JPS62212627A - 液晶表示素子製造方法 - Google Patents
液晶表示素子製造方法Info
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- JPS62212627A JPS62212627A JP5482586A JP5482586A JPS62212627A JP S62212627 A JPS62212627 A JP S62212627A JP 5482586 A JP5482586 A JP 5482586A JP 5482586 A JP5482586 A JP 5482586A JP S62212627 A JPS62212627 A JP S62212627A
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- Japan
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- metallic film
- etching
- substrate
- pattern
- metal film
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- Pending
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガラス基板上に外部との接続に用いる金属膜
電極パターンを容易かつ確実に形成できる液晶表示素子
製造方法に関する。
電極パターンを容易かつ確実に形成できる液晶表示素子
製造方法に関する。
ガラス基板上に金属膜を蒸着、スパッタリング、めっき
等の方法により被着させ、この金属膜をホトリソグラフ
ィ技術によりエツチングして所望の金属膜パターンを形
成させることは、既に公知である。また、このような技
術により液晶表示素子のガラス基板面上に金属電極を設
けることも公知である（例えば、特開昭５６−５０３６
８号公報、特願昭６０−１４２７４号明細書等）。
等の方法により被着させ、この金属膜をホトリソグラフ
ィ技術によりエツチングして所望の金属膜パターンを形
成させることは、既に公知である。また、このような技
術により液晶表示素子のガラス基板面上に金属電極を設
けることも公知である（例えば、特開昭５６−５０３６
８号公報、特願昭６０−１４２７４号明細書等）。
しかし、これら従来から公知になっている技術は、エツ
チングが理想的に行われるものと想定しており、エツチ
ング残りや過度のエツチングによるパターンの細り等に
対して配慮していない。
チングが理想的に行われるものと想定しており、エツチ
ング残りや過度のエツチングによるパターンの細り等に
対して配慮していない。
例えば、液晶表示素子の有効表示域外に、電極用の金属
電極パターンを設けるために、ガラス基板の全面に金属
膜を成膜してエツチングしたとすると、金属膜の種類や
エツチング液の種類の組合せを非常にうまく選定しない
限り、一般に、エツチングは基板周辺から始まるために
、基板内部とくに中央部を含む表示域全面の金属膜に対
するエツチングが終了する頃には、基板周辺部に配設し
ようとしている電極金属膜パターンに対しては、エツチ
ングが過度に進行してしまい、パターンの細り、断線、
消滅が生ずる。
電極パターンを設けるために、ガラス基板の全面に金属
膜を成膜してエツチングしたとすると、金属膜の種類や
エツチング液の種類の組合せを非常にうまく選定しない
限り、一般に、エツチングは基板周辺から始まるために
、基板内部とくに中央部を含む表示域全面の金属膜に対
するエツチングが終了する頃には、基板周辺部に配設し
ようとしている電極金属膜パターンに対しては、エツチ
ングが過度に進行してしまい、パターンの細り、断線、
消滅が生ずる。
また、上記のようなことを防止するために、所望の金属
膜パターンよりも少し大きめに、部分的に、金属膜を成
膜しておき、所望電極とは関係のない基板内部のエツチ
ング終了を待つ必要がないようにして、過度のエツチン
グによる事故が発生しないようにすることも出来る。し
かし、この方法では、金属膜の種類やエツチング液の種
類の組合せが適当でないと、やはり、金属膜を最初に部
分的に成膜させた部分と、金属膜を全く成膜させなかっ
た部分との境界に、短絡などの信頼性的問題には発展し
なくても、肉眼で明瞭に見えるエツチング残りが生ずる
場合がある。さらに、エツチング残りは生じな（でも、
ガラス基板に対するエツチング剤の作用時間の長短の差
により、ガラス基板表面に段差が生じ、その境界がやは
り肉眼で観察される場合がある。
膜パターンよりも少し大きめに、部分的に、金属膜を成
膜しておき、所望電極とは関係のない基板内部のエツチ
ング終了を待つ必要がないようにして、過度のエツチン
グによる事故が発生しないようにすることも出来る。し
かし、この方法では、金属膜の種類やエツチング液の種
類の組合せが適当でないと、やはり、金属膜を最初に部
分的に成膜させた部分と、金属膜を全く成膜させなかっ
た部分との境界に、短絡などの信頼性的問題には発展し
なくても、肉眼で明瞭に見えるエツチング残りが生ずる
場合がある。さらに、エツチング残りは生じな（でも、
ガラス基板に対するエツチング剤の作用時間の長短の差
により、ガラス基板表面に段差が生じ、その境界がやは
り肉眼で観察される場合がある。
従来、上記のような問題の対策は金属の種類の変更やエ
ツチング剤の変更などによって対策されていた。そのた
めに、金属、エツチング液の種類の選択の幅が狭められ
るという問題があった。
ツチング剤の変更などによって対策されていた。そのた
めに、金属、エツチング液の種類の選択の幅が狭められ
るという問題があった。
本発明は、従来、液晶表示素子の周辺部に外部回路との
接続用に金属膜電極パターンを形成しようとするときに
生じていた上記種々の問題点を解決し、金属膜パターン
の細りゃ断線、消滅等が生ぜず、また金属膜を部分的に
成膜させることによって生じた成膜部と非成膜部とのエ
ツチング後の境界も目立たないようにする液晶表示素子
製造方法を提供することを目的とする。
接続用に金属膜電極パターンを形成しようとするときに
生じていた上記種々の問題点を解決し、金属膜パターン
の細りゃ断線、消滅等が生ぜず、また金属膜を部分的に
成膜させることによって生じた成膜部と非成膜部とのエ
ツチング後の境界も目立たないようにする液晶表示素子
製造方法を提供することを目的とする。
上記問題点を解決するために本発明においては、液晶表
示素子ガラス基板面の、表示装置とした後に外部から見
える部分と見えない部分の境界より基板周辺に近い部分
だけに金属膜を被着させ、この金属膜の所望の部分を残
して選択的にエツチングして金属膜電極パターンを形成
させることとした。
示素子ガラス基板面の、表示装置とした後に外部から見
える部分と見えない部分の境界より基板周辺に近い部分
だけに金属膜を被着させ、この金属膜の所望の部分を残
して選択的にエツチングして金属膜電極パターンを形成
させることとした。
上記のような手段によれば、金属膜を成膜させた個所と
成膜させなかった個所の境界に肉眼に見えるような段差
が生じたとしても、液晶表示装置完成時には、封止剤が
配置されていたり、有効表示域外としてブラックマスク
に覆われたりするために、使用者には見えない、また、
最初に金属膜を、電極パターンを配置したい個所（ガラ
ス基板の周辺部）だけに部分的）に成膜しておくから、
所望パターンとは関係のない個所の金ＷｋＩＩＩのエツ
チング終了まで無駄に待つ必要もなく、エツチングの過
度の進行によるパターンの細り、断線、消滅なども生じ
ない。
成膜させなかった個所の境界に肉眼に見えるような段差
が生じたとしても、液晶表示装置完成時には、封止剤が
配置されていたり、有効表示域外としてブラックマスク
に覆われたりするために、使用者には見えない、また、
最初に金属膜を、電極パターンを配置したい個所（ガラ
ス基板の周辺部）だけに部分的）に成膜しておくから、
所望パターンとは関係のない個所の金ＷｋＩＩＩのエツ
チング終了まで無駄に待つ必要もなく、エツチングの過
度の進行によるパターンの細り、断線、消滅なども生じ
ない。
第１図は本発明一実施例の要部説明図である。
図中、１．２はガラス基板、３はシール剤、４は表示パ
ターン、５は外部接続電極となる金属膜パターン、６は
液晶表示装置完成後に使用者から見える有効表示部、７
は液晶表示装置完成後には使用者に見えなくなる非有効
表示部である０本図に示すように、液晶表示素子の金属
膜パターン５は、有効表示部６に比べて一般に小さく、
かつ基板周辺部の近くだけ（有効表示部と非有効表示部
の境界よりもかなり周辺に近接して）に存在する。
ターン、５は外部接続電極となる金属膜パターン、６は
液晶表示装置完成後に使用者から見える有効表示部、７
は液晶表示装置完成後には使用者に見えなくなる非有効
表示部である０本図に示すように、液晶表示素子の金属
膜パターン５は、有効表示部６に比べて一般に小さく、
かつ基板周辺部の近くだけ（有効表示部と非有効表示部
の境界よりもかなり周辺に近接して）に存在する。
従って、従来のように、金属膜をガラス基板１の全面に
蒸着してから、ホトエツチング法により金属膜パターン
５だけを残してその他の個所の金属膜をエツチングによ
り除去しようとすると、一般にエツチングはガラス基板
の周囲から始まるから、基板全面上の金属膜がすべて除
去されるまでエツチングを進行させてしまうと、その間
に周辺部の金８１１７！パターンは細ったり、切れたり
、消滅したりする。これに対し、本発明によって、金属
膜を金属膜パターン５より少し大きめに部分蒸着すると
、金属膜パターンは基板周辺部の狭い部分を占めるだけ
であるから、金属膜の電極パターンのエツチングが終了
するのとほぼ同時に、部分蒸着した金属膜の他の部分の
エツチングも完了することになり、所望金属膜電極パタ
ーンの細り、断線、消滅などは起こらなくなる。また、
金Ｂ膜を除去するためにエツチングした個所と、金ＭＭ
＊が存在せずエツチングしなかった個所の境界に、肉眼
に見えるような、短絡に発展しないエツチング残りや基
板面の段差が生じたとしても、その位置は、有効表示部
と非有効表示部の境界線よりも基板周辺寄りであるから
、液晶表示装置の使用者には見えず目障りにならない。
蒸着してから、ホトエツチング法により金属膜パターン
５だけを残してその他の個所の金属膜をエツチングによ
り除去しようとすると、一般にエツチングはガラス基板
の周囲から始まるから、基板全面上の金属膜がすべて除
去されるまでエツチングを進行させてしまうと、その間
に周辺部の金８１１７！パターンは細ったり、切れたり
、消滅したりする。これに対し、本発明によって、金属
膜を金属膜パターン５より少し大きめに部分蒸着すると
、金属膜パターンは基板周辺部の狭い部分を占めるだけ
であるから、金属膜の電極パターンのエツチングが終了
するのとほぼ同時に、部分蒸着した金属膜の他の部分の
エツチングも完了することになり、所望金属膜電極パタ
ーンの細り、断線、消滅などは起こらなくなる。また、
金Ｂ膜を除去するためにエツチングした個所と、金ＭＭ
＊が存在せずエツチングしなかった個所の境界に、肉眼
に見えるような、短絡に発展しないエツチング残りや基
板面の段差が生じたとしても、その位置は、有効表示部
と非有効表示部の境界線よりも基板周辺寄りであるから
、液晶表示装置の使用者には見えず目障りにならない。
以上説明したように本発明によれば、金属膜の金属の種
類やエツチング剤の種類の選択の自由度が広がって容易
かつ確実にエツチングできるようになって原価低減に役
立ち、しかも、エツチングが過度に進行せず、またエツ
チング部と非エツチング部の目障りな境界が見えないで
済む。
類やエツチング剤の種類の選択の自由度が広がって容易
かつ確実にエツチングできるようになって原価低減に役
立ち、しかも、エツチングが過度に進行せず、またエツ
チング部と非エツチング部の目障りな境界が見えないで
済む。
第１図は本発明−実施例の要部説明図である。
１．２−・−・ガラス基板、 ３−・−シール剤、
４−・表示パターン、 ５・−・−金属膜パターン
、 ６−・有第 １ 図 ノーで゛７；、？暮級 ２−力゛ラス（叛 ３−ミール＝ｆ′４ ４−ｓ作、パターン δ−稀緩７、・クーン Ｃ−１初壺豫部 ７−ｎ＊勤表丞郡
４−・表示パターン、 ５・−・−金属膜パターン
、 ６−・有第 １ 図 ノーで゛７；、？暮級 ２−力゛ラス（叛 ３−ミール＝ｆ′４ ４−ｓ作、パターン δ−稀緩７、・クーン Ｃ−１初壺豫部 ７−ｎ＊勤表丞郡
Claims (1)
- １、液晶表示素子ガラス基板面の、表示装置とした後に
外部から見える部分と見えない部分の境界より基板周辺
に近い部分だけに金属膜を被着させ、この金属膜の所望
の部分を残して選択的にエッチングして金属電極パター
ンを形成させることを特徴とする液晶表示素子製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5482586A JPS62212627A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | 液晶表示素子製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5482586A JPS62212627A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | 液晶表示素子製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62212627A true JPS62212627A (ja) | 1987-09-18 |
Family
ID=12981452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5482586A Pending JPS62212627A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | 液晶表示素子製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62212627A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6153910A (en) * | 1994-06-22 | 2000-11-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device with nitrogen implanted channel region |
-
1986
- 1986-03-14 JP JP5482586A patent/JPS62212627A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6153910A (en) * | 1994-06-22 | 2000-11-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device with nitrogen implanted channel region |
| US6380036B1 (en) | 1994-06-22 | 2002-04-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
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