JPS6216233A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産　土の」　ノ 本発明は塗布型磁気記録層を有する磁気記録媒体に関し
、特に磁気記録層の組成に特徴を有する磁気記録媒体に
関する。

の　　　び　Ｉが、シようとするμ 現在、磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピュ
ーター、磁気ディスク、８ｍ／ｍ等の分野で広範囲に使
用されるようになっており、将来ビデオフロッピー、高
密度フロッピー等の分野でも使用されることが予想され
、それに伴い、磁気記録媒体に記録する情報量も年々増
加の一途をたどり、そのため磁気記録媒体に対しては記
録密度の向上が益々要求されるようになってきている。

従来より、磁気テープなどの磁気記録媒体では。

磁気記録層中の針状磁性粉を長手方向に配向させる等し
て、磁気特性を向上させているが、針状磁性粉を長手方
向に配向させたものは低周波帯域では高い出力が得られ
る反面高密度記録には限界があるものであった。

又、このため最近では磁性粉末が平板状であり、垂直方
向に磁化容易軸を有するバリウムフェライト磁性粉末を
磁気記録層に使用した磁気記録媒体が提案されている（
特開昭５７−１９５３２８号公報）。

特にバリウムフェライト自体は電気抵抗が１００／ｃｍ
２以上と高く、そのためバリウムフェライトにカーボン
ブラック等の導電性物質が併用して用いられていない場
合、磁気記録媒体はヘッドにはりついたり、ドロップア
ウトを生じたり、又塗布工程等の製造工程中にガイドロ
ーラー、カレンダーローラー等にはりつきが生じ、激し
い場合には放電ノイズが発生するため、通常は導電性物
質を併用して用いることが考えられ、カーボンブラック
を入れてその電気抵抗を下げているのが通常である。

しかしながら、通常のカーボンブラックは分散性が悪い
ので、光沢、飽和磁束密度の低下が大きく、そのためカ
ーボンブラックが電磁変換特性に影響する事が無視出来
なかった。そこで、その分散性の改善性が望まれ、それ
に伴なって、飽和磁束密度及び光沢の向上等が強く望ま
れていた。

１　　　　　問題点を解°するための手段本発明者等は
上記の点を改善すべく、更に研究を重ねた結果、特定の
物性を有するカーボンブラックを用いることにより、上
記問題点を解決できることを見出し、本発明に到達した
ものである。

すなわち、本発明は非磁性基材上に塗布型磁気記録層を
設けた磁気記録媒体において、磁気記録層が灰分０．０
５％以下のカーボンブラックを含有することを特徴とす
る磁気記録媒体に関するものである。

通常、磁気記録層に使用されるカーボンブラックの灰分
は少なくとも０．０１％、多いものではほぼ１％、通常
は０．３〜０．４％である。

灰分である不純物はＦｅ２Ｏ３、Ｆｅ２　　（ＳＯ４）
３．ＴｉＯ２、ＭｎＯ，Ｃａ　ＳＯ４、ＭｇＳＯ４、Ａ
　Ｉ　２０３、ＳｉＯ２，に、ＳＯ４などであり、これ
らはカーボンブラックの製造中に混入される。

これらの不純物を少なくすると、カーボンブラックの分
散性が向上することがわかった。これら不純物が０．０
５％以下になると分散性が著しく向上し、磁気記録層の
光沢があがったのである。そのため、カーボンブラック
の比表面積、吸油量、平均粒径がそれぞれより広い範囲
で使用できることを見出したのである。

通常はかなり限定された比表面積、吸油量、平均粒径を
有するカーボンブラックでないと好ましい特性が得られ
ないのであるが、本発明では灰分を上記のとおり少なく
することにより、上記の広範囲のものが使用できるので
ある。

本発明の磁気記録層に使用するカーボンブラックはファ
ーネス、チャンネル、アセチレン、サーマル、ランプ等
、いずれの方法で製造されたものでもよいが１、アセチ
レンブラック、ファーネスブラック、チャンネルブラッ
ク、ローラーおよびディスクブラック及びドイツナフタ
リンブラックが好ましい。本発明で用いるカーボンブラ
ックは灰分０．０５％以下のものであり、さらに比表面
積２０〜３５０ｍ２／ｇ、吸油量２００ｍ　ｌ／１００
ｇ以下、平均粒径１３〜６０　ｍ　Ｐのものが好ましい
。これらは例えば原料系での不純物を少なくしたり、製
造工程上、不純物が入らないよう特殊な製造装置を使用
したり、クリーニングを極端に良くしたり後で水洗を施
す等によって製造される。

比表面積及び吸油量が前記の範囲であると分散性の点で
更に好ましいものとなる。

又、粒子径が６０ｍＰを超えると分散性が低下し、型持
の点で好ましくない。一方、粒子径１０ｍ７−未満では
磁気記録層の塗料中での分散が不均一となり、均一分散
とならず、表面粗度の低下を生じ、型持低下を招いた。

一方、本発明の磁性層は、強磁性微粒子およびバインダ
ーを含む塗膜からなる塗布型に適用でき、強磁性物質と
しては？’　　Ｆｅ２　ｏ３．Ｆ　ｅ３０４、ＣＯドー
プン−Ｆｅ２０３．Ｃｏドープ２ｒ　−Ｆ　ｅ２０３−
Ｆｅ３０４固溶体、Ｃｏ系化合物被覆型２１”　−Ｆ　
ｅ　２０３．Ｃｏ系化合物被覆型２１”　−Ｆ　ｅ　３
０４　　（７Ｆｅ２Ｏ３との中間酸化状態も含む、ここ
でいうＣＯ系化合物とは、酸化コバルト、水酸化コバル
ト、コバルトフェライト、コバルトイオン吸着物等、コ
バルトの磁気異方性を保磁力向上に活用する場合を示す
）、あるいは鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金
属あるいはＦｅ−Ｃ０１Ｆ　ｅ　−Ｎ　ｉ、　Ｃｏ−Ｎ
　ｉ、　Ｆ　ｅ−Ｒｈ、　Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆｅ−Ａｕ、Ｃ
ｏ　　Ｃｕ、Ｃｏ　　Ａｕ。

Ｇｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｇｏ−Ｇｄ。

Ｃｏ−３ｍ、Ｇｏ−Ｐｔ、Ｎｉ　−Ｃｕ、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｄ、Ｍｎ−Ｂ　ｉ、Ｍｎ−８ｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒのような磁性合金、更に
Ｂａフェライト、Ｓｒフェライトのようなフェライト系
磁性体を挙げることができる。

磁性粒子の粒径は、針状粉の場合は長軸０．１〜１、−
ｍ、短軸０．０２〜０．１．＆−ｍ、粒状の場合は平均
粒径が０．０１〜０．５．ｍｍである。

本発明で使用するバリウムフェライト磁性粉は六方晶系
板状のものであり、化学式Ｂａ０・６Ｆｅ２０３で表わ
され、この外、この化学式のＢａ及びＦｅの一部がＴｉ
、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｉｎ。

Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｎｉ等の
金属で置換されたものも含まれる。

バリウムフェライト磁性粉は直径０．２ｐｍ以、下、好
ましくは０．１５．−ｍ以下、更に好ましくはＱ、ＩＰ
ｍ以下、板状比６以上、更に好ましくは８以上である。

この場合、板状比の上限値には特に制限はないが、通常
３０以下である。ここで平均粒径とは、電子顕微鏡写真
〔走査型顕微鏡（Ｓ　Ｅ　Ｍ）および透過型顕微鏡（Ｔ
ＥＭ））によって、例えば六方晶系バリウムフェライト
粒子の断面５０個程度をＴｉ４祭し１粒径についての測
定値を平均したものである。平均厚みも電子顕微鏡写真
による測定値の平均である。また板状比とは平均粒径／
平均厚の値である。あるいは平均厚はＸ線回折の半値巾
によって測定することも出来る。バリウムフェライトは
六方晶系板状であるため、針状磁性粉と比べて表面粗度
への影響が大きくなり、上記の径及び板状比よりも大き
くなると表面粗度の低下が激しく好ましくない。粒径が
前記のような範囲にある場合は垂直成分が充分に利用さ
れ、かつ磁性層の表面平滑性が良好となり、ノイズも充
分に低く、高密度記録が達成できる。

バリウムフェライトの製法としては、セラミック法、共
沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶化
法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、い
ずれの方法も利用できることは言うまでもない。

従来、強磁性粉末としては例えば７Ｆｅ２０３、ＣＯ含
有？−Ｆｅ２０３、Ｆｅ３Ｏ４、Ｃｏ　　’含有Ｆ　ｅ
　３０４．ＣｒＯ２等がよく使用されていたが、これら
強磁性粉末の保磁力および最大残留磁束密度等の磁気特
性は高感度高密度記録用としては不十分であり、約１　
、ｗ　ｍ以下の記録波長の短い信号や、トラック巾の狭
い磁気記録にはあまり適していない。

磁気記録媒体に対する要求が厳しくなるにつれて、高密
度記録に適する特性を備えた強磁性粉末が開発され、ま
た提案されている。このような磁性粉末はＦｅ、Ｃｏ、
Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ　−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属
または合金、これらとＡ１．Ｃｒ、Ｓｉ等との合金など
がある。かかる合金粉末を用いた磁気記録層は高密度記
録の目的には高い保磁力と高い残留磁束密度とを有する
必要があり、上記磁性粉末がこれらの基準に合致するよ
うに種々の製造方法或いは合金組成を選択するのが好ま
しい。

本発明者等は種々の合金粉末を用いて磁気記録媒体を製
作したところ、ＢＥＴ法による比表面積が４８ｍ２／ｇ
以上で、磁性層の保磁力が１００００ｅ以上で、しかも
磁性層の表面粗度〔後述のタリステップによる測定にお
いてカットオフ０゜１７　ｍｍ　ＴＲ２０（２０回平均
値）のこと、以下同じ〕が０．０８．−以下のときに、
ノイズレベルが充分に低く、高密度、短波長の記録に適
する磁気記録媒体が得られる。

本発明の磁気記録層には通常用いられる有機バインダー
、無機顔料、潤滑剤、その他１分散剤。

帯電防止剤等を常法に従って用いることができる。

本発明の磁気記録層で用いる有機バインダーは、従来、
磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化性又
は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得られ
る塗膜強度等の点から硬化型。

特に放射線硬化型の樹脂が好ましい。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量がｔｏ、ｏｏｏ〜２００，０００、重合度が約２０
０〜２，０００程度のもので１例えば塩化ビニール−酢
酸ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩化ビ
ニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリル共
重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、ア
クリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エス
テル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル
−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン
−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂
、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリ
ル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、
１　　　　　ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール
、セルロース誘導体（セルロースアセテート、セルロー
スダイアセテート、セルローストリアセテート。

セルロースプロピオネート、ニトロセルロース等）、ス
チレン−ブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロ
ロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合体、アミ
ノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの
混合物が使用される。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は２００，０００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹
脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好
ましい、具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂
。

アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン
樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデヒ
ド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリ
フェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミ
ン樹脂、及びこれらの混合物である。

バインダーは放射線硬化型化合物を硬化したものを用い
ることが好ましい。

放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸。

メタクリル酸５あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなア
リル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不
飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥
する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹
脂である。その池数射線照射により架橋重合する不飽和
二重結合を有する化合物であれば用いることができる。

、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽
和ポリエステル樹脂がある。

分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は多塩基酸成分１
種以上と多価アルコール成分１種以上にマレイン酸、フ
マル酸等を加え常法、すなわち触媒の存在下で、１８０
〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アルコール
反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温し、０．５〜１ｍ
ｍＨＨの減圧下、縮合反応により得ることができる。マ
レイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射
線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％、好ましくは１
０〜３０モル％である。

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。

（１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニールービニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール
−末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、たとえばＵＣＣ社
製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣ，ＶＹＢＧＸ、ＶＥＲＲ，ＶＹＥ
Ｓ、ＶＭＣＡ、ＶＡ、ＧＨ等が挙げられ、コノものに後
述の手法により、アクリル系二重結合、マレイン酸系二
重結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応変性を
行う。

（２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１゜２プロピレングリコール、
１．３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１，
４ブタンジオール、１．６ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット。

ソルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコール、
ｌ、４シクロヘキサンジメタツールのような多価アルコ
ールとのエステル結合により得られる飽和ポリエステル
樹脂又はこれらのポリエステル樹脂をＳＯ３Ｎａ等で変
性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が例として挙げら
れ、これらも同様にして放射線感応変性を行う。

（３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体で、こ
れら樹脂中に含まれる水酸基に対し後述の手法により放
射線感応変性を行う。

（４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂。

例えばシェル化学製（エピコート１５２．１５４．８２
８．１００１．１００４．１００７）、ダウケミカル製
（ＤＥＮ４３１、Ｄ　Ｅ　Ｒ７３２、ＤＥＲ５１１，Ｄ
ＥＲ３３１）　、大日本インキ製（エピクロン４００，
８００）、更に上記エポキシの高重合度樹脂であるＵＣ
Ｃ社製フェノキシ樹脂（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫＨＨ
）、臭素化ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの
共重合体、大日本インキ化学工業１ｌｌ（エピクロン１
４５，１５２．１５３．１１２０）等があり、又これら
にカルボン酸基を含有するものも含まれる。これら樹脂
中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性を行
う。

（５）Ｍｌｌ維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である、
樹脂中の水酸基を活用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体（ＰＶＰオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステル及びメタクリルエステルを重合
成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有効で
ある。

以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。

（１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、及び基体フィルム、例
えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、２．４−）−ルエンジイソシアネート、２．６−ト
ルエンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシア
ネート、１，４−キシレンジイソシアネート、１．５−
ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシ
アネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３′
−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、４．４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、
３，３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、４
，４′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、イソフオロンジイソシアネート、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジュ
ールし、デスモジュールＮ等の各種多価イソシアネート
と、線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリスリット、ソルビｈ−ル、ネオペンチル
グリコール、１，４−シクロヘキサンジメタツールの様
な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な飽和
多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエーテ
ル（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール）やカプロラクタム
、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒドロキシル
含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類の縮
重合物より成るポリウレタンエラストマー、プレポリマ
ーが有効である。

１　　　　　これらのウレタンエラストマーの末端のイ
ソシアネート基又は水酸基と、アクリル系二重結合又は
アリル系二重結合等を有する単量体とを反応させること
により、放射線感応性に変性することは非常に効果的で
ある。又、末端に極性基として○Ｈ，Ｃ０ＯＨ等を含有
するものも含む。

さらに不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるい
はジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性水
素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を
有する単量体も含まれる。

（２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー１４３２　Ｊ等のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ
架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。

（３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ
−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっ
ている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加
することにより放射線感応性を高めることが可能であり
、バインダーとして更に有利となる。

またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。

その他、熱可塑性エラストマー及びそのプレポリマーの
系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、
塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化
物（日本合成ゴムｉＪｃ　Ｉ　Ｒ７０１）があり、エポ
キシ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋
紡バイロン３３００）等のエラストマーも下記に述べる
放射線感応変性処理を施こすことにより有効に利用でき
る。

オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアク
リレート、１．６−ヘキサングリコールジアクリレート
、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリメタクリレート、多官能オリゴエス
テルアクリレート（アロエックスＭ　−７１００、Ｍ−
５４００，５５００，５７００等、東亜合成）、ウレタ
ンエラストマーにツボラン４０４０）のアクリル変性体
、あるいはこれらの　′ものにＣ０ＯＨ等の官能基が導
入されたもの、トリメチロールプロパンジアクリレート
（メタクリレート）、フェノールエチレンオキシド付加
物のアクリレート（メタクリレート）、下記一般式で示
されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基（メタ
クリル基）またはε−カプロラクトンアクリル基のつい
た化合物。

式中、ｍ＝１．ａ＝２．ｂ”４の化合物（以下。

特殊ペンタエリスリトール縮合物Ａという）、ｍ＝１、
ａ＝３．ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエリスリト
ール縮合物Ｂという）、ｍ＝１、ａ＝６．ｂ＝ｏの化合
物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Ｃという）
、ｍ＝２、ａ＝６．ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物りという）、及び下記一般式で示
される特殊アクリレート類等が挙げられる。

（１）（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）　３−ＣＣＨ２０
Ｈ（特殊アクリレートＡ） （２）　（ＣＮ２＝　ＣＨＣＯＯＣＨ，）　３　　ＣＣ
ＨｚＣＨ３（特殊アクリレートＢ） （３）　［ＣＮ２＝　ＣＨＣＯ−＋ＯＣ３Ｈ，４）ｎ　
−０ＣＩＩ工）　３−　ＣＣＩＩ、ＣＨ３（ｎ＝３）　
　　　　（特殊アクリレートＣ）（特殊アクリレートＤ
） （特殊アクリレートＦ） （ｎ　”；　１６　）　　　　　　ＣＨＣ００Ｃ）Ｉ　
＝ＧＨｚ（特殊アクリレートＧ） （８）　ＣＨＪ７Ｃｔ（Ｃｏｏ　　（ＣＮ２　ＣＨｚ　
Ｏ）　４　　ＣＯＣ１１＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ
） （特殊アクリレート■） ＣＲ，ＣＩ、Ｏ−と０−　（ＣＨ、）、−０ＣＯＣＨ＝
　Ｃ）ｌ　２（特殊アクリレートＪ） Ａニアクリル酸、Ｘ：多価アルコール Ｙ：多塩基酸　　（特殊アクリレートＫ）次に、放射線
感応性バインダー合成例を説明する。

ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアグリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＣＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度ｎ＝＝５００
）７５０部とトルエン１２５０部、シクロへキサノン５
００部を５１の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し、８
０°Ｃ昇温後トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキ
シエチルメタクリレートアダクト×を６１．４部加え、
更にオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が９
０％となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチ
ルエチルケトン１２５０部を加え希釈する。

（×トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つロフラスコ内で
８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０部
、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０５
部を反応缶内の温度が８０〜８５℃となるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間攪拌し反
応を完結させる。反応終了後取り出して冷却後白色ペー
スト状のＴＤＩの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂種水化学ＩＩＢＭ−８１００部をトルエ
ン１９１．２部、シクロへキサノン７１゜４部と共に５
１の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し８０°Ｃ昇温後
ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト×を７．４部加え、更にオ
クチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１５
部を加え、８０”ＣでＮ２気流中ＮＣ○反応率が９０％
以上となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチ
ルエチルケトンにて希釈する。

Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロンＲＶ−２００
）、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン
１１６部に加熱溶解し８０℃昇温後ＴＤＩの２ＨＥＭＡ
アダクト×を３．５５５部加　　　　　え、オクチル酸
スズ０．００７部、ハイドロキノン０．００７部を加え
、８０℃、Ｎ２気流中ＮＣ○反応率が９０％以上となる
まで反応せしめる。

ｄ）＠エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）、４
００部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に
加熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００
６部、ハイドロキノン０゜００３部を添加し８０℃とし
、アクリル酸６９部を滴加し８０℃で酸価５以下となる
まで反応せしめる。

◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ○Ｈ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨＣＵＣＣ社製
　分子量３０．０００）６００部、メチルエチルケトン
１８００部を３１の４ソロフラスコに仕込み、加熱溶解
し、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２ヒド
ロキシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え、
更にオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が
９０％となるまで反応せしめる。このフェノキシ変性体
の分子量は３５，０００．１分子当りの二重結合は１個
である。

ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０゜０７部、オクチル酸スズＱ、
００９部を反応缶に入れ、８０℃に加熱溶解後ＴＤＴ４
３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０°Ｃとなるよう
に冷却しながら滴下し、滴下終了後８０’Ｃで反応率９
５％以上となるまで反応せしめる。

ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
０７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、
８０℃に加熱溶解後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度
が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後８０°Ｃで反応率９５％以上となるまで反応せし
める。

ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー） シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジェンポリＢＤリクイットレジンＲ−１５，２５０
部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．００７
部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、８０
℃に加熱溶解後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度が８
０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終了
後８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せしめる。

高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間に架
橋を起こすものが知られている。分子間に架橋を起こす
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリド
ンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインがあ
る。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起るので、前記変性体
の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用として使
用可能である。

更にまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤型
の樹脂であっても短時間で硬化することができるので、
この様な樹脂を用いることができる。

而して特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、
塩化ビニール−酢酸ビニールービニールアルコール共重
合体、ウレタンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤
使用）、或いは塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニール
アルコール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、
又はアクリル変性塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニー
ルアルコール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）
及びウレタンアクリレートからなる放射線硬化系樹脂か
らなるものである。

ポリマーの分子量は次のような測定方法による数平均分
子量によっている。

＊ＧＰＣによるバインダーの平均分子量測定ＧＰＣ（Ｇ
ｅｌ　　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇ
ｒａｐｈｙ）とは試料中の分子を移動相中のその大きさ
に基いて分離する方法で、分子ふるいの役をする多孔質
ゲルをカラムに充填し液体クロマトグラフィーを行なう
方法である。

平均分子量を算出するには標準試料として分子量既知の
ポリスチレンを使いその溶出時間から検量線を作成する
。これよりポリスチレン換算の平均分子量を計算する。

与えられた高分子量物質中に分子量Ｍｉである分子がＮ
ｉ個あったとすると 数平均分子量＝ΣＮ　ｉ　Ｍ　ｉで表わせる。

ΣＮ＋ 放射線硬化型樹脂を用いた場合、硬化時間が短かく１巻
き取り後の充填剤等の転移がないので、好適である。一
方、熱硬化性樹脂の場合、硬化時の巻きしまりによる裏
型転移のため、熱硬化中のジャンボロールの内側、外側
での電磁変換特性の差が問題となる。

なお、熱硬化系樹脂に使用される硬化剤としてはＴＤＩ
、ＭＤＩ、ＩＰＤＩ、ＨＭＤＩ、ＭＤＩ等があるが、通
常用いられるものは全て用い得ることができ、特にイン
シアネート系硬化剤が好ましく、それらの例としては大
日本インキ化学工業株式会社製のクリスポン４５６５．
４５６０、日本ポリウレタン工業株式会社製のコロネー
トし及び武田薬品工業株式会社製のタケネートＸＬ−１
００７を挙げることができる。

磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。

無機顔料としては、■）導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト、また２）無機充填剤として５ｉ０２．
ＴｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，Ｃｒ２Ｏ５ｉＣ，Ｃａｂ、Ｃａ
ＣＯ３、酸化亜鉛、ゲーサイト、２ｒＦｅ２０３．タル
ク、カオリン、ＣａＳＯ３、窒化硼素、フッ化黒鉛、二
硫化モリブデン、ＺｎＳ等がある。またこの他１次のよ
うな微粒子顔料（エアロジルタイプ、コロイダルタイプ
）：５ｉ０２．、Ａｌ２Ｏ３、Ｔ　ｉ　０２、ＺｒＯ２
，Ｃｒ　２０３　、　Ｙ２０３　、　Ｃｅ　０２、Ｆｅ
３Ｏ４，Ｆｅ２Ｏ３，ＺｒＳｉＯ４，５ｂ２０５、Ｓｎ
○等も用いられる。これら微粒子顔料は、例えば５ｉ０
２の場合、■無水硅酸の超微粒子コロイド溶液（スノー
テックス、水系、メタノールシリカゾル等、口座化学）
、■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒
子状態ホシリヵ（標準品１０ＯＡ）（アエロジル、日本
アエロジル株式会社）などが挙げられる。又、前記■の
超微粒子コロイド溶液及び■と同様の気相法で製造され
る超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チタン及
び前述の微粒子顔料が使用され得る。この様な無機顔料
の使用量は１）に関してはバインダー１００重量部に対
して１〜３０重量部、又２）に関しては１〜３０重量部
が適当であり、これらがあまり多くなると、塗膜がもろ
くなり、かえってドロップアウトが多くなるという欠点
がある。

また、無機顔料の径については１）に関しては０．１．
ｍｍ以下、さらには０．０５ｐｍ以下が好ましく、２）
に関しては０．７．＋−ｂｍ以下、さらには０．０５．
−ｍ以下が好ましい。

磁性層には分散剤が含まれていてもよい。

分散剤としては有機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニン
などの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；
高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸
。

燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を含
むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類等の
両性活性剤などが使用される。

磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。

潤滑剤としては従来この種の磁気記録媒体に用いられる
潤滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂
肪酸エステル、パラフィン、流動１□　　　　　パラフ
ィン、界面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸お
よび／又は脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。

脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣ○Ｏ
Ｈ，Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂肪
酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と該
脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が２１〜２３個より成
る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使用
され、又前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金
属からなる金属石鹸、レシチン等が使用される。

シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。

潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、フリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２ＣＯＯＲ１ Ｃ）Ｉ２＝ＣＨＣＯＮＨＣＨ２０ＣＯＲ１ＲＣＯＯＣＨ
２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又は分校状の飽
和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７以上、好ま
しくは１２以上２３以下であり、これらは弗素置換体と
することもできる。弗素置換体としては （：、ｎＦ２ｎ＋１−１ＣｎＦ２ｎ＋＋（ＣＨ２）＋＋
＋　　（但し、ｍ＝１〜５）、　　　Ｒ ＣｎＦ２ｎ＋Ｉ　ＳＯ２ＮＣ８２ＣＨ２−１これら放射
線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、ステアリン
酸メタクリレート（アクリレート）、ステアリルアルコ
ールのメタクリレート（アクリレート）、グリセリンの
メタクリレート（アクリレート）、グリコールのメタク
リレート（アクリレート）、シリコーンのメタクリレー
ト（アクリレート）等が挙げられる。

潤滑剤の入っていない磁気記録層は摩擦係数が高いため
画像のゆらぎが生じ、ジッターが発生し易いと共に、特
に高温走行下で摩擦係数が高いため磁気記録層の削れが
発生し易く、巻きみだれを生じ易いものである。又、デ
ィスク媒体では耐久走行性が劣ったり、塗膜ケズレが発
生したりする。

分散剤としては有機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニン
などの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；
高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン
酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類等
の両性活性剤などが使用される。

帯電防止剤としてはカーボンブラックなどの導電性微粉
末；サポニンなどの天然界面活性剤；アルキレンオキサ
イド系、グリセリン系、グリシドール系などのノニオン
界面活性剤；高級アルキルアミン類、第４級アンモニウ
ム塩類、ピリジンその他の複素環類、ホスホニウム又は
スルホニウム類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸
、スルホン酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸
性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノス
ルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステ
ル類等の両性活性剤などが使用される。

本発明において、バリウムフェライト磁性粉とカーボン
ブラックとの混合割合はバリウムに対しカーボンブラッ
クを０．１〜３０ｗｔ％、好ましくは２〜２０ｗｔ％で
ある。

又、バリウムフェライト磁性粉末と有機バインダーの混
合割合はバリウムフェライト／バインダー＝１／１〜９
／１、好ましくは２／１〜８／１である。

さらにカーボンブラック、無機酸化物顔料、有機バイン
ダー、潤滑剤、その他添加削の使用割合は、顔料につい
ては、磁気記録層の有機バインダー、潤滑剤中の顔料／
有機バインダー＝４／１〜１／４が好ましい。あまり多
すぎると分散しにくく、あまり少ないと磁気記録層がも
ろくなる。さらに好ましいのは３／１〜１／３である。

又、有機バインダー：潤滑剤＝１００：２０である。

バインダー量が多すぎるとブロッキングが出、バインダ
ーが少なすぎるとカレンダ一工程での付着が発生して好
ましくない。

なお本発明の磁気記録層の塗布乾燥後の厚みは０．１〜
１０．−ｍの範囲が一般的である。

磁性層の潤滑剤、有機バインダーが放射線硬化型の場合
、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放射
線加速器を線源とした電子線。

Ｃｏ６０を線源とした７　　ＨＡ、　　Ｓ　ｒ９０を線
源としたβ−線、Ｘ線発生器を線源としたＸ線あるいは
紫外線等が使用される。

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。

バリウムフェライト磁性粉、カーボン、有機バインダー
、その他の添加剤を混合塗布されるために使用される溶
媒としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系
；メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノール
等のアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等
のエステル系；エーテル、グリコールジメチルエーテル
、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリ
コールエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン等の
タール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライド、エ
チレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレ
ンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水
素、その他テトラヒドロプラン、ジメチルホルムアミド
等が使用される。

これらの溶剤はバインダーに対して１０〜１００００ｗ
ｔ％、特に１００−５０００ｗｔ％の割合で用いる。

本発明に使用される非磁性基材としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等
のポリオレフィン類、セルローストリアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
サルホン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミド
、芳香族ポリエステル、アルミニウム、ガラス等が使用
されるが、これらに限定されるものではない。特にポリ
エステル、ポリイミド等が好ましい。

本発明の磁気記録媒体は通常の方法で製造され得る。例
えば磁性粉、バインダー、その他の添加剤の混合分散液
を非磁性基材面に塗布し、配向方法としては面内、無配
向、垂直配向かあり、例えば垂直配向の場合、乾燥させ
ながら垂直配向磁場で磁性粒子を非磁性基材面に垂直に
配向させる。

その後直ちにバインダーを硬化又は架橋せしめ、所望の
磁気記録媒体を得る。なお磁気記録層には。

磁性層の下にアンダーコート層、磁性層上にトップコー
ト層を設けることもできる。バックコートがあったり、
ディスク用として両面コーティングであってもよい。

配向方法としては永久磁石、直流磁場、交流磁場が代表
的なものとして用いられ、それらのもの′１　　　　　
　の各種組合せ等も、垂直配向の場合は例えば垂直と水
平の組合せ、永久磁石又は直流磁場と交流磁場の組合せ
、機械的配向や機械的配向と上記の組合せ等種々のもの
が用いられる。

そして磁場外で磁性粒子が反磁場のために配向したもの
が、乱れ、配向性の低下を生じないよう、磁場内で乾燥
させ１反磁場が働いてもそれらの影響が出ないよう、磁
場内である程度、乾燥させ、磁性粉が動かないようにす
る必要がある。

また本発明の磁気記録媒体はバック層、トップコート層
、アンダーコート層を設けることもでき。

バック層、トップコート層及びアンダーコート層には通
常用いられる無機顔料、潤滑剤、分散剤、帯電防止剤等
の添加剤を結合剤たる熱可塑性樹脂。

熱硬化性樹脂あるいは放射線硬化型樹脂と共に含有させ
る。該樹脂としては放射線硬化型のものが、その型持、
ドロップアウト等に与える影響や経済性の点で好ましく
、添加剤としては磁気記録層と同様のものが用いられる
。

失庭Ｍ 以下に本発明の実施例を示す。なお、本発明がこの実施
例に限定されるものでないことは理解されるべきである
。

特性は以下のようにして評価した。

（１）表面粗度　Ｒ２゜ ＪＩＳＢＯ６０１に規定しである１０点平均粗さの求め
方に準じて行った。なおＪＩＳでは１０点平均法を規定
しているが、本発明の評価方法として、さら厳密にする
ため２０点平均とした。

カットオフ値は、触針スピード３０．−ｍ／ｓｅＣで０
．１８〜９Ｈｚ程度、または針圧は２　ｍ　ｇとした。

使用した触針式表面粗さ測定器はタリステップ−１、Ｔ
ＡＹＬＯＲＨＯＢＳＯＮ社製である。

（２）垂直角型比 磁気テープの垂直方向の角形比Ｂ　ｒ　／　Ｂ　ｍを測
定し、反磁場補正を行った。

（３）線記録密度り光（ＫＦＲＰＩ） 回転数３０Ｏｒ、ｐ、ｍ、、ヘッド；フェライトヘッド
、ギャップ０．３．ｍｍにて低記録密度領域での出力（
Ｅ）が高記録密度領域でＥ／２となる線記録密度Ｄ　５
−０　（Ｋ　Ｆ　ＲＰ　Ｉ　）を測定した。

下記のような数種の磁性層を形成し、これらからなる磁
気テープを製造し、本発明の効果を見た。

実施例１ ◎磁性　（金　酸ヒ物型の形 員ユ屋上（熱硬化型磁性層）　　　　　重量部コバルト
被覆針状？Ｆｅ２Ｏ３１２０部（長軸０．４Ｐ、単軸Ｏ
，ＯＳ、−１Ｈｅ　６０００　ｅ　）カーボンブラック
　　　　　　　　　　　５部（灰分０．０１％、比表面
積１１０ｍ２／ｇ、吸油量１２５　ｍ　ｌ　／　１００
　ｇ、平均粒径２７ｍ、−） ａ−ＡＩ２０３粉末（０，５，−粉状）　　　２部分散
剤（大豆油精製レシチン）　　　　　　３部溶剤（ＭＥ
　Ｋ／　ト）Ｌｔｘン５０１５０）　　　　ｌ　ＯＯ部
上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、針状磁性
酸化鉄を分散剤により良く湿潤させる。

次に 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体　　　　１５部（ユニオ
ンカーバイト社製ＶＡＧＨ） 熱可塑性ウレタン樹脂　　　　　　　　１５部（日本ポ
リウレタン社製ニラポラン３０２２）溶剤（ＭＥＫ／ト
ルエン　５０１５０）　　　２００部潤滑剤（高級脂肪
酸変性シリコンオイル）３部の混合物を良く混合溶解さ
せる。

これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入し
、再び４２時間分散させる。分散後、磁性塗料中のバイ
ンダーの水酸基を主体とした官能基と反応し架橋結合し
得るイソシアネート化合物（バイエル社製デスモジュー
ルＬ）を５部（固形分換算）、上記ボールミル仕込塗料
に２０分で混合を行なった。

磁性塗料を１５．−のポリエステルフィルム上に塗布し
、面内配向用永久磁石（２０００ガウス）上で配向させ
、赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた後１
表面平滑化処理後、８０℃に保持したオーブン中にロー
ルを４８時間保持し、イソシアネートによる架橋反応を
促進させた。

上記のもの、および灰分Ｏ０１％のカーボンブラックを
用いた比較例の磁気記録媒体の各特性を第１表に示す。

本発明のものは分散性が良好な為、飽和磁束密度の低下
がなく　（Ｂｍ）、そのため配向度、出力、表面粗度の
良好なものとなる。

性　　２　　　射　　　ヒ型 湿式還元法により種々の合金粉末を製造した。

これらは軸比（短軸／長軸）が１１５〜１／１０の針状
粒子より成り、残留磁束密度２０００〜３０００ガウス
、保磁力１０００〜２００００ｅ：ＢＥＴ比表面積４５
〜７０ｍ２／ｇを有するものであった。これらの磁性粉
を次の配合比で通常の方法で混合し、各磁性層を形成し
た。

重量部 Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金粉末　　　　　　　１００（Ｈｃ
　＝　１２０００　ｅ　、長軸０．４部ｍ、短軸０゜０
５部ｍ、ＢＥＴ比表面積５２ｍ２７ｇ）カーボンブラッ
ク　　　　　　　　　　　　！０（灰分０．０５％、比
表面積１４０ｍ２／ｇ。

吸油量１００　ｍ　ｌ　／　１００　ｇ、平均粒径３０
ｍ、−） 塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体（
米国ＵＣＣ社１１ＶＡＧＨ）　　　　　　１５アクリル
二重結合導入塩酢ビ共重合体　　　１０（固型分換算） アクリル二重結合導入ウレタン　　　　　　１０メチル
エチルケトン／トルエン（１／１）２５０ミリスチン酸
　　　　　　　　　　　　　　　　２ソルビタンステア
レート　　　　　　　　　　　２この磁性塗料をポリエ
ステルフィルムに３．５との厚さに塗布し、電子線硬化
とカレンダー加工を行った。

なお比較例として磁性層２におけるカーボンブラックと
して灰分０．８％、比表面積１４０ｍ２／ｇ、吸油量１
００　ｍ　ｌ　／　１００　ｇ、平均粒径２７ｍ、−の
ものを用いた磁性層を採用した（比較例２）。

両者の各特性を第２表に示す。

第　　２　　表 本発明のものは分散性が良好な為、飽和磁束密度の低下
もなく、そのためＣ−８／Ｎも良好であり、表面粗度も
良好なものとなる。

３　　　　　ヒ型　　　　　　　　重量部バリウムフェ
ライト　　　　　　　　　１２０（径０．ＩＰ、厚み０
．０１Ｐ、　Ｈｅ　８０００ｅ） カーボンブラック　　　　　　　　　　　１０（灰分０
．０１％、比表面積１１０ｍ２／ｇ、吸油量１２５ｍｌ
／１００ｇ、平均粒径２７ｍ／−） メーＡｌ２Ｏ３粉末（０，５Ｐ粉状）　　　２溶剤（Ｍ
ＥＫ／トルエン５０１５０）　　　　　１００上記組成
物をボールミル中にて３時間混合し、六方晶系板状バリ
ウムフェライトを良く湿潤させる。

次に 塩ビー酢ビービニルアルコール共重合体（マレイン酸含
有）分子量４０．０００　　６部（固型分換算）アクリ
ル二重結合導入塩酢ビ共重合体（マレイン酸含有）分子
量２０．０００　１２部（固型分換算）′　　　　　ア
クリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマー
　分子量４０．０００　　９部（固型分換算）ペンタエ
リスリトールトリアクリレート　　３部溶剤（ＭＥＫ／
）−ルエン　５０１５０）　　　　２００部ステアリン
酸　　　　　　　　　　　　　　４部ステアリン酸ブチ
ル　　　　　　　　　　　２部のバインダーの混合物を
良く混合溶解させる。これを先の磁性粉処理を行なった
ボールミル中に投入し再び４２時間混合分散させる。

この様にして得られた磁性塗料を３３Ｐのポリエステル
フィルム上に塗布し、永久磁石（３０００ガウス）上で
乾燥させながら垂直配向させ、その後赤外線ランプ又は
熱風により溶剤を乾燥させた後、表面平滑化処理後、Ｅ
ＳＩ社製エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を使
用して、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流２０ｍＡ、全
照射量５Ｍｒａ’ｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子線
を照射し、塗膜を硬化させた。

磁性層３において六方晶系板状バリウムフェライトの板
状比を変えると第１図のように垂直配向度が変化する。

板状比６未満のものは垂直配向度が悪く、６以上になる
と板状比が大となるため垂直配向し易い。

また第３表に示すように粒径０．Ｉｐｍ以下のものが型
持上杆ましいが、実用に耐え得る範囲では粒径０．２Ｐ
ｍ迄のものが使用できる。特に好ましいものは０．１５
．−ｍ迄である。

第　　３　　表 上記粒径０．１０．−での特性を第４表に示す。

比較例として灰分０．１％のカーボンブラックを採用し
た。

第　　４　　表 １並１工（熱硬化型磁性層）　　　　　　重量部バリウ
ムフェライト磁性粉　　　　　　１２０（径０．ＩＰ、
厚み０．０１５Ｐ−Ｈｅ　１００００　ｅ）カーボンブ
ラック　　　　　　　　　　　１゜（灰分０．０３％、
比表面積１２０ｍ２／ｇ、吸油量１１０ｍｌ／１００ｇ
、平均粒径２゜ｍ）−） メーＡｌ２Ｏ３粉末（ｏ、５Ｐ粉状）　　　２分散剤（
大豆油精製レシチン）　　　　　　　３溶剤（ＭＥＫ／
トルｘン５０１５０）　　　　　ｌ　ＯＯ上記組成物を
ボールミル中にて３時間混合し、六方晶系板状バリウム
フェライトを分散剤により良く湿潤させる。次に 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体　　　　　１５（ユニオ
ンカーバイト社製ＶＡＧＨ） 熱可塑性ウレタン樹脂　　　　　　　　　　１５（日本
ポリウレタン社製ニラポラン３０２２）溶剤（ＭＥＫ／
トルエン　５０１５０）　　　２００部潤滑剤（高級脂
肪酸変性シリコンオイル）３部の混合物を良く混合溶解
させる。

これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入し
、再び４２時間分散させる。分散後、磁性塗料中のバイ
ンダーの水酸基を主体とした官能基と反応し架橋結合し
得るイソシアネート化合物（バイエル社製デスモジュー
ルＬ）を５部（固形分換算）、上記ボールミル仕込塗料
に２０分で混合を行なった。

磁性塗料を７３Ｐのポリエステルフィルム上に塗布し、
交流磁場（３０００ガウス）上で乾燥させながら垂直配
向させ、赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させ
た後、表面平滑化処理後、８０℃に保持したオーブン中
にロールを４８時間保持し、イソシアネートによる架橋
反応を促進させた。

第５表 実施例における外側、内側は各々ジャンボロールの外側
、内側を示す。

Ｄ５０は低域出力（Ｅ、）の半分に落ちる高密度領域で
の線記録密度特性を表わす。

ジャンボロールの内側では巻きしまりがあり、熱硬化は
やや記録密度が落ちた。

叉豆勿羞困 カーボンブラックの灰分を抑える事により分散性が良好
となり、飽和磁束密度、表面粗度の低下がなく、電磁変
換特性のすぐれたものとなる。そのため、オーディオ、
ビデオ特性、デジタル特性では線記録密度特性のすぐれ
たものとなる６しかもカーボンブラックの灰分を抑えて
も１通常のカボンと同様に電気抵抗がとれる。そのため
ドロップアウト、エラーレートを抑える事が出来、また
工程でのハリツキ、放歪ノイズ対策が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図はバリウムフェライトの板状比と垂直配向度との
関係を示すグラフである。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基材上に塗布型磁気記録層を設けた磁気記
   録媒体において、磁気記録層が灰分０．０５％以下のカ
   ーボンブラックを含有することを特徴とする磁気記録媒
   体。
2. （２）灰分０．０５％以下のカーボンブラックが比表面
   積２０〜３５０ｍ＾２／ｇ、吸油量２００ｍｌ／１００
   ｇ以下、平均粒径１０〜６０ｍμのものである特許請求
   の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
3. （３）磁気記録層がバリウムフェライト磁性粉を含有す
   るものである特許請求の範囲第１項又は第２項記載の磁
   気記録媒体。