JPS62180078A - 管内面の被覆方法 - Google Patents
管内面の被覆方法Info
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- JPS62180078A JPS62180078A JP2202286A JP2202286A JPS62180078A JP S62180078 A JPS62180078 A JP S62180078A JP 2202286 A JP2202286 A JP 2202286A JP 2202286 A JP2202286 A JP 2202286A JP S62180078 A JPS62180078 A JP S62180078A
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Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は管内面の被iff方法に関し、各種パイプ内
面の耐食、耐摩耗性等の改善、ダイス等各種工具の耐摩
耗性の改善、更にはマイクロ波導波管として用いられる
各種キャビティーの電磁シールドの形成の際に利用され
る。
面の耐食、耐摩耗性等の改善、ダイス等各種工具の耐摩
耗性の改善、更にはマイクロ波導波管として用いられる
各種キャビティーの電磁シールドの形成の際に利用され
る。
[従来の技術]
従来、管の内面を被覆する方法として、第1に、メッキ
溶液を電気化学的に管の内面に被覆する電気化学メッキ
法が知られている。
溶液を電気化学的に管の内面に被覆する電気化学メッキ
法が知られている。
然し乍ら電気化学メッキ法においては廃液処理や有害ガ
ス対策などが必要であり、また、ピンホールのない均質
で一様な厚みの皮膜が得られないという欠点がある。
ス対策などが必要であり、また、ピンホールのない均質
で一様な厚みの皮膜が得られないという欠点がある。
一方、気相成長法(CVD法)が知られている。CVD
法は、ガス状物質を化学反応で固体物質にし基盤上に堆
積せしめる方法である。CVD法の1つとしてプラズマ
CVD法がある。プラズマCVD法は1作ろうとする被
膜の元素を含んだ分解しやすい気体を反応空間に送り込
み、そこで−ニイ−4If h L1杯シドルi紮11
11九枠r呵+ス士社づ狐る、この方法は他のCVD法
とは異なり被皮膜材の低温化(300−400°C)が
図られるので被成11q材の劣化を防止することができ
る。とともにプロセスが(′7i屯であるという長所を
右している。
法は、ガス状物質を化学反応で固体物質にし基盤上に堆
積せしめる方法である。CVD法の1つとしてプラズマ
CVD法がある。プラズマCVD法は1作ろうとする被
膜の元素を含んだ分解しやすい気体を反応空間に送り込
み、そこで−ニイ−4If h L1杯シドルi紮11
11九枠r呵+ス士社づ狐る、この方法は他のCVD法
とは異なり被皮膜材の低温化(300−400°C)が
図られるので被成11q材の劣化を防止することができ
る。とともにプロセスが(′7i屯であるという長所を
右している。
このプラズマCVD法の代表的なものとしては第2図に
示す誘導型方式と第3図に示す容量型方式が知られてい
る。
示す誘導型方式と第3図に示す容量型方式が知られてい
る。
第2図に示す誘導型方式は、被被膜材である被覆管9内
を排気口8から排気し、ガス導入管9から所要の元素を
含む気体を被覆管l内に導入し、該気体が導入された状
態で被覆管1の外部に被覆管1を巻回するように配置さ
れたRFコイルに高圧電圧を印加することにより被覆管
1内に導入された気体をグロー放電せしめて被覆管1の
内面を被覆するものである。
を排気口8から排気し、ガス導入管9から所要の元素を
含む気体を被覆管l内に導入し、該気体が導入された状
態で被覆管1の外部に被覆管1を巻回するように配置さ
れたRFコイルに高圧電圧を印加することにより被覆管
1内に導入された気体をグロー放電せしめて被覆管1の
内面を被覆するものである。
一方、第3図に示す容量型方式においては被覆f庁1内
にRF電極2,2を配置し、このRF電極2.2間に電
圧を印加することにより被覆管1内においてグロー放電
を生じせしめることにより被膜を行なうものである。
にRF電極2,2を配置し、このRF電極2.2間に電
圧を印加することにより被覆管1内においてグロー放電
を生じせしめることにより被膜を行なうものである。
しかし、第2図及び第3図に示した方式には次のような
問題点がある。
問題点がある。
すなわち、■被覆管が絶縁材に限定される、■蒸若速度
(成膜速Iff)が近い、■この為、被膜形成時に雰囲
気からの不純物の取り込みによる汚染が起り易い等の問
題点である。
(成膜速Iff)が近い、■この為、被膜形成時に雰囲
気からの不純物の取り込みによる汚染が起り易い等の問
題点である。
そこで、かかる問題点を解決し得る発明として本出願人
は、第4図に示すように、導電性材料よりなる被覆管1
自体を第1電極とし、該被覆管1内に被覆しようとする
元素を含んだ気体を導入し電圧を印加したときにグロー
放電を生じるように第2電極を配設し、被覆管1を真空
槽5内に収納し、真空槽5の外周に加熱ヒータ7を設け
てなるCVD用装置において、真空槽5内を真空に排気
した後、真空槽5内に、被覆しようとする元素を含んだ
気体を送り込み、第1電極と第2電極との間に高圧電源
を印加することにより被覆管1内にグロー放電を発生さ
せて被覆管1の内面を被覆することを特徴とする管内面
の被覆方法につき本出願と同日付にて別途出願した。
は、第4図に示すように、導電性材料よりなる被覆管1
自体を第1電極とし、該被覆管1内に被覆しようとする
元素を含んだ気体を導入し電圧を印加したときにグロー
放電を生じるように第2電極を配設し、被覆管1を真空
槽5内に収納し、真空槽5の外周に加熱ヒータ7を設け
てなるCVD用装置において、真空槽5内を真空に排気
した後、真空槽5内に、被覆しようとする元素を含んだ
気体を送り込み、第1電極と第2電極との間に高圧電源
を印加することにより被覆管1内にグロー放電を発生さ
せて被覆管1の内面を被覆することを特徴とする管内面
の被覆方法につき本出願と同日付にて別途出願した。
[発明が解決しようとする問題点]
しかし、本出願と同日付の出願に係る発明においては、
被覆管1の外部においても放電が生じ、その結果、■被
覆管1の外面にも被覆がされてしまう、■真空槽5の内
面に被着物が生じるのでその清掃が困難となる、という
問題点を有している。
被覆管1の外部においても放電が生じ、その結果、■被
覆管1の外面にも被覆がされてしまう、■真空槽5の内
面に被着物が生じるのでその清掃が困難となる、という
問題点を有している。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、導電性材料よりなる被覆管自体が第1電極と
され、該被覆管内に被覆しようとする被膜の元素を含ん
だ気体を導入し電圧を印加したときにグロー放電を生じ
るように第2電極を配設され、該被覆管が真空槽内に収
納されてなるCVD用装置において、該真空槽内を真空
に排気した後、該真空槽内に、被覆しようとする元素を
含んだ気体を送り込み、該第1電極と該第2電極との間
に高圧電源を印加することにより該被覆管内にグロー放
電を発生させて該被覆管の内面を被覆すスーL−九牡九
し+1階山晶ハ愉W5士9トづ東1本発明の対象とする
被覆管は導電性材料よりなる被覆管である。
され、該被覆管内に被覆しようとする被膜の元素を含ん
だ気体を導入し電圧を印加したときにグロー放電を生じ
るように第2電極を配設され、該被覆管が真空槽内に収
納されてなるCVD用装置において、該真空槽内を真空
に排気した後、該真空槽内に、被覆しようとする元素を
含んだ気体を送り込み、該第1電極と該第2電極との間
に高圧電源を印加することにより該被覆管内にグロー放
電を発生させて該被覆管の内面を被覆すスーL−九牡九
し+1階山晶ハ愉W5士9トづ東1本発明の対象とする
被覆管は導電性材料よりなる被覆管である。
本発明においては被覆管自体を第1電極とする。そのた
め高圧電源の一端を被覆管に電気的に接続する。接続位
置は特に限定されない、たとえば、被覆管の管端に設け
たガス導入口に接続すればよい。
め高圧電源の一端を被覆管に電気的に接続する。接続位
置は特に限定されない、たとえば、被覆管の管端に設け
たガス導入口に接続すればよい。
一方、第2電極は、被覆管内に導入された気体にグロー
放電を生じるような位置に配設する。
放電を生じるような位置に配設する。
なお、高圧電源としてはRF主電源もよいし、直流電源
でもよい。直流電源を使用する場合にはその陰極側端子
を被覆管に電気的に接続する。
でもよい。直流電源を使用する場合にはその陰極側端子
を被覆管に電気的に接続する。
本発明においては被覆管内を真空に排気する。
真空度としてはlXl0−2Torr (トール)以上
が好ましい。
が好ましい。
本発明においては、被覆管は真空槽内に収納されている
。
。
本発明における最大の特徴は、被覆管の外周及び上部管
端近傍に加熱ヒータを設けた点にある。
端近傍に加熱ヒータを設けた点にある。
このように、被覆管の外周及び上部管端近傍に加熱ヒー
タを設けると、この加熱ヒータは電磁シールドの役目を
兼用し、グロー放電は被覆管の内部においてのみ生じる
。
タを設けると、この加熱ヒータは電磁シールドの役目を
兼用し、グロー放電は被覆管の内部においてのみ生じる
。
被覆管内が真空に排気された後、被覆管内に。
被覆しようとする被膜の元素を含んだ気体を送り込む。
かかる気体としてはたとえば、金属水素化物、金属塩化
物等の気体を適宜用いればよい。
物等の気体を適宜用いればよい。
被覆管内に気体が導入された状態で第1電極と第2電極
との間に高圧の電圧を印加する。高圧の電圧が印加され
ると、第1電極と第2電極との間にグロー放電が生じ、
被覆管内の気体がイオン化し、イオン化したガスは被覆
管の内面に堆積し、被覆が行なわれる。
との間に高圧の電圧を印加する。高圧の電圧が印加され
ると、第1電極と第2電極との間にグロー放電が生じ、
被覆管内の気体がイオン化し、イオン化したガスは被覆
管の内面に堆積し、被覆が行なわれる。
[発明の実施例]
以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
(実施例)
第1図は本A IJIの一実施例を示し、lは被覆管、
3はのぞき窓、4は絶縁材、5は真空槽、6は高圧電源
、7は加熱ヒータ、8は排気口、9はガス導入管である
。
3はのぞき窓、4は絶縁材、5は真空槽、6は高圧電源
、7は加熱ヒータ、8は排気口、9はガス導入管である
。
すなわち、本例では、被覆管1の管端部にガス導入管9
が接続されており、このガス導入管9には高圧電源6が
電気的に接続されている。したがって被覆管1自体が第
1電極となっている。
が接続されており、このガス導入管9には高圧電源6が
電気的に接続されている。したがって被覆管1自体が第
1電極となっている。
また、本例では高圧電源6としてRF主電源使用してい
る。高圧電源6の他の端子はアースされている。
る。高圧電源6の他の端子はアースされている。
被覆管1は真空槽5に収納されており、真空槽5とガス
導入管9とは絶縁材4により電気的に絶縁されている。
導入管9とは絶縁材4により電気的に絶縁されている。
真空槽5はアースされており、したがって真空槽5が第
2電極となっている。また、真空槽の一端には排気口8
が設けられており、この排気口8から真空に排気される
。
2電極となっている。また、真空槽の一端には排気口8
が設けられており、この排気口8から真空に排気される
。
被覆管lの外周及び上部管端近傍には加熱ヒータ7を設
けである。
けである。
被覆管1と加熱ヒータ7との距離は、1〜5mmとした
。また、本例における加熱ヒータ7は、金属板(電磁シ
ールド)の外側にヒータをコイル状に巻いて構成しであ
る。なお、電磁シールドは金属板に限らず導電性材料な
らば特に限定されない。
。また、本例における加熱ヒータ7は、金属板(電磁シ
ールド)の外側にヒータをコイル状に巻いて構成しであ
る。なお、電磁シールドは金属板に限らず導電性材料な
らば特に限定されない。
以下に本実施例をより詳細に説明する。
真空槽5内に60φの被覆管lを配置した。一方、加熱
ヒータ7により被覆管lを300℃に加熱した。加熱後
、排気口8から排気し真空槽5内を真空にした0次いで
、ガス導入管9からガス(SiH420cc/min、
Ar160cc/m1n)を真空槽5内(したがって被
ra管1内)に導入した。被覆管l内の圧力を0 、5
T o r rとし、第1電極(ガス導入管9)と第
2電極(真空槽5)との間に高圧電源6によりtoow
の電力を投入し、第1電極と第2電極との間にグロー放
電を生じさせた。その結果、被覆管l内面にはSiC膜
が被覆された。その際の成膜速度は、4〜10ルm/h
と速かった。被覆された膜の硬度はビッカース硬度Hマ
=2000と高硬度であった。
ヒータ7により被覆管lを300℃に加熱した。加熱後
、排気口8から排気し真空槽5内を真空にした0次いで
、ガス導入管9からガス(SiH420cc/min、
Ar160cc/m1n)を真空槽5内(したがって被
ra管1内)に導入した。被覆管l内の圧力を0 、5
T o r rとし、第1電極(ガス導入管9)と第
2電極(真空槽5)との間に高圧電源6によりtoow
の電力を投入し、第1電極と第2電極との間にグロー放
電を生じさせた。その結果、被覆管l内面にはSiC膜
が被覆された。その際の成膜速度は、4〜10ルm/h
と速かった。被覆された膜の硬度はビッカース硬度Hマ
=2000と高硬度であった。
また、なお、本例においては加熱ヒータを兼ねた電磁シ
ールド7と被覆管lとの間隔は1〜5mmであり、加熱
ヒータ7が放電シールドとなり被覆管lの外面において
は放電は起こらず、したがって被覆管1の外面には被覆
は生じなかった。
ールド7と被覆管lとの間隔は1〜5mmであり、加熱
ヒータ7が放電シールドとなり被覆管lの外面において
は放電は起こらず、したがって被覆管1の外面には被覆
は生じなかった。
[発明の効果]
以上述べたように、本発明によれば、被覆管を低温に保
ちながら、速い成膜速度で密着性よく被覆管の内面を被
覆することができる。さらに、被覆管の内部においての
み放電が生じずので、被覆ができ、かつ、高圧電源から
の投入パワーが有効に利用でき、さらに、真空槽の清掃
が容易となる。
ちながら、速い成膜速度で密着性よく被覆管の内面を被
覆することができる。さらに、被覆管の内部においての
み放電が生じずので、被覆ができ、かつ、高圧電源から
の投入パワーが有効に利用でき、さらに、真空槽の清掃
が容易となる。
第1図は本発明の一実施例を説明するだめの断面図であ
る。第2図、第3図及び第4図は先行技術を説明するた
めの断面図である。 l・・被覆管、2・・電極、3・・のぞき窓、4・・絶
縁材、5・・真空槽、6・・高圧電源、6・・直流電源
、7・・加熱ヒータ、8・・排気口、9・・ガス導入管
、11・・グロー放電。 第1図 手続補正書 昭和61年 9月25日
る。第2図、第3図及び第4図は先行技術を説明するた
めの断面図である。 l・・被覆管、2・・電極、3・・のぞき窓、4・・絶
縁材、5・・真空槽、6・・高圧電源、6・・直流電源
、7・・加熱ヒータ、8・・排気口、9・・ガス導入管
、11・・グロー放電。 第1図 手続補正書 昭和61年 9月25日
Claims (2)
- (1)導電性材料よりなる被覆管自体が第1電極とされ
、該被覆管内に被覆しようとする被膜の元素を含んだ気
体を導入し電圧を印加したときにグロー放電を生じるよ
うに第2電極を配設され、該被覆管が真空槽内に収納さ
れてなるCVD用装置において、該真空槽内を真空に排
気した後、該真空槽内に、被覆しようとする元素を含ん
だ気体を送り込み、該第1電極と該第2電極との間に高
圧電源を印加することにより該被覆管内にグロー放電を
発生させて該被覆管の内面を被覆することを特徴とする
管内面の被覆方法。 - (2)被覆管の外周及び上部管端近傍に放電シールドを
兼ねた加熱ヒータを設けた特許請求の範囲第1項記載の
管内面の被覆方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2202286A JPS62180078A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 管内面の被覆方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2202286A JPS62180078A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 管内面の被覆方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62180078A true JPS62180078A (ja) | 1987-08-07 |
Family
ID=12071358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2202286A Pending JPS62180078A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 管内面の被覆方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62180078A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100899378B1 (ko) | 2007-05-16 | 2009-05-26 | (주)제이 앤 엘 테크 | 할로우 캐소드 효과를 이용한 중공체의 코팅 장치, 이에의한 내벽 코팅 방법 및 내벽 코팅된 실린더 또는 튜브 |
-
1986
- 1986-02-05 JP JP2202286A patent/JPS62180078A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100899378B1 (ko) | 2007-05-16 | 2009-05-26 | (주)제이 앤 엘 테크 | 할로우 캐소드 효과를 이용한 중공체의 코팅 장치, 이에의한 내벽 코팅 방법 및 내벽 코팅된 실린더 또는 튜브 |
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