。すなわち、金属基板1は、放熱構
造を備えている。
以上にみるように、このプリント配線板は、電路が多層
構造になっているため、配線密度を上げることができ、
高密度実装が可能である。また、基板が金属からなって
いるため、熱の伝導性が良い、そのため、このプリント
配線板は、実装された電子部品により発生した熱を効率
良く放散することができる。しかも、金属基板1裏面に
放熱用フィン6が形成され、放熱面積が大きくなってい
るため、吸収した熱を素早く外部へ放熱することができ
る。したがって、このプリント配線板は、放熱性が極め
て良いものになっていて、高密度実装に適しているので
ある。
構造になっているため、配線密度を上げることができ、
高密度実装が可能である。また、基板が金属からなって
いるため、熱の伝導性が良い、そのため、このプリント
配線板は、実装された電子部品により発生した熱を効率
良く放散することができる。しかも、金属基板1裏面に
放熱用フィン6が形成され、放熱面積が大きくなってい
るため、吸収した熱を素早く外部へ放熱することができ
る。したがって、このプリント配線板は、放熱性が極め
て良いものになっていて、高密度実装に適しているので
ある。
絶縁樹脂層となる接着剤としては、熱硬化性樹脂あるい
はゴムを含存する熱硬化性樹脂系のもの、たとえば、ア
ルミナ、マグネシア、シリカなどの無機充填剤およびア
クリロニトリルゴムを含むエポキシ系接着剤やシリコー
ン変性エポキシ接着剤などを用いるのが好ましい。この
ような接着剤は、密着力が高く、耐熱性に優れ、熱伝導
性が良いからである。電路を形成する導電体としては、
銅、ニッケル、金などの金属等を用いる。第1絶縁樹脂
層の厚みは100μm以下、第2絶縁樹脂層の厚みは8
0μm以下にすることが好ましい。
はゴムを含存する熱硬化性樹脂系のもの、たとえば、ア
ルミナ、マグネシア、シリカなどの無機充填剤およびア
クリロニトリルゴムを含むエポキシ系接着剤やシリコー
ン変性エポキシ接着剤などを用いるのが好ましい。この
ような接着剤は、密着力が高く、耐熱性に優れ、熱伝導
性が良いからである。電路を形成する導電体としては、
銅、ニッケル、金などの金属等を用いる。第1絶縁樹脂
層の厚みは100μm以下、第2絶縁樹脂層の厚みは8
0μm以下にすることが好ましい。
このプリント配線板を得るには、つぎのようにする。
■ 第2図(a)にみるように、裏面に放熱用フィン6
が形成された金属基板1を用意しておく。
が形成された金属基板1を用意しておく。
■ 第2図中)にみるように、金属基板1の表面に接着
剤を塗布し、第1絶縁樹脂H2を形成する■ 液体ホー
ニングで第1絶縁樹脂層2の表面を粗面化したのち、セ
ンシタイジングーアクチベーションを行い、Pd触媒を
付与する。これを無電解めっき浴に浸漬して、第2図(
C)にみるように、第1絶縁樹脂層2上に無電解めっき
層7を形成する。
剤を塗布し、第1絶縁樹脂H2を形成する■ 液体ホー
ニングで第1絶縁樹脂層2の表面を粗面化したのち、セ
ンシタイジングーアクチベーションを行い、Pd触媒を
付与する。これを無電解めっき浴に浸漬して、第2図(
C)にみるように、第1絶縁樹脂層2上に無電解めっき
層7を形成する。
■ 第2図(d)にみるように、無電解めっき層7上の
第1電路となる部分を除いてめっきレジスト膜8を印刷
し、これを電気めっき浴に浸漬して、めっきレジス1−
膜8に覆われていない部分に電気めっき層9を形成する
。
第1電路となる部分を除いてめっきレジスト膜8を印刷
し、これを電気めっき浴に浸漬して、めっきレジス1−
膜8に覆われていない部分に電気めっき層9を形成する
。
■ この後、めっきレジスト膜8を除去し、全面にライ
トエツチングを施して、第2図t8)にみるように、第
1電路3を形成する。
トエツチングを施して、第2図t8)にみるように、第
1電路3を形成する。
■ 第2図(f)にみるように、第1電路3の一部を除
いて接着剤を塗布し、第2絶縁樹脂層5を形成する。
いて接着剤を塗布し、第2絶縁樹脂層5を形成する。
■ 液体ホーニングで第2絶縁樹脂層5の表面を粗面化
したのち、センシタイジングーアクチベーションを行い
、Pd触媒を付与する。これを無電解めっき浴に浸漬し
て、第2図(g)にみるように、第1電路3の一部およ
び第2絶縁樹脂層5上に無電解めっき層10を形成する
。
したのち、センシタイジングーアクチベーションを行い
、Pd触媒を付与する。これを無電解めっき浴に浸漬し
て、第2図(g)にみるように、第1電路3の一部およ
び第2絶縁樹脂層5上に無電解めっき層10を形成する
。
■ 第2図(h)にみるように、第2電路となる部分を
除いて無電解めっき層IO上にめっきレジスト膜11を
印刷し、これを電気めっき浴に浸漬して、めっきレジス
ト膜11に覆われていない部分に電気めっき層12を形
成する。この後、めっきレジスト膜11を除去し、全面
にライトエツチングを施して、第2電路4を形成し、第
1図にみるプリント配線板を得る。
除いて無電解めっき層IO上にめっきレジスト膜11を
印刷し、これを電気めっき浴に浸漬して、めっきレジス
ト膜11に覆われていない部分に電気めっき層12を形
成する。この後、めっきレジスト膜11を除去し、全面
にライトエツチングを施して、第2電路4を形成し、第
1図にみるプリント配線板を得る。
以上に示したプリント配線板の製法において、電路の形
成は、いわゆる、セミアディティブ法で行われているが
、他のアディティブ法、たとえば、無電解めっきのみを
用いる、いわゆる、フルアディティブ法で行われてもよ
い。また、導電ペーストによる電路を印刷形成するよう
にする方法で行われてもよい。
成は、いわゆる、セミアディティブ法で行われているが
、他のアディティブ法、たとえば、無電解めっきのみを
用いる、いわゆる、フルアディティブ法で行われてもよ
い。また、導電ペーストによる電路を印刷形成するよう
にする方法で行われてもよい。
つぎに、別の実施例を示す。
第3図にみるプリント配線板は、金属基板1と第1絶縁
樹脂層2との間に化成処理被膜層13が設けられている
。その他は、前記実施例と同じである。化成処理被膜層
13は、金属基板1表面に化成処理を施すことにより形
成されている。化成処理としては、陽極酸化、燐酸塩被
膜処理などがあるが、金属基板1がアルミニウム、チタ
ン、アルミニウム合金、チタン合金などからなる場合は
、基板を陽極酸化して陽極酸化層を形成し、金属基板1
が鉄などからなる場合は、基板を燐酸塩被膜処理して燐
酸塩被膜層を形成するようにする。
樹脂層2との間に化成処理被膜層13が設けられている
。その他は、前記実施例と同じである。化成処理被膜層
13は、金属基板1表面に化成処理を施すことにより形
成されている。化成処理としては、陽極酸化、燐酸塩被
膜処理などがあるが、金属基板1がアルミニウム、チタ
ン、アルミニウム合金、チタン合金などからなる場合は
、基板を陽極酸化して陽極酸化層を形成し、金属基板1
が鉄などからなる場合は、基板を燐酸塩被膜処理して燐
酸塩被膜層を形成するようにする。
このように、金属基板lと第1絶縁樹脂層2との間に化
成処理被膜層13を設けるようにすると、化成処理波1
1M113の表面が微細な粗面となっているため、第1
絶縁樹脂層との密着面積が大きくなり、金属基板1と第
1絶縁樹脂層2との密着力を高めることができる。化成
処理被膜層13を設ける場合、化成処理被膜層13と第
1絶縁樹脂層2との厚みは、合計で100μm以下にす
ることが好ましい。
成処理被膜層13を設けるようにすると、化成処理波1
1M113の表面が微細な粗面となっているため、第1
絶縁樹脂層との密着面積が大きくなり、金属基板1と第
1絶縁樹脂層2との密着力を高めることができる。化成
処理被膜層13を設ける場合、化成処理被膜層13と第
1絶縁樹脂層2との厚みは、合計で100μm以下にす
ることが好ましい。
第4図にみるプリント配線板は、化成処理被膜層13と
第1絶縁樹脂層2との間に電着塗料層14が設けられて
いる。その他は、前記実施例と同じである。電着塗料層
14は、化成処理被膜層13表面に電着塗装を施すこと
により形成される。
第1絶縁樹脂層2との間に電着塗料層14が設けられて
いる。その他は、前記実施例と同じである。電着塗料層
14は、化成処理被膜層13表面に電着塗装を施すこと
により形成される。
このように、化成処理被膜層13と第1絶縁樹脂層2と
の間に電着塗料層14を設けるようにすると、多孔質で
ある化成処理被膜層13が封孔されるため、耐電圧特性
が向上する。電着塗料としては、アクリルメラミン、エ
ポキシ系電着塗料などを用いる。電着塗料層14を設け
る場合、化成処理被膜層13と電着塗料層14との厚み
は、合計で100μm以下にすることが好ましい。
の間に電着塗料層14を設けるようにすると、多孔質で
ある化成処理被膜層13が封孔されるため、耐電圧特性
が向上する。電着塗料としては、アクリルメラミン、エ
ポキシ系電着塗料などを用いる。電着塗料層14を設け
る場合、化成処理被膜層13と電着塗料層14との厚み
は、合計で100μm以下にすることが好ましい。
第5図にみるプリント配線板は、金属基板1の全面に化
成処理被膜層13および電着塗料層14が設けられてい
る。その他は、前記実施例と同じである。このようにな
っていると、金属基板1が電着塗料層14で保護される
ため、耐薬品性が高く、無電解めっき工程や電気めっき
工程において処理液に金属基板中の金属が?′8解しな
くなる。
成処理被膜層13および電着塗料層14が設けられてい
る。その他は、前記実施例と同じである。このようにな
っていると、金属基板1が電着塗料層14で保護される
ため、耐薬品性が高く、無電解めっき工程や電気めっき
工程において処理液に金属基板中の金属が?′8解しな
くなる。
第6図にみるプリント配線板は、金属基板1の厚み方向
と直交する方向に冷却媒体の流通孔15が貫通されてい
る。この冷却媒体の流通孔15には、水、フロンガスな
どの冷却媒体が流され、この冷却°媒体によって金属基
板の熱が奪われるようになっている。放熱構造は、この
ような放熱構造であってもよい。前記放熱用フィンと併
用するようにすれば、放熱性をさらに高めることができ
る。この放熱構造のものにおいても、前述のごとく化成
処理被膜層や電着塗料層を形成することができる。
と直交する方向に冷却媒体の流通孔15が貫通されてい
る。この冷却媒体の流通孔15には、水、フロンガスな
どの冷却媒体が流され、この冷却°媒体によって金属基
板の熱が奪われるようになっている。放熱構造は、この
ような放熱構造であってもよい。前記放熱用フィンと併
用するようにすれば、放熱性をさらに高めることができ
る。この放熱構造のものにおいても、前述のごとく化成
処理被膜層や電着塗料層を形成することができる。
放熱構造は上述のものに限定されない。
以下に、実施例について詳しく説明する。
(実施例)
裏面に放熱用フィンが形成されたアルミニウム基板を1
5%希硫酸中で処理し、全面に厚み10μmのアルマイ
ト層(陽極酸化層)を形成した。
5%希硫酸中で処理し、全面に厚み10μmのアルマイ
ト層(陽極酸化層)を形成した。
電着塗料としてアクリルメラミン電着塗料(関西ペイン
ト社製ニレクロンNO3500R,固形分濃度8%)を
用い、アルマイト層上に直流180V、 5分間、液
温21℃の条件で電着塗装を施してアルマイト層全面に
厚み10μmのアクリルメラミン電着塗料層を形成した
。アルミニウム基板表面のアクリルメラミン電着塗料層
上に下記のような組成の接着剤を厚み40μmとなるよ
うに塗布し、第1絶縁樹脂層を形成した。液体ホーニン
グで絶縁樹脂層表面を粗面化した後、センシタイジング
ーアクチベーションを行い、Pd触媒を付与した。これ
を無電解銅めっき浴に浸漬して、第1絶縁樹脂層上に無
電解銅めっき層(厚み1μm)を形成した。無電解消め
っき層上の第1電路となる部分を除いてめっきレジスト
膜を印刷した。
ト社製ニレクロンNO3500R,固形分濃度8%)を
用い、アルマイト層上に直流180V、 5分間、液
温21℃の条件で電着塗装を施してアルマイト層全面に
厚み10μmのアクリルメラミン電着塗料層を形成した
。アルミニウム基板表面のアクリルメラミン電着塗料層
上に下記のような組成の接着剤を厚み40μmとなるよ
うに塗布し、第1絶縁樹脂層を形成した。液体ホーニン
グで絶縁樹脂層表面を粗面化した後、センシタイジング
ーアクチベーションを行い、Pd触媒を付与した。これ
を無電解銅めっき浴に浸漬して、第1絶縁樹脂層上に無
電解銅めっき層(厚み1μm)を形成した。無電解消め
っき層上の第1電路となる部分を除いてめっきレジスト
膜を印刷した。
これを電気銅めっき浴に浸漬して、めっきレジスト膜に
覆われていない部分に電気銅めっき層(厚み30μm)
を形成した。この後、めっきレジスト膜を除去し、全面
にライトエツチングを施して、厚み30μmの第1電路
を形成した。第1電路の一部を除いて接着剤を塗布し、
厚み40μmの第2絶縁樹脂層を形成した。液体ホーニ
ングで第2絶縁樹脂層の表面を粗面化したのち、センシ
タイジングーアクチベーションを行い、Pd触媒を付与
した。これを無電解銅めっき浴に浸漬して、第1電路の
一部および第2絶縁樹脂層上に無電解銅めっき層(厚み
1μm)を形成した。第2電路となる部分を除いて無電
解銅めっき層上にめっきレジスト膜を印刷した。これを
電気銅めっき浴に浸漬して、めっきレジスト膜に覆われ
ていない部分に電気銅めっき層(厚み30μm)を形成
した。この後、めっきレジスト膜を除去し、全面にライ
トエツチングを施して、厚み30μmの第2電路を形成
し、プリント配線板を得た。
覆われていない部分に電気銅めっき層(厚み30μm)
を形成した。この後、めっきレジスト膜を除去し、全面
にライトエツチングを施して、厚み30μmの第1電路
を形成した。第1電路の一部を除いて接着剤を塗布し、
厚み40μmの第2絶縁樹脂層を形成した。液体ホーニ
ングで第2絶縁樹脂層の表面を粗面化したのち、センシ
タイジングーアクチベーションを行い、Pd触媒を付与
した。これを無電解銅めっき浴に浸漬して、第1電路の
一部および第2絶縁樹脂層上に無電解銅めっき層(厚み
1μm)を形成した。第2電路となる部分を除いて無電
解銅めっき層上にめっきレジスト膜を印刷した。これを
電気銅めっき浴に浸漬して、めっきレジスト膜に覆われ
ていない部分に電気銅めっき層(厚み30μm)を形成
した。この後、めっきレジスト膜を除去し、全面にライ
トエツチングを施して、厚み30μmの第2電路を形成
し、プリント配線板を得た。
■シリコーン変性エポキシ樹脂 100重量部◎NBR
(日本ゼオン株式会社製NIPOL1072)100重
量部 ◎アルミナ微粉末 100重景1◎硬化剤
(DDS+BF3ピペリジン)適量 ◎溶剤(アセトン、トルエン、ブチルセロソルブ)
適量上記プリント配線板
にLED、)ランジスタなどの発熱の大きい電子部品を
高密度に実装し、それら電子部品を長時間使用したが、
各電子部品に異常はなかった。
(日本ゼオン株式会社製NIPOL1072)100重
量部 ◎アルミナ微粉末 100重景1◎硬化剤
(DDS+BF3ピペリジン)適量 ◎溶剤(アセトン、トルエン、ブチルセロソルブ)
適量上記プリント配線板
にLED、)ランジスタなどの発熱の大きい電子部品を
高密度に実装し、それら電子部品を長時間使用したが、
各電子部品に異常はなかった。
この発明にかかるプリント配線板は、前記実施例に限定
されない。アディティブ法による電路形成と部分絶縁を
重ねることにより、さらに、多層化されていてもよい。
されない。アディティブ法による電路形成と部分絶縁を
重ねることにより、さらに、多層化されていてもよい。
以上にみてきたように、この発明にかかるプリント配線
板は、表面に絶縁樹脂層を有する金属基板上の所望部分
に2層以上の電路がそれぞれ絶縁、樹脂層を介して積み
重ねられ、前記各電路がアディティブ法により形成され
、かつ、前記金属基板に放熱構造を備えているため、放
熱性が良く、高密度実装に適している。
板は、表面に絶縁樹脂層を有する金属基板上の所望部分
に2層以上の電路がそれぞれ絶縁、樹脂層を介して積み
重ねられ、前記各電路がアディティブ法により形成され
、かつ、前記金属基板に放熱構造を備えているため、放
熱性が良く、高密度実装に適している。
第1図はこの発明にかかるプリント配線板の一実施例を
あられす断面図、第2図(a)〜(h)は前記実施例の
製法の1例をあられす説明図、第3図、第4図、第5図
および第6図はそれぞれ別の実施例をあられす断面図で
ある。 1・・・金属基板 2・・・第1絶縁樹脂層 3・・・
第1電路 4・・・第2電路 5・・・第2絶縁樹脂層
6・・・放熱用フィン 13・・・化成処理被膜層
14・・・電着塗料層 15・・・冷却媒体の流通孔代
理人 弁理士 松 本 武 彦 第1図 第2図 (a) (b) 第2図 (d) 第3図 第4図 ム 第5図 第6図
あられす断面図、第2図(a)〜(h)は前記実施例の
製法の1例をあられす説明図、第3図、第4図、第5図
および第6図はそれぞれ別の実施例をあられす断面図で
ある。 1・・・金属基板 2・・・第1絶縁樹脂層 3・・・
第1電路 4・・・第2電路 5・・・第2絶縁樹脂層
6・・・放熱用フィン 13・・・化成処理被膜層
14・・・電着塗料層 15・・・冷却媒体の流通孔代
理人 弁理士 松 本 武 彦 第1図 第2図 (a) (b) 第2図 (d) 第3図 第4図 ム 第5図 第6図
Claims (5)
- (1)表面に絶縁樹脂層を有する金属基板上の所望部分
に2層以上の電路がそれぞれ絶縁樹脂層を介して積み重
ねられ、前記各電路がアディティブ法により形成され、
かつ、前記金属基板に放熱構造を備えているプリント配
線板。 - (2)放熱構造が、金属基板裏面に形成された放熱用フ
ィンである特許請求の範囲第1項記載のプリント配線板
。 - (3)放熱構造が、金属基板を貫通する冷却媒体の流通
孔である特許請求の範囲第1項記載のプリント配線板。 - (4)金属基板とその表面の絶縁樹脂層との間に化成処
理被膜層が設けられている特許請求の範囲第1項ないし
第3項のいずれかに記載のプリント配線板。 - (5)金属基板表面の絶縁樹脂層と化成処理被膜層との
間に電着塗料層が設けられている特許請求の範囲第4項
記載のプリント配線板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5735786A JPS62214696A (ja) | 1986-03-15 | 1986-03-15 | プリント配線板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5735786A JPS62214696A (ja) | 1986-03-15 | 1986-03-15 | プリント配線板およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62214696A true JPS62214696A (ja) | 1987-09-21 |
JPH0455558B2 JPH0455558B2 (ja) | 1992-09-03 |
Family
ID=13053324
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5735786A Granted JPS62214696A (ja) | 1986-03-15 | 1986-03-15 | プリント配線板およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62214696A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0258385U (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-26 | ||
JP2005108544A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-04-21 | Matsumura Denki Seisakusho:Kk | Led照明装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5229451U (ja) * | 1975-08-22 | 1977-03-01 | ||
JPS5262661A (en) * | 1975-11-19 | 1977-05-24 | Nippon Telegraph & Telephone | Method of producing metallic core organic coating printed circuit wiring board |
JPS5626977U (ja) * | 1979-08-08 | 1981-03-12 | ||
JPS589393A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-19 | 住友電気工業株式会社 | 金属芯印刷配線板 |
JPS5878493A (ja) * | 1981-11-05 | 1983-05-12 | 塩尻工業株式会社 | プリント配線板 |
JPS59138259U (ja) * | 1982-10-25 | 1984-09-14 | 株式会社リヨ−サン | 放熱器付プリント回路基板の製造方法 |
JPS59168696A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-22 | 松下電工株式会社 | 金属ベ−ス印刷配線板の製造方法 |
JPS60133690U (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-06 | 三菱電線工業株式会社 | 電子部品用基板 |
JPS60247992A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-07 | 株式会社日立製作所 | 集積回路チツプ実装基板 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5229451B2 (ja) * | 1972-12-12 | 1977-08-02 | ||
US4142107A (en) * | 1977-06-30 | 1979-02-27 | International Business Machines Corporation | Resist development control system |
-
1986
- 1986-03-15 JP JP5735786A patent/JPS62214696A/ja active Granted
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5229451U (ja) * | 1975-08-22 | 1977-03-01 | ||
JPS5262661A (en) * | 1975-11-19 | 1977-05-24 | Nippon Telegraph & Telephone | Method of producing metallic core organic coating printed circuit wiring board |
JPS5626977U (ja) * | 1979-08-08 | 1981-03-12 | ||
JPS589393A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-19 | 住友電気工業株式会社 | 金属芯印刷配線板 |
JPS5878493A (ja) * | 1981-11-05 | 1983-05-12 | 塩尻工業株式会社 | プリント配線板 |
JPS59138259U (ja) * | 1982-10-25 | 1984-09-14 | 株式会社リヨ−サン | 放熱器付プリント回路基板の製造方法 |
JPS59168696A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-22 | 松下電工株式会社 | 金属ベ−ス印刷配線板の製造方法 |
JPS60133690U (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-06 | 三菱電線工業株式会社 | 電子部品用基板 |
JPS60247992A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-07 | 株式会社日立製作所 | 集積回路チツプ実装基板 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0258385U (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-26 | ||
JP2005108544A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-04-21 | Matsumura Denki Seisakusho:Kk | Led照明装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0455558B2 (ja) | 1992-09-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4993148A (en) | Method of manufacturing a circuit board | |
US5786986A (en) | Multi-level circuit card structure | |
EP0247575B1 (en) | Multilayer printed wiring board and method for producing the same | |
JP5140046B2 (ja) | 放熱基板およびその製造方法 | |
JPH046115B2 (ja) | ||
US5867898A (en) | Method of manufacture multilayer circuit package | |
TW201220968A (en) | Multilayer wiring board | |
KR101167427B1 (ko) | 양극산화 방열기판 및 그 제조방법 | |
JP2012064914A (ja) | 放熱基板及びその製造方法 | |
KR101109359B1 (ko) | 방열기판 및 그 제조방법 | |
JP2012004527A (ja) | 放熱基板及びその製造方法 | |
JPS62214696A (ja) | プリント配線板およびその製造方法 | |
JPH1012982A (ja) | メタルコアプリント配線板およびその製造方法 | |
JPS6260286A (ja) | プリント配線板 | |
JPS5843596A (ja) | 印刷配線板 | |
JPS62214695A (ja) | プリント配線板 | |
JPS6260287A (ja) | プリント配線板 | |
JPS617694A (ja) | 複合プリント配線板 | |
JPH05235519A (ja) | 配線板の製造法 | |
JPH1093225A (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JPH0495312A (ja) | 異方性導電膜 | |
JPS622591A (ja) | 金属ベ−ス混成集積回路基板の製法 | |
JPH04196389A (ja) | 配線基板 | |
JPS5884495A (ja) | 金属芯プリント配線板の製造方法 | |
JPS5877300A (ja) | 電子部品両面実装放熱基板 |