JPS62207229A - 芳香族フツ素化合物の製法 - Google Patents
芳香族フツ素化合物の製法Info
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Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は芳香族フッ素化合物の製法に関する。
芳香族フッ素化合物は医薬、釉薬、染料の合成中間体と
して有用である。
して有用である。
従来、芳香族フッ素化合物の製法としては、(1)芳香
族化合物をニトロ化し、還元してアミノ基へ変換し、さ
らにジアゾ化してジアゾニウム頃としだ後IA分解する
、いわゆるジ−マン法、まfc(ii)ニトロ基などの
電子1技引基を有する塩素化芳香族化合物を非プロトン
性極性溶媒中高温でフッ化アルカリ金属でフッ素化する
、いわゆるハロゲン変換法が知られている。
族化合物をニトロ化し、還元してアミノ基へ変換し、さ
らにジアゾ化してジアゾニウム頃としだ後IA分解する
、いわゆるジ−マン法、まfc(ii)ニトロ基などの
電子1技引基を有する塩素化芳香族化合物を非プロトン
性極性溶媒中高温でフッ化アルカリ金属でフッ素化する
、いわゆるハロゲン変換法が知られている。
しかしこれらの方法は、反応工程数が多く、目的物の全
収量が低く、特に前者の方法は不安定なジアゾニウム頃
を取り扱わなければならないこと、また後者の場合は高
い電子密度を有する芳香族化合物では目的とする反応が
進行しないなどの欠点がある。
収量が低く、特に前者の方法は不安定なジアゾニウム頃
を取り扱わなければならないこと、また後者の場合は高
い電子密度を有する芳香族化合物では目的とする反応が
進行しないなどの欠点がある。
更らに、1it)電解フツ素化法、Qv)高次7フ化金
属によるフッ素化法も知られているが、いずれも反応の
制御において雑煮があり、ポリフッ化物が生成する。
属によるフッ素化法も知られているが、いずれも反応の
制御において雑煮があり、ポリフッ化物が生成する。
またMフッ素ガスによる芳香族化合物の直接フ76が報
告されている( J、 Org、 Chem、。
告されている( J、 Org、 Chem、。
35.732(1970):USP4524032参照
〕。しかしながらこの方法はフッ素ガスの激しい反応性
のため反応の制御が困難な上、タール状の副生成物が生
じ目的物の収率は低い。
〕。しかしながらこの方法はフッ素ガスの激しい反応性
のため反応の制御が困難な上、タール状の副生成物が生
じ目的物の収率は低い。
(vl)フッ素ガスの激しい反応性を抑制する目的で、
フッ素がスに代る1々のフッ素化試剤を用いる方法が提
案されている。芳香族化合物のフッ素化剤としては次の
ものが知られている。
フッ素がスに代る1々のフッ素化試剤を用いる方法が提
案されている。芳香族化合物のフッ素化剤としては次の
ものが知られている。
(1) XeF2[l5rael Journal
of Chemlstry。
of Chemlstry。
17.71(1978)参照〕
(21C:F’30F [:Chem、 Commun
、、 1968y 806参照〕 (3) CHaCook [J−Org 、Chem
、 、49t 806(1984)参照] (4) :E+’C1103(Chew、 Ber、
、 102.1944(1969)参照〕 一ノルボルニル、又はネオペンチル基)(J、Am。
、、 1968y 806参照〕 (3) CHaCook [J−Org 、Chem
、 、49t 806(1984)参照] (4) :E+’C1103(Chew、 Ber、
、 102.1944(1969)参照〕 一ノルボルニル、又はネオペンチル基)(J、Am。
Chem、Soc、、106,452(1984)参照
〕しかしこれらの方法は、試剤が高価であること、不安
定であること、爆発性であること、目的物の収率が低い
こと等のいずれかの欠点を有し、工業的な方法として望
ましいとは言い難い。
〕しかしこれらの方法は、試剤が高価であること、不安
定であること、爆発性であること、目的物の収率が低い
こと等のいずれかの欠点を有し、工業的な方法として望
ましいとは言い難い。
またーアセトニトリル中ピリジン・F2 化合物を用
いるクラシル又はウラシル誘導体のフッ素化反応が提案
されている( Z、 Chem、、 12.292(1
972)参照〕。しかしながら本方法は収率が低い上に
、フッ素化剤であるピリジン・F2 化合物が不安定
で一2℃以上では爆発的に分解するため、工業的夷法と
しては採用しがたい。このようにピリジン・li’□化
合物は一2℃以上では爆発的に分解を起こすため、その
温変以上でフッ素化試剤として用いることは不可能であ
り、このことがフッ素化反応の適用範囲を著しく狭いも
のにしていた。
いるクラシル又はウラシル誘導体のフッ素化反応が提案
されている( Z、 Chem、、 12.292(1
972)参照〕。しかしながら本方法は収率が低い上に
、フッ素化剤であるピリジン・F2 化合物が不安定
で一2℃以上では爆発的に分解するため、工業的夷法と
しては採用しがたい。このようにピリジン・li’□化
合物は一2℃以上では爆発的に分解を起こすため、その
温変以上でフッ素化試剤として用いることは不可能であ
り、このことがフッ素化反応の適用範囲を著しく狭いも
のにしていた。
本発明者らべこれらの欠点を克服すべく鋭意研究+Xね
た結果、強いフッ素化力をもち、しかも安定で取り扱い
やすいフッ素化試剤の開発に成功し、本発明?完成させ
たものである。
た結果、強いフッ素化力をもち、しかも安定で取り扱い
やすいフッ素化試剤の開発に成功し、本発明?完成させ
たものである。
本発明は一般式
%式%(1)
(式中、Arは芳香族基を表わす。)
で表わされる芳香族化合物と、一般式
%式%
〔式中、Hl、 R2,R3,:R4,及びR5は水素
原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニ
ル基、カルバモイル基、又はアミド基であり、X″″は
ブレンステッド酸の共役塩基(ただしハロゲン化水素の
共役塩基であるF″″。
原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニ
ル基、カルバモイル基、又はアミド基であり、X″″は
ブレンステッド酸の共役塩基(ただしハロゲン化水素の
共役塩基であるF″″。
CQ−、Br−及びI− は除く。)である。R1゜R
2,R3,R4及びR5は種々の組み合わせでヘテロ原
子を介在して又は非介在で環状構造をしていてもよい。
2,R3,R4及びR5は種々の組み合わせでヘテロ原
子を介在して又は非介在で環状構造をしていてもよい。
またX−はR”+ R2,R3,R4及びR5と種々の
組み合わせてヘテロ原子を介在して又は非介在で結合し
ていてもよい。] で表わされるN−フルオロピリジニウム塩とを反応させ
ることを特徴とする一般式 %式%() (式中、Arは芳香族基を表わす。) で表わされる芳香族フッ素化合物の製法である。
組み合わせてヘテロ原子を介在して又は非介在で結合し
ていてもよい。] で表わされるN−フルオロピリジニウム塩とを反応させ
ることを特徴とする一般式 %式%() (式中、Arは芳香族基を表わす。) で表わされる芳香族フッ素化合物の製法である。
前記一般式(1)で表わされる芳香族化合物は、工業的
に入手容易な、又は容易に製造できる化合物テロす、f
ll、tハヘンゼン、トルエン、キシレン、テトラメチ
ルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、フェノール、クロ
ルフェノール、メチルフェノール、ブチルフェノール、
カテコール、レゾルシノール、ヒドロキシ安息香酸、ジ
ヒドロキシベンズアルデヒド、ジヒドロギシ安息香酸メ
チルエステル、サルチル酸、サルチル酸メチル、アニソ
ール。
に入手容易な、又は容易に製造できる化合物テロす、f
ll、tハヘンゼン、トルエン、キシレン、テトラメチ
ルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、フェノール、クロ
ルフェノール、メチルフェノール、ブチルフェノール、
カテコール、レゾルシノール、ヒドロキシ安息香酸、ジ
ヒドロキシベンズアルデヒド、ジヒドロギシ安息香酸メ
チルエステル、サルチル酸、サルチル酸メチル、アニソ
ール。
ブチルフェノール、ジメトキシベンゼン、メトキシフェ
ニル酢酸エチルエステル、フェニル酢酸メチルエステル
、2−フェニルプロピオン酸エチルエステル、ヒト10
キシフエニル酢酸メチルエステル、アセトアニリド、メ
チルアセトアニリド、ビス(アセチルアミノ)へ/ゼン
、N−メタンスルホニルアニリン、フェニルウレタン、
ブチルフェニルウレタン、(メトキシカルボニルメチル
)フェニルウレタン、N−アセチル)” −1k ミン
、N−アセチルト1−エステルエステル、N−アセチル
−2−(ジヒドロキシフェニル)エチルアミン、フルオ
ロベンゼン、クロルベンゼン、エステロン(ester
onaLエステロンメチルエーテル、β−エストラジオ
ール(eatradiol) s ビフェニル、ジフェ
ニルエーテル、フェノキシ酢酸メチルエステル、等の置
換又は未−換ベンゼン、ナフタレン、ナフトール、N−
アセテルナフデルアミン、メチルナフタレン レタン、等の置換又は未置換ナフタレン、アントラセ/
、ビレ/17エナントレ/等の置換又は未置換の多核縮
合芳香族化合物、7ラン、チオフェン、ベンゾフラン、
ベンゾチオフェン、メチルフラン、メチルチオフェン、
ピロール、アセチルピロール、フルフラール、チェニル
酢酸メチルエステル、N−メチルピロール、等の置換又
は未置換のへテロ芳香族化合物、等を例示することがで
きる。
ニル酢酸エチルエステル、フェニル酢酸メチルエステル
、2−フェニルプロピオン酸エチルエステル、ヒト10
キシフエニル酢酸メチルエステル、アセトアニリド、メ
チルアセトアニリド、ビス(アセチルアミノ)へ/ゼン
、N−メタンスルホニルアニリン、フェニルウレタン、
ブチルフェニルウレタン、(メトキシカルボニルメチル
)フェニルウレタン、N−アセチル)” −1k ミン
、N−アセチルト1−エステルエステル、N−アセチル
−2−(ジヒドロキシフェニル)エチルアミン、フルオ
ロベンゼン、クロルベンゼン、エステロン(ester
onaLエステロンメチルエーテル、β−エストラジオ
ール(eatradiol) s ビフェニル、ジフェ
ニルエーテル、フェノキシ酢酸メチルエステル、等の置
換又は未−換ベンゼン、ナフタレン、ナフトール、N−
アセテルナフデルアミン、メチルナフタレン レタン、等の置換又は未置換ナフタレン、アントラセ/
、ビレ/17エナントレ/等の置換又は未置換の多核縮
合芳香族化合物、7ラン、チオフェン、ベンゾフラン、
ベンゾチオフェン、メチルフラン、メチルチオフェン、
ピロール、アセチルピロール、フルフラール、チェニル
酢酸メチルエステル、N−メチルピロール、等の置換又
は未置換のへテロ芳香族化合物、等を例示することがで
きる。
前記一般式[10で表わされるN−フルオロピリジニウ
ム塩は、例えばピリジン又はピリジン誘導体とフッ素と
MX[Mは水素原子、金属、アンモニウム残基、ピリジ
ニクム残基又はRaRbRC8iで表わされる基(但し
、Ra、 Rb、 Reはハロゲン原子、アルキル基又
は了り−ル基である。)であり、Xは前記同様の意味を
表わす。〕又はルイス酸とを反応させることにより容易
に製造できるものであり(特願昭60−118882参
照)、(Tf=SQ2C1+’3λ 一〇2t 、 Uif *−O’rf
、 −Q■Ui−11、R2、R3、
l σR (n、mは歪値) 等を例示することができる。
ム塩は、例えばピリジン又はピリジン誘導体とフッ素と
MX[Mは水素原子、金属、アンモニウム残基、ピリジ
ニクム残基又はRaRbRC8iで表わされる基(但し
、Ra、 Rb、 Reはハロゲン原子、アルキル基又
は了り−ル基である。)であり、Xは前記同様の意味を
表わす。〕又はルイス酸とを反応させることにより容易
に製造できるものであり(特願昭60−118882参
照)、(Tf=SQ2C1+’3λ 一〇2t 、 Uif *−O’rf
、 −Q■Ui−11、R2、R3、
l σR (n、mは歪値) 等を例示することができる。
反応は溶媒中で行なうのが好ましく、溶媒としては頃比
メチンン、クロロホルム、四塩化反米、ジクロロエタン
、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、t’)’)
ロロトリフルオロエタン等のハロゲン化炭化水素、アセ
トニトリル、エーテル。
メチンン、クロロホルム、四塩化反米、ジクロロエタン
、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、t’)’)
ロロトリフルオロエタン等のハロゲン化炭化水素、アセ
トニトリル、エーテル。
テトラヒドロフラン、ヘキサン等及びこれらの混合物等
を例示すふことができる。
を例示すふことができる。
反応温檎は一80℃〜+200℃を選ぶことができるが
一10℃〜+180℃が反応が効第よく進行する点で好
ましい。
一10℃〜+180℃が反応が効第よく進行する点で好
ましい。
以下、参考例及び実施例により本発明を更に詳細に説明
する。
する。
参考例1
ピリジン10g(0,126mol)の無水アセトニト
リル100mJ#液に一40’Cに冷却下、激しく債拌
しながら窒素ガスで1(lに希釈した7ツ素ガスを90
@l/分の流速で導入した。導入したフッ素の全tは0
.18 molであった。その?&XMとしてトリフル
オロメタンスルホン酸ナトリウム22g(0,128m
ol)を加え、−40℃で5時間攪拌した。その隆生成
した7ツ化ナトリクムを濾別し、溶媒を留去後残済を塩
化メチレンより結晶化させN−フルオロピリジニウム
トリフルオロメタンスルホン酸) 17.59 (71
% )得た。
リル100mJ#液に一40’Cに冷却下、激しく債拌
しながら窒素ガスで1(lに希釈した7ツ素ガスを90
@l/分の流速で導入した。導入したフッ素の全tは0
.18 molであった。その?&XMとしてトリフル
オロメタンスルホン酸ナトリウム22g(0,128m
ol)を加え、−40℃で5時間攪拌した。その隆生成
した7ツ化ナトリクムを濾別し、溶媒を留去後残済を塩
化メチレンより結晶化させN−フルオロピリジニウム
トリフルオロメタンスルホン酸) 17.59 (71
% )得た。
再t#製は塩化メチレン−アセトニトリルより再結晶す
ることによって行なった。物性値は表1に示した。
ることによって行なった。物性値は表1に示した。
参考例2
k”
″O’l’?
2.46−ドリメテルビリジン0.57(4,67mm
ol) 及びトリフルオロメタ/スルホン酸ナトリウ
ム0.803g(4,67mmol)を無水アセトニト
リル20ゴに溶解させ、−40℃に冷却下激しく攪拌し
ながら窒素ガスで10幅に希釈しちフッ素ガスを30−
7分のvf、速で導入した。導入したフッ素ガスの@I
fi8.93 mmolであった。反応後、生成したフ
ッ化ナトリワムを濾別し、溶ヒ留去後アセトニトリル−
ジエチルエーテルより結晶fヒさせてN−フルオロ−2
,46−)リメチルピリジニクムトリプルオロメタンス
ルホナート’k1.119(82憾)得た。物性11M
は表1に示した。
ol) 及びトリフルオロメタ/スルホン酸ナトリウ
ム0.803g(4,67mmol)を無水アセトニト
リル20ゴに溶解させ、−40℃に冷却下激しく攪拌し
ながら窒素ガスで10幅に希釈しちフッ素ガスを30−
7分のvf、速で導入した。導入したフッ素ガスの@I
fi8.93 mmolであった。反応後、生成したフ
ッ化ナトリワムを濾別し、溶ヒ留去後アセトニトリル−
ジエチルエーテルより結晶fヒさせてN−フルオロ−2
,46−)リメチルピリジニクムトリプルオロメタンス
ルホナート’k1.119(82憾)得た。物性11M
は表1に示した。
参考例3
25−のナス型フラスコに2.46− トリメチルピリ
ジン(1,21g、10皿01)、ホウ7ツ化ナトリウ
ム(1,23g、 10mmol) 及び無水77
化ナトリウム(219,50mmol) を無水アセ
トニド+)kL 5dlIC%解させ、−40℃に冷却
下激しく攪拌しながら窒素ガスとフッ素ガス(9:1)
の混合ガスを50−7分の減速で導入した。
ジン(1,21g、10皿01)、ホウ7ツ化ナトリウ
ム(1,23g、 10mmol) 及び無水77
化ナトリウム(219,50mmol) を無水アセ
トニド+)kL 5dlIC%解させ、−40℃に冷却
下激しく攪拌しながら窒素ガスとフッ素ガス(9:1)
の混合ガスを50−7分の減速で導入した。
導入したフッ素ガスのtlII′i20 mmolであ
った。
った。
反応浸沈澱物を祷別し、溶媒留去後アセトニトリルージ
エチルエーテルより再結晶してぷ一フルオロー2.4.
6−)リメチルピリジニウム テトラフルオロボラート
を1.599 (70%)併走。再精製は、アセトニト
リルより再結晶することによって行なった。物性値は表
1に示した。
エチルエーテルより再結晶してぷ一フルオロー2.4.
6−)リメチルピリジニウム テトラフルオロボラート
を1.599 (70%)併走。再精製は、アセトニト
リルより再結晶することによって行なった。物性値は表
1に示した。
参考例4〜7
参考?+′I12と同様の操作で収草しく櫨々のに4−
フルオロピリジニウム頃を合成した。得られたN−フル
オロピリジニウム頃の物性値は表1に示し友。
フルオロピリジニウム頃を合成した。得られたN−フル
オロピリジニウム頃の物性値は表1に示し友。
実施例I
Fk′
フェノール1.0 mmol とΔ−フルオロピリジニ
ウム トリフルオロメタンスルホナート0.5 mmo
lのLL2−トリクロロエタン2ILt溶液をアルゴン
雰囲気下で24時間100℃で加熱した。その間3時間
後と61#間後にN−フルオロピリジニウムトリフルオ
ロメタンスルホネートをそjLぞれ0.25mm0L新
たに加えた(全使用量1.0 mmol)。反応後反応
液をガスクロマトグラフィーにより電歇したところ、0
−フルオロフェノール0.40 mmol、 p−フル
オロフェノール0.14 mmol、z4−ジフルオロ
フェノール0.05 mmol 及ヒフエノール0、2
1 mmol含まれていることがわかった。従ってO−
、p−フルオロフェノール、および2.4−ジフルオロ
フェノールの収率はそれぞれ51%、18%、6チであ
った〔全収率75%(変換率79%)〕。なお〕m−フ
ルオロフェノーは生成していなかった。
ウム トリフルオロメタンスルホナート0.5 mmo
lのLL2−トリクロロエタン2ILt溶液をアルゴン
雰囲気下で24時間100℃で加熱した。その間3時間
後と61#間後にN−フルオロピリジニウムトリフルオ
ロメタンスルホネートをそjLぞれ0.25mm0L新
たに加えた(全使用量1.0 mmol)。反応後反応
液をガスクロマトグラフィーにより電歇したところ、0
−フルオロフェノール0.40 mmol、 p−フル
オロフェノール0.14 mmol、z4−ジフルオロ
フェノール0.05 mmol 及ヒフエノール0、2
1 mmol含まれていることがわかった。従ってO−
、p−フルオロフェノール、および2.4−ジフルオロ
フェノールの収率はそれぞれ51%、18%、6チであ
った〔全収率75%(変換率79%)〕。なお〕m−フ
ルオロフェノーは生成していなかった。
実施例2
フェノール1.9 mmol とR−フルオロ−35−
ジクロロピリジニウム トリフルオロメタンスルホナー
ト1. Ommolの頃化メチレンlau溶液をアルゴ
ン雰囲気下で5時間速流させた。反応後反応溶液をガス
クロマトグラフィーにて分析を行なったところ、0−フ
ルオロフェノール(0,44mmol ) bp−フル
オロフェノール(0,13mmol)、2.4−ジフル
オロフェノール(0,06mmol)、及びフェノール
(0,27mmol)が含まれていることがわかった。
ジクロロピリジニウム トリフルオロメタンスルホナー
ト1. Ommolの頃化メチレンlau溶液をアルゴ
ン雰囲気下で5時間速流させた。反応後反応溶液をガス
クロマトグラフィーにて分析を行なったところ、0−フ
ルオロフェノール(0,44mmol ) bp−フル
オロフェノール(0,13mmol)、2.4−ジフル
オロフェノール(0,06mmol)、及びフェノール
(0,27mmol)が含まれていることがわかった。
従って0−フルオロフェノール、p−フルオロフェノー
ル、及び24−ジフルオロフェノールの収@はそれぞれ
60118%、7%であった〔全収率85%(変換車7
3%)〕。
ル、及び24−ジフルオロフェノールの収@はそれぞれ
60118%、7%であった〔全収率85%(変換車7
3%)〕。
実施例3〜18
実施例3〜18は実施例2と同様の操作で、表2に示す
m件下に、芳香族化合物と八−フルオロピリジニウム塩
とを反応させた。その結果を表2に示した(表2には′
P、施例極側2の結果も合″わせて示した)。
m件下に、芳香族化合物と八−フルオロピリジニウム塩
とを反応させた。その結果を表2に示した(表2には′
P、施例極側2の結果も合″わせて示した)。
実施例3〜9の生成物はガス夛ロマトグラフイーにより
同定し、収率を決定した。実施例1O〜17の生成物社
シリカゲルの薄層又はカラムクロマトグラフィーにより
単離し、スペクトル解析薄れ標準サンプルとの比較によ
り構造決定を行なつた(収率は単離収率である)。実施
例18の生成物はF’ −、N M R測定により構造
決定を行なった(収率はに’−JNMi(収率である)
。収率は実施例4.18を除き変換収率である。
同定し、収率を決定した。実施例1O〜17の生成物社
シリカゲルの薄層又はカラムクロマトグラフィーにより
単離し、スペクトル解析薄れ標準サンプルとの比較によ
り構造決定を行なつた(収率は単離収率である)。実施
例18の生成物はF’ −、N M R測定により構造
決定を行なった(収率はに’−JNMi(収率である)
。収率は実施例4.18を除き変換収率である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ArH で表わされる芳香族化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるN−フルオロピリジニウム塩とを反応させ
ることを特徴とする、一般式 Ar−F で表わされる芳香族フッ素化合物の製法 〔式中、Arは芳香族基であり、R^1、R^2、R^
3、R^4、及びR^5は水素原子、アルキル基、アリ
ール基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ
基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリールオキシ基、
アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコ
キシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、カル
バモイル基、又はアミド基であり、X^−はブレンステ
ッド酸の共役塩基(ただしハロゲン化水素の共役塩基F
^−、Cl^−、Br^−及びI^−は除く。)である
。R^1、R^2、R^3、R^4及びR^5は種々の
組み合わせでヘテロ原子を介在して又は非介在で環状構
造をしていてもよい。またX^−はR^1、R^2、R
^3、R^4及びR^5と種々の組み合わせでヘテロ原
子を介在して又は非介在で結合していてもよい。]。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4845286A JPS62207229A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 芳香族フツ素化合物の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4845286A JPS62207229A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 芳香族フツ素化合物の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62207229A true JPS62207229A (ja) | 1987-09-11 |
JPH0586769B2 JPH0586769B2 (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=12803739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4845286A Granted JPS62207229A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 芳香族フツ素化合物の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62207229A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2003008364A1 (ja) * | 2001-07-13 | 2004-11-04 | ダイキン工業株式会社 | フッ素化方法 |
-
1986
- 1986-03-07 JP JP4845286A patent/JPS62207229A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2003008364A1 (ja) * | 2001-07-13 | 2004-11-04 | ダイキン工業株式会社 | フッ素化方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0586769B2 (ja) | 1993-12-14 |
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