JPS62212918A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録媒体Info
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- JPS62212918A JPS62212918A JP5242486A JP5242486A JPS62212918A JP S62212918 A JPS62212918 A JP S62212918A JP 5242486 A JP5242486 A JP 5242486A JP 5242486 A JP5242486 A JP 5242486A JP S62212918 A JPS62212918 A JP S62212918A
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- 230000005389 magnetism Effects 0.000 title description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims abstract description 41
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims abstract description 19
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 8
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 230000005330 Barkhausen effect Effects 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は垂直磁気記録媒体に係り、特に高抗磁力膜の下
に高透磁率磁性膜を形成した複合構造の垂直磁気記録媒
体においてS/N比(信号対雑音比)の向上に好適な垂
直磁気記録媒体に関する。
に高透磁率磁性膜を形成した複合構造の垂直磁気記録媒
体においてS/N比(信号対雑音比)の向上に好適な垂
直磁気記録媒体に関する。
磁気記録の分野において、従来の磁気記録媒体の表面に
平行な方向に記録を行なう長手記録(水平記録)方式の
高密度化限界を大幅に面上し得る記録方式として、磁気
記録媒体の厚み方向に記録を行なう垂直磁気記録方式が
提案されている。この垂直磁気記録方式に用いられる磁
気記録媒体、すなわち垂直磁気記録媒体は、電子通信学
会誌1982年10月号、1094頁右欄の下から6行
目に記載されているにうに、2層膜構造をもつものが公
知である。この垂直磁気記録媒体は第6図に示すように
、ポリマーやアルミニウムなどを材質とする基材1の上
に、Fe−N iなどの低抗磁力で高透磁率の磁性膜2
が形成され、更にその上に、媒体の厚み方向に磁化が配
向し易い垂直磁化容易軸をもつ高抗磁力膜(例えばco
−Cr膜)3が形成された2層膜構造である。更に、必
要に応じて高抗磁力膜3上に、保護潤滑膜4が被覆形成
される。このような構造の垂直磁気記録媒体5は、高透
磁率磁性膜2が存在しない単層膜構造の垂直磁気記録媒
体に比べて記録・再生効率が大幅に向上し、垂直ヘッド
との組合わせで記録密度限界を大幅に高められるものと
期待されている。
平行な方向に記録を行なう長手記録(水平記録)方式の
高密度化限界を大幅に面上し得る記録方式として、磁気
記録媒体の厚み方向に記録を行なう垂直磁気記録方式が
提案されている。この垂直磁気記録方式に用いられる磁
気記録媒体、すなわち垂直磁気記録媒体は、電子通信学
会誌1982年10月号、1094頁右欄の下から6行
目に記載されているにうに、2層膜構造をもつものが公
知である。この垂直磁気記録媒体は第6図に示すように
、ポリマーやアルミニウムなどを材質とする基材1の上
に、Fe−N iなどの低抗磁力で高透磁率の磁性膜2
が形成され、更にその上に、媒体の厚み方向に磁化が配
向し易い垂直磁化容易軸をもつ高抗磁力膜(例えばco
−Cr膜)3が形成された2層膜構造である。更に、必
要に応じて高抗磁力膜3上に、保護潤滑膜4が被覆形成
される。このような構造の垂直磁気記録媒体5は、高透
磁率磁性膜2が存在しない単層膜構造の垂直磁気記録媒
体に比べて記録・再生効率が大幅に向上し、垂直ヘッド
との組合わせで記録密度限界を大幅に高められるものと
期待されている。
しかし、このような2層膜構造の例えば円盤状の垂直磁
気記録媒体の記録・再生特性を測定すると、垂直磁気記
録媒体の回転中に第7図に示す如く、再生出力信号の包
絡線に極大部分6と極小部分7とが発生し易くなったり
、再生信号に不連続的な変動があることが、本発明者に
よって確認された。このような現象は、信号成分の減少
又は雑音の増大としてS/N比を低下ざ往、情報信頼度
を低下させるという問題点があった。
気記録媒体の記録・再生特性を測定すると、垂直磁気記
録媒体の回転中に第7図に示す如く、再生出力信号の包
絡線に極大部分6と極小部分7とが発生し易くなったり
、再生信号に不連続的な変動があることが、本発明者に
よって確認された。このような現象は、信号成分の減少
又は雑音の増大としてS/N比を低下ざ往、情報信頼度
を低下させるという問題点があった。
本発明の目的は、」−記22層膜構造垂直磁気記録媒体
のS/N比を改善し、更に優れた高記録密度特性が実現
できる垂直磁気記録媒体を提供することにある。
のS/N比を改善し、更に優れた高記録密度特性が実現
できる垂直磁気記録媒体を提供することにある。
上記目的達成のため、本発明になる垂直磁気記録媒体は
、高抗磁力膜(垂直磁化膜)の下側に形成される高透磁
率磁性膜の磁化容易方向を垂直磁気記録媒体の円周方向
に対して一定角度に形成した点に特徴を有する。
、高抗磁力膜(垂直磁化膜)の下側に形成される高透磁
率磁性膜の磁化容易方向を垂直磁気記録媒体の円周方向
に対して一定角度に形成した点に特徴を有する。
すなわち、高透磁率磁性膜は一般に厚さ0.1〜2μl
と非常に薄い膜から形成され、厚さ方向の磁壁形成は問
題にならないが、面内方向には広い面積を有するので磁
壁ができ易い。この磁壁を境に磁区の方向が変化するこ
とになる。磁性薄膜において励磁方向と磁区の方向との
なす角度0によって磁気特性が大きく変化することが広
く知られている。上記角度θがOoの方向を容易軸方向
と称し、90°の方向を困難軸方向と称する。この困難
軸方向励磁のときが最も透磁率が大で、かつ、磁化反転
速度も高速であり、高周波特性に優れる。また、容易軸
近傍の角度で励磁すると磁壁が移動し、この際にバルク
ハウゼン雑音と呼ばれる磁気特性の急変が起ることも知
られている。
と非常に薄い膜から形成され、厚さ方向の磁壁形成は問
題にならないが、面内方向には広い面積を有するので磁
壁ができ易い。この磁壁を境に磁区の方向が変化するこ
とになる。磁性薄膜において励磁方向と磁区の方向との
なす角度0によって磁気特性が大きく変化することが広
く知られている。上記角度θがOoの方向を容易軸方向
と称し、90°の方向を困難軸方向と称する。この困難
軸方向励磁のときが最も透磁率が大で、かつ、磁化反転
速度も高速であり、高周波特性に優れる。また、容易軸
近傍の角度で励磁すると磁壁が移動し、この際にバルク
ハウゼン雑音と呼ばれる磁気特性の急変が起ることも知
られている。
本発明者は前記の再生出力信号の包絡線の極大。
極小や、不速続的イ≧変動は、2層膜構造の垂直磁気記
録媒体の中で特に高透磁率磁性膜の励磁方向に沿ったm
区の分布に起因し、これがぞの上に形成される垂直磁化
i<高抗磁力膜)に影響を与えて垂直磁気記録、再生特
性を劣化させているものと推定して、これを改良するた
めの具体的な手段を求め、S/N比向上に効采があるこ
とを検証し−3= lこ 。
録媒体の中で特に高透磁率磁性膜の励磁方向に沿ったm
区の分布に起因し、これがぞの上に形成される垂直磁化
i<高抗磁力膜)に影響を与えて垂直磁気記録、再生特
性を劣化させているものと推定して、これを改良するた
めの具体的な手段を求め、S/N比向上に効采があるこ
とを検証し−3= lこ 。
高透磁率磁性膜の磁区の分布を与える因子としては神々
考えられる。この高透磁率磁性膜をスパッタリング法で
形成する場合、特に形成速度の大きいマグネトロンスパ
ッタリング法の場合、スパッタリング装置内の磁場の影
響を受けて、複雑な磁区ができることが起り得る。また
、蒸着、メッキ法などの場合においても、地磁気の影響
を受けたり、試料保持冶具の磁性の影響を受けることも
あり得る。これらの影響を防ぎ、特定の方向に磁区を揃
えるために、磁性薄膜形成中に永久磁石やソレノイド等
で一様な磁界を印加する方法が考えられる。しかし、こ
のj:うな方法はハードディスクやフロッピーディスク
などの回転型の記録媒体に適用しても良好な結果を得る
ことができない。
考えられる。この高透磁率磁性膜をスパッタリング法で
形成する場合、特に形成速度の大きいマグネトロンスパ
ッタリング法の場合、スパッタリング装置内の磁場の影
響を受けて、複雑な磁区ができることが起り得る。また
、蒸着、メッキ法などの場合においても、地磁気の影響
を受けたり、試料保持冶具の磁性の影響を受けることも
あり得る。これらの影響を防ぎ、特定の方向に磁区を揃
えるために、磁性薄膜形成中に永久磁石やソレノイド等
で一様な磁界を印加する方法が考えられる。しかし、こ
のj:うな方法はハードディスクやフロッピーディスク
などの回転型の記録媒体に適用しても良好な結果を得る
ことができない。
すなわち、第5図に示すように、円盤状垂直磁気記録媒
体の高透磁率磁性膜2の磁区の方向が実線の矢印で示す
ように上記の方法で一様に配向されたと仮定する。この
高透磁率磁性膜2の励磁方向は、破線の矢印で示すよう
に、垂直磁気記録媒−4一 体の円周方向(回転方向)に向かうので、垂直磁気記録
媒体が回転するにつれて前記θが第5図に示すように0
°から360°まで回転し、回転による磁気特性の変動
が起る。
体の高透磁率磁性膜2の磁区の方向が実線の矢印で示す
ように上記の方法で一様に配向されたと仮定する。この
高透磁率磁性膜2の励磁方向は、破線の矢印で示すよう
に、垂直磁気記録媒−4一 体の円周方向(回転方向)に向かうので、垂直磁気記録
媒体が回転するにつれて前記θが第5図に示すように0
°から360°まで回転し、回転による磁気特性の変動
が起る。
そこで、本発明はこのような回転型の垂直磁気記録媒体
において、その高透磁率磁性膜の磁化容易方向を、円周
方向に対して規則性をもたせるよう構成したものである
。
において、その高透磁率磁性膜の磁化容易方向を、円周
方向に対して規則性をもたせるよう構成したものである
。
以下、本発明の各実施例について図面と共に説明する。
第1図は本発明の第1実施例を説明する平面図を示す。
まずポリマーやアルミニウムなどの円盤状基材を用意し
、その上にFe−Ni合金などの円盤状高透磁率磁性膜
8を形成する。この形成方法はメッキ、蒸着、スパッタ
リング法など任意の手法を採用することができる。この
とき、基材と高透磁率磁性膜8との中間に、両名間の接
合強度を高めるための中間材料を介在ざμ“てもよい。
、その上にFe−Ni合金などの円盤状高透磁率磁性膜
8を形成する。この形成方法はメッキ、蒸着、スパッタ
リング法など任意の手法を採用することができる。この
とき、基材と高透磁率磁性膜8との中間に、両名間の接
合強度を高めるための中間材料を介在ざμ“てもよい。
また、基材と高透磁率磁性膜8はその中央部に開口部9
が穿設されである。しかる後に、この開口部9を貫通し
で断面が円形の導体柱10が配設され、導体柱10に大
電流工が流される。これにより、周知の如く、導体柱1
0の中心から距11111. r (1ζだし、rは導
体柱10の半径上り人)の荀首に、円周の接線方向に■
/(2πr)なる式で表わされる強ざの磁界[」が発生
する。この磁界の強さHの磁場は、半径rが与えられた
どき同一・円周方向に沿って一様となり、また導体柱1
0に流れる電流■の方向を一定とづることにJ、す、高
透磁率磁性膜8の回転中、第1図に実線の矢印11で示
す如く、磁化容易方向が常に円周方向となり、常にθ−
〇°となる。
が穿設されである。しかる後に、この開口部9を貫通し
で断面が円形の導体柱10が配設され、導体柱10に大
電流工が流される。これにより、周知の如く、導体柱1
0の中心から距11111. r (1ζだし、rは導
体柱10の半径上り人)の荀首に、円周の接線方向に■
/(2πr)なる式で表わされる強ざの磁界[」が発生
する。この磁界の強さHの磁場は、半径rが与えられた
どき同一・円周方向に沿って一様となり、また導体柱1
0に流れる電流■の方向を一定とづることにJ、す、高
透磁率磁性膜8の回転中、第1図に実線の矢印11で示
す如く、磁化容易方向が常に円周方向となり、常にθ−
〇°となる。
しかる後に上記の高透磁率磁性膜8の上面にCo−Cr
等の高抗磁力膜(垂直磁化膜)を形成し、更に必要に応
じてその上に保護潤滑膜が形成されるのは従来と同様で
ある。従つC1このようにして得られた第1実施例の垂
直磁気記録媒体の断面形状自体は従来と同様であるが、
高透磁率磁性膜8の前記角度θが常にOoどされている
魚が従来のものと異なり、これにより垂直磁気記録媒体
の回転による磁気特性変動を防止できる。
等の高抗磁力膜(垂直磁化膜)を形成し、更に必要に応
じてその上に保護潤滑膜が形成されるのは従来と同様で
ある。従つC1このようにして得られた第1実施例の垂
直磁気記録媒体の断面形状自体は従来と同様であるが、
高透磁率磁性膜8の前記角度θが常にOoどされている
魚が従来のものと異なり、これにより垂直磁気記録媒体
の回転による磁気特性変動を防止できる。
なお、円周方向に一様な磁場を得る他の方法としては、
高透磁率磁性膜8を形成する際、ぞの表面に沿って媒体
の一方の側又は双方の側に永久磁石片を任意の個数配置
し、これら永久磁石片又は高透磁率磁性膜8のいずれか
一方を回転させることによっても同様にO=Q°を実現
することができ、上記の第1実施例と同様の効果を得る
ことができる。
高透磁率磁性膜8を形成する際、ぞの表面に沿って媒体
の一方の側又は双方の側に永久磁石片を任意の個数配置
し、これら永久磁石片又は高透磁率磁性膜8のいずれか
一方を回転させることによっても同様にO=Q°を実現
することができ、上記の第1実施例と同様の効果を得る
ことができる。
次に本発明の第2実施例について説明するに、第2図(
A)、(B)は夫々本発明の第2実施例を説明する側面
図及び平面図を示づ。同図(Δ)。
A)、(B)は夫々本発明の第2実施例を説明する側面
図及び平面図を示づ。同図(Δ)。
(B)中、同一構成部分には同一符号を何しである。本
実施例は高透磁率磁性膜の磁化容易方向が半径方向に放
射状に配列されている点に特徴を有する。すなわち、ま
ず基材上に高透磁率磁性膜が形成された円盤状媒体12
は、その中央部に穿設された間口部13内に、電磁石1
4の中央脚部14 a h<遊嵌せしめられ、かつ、電
磁石14の外周側脚部14 b内に第2図(A)に示す
如く媒体12が配置される。媒体12の外周側面と外周
側脚部14bの外周側面との間には空隙が形成され、同
様に媒体12の開口部13の内周側面と中央脚部14.
8の外周側面との間にも空隙が形成される。
実施例は高透磁率磁性膜の磁化容易方向が半径方向に放
射状に配列されている点に特徴を有する。すなわち、ま
ず基材上に高透磁率磁性膜が形成された円盤状媒体12
は、その中央部に穿設された間口部13内に、電磁石1
4の中央脚部14 a h<遊嵌せしめられ、かつ、電
磁石14の外周側脚部14 b内に第2図(A)に示す
如く媒体12が配置される。媒体12の外周側面と外周
側脚部14bの外周側面との間には空隙が形成され、同
様に媒体12の開口部13の内周側面と中央脚部14.
8の外周側面との間にも空隙が形成される。
中央脚部14aの基部側には第2図(A)に示す如くコ
イル15が巻回されており、このコイル15に励磁電流
を流すことにより、例えば中央脚部14a側にN極、外
周側脚部14bにS極の磁場を発生することかでき、そ
の結果、媒体12の高透磁率磁性膜の磁化容易方向を、
第2図(B)に16で示す如く放射状に規制でき、常に
前記角度θが90° (又は270°)の磁化容易方向
16を得ることができる。このようにして得られた媒体
上に、前記と同様に高抗磁力膜が形成され、更にその上
に必要に応じて保護潤滑膜が形成される。かかる構造の
垂直磁気記録媒体も前記第1実施例と同様に、一様、か
つ優れた記録、再生特性を示す。なお、磁化容易方向は
第2図(B)に矢印16で示す方向とは逆に、円心方向
を示していでもよい。
イル15が巻回されており、このコイル15に励磁電流
を流すことにより、例えば中央脚部14a側にN極、外
周側脚部14bにS極の磁場を発生することかでき、そ
の結果、媒体12の高透磁率磁性膜の磁化容易方向を、
第2図(B)に16で示す如く放射状に規制でき、常に
前記角度θが90° (又は270°)の磁化容易方向
16を得ることができる。このようにして得られた媒体
上に、前記と同様に高抗磁力膜が形成され、更にその上
に必要に応じて保護潤滑膜が形成される。かかる構造の
垂直磁気記録媒体も前記第1実施例と同様に、一様、か
つ優れた記録、再生特性を示す。なお、磁化容易方向は
第2図(B)に矢印16で示す方向とは逆に、円心方向
を示していでもよい。
次に本発明の第3実施例について説明するに、第3図は
本発明の第3実施例の要部の平面図、第4図は本発明の
第3実施例の断面図を示す。本実施例は第2実施例と同
様に半径方向に磁化容易方向を有するようにするもので
あるが、高透磁率磁性膜被覆時に第2図(A)、(B)
に示した電磁石14を使用することが困難な場合、例え
ばスパッタリング装置においてこのにうな電磁石14を
取り付【プるスペースが見出せない、等の場合に有効な
方法を提供するものである。本実施例においては高透磁
率磁性膜被覆時に、媒体の半径方向の磁場は予めポリマ
ーやアルミニウム等の基材1の上に形成しておいた配向
用導体17によって与えられる。この配向用導体17は
円盤状基材1上にアルミニウムや銅等をメッキ、蒸着、
スパッタリング法等で坩積形成しIC後、第3図に示す
如く渦巻状に化学エツチングやスバツタエツヂング、イ
オンエツチング等の方法でパターニングし、また導体1
7の両端に夫々端子18a、18bが形成される。
本発明の第3実施例の要部の平面図、第4図は本発明の
第3実施例の断面図を示す。本実施例は第2実施例と同
様に半径方向に磁化容易方向を有するようにするもので
あるが、高透磁率磁性膜被覆時に第2図(A)、(B)
に示した電磁石14を使用することが困難な場合、例え
ばスパッタリング装置においてこのにうな電磁石14を
取り付【プるスペースが見出せない、等の場合に有効な
方法を提供するものである。本実施例においては高透磁
率磁性膜被覆時に、媒体の半径方向の磁場は予めポリマ
ーやアルミニウム等の基材1の上に形成しておいた配向
用導体17によって与えられる。この配向用導体17は
円盤状基材1上にアルミニウムや銅等をメッキ、蒸着、
スパッタリング法等で坩積形成しIC後、第3図に示す
如く渦巻状に化学エツチングやスバツタエツヂング、イ
オンエツチング等の方法でパターニングし、また導体1
7の両端に夫々端子18a、18bが形成される。
この渦巻状の配向用導体17は巻回数がなるべく多い方
が、前記角度θが90°に近付いた磁化容易方向を得る
ことができるので好ましいが、全体の抵抗及び断線信頼
性から無制限に巻回数を多くすることはできず、実用的
な値が決められる。
が、前記角度θが90°に近付いた磁化容易方向を得る
ことができるので好ましいが、全体の抵抗及び断線信頼
性から無制限に巻回数を多くすることはできず、実用的
な値が決められる。
この渦巻状の配向用導体17の端子18a。
18bの間に励vA電流を通電することにより、はぼ半
径方向に向かう磁場が生じる。この渦巻状の配向用導体
17の上に直接高透磁率磁性膜を形成することもできる
が、高透磁率磁性膜が堆積し始めると導体17の隣接す
る導体部分間で短絡が生じ、導体17による励磁磁場が
次第に有効に発生しなくなる。従って、高透磁率磁性膜
の膜厚が比較的厚い場合には、有機又は無機絶縁膜を第
4図に19で示す如く形成することが望ましい。
径方向に向かう磁場が生じる。この渦巻状の配向用導体
17の上に直接高透磁率磁性膜を形成することもできる
が、高透磁率磁性膜が堆積し始めると導体17の隣接す
る導体部分間で短絡が生じ、導体17による励磁磁場が
次第に有効に発生しなくなる。従って、高透磁率磁性膜
の膜厚が比較的厚い場合には、有機又は無機絶縁膜を第
4図に19で示す如く形成することが望ましい。
また、端子18a及び18bについても電極を接合した
後、粘着テープや任意の有機又は無機マスク材で覆うこ
とが望ましい。このようなマスク材を形成する都合から
、端子18a及び18bは媒体の記録・再生に関与しな
い媒体最内周領域及び最外周領域に形成するのが有利で
ある。
後、粘着テープや任意の有機又は無機マスク材で覆うこ
とが望ましい。このようなマスク材を形成する都合から
、端子18a及び18bは媒体の記録・再生に関与しな
い媒体最内周領域及び最外周領域に形成するのが有利で
ある。
以上のように、基材1上に形成された配向用導体17の
上に絶縁膜19を被覆した後、端子18a、18bから
配向用導体17に励磁電流を通電しながら、更に絶縁膜
19Fに高透磁率磁性膜を第4図に20で示す如く形成
する。これにより、配向用導体17に流れる電流にJ:
つて半径方向に向かう磁場が形成され、この磁場によっ
て高透磁率磁性膜20がその半径方向に放射状の磁化容
易方向をもたされることとなり、その結果、第2実施例
と同様の効果が得られる。高透磁率磁性膜20の上には
高抗磁力膜3が形成され、更に保護潤滑膜4がその上に
形成されて第4図に示す如き断面形状(これは第3図の
Δ−A断面部分に相当するが、第3図には絶縁膜19.
高透磁率磁性膜20.高抗磁力膜3及び保護潤滑膜4が
形成される前の状態を示しである。)をもつ垂直磁気記
録媒体21が製造される。
上に絶縁膜19を被覆した後、端子18a、18bから
配向用導体17に励磁電流を通電しながら、更に絶縁膜
19Fに高透磁率磁性膜を第4図に20で示す如く形成
する。これにより、配向用導体17に流れる電流にJ:
つて半径方向に向かう磁場が形成され、この磁場によっ
て高透磁率磁性膜20がその半径方向に放射状の磁化容
易方向をもたされることとなり、その結果、第2実施例
と同様の効果が得られる。高透磁率磁性膜20の上には
高抗磁力膜3が形成され、更に保護潤滑膜4がその上に
形成されて第4図に示す如き断面形状(これは第3図の
Δ−A断面部分に相当するが、第3図には絶縁膜19.
高透磁率磁性膜20.高抗磁力膜3及び保護潤滑膜4が
形成される前の状態を示しである。)をもつ垂直磁気記
録媒体21が製造される。
なお、第4図は基材1の片面に磁気記録媒体を形成した
場合の図であり、両面に磁気記録媒体を形成する場合も
、上記と同様の工程を両面の夫々についてとればよい。
場合の図であり、両面に磁気記録媒体を形成する場合も
、上記と同様の工程を両面の夫々についてとればよい。
また、この場合において、基材1がポリマー材であるフ
ロッピーディスクなどの場合は、可撓性ケーブルを渦巻
状パ・ターニングしたものの両面に絶縁膜を被覆したも
のを基材とり′ることにより、配向用導体17を両面に
形成する工程を不要にできる。
ロッピーディスクなどの場合は、可撓性ケーブルを渦巻
状パ・ターニングしたものの両面に絶縁膜を被覆したも
のを基材とり′ることにより、配向用導体17を両面に
形成する工程を不要にできる。
更に、上記の実施例では高透磁率磁性膜の磁化容易方向
は円周方向に対して所定の角度(Oo。
は円周方向に対して所定の角度(Oo。
90’又は270’)となるように説明したが、本発明
はこれ以外の一定の角度をもつものすべてに適用できる
ことは勿論である。
はこれ以外の一定の角度をもつものすべてに適用できる
ことは勿論である。
上述の如く、本発明によれば、磁気記録媒体の回転方向
に対して一様な磁気特性を右する垂直磁気記録媒体を構
成でき、よって、再生信号のS/N比を改善することが
でき、優れた高記録密度特性を実現できる等の効果があ
る。
に対して一様な磁気特性を右する垂直磁気記録媒体を構
成でき、よって、再生信号のS/N比を改善することが
でき、優れた高記録密度特性を実現できる等の効果があ
る。
第1図は本発明の第1実施例を説明する平面図、第2図
(A>、(B)は夫々本発明の第2実施例を説明する側
面図及び平面図、第3図は本発明の第3実施例の要部の
平面図、第4図は本発明の第3実施例の断面図、第5図
は従来における高透磁率磁性膜の励磁方向と磁区の方向
の一例を示す図、第6図は一般的な2層膜構造の垂直磁
気記録媒体の断面図、第7図は従来の再生比ノ〕信号波
形の一例を示す図である。 1・・・基材、2.8.20・・・高透磁率磁性膜、3
・・・高抗磁力膜(Co −Cr膜)、5.21・・・
垂直磁気記録媒体、10・・・導体柱、11.16・・
・磁化容易方向、12・・・円盤状媒体、14・・・電
磁石、17・・・配向用導体、19・・・絶縁膜。
(A>、(B)は夫々本発明の第2実施例を説明する側
面図及び平面図、第3図は本発明の第3実施例の要部の
平面図、第4図は本発明の第3実施例の断面図、第5図
は従来における高透磁率磁性膜の励磁方向と磁区の方向
の一例を示す図、第6図は一般的な2層膜構造の垂直磁
気記録媒体の断面図、第7図は従来の再生比ノ〕信号波
形の一例を示す図である。 1・・・基材、2.8.20・・・高透磁率磁性膜、3
・・・高抗磁力膜(Co −Cr膜)、5.21・・・
垂直磁気記録媒体、10・・・導体柱、11.16・・
・磁化容易方向、12・・・円盤状媒体、14・・・電
磁石、17・・・配向用導体、19・・・絶縁膜。
Claims (1)
- 高透磁率磁性膜の上に高抗磁力膜が形成される2層膜構
造の円盤状垂直磁気記録媒体において、前記高透磁率磁
性膜の磁化容易方向が、垂直磁気記録媒体の円周方向に
対して一定の角度に配向形成されてなることを特徴とす
る垂直磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5242486A JPS62212918A (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 垂直磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5242486A JPS62212918A (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 垂直磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62212918A true JPS62212918A (ja) | 1987-09-18 |
Family
ID=12914396
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5242486A Pending JPS62212918A (ja) | 1986-03-12 | 1986-03-12 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62212918A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004077413A1 (ja) * | 2003-02-19 | 2004-09-10 | Neomax Co., Ltd. | 磁場中熱処理装置 |
JP2006244688A (ja) * | 2005-02-01 | 2006-09-14 | Tohoku Univ | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法並びに垂直磁気記録再生装置 |
JP2009230826A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 磁気転写方法及び磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-03-12 JP JP5242486A patent/JPS62212918A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004077413A1 (ja) * | 2003-02-19 | 2004-09-10 | Neomax Co., Ltd. | 磁場中熱処理装置 |
JP2006244688A (ja) * | 2005-02-01 | 2006-09-14 | Tohoku Univ | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法並びに垂直磁気記録再生装置 |
US7943248B2 (en) | 2005-02-01 | 2011-05-17 | Tohoku University | Perpendicular magnetic recording media, production process thereof, and perpendicular magnetic recording and reproducing apparatus |
JP2009230826A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 磁気転写方法及び磁気記録媒体 |
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