JPS62138558A - 光安定化ポリマ−ミクロ粒子、該粒子の製造方法並びに該粒子を含有する分散系及び被覆組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野） 本発明に、光安定化ポリマーミクロ粒子、そｎらの製造
方法及び分散系並びにそれらを含有する被覆組成物に関
する。 （従来の技術及び発明が解決しようとする間須薇）最近
、環境の汚染を最小にする要求のためｌ′こ被覆組成物
中に存在するフィルム形成物’ＩＩ　（７）　ｇｌＪ合
を増７］０させ、被膜の製造間並びに乾燥及び硬化の間
に蒸発すべき不活性液体希釈剤の割合を減少させる被覆
技術に相当の関心が持たれている。 フィルム形成物質を高比率で有する被覆組成物は、例え
ばＢＰ−Ａ４）６（Ｓ及びＥＰ−Ａ１１９，０５１によ
り、並びにそれらのそれぞれに挙げられた文献により開
示されているニ一般にそれらは液体連続相及び分散相の
構造と有し、もし適当であれば、それらは千尋性ポリマ
ーミクロ粒子金高比率で含有する。 その結果生じたフィルム及び被膜は複合特性すなわち浴
液中にもともと存在しているポリマーから誘導されたボ
リマーマトリンクスあるいは連続相、並びにポリマーミ
クロ粒子から誘導された分散相を有する。 しかしながら公知のミクロ粒子を含有する被積組成物は
、今までは均一な液相に光安定剤の物理的な混合により
被覆混合物をそのまま安定化していただけであるので不
十分な光安定性であった。 対照的に、時にほそのような被膜のミクロ粒子高比率は
、不安定である。 適当な光安定剤がミクロ粒子に配合され、かくしてミク
ロ粒子が直接屋外暴露の影響、特に照力から保護される
ならば、ミクロ粒子をある割合で含有する被膜及び塗料
、特に焼付塗料の光安定性上改良しうろことを発見した
。 （聞一点を解決するための手段） 従って本発明は１棟もしくは数棟の異なったエナレン性
七ノーあるいはポリ−不飽和モノマー混合物または／及
びポリアルコール、ポリカルボンは、ヒドロキンカルボ
ン酸、ラクトン、アミノカルボン酸及びポリアミンから
なる群からの１棟または数棟の異なった七ツマ−から公
知の方法で重合することにより得られるα０１ないし２
０μｍの粒度分布を有するミクロ粒子であって、ミクロ
粒子が１棟もしくはそれ以上の光安定剤をモノマーに対
して０．１ないし３０重量％含有する、光安定化ポリマ
ーミクロ粒子に関する。 七ツマ−の重合反応の少なくとも一部を光安定剤の存在
下で実施するのが好ましい。 Φ ここでミクロ粒子とは、上記のコロイド性寸法内の粒径
あるいは粒度の分布を有するポリマー粒子全意味し、該
粒子は被覆組成物の連続液体相中で千尋であるとして理
解されたい。ポリマーミクロ粒子なる表現は被膜技術に
おいて公知であり、それ故関連した文献中で公知である
。 それらの粒径を別にして、ミクロ粒子の本質的な特徴に
、架橋コアを含有するかまたは架橋コアからなるという
ことである。理想的な形においては、ミクロ粒子はおお
よそ球形を有している。“ミクロ粒子”の用語の代わり
に°ミクロゲル″の用語もまた文献中では慣用である。 それ故に、本発明によるミクロ粒子はまた光安定化ポリ
マーミクロゲルとして記述することができる。 ミクロ粒子を形成するポリマーは、付加ポリマー、特に
１種もしくはそれ以上のエチレン性不飽和七ツマー成分
のホモポリマーもしくにコポリマーあるいは縮合ポリマ
ー例えばポリエステルモレ〈ンユボリアミド、または２
　、ｔｌのポリマーの組合せのどちらかでありえる。 所望すればミクロ粒子は可塑剤により可塑化することが
できる。 ミクロ粒子が付加ポリマーヲ表わす場合には、適当なモ
ノマーの例は、エテノ、プロペン、ブチ／、イノブレン
、ブタジェン、アクリル酸及びメタクリル酸及びそれら
のエステル例えばメチルメタクリレート、ブチルメタク
リレート、エチルアクリレート、ブチルアクリノート及
び２−エチルへキシルアクリレート、ビニルエーテル、
ビニルエステル例、ｔ　ハビニルアセテート及び゛ベル
ザティソクアンッド（Ｖｅｒｓａｔｉｃ　Ａｃ１ｄ）■
のビニルエステル、ビニルハライド、例えばｍ化ビニル
及び塩化ビニリデン、芳香族ビニル、例、ｔ　ハスチレ
ン、ビニルトルエン及び第三−ブチルスチレンまたはα
、β−不飽和二トリル例えばアクリロニトリルもしくニ
゛メタアクリロニトリルである。アクリレート及びメタ
クリレートポリマー及びそれらのコポリマーが好ましい
。 架橋付加重合ミクロ粒子は、不飽和で重合しりる基に加
えて、例えはグリシジルメタクリレートもしくはメタク
リル酸のような補足的な反応基を含有するモノマーをモ
ノマー混合物に一定量添加することにより得られる。適
当な補足的な反応基は、イギリス国特許第１１５６０１
２号明細書に記述され、そこでは用いられるモノマーに
関する情報及び架橋付加重合ミクロ粒子の製造のための
方法もまた見られる。イギリス国特許第１１５６０１２
号明細書に従って製造されたミクロ粒子は製造の間に共
反応するのではなく、例えば次の加熱により共反応を受
ける原因となることができ、従って架橋を形成する基を
含有する。 架橋付加重合ミクロ粒子を得るための他の方法において
、例えばエチレングリコールジメタアクリレートもしく
はビニルベンゼンのような重合反応に門して二官能価で
あるモノマーを低比率で、重合を受けるモノマーに配合
される。 更に適当な三官能モノマーの例は、例えばＵＳ−Ａ４２
９０９３２号に記述されている。 本発明によるホリマーミクロ粒子の好ましい特徴は、被
覆組成物の成分としてＭ縮合の可能な反応基によってそ
れらを硬化することに関係しうるということである。付
加重合ミクロ粒子の場合、それは例えばヒドロキシル基
もしくはカルボキシル基を含有するエチレン性不飽和モ
ノマーで行なわれる。ヒドロキシアルキルアクリレート
捷たはメタクリレート例えば、ヒドロキシエチルアクリ
レート、ヒドロキシイングロヒルメタクリレート、もし
くは不飽和カルボン酸例えばアクリノー酸またはメタク
リル酸である。 架橋性ポリマーミクロ粒子が含まれ、そして相当するモ
ノマー混合物が被膜を硬化しうる反応基を有するモノマ
ーに加えて、補足的な反応基例えばグリシジル基を有す
る他のモノマーをも含む場合には、反応性基を有するモ
ノマーを過剰に使用する。 その代わりとして、ミクロ粒子は、ヘープトキシメチル
−（メタ）アクリルーツミドのようなモノマーをモノマ
ー混合物に添加することにより同時に自己架橋性となり
被覆組成物の他の成分と架橋できる。 重縮合ミクロ粒子の、製造のための適当なモノマー出発
物質は、そのようなポリマーの製造に対して一般に公知
である、溶融重合あるいは溶液重合技術によるものであ
る。適当な物質の例は、ポリエステルミクロ粒子の場合
、多価アルコール例工ばエチレングリコール、グロピレ
ンクリコール、フチレンゲリコール、１．６−ヘキサン
トリオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリ
、コール、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、グリセロール、トリメチロールプロパン、ト
リメチロールエタン、ペンタエリトリトール、ジペンク
エリトリトール、トリペンタエリトリトール、ヘキサン
トリオール、スチレンとア１１ルアルコールのオリゴ−
マー（例えば商品名　ＲＪ　１００　、Ｍｏｎ５ａｎｔ
。 Ｃｈｅｍｉｃａｌ’　Ｃｏ、社製）並びにエチレンオキ
シトイ）シくけプロピレンオキシドとトリメチロールプ
ロパンとの縮合生成物（例えば商品名“Ｎｉ　ａｘ″ト
リオール七して公知である製品）であり、それと共にポ
リカルボン酸、例えばコハク酸もしくはその無水物、ア
ジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸もし
くはその無水物、フマル酸、ムコン酸、イタコン酸、フ
タル酸もしくばその無水物、イソフタル酸、テレフタル
酸、トリメリド酸無水物、ピロメリト酸もしくけその無
水物、トルキシン酸及びトルキシル酸である。ポリアミ
ド粒子の場合、適当なモノマー出発物質は、アミノカル
ボン酸例えば６−アミノカプロン酸もしくは１１−アミ
ノウンデシル酸あるＡは相当するラクタム及び／または
ポリアミン例えばエチレンジアミン、プロピレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、
トリエチレンテトラミンもしくはトリス−（アミノメチ
ル）−メタン及び上記のポリカルボ／酸である。 縮合ポリマーミクロ粒子の架橋は、竹刀ロ重合ミクロ粒
子のためにすでに記述されているように、例えば２より
も大きい官能価を有する１種もしくはそれ以上の出発モ
ノマーをある比率で重合されるべき混合物に添加するこ
とにより成し遂げられる。更に縮合ポリマーミクロ粒子
が被覆組成物の成分として、被覆組成物の硬化に関係す
るのが好ましい。ミクロ粒子が上記記載のモノマーを使
用して製造されるとき、それらはしばしば多数の適当な
反応基、例えばポリマー中の末端基としてヒドロキシル
基、アミノ基もしくはカルボキシル基をこの目的のため
に十分に有している。 付加反応基が必要な場合には、２よりも大きい官能基を
有し、並びに粒子の製造条件下で最大の枝分れを得るが
しかし架橋できない適当なモノマーを、モノマー混合物
に添加する。 本発明のポリマーミクロ粒子は、例えば後に光安定剤を
含有する架橋ポリマーのみからなることができる。しか
しながらそれらはしばしば安定な分散系を形成しないか
（粒子が沈殿する−あるいは分散系を、分散剤により付
加的に安定化しなければならない。更にミクロ粒子が使
用されうる被覆組成物の液体連続相における分布は理想
的ではない。それ故に、多数の分散媒中での安定した分
散性及び被覆組成物の液体連続相中での良好な分布を保
証すると論うような方法でミクロ粒子を変性することが
特（（好′ましい。 好ましい変性は、実際のミクロ粒子コアー（（実質的に
、線状あるいはわずかに枝分れしたポリマー鎖を結合す
る、例えばコアー上に重合もしくけ縮合する（グラフト
）ことよりなる。この様な線状ポリマーは、ある割合で
親水性及び疎水性の官能性を有する官能基を含有するた
めに、生じた完全なミクロ粒子の分散性が高められ、そ
して安定な分散がこの様に保証される。ポリマーミクロ
粒子コアーにグラフトするために適当な線状あるいはわ
ずかに枝分れしたポリマーは、以Ｆの“両親媒性”の分
散剤とも言われる。 もちろん、ある溶媒中の分散性は他の方法で、例えばイ
オン性の壜の適当に徂み合せたものを導入することによ
り保証される。 本発明によるポリマーミクロ粒子は、両親媒言 性分散剤？矯腰　コアー中に、両親媒性分散剤中に、あ
るいはその両方に光安定剤を含有しうる。そのとき異な
る光安定剤が、コアー中に及び両親媒性分散剤中にそれ
ぞれの場合に存在できる。光安定剤は、コアー中に配合
したのと同様の方法で、両親媒性分散剤に配合する、す
なわち、光安定剤の存在下、でそれらの製造（重合）を
実施することにより行なう。 王に光安定剤はポリマーミクロ粒子中に化学的に固定さ
れ得るか（光安定剤は重合に関与する。）あるいは単に
物理的に吸唆され得る。両方の場合に所望した光安定性
を与えるが化学的配合が好ましい。 事実上すべての公知の光安定剤の類の代表レリ、例えば
立体障害性アミン、２−（２−ヒドロキノフェニｋ）−
ベア／ト＋）アゾール、ｌアニリド、２−ヒドロキンベ
ンゾフェノン、ヒドロキノフェニルトリアジンまたげ桂
皮酸誘導体はミクロ粒子の光安定化のために使用できる
。ここテ好ましい光安定剤は２−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−ペンベトリアゾールでありそして立体障害性ア
ミンが特に好ましい。 光安定剤が立体障害性アミンの類に属するとき、それら
は好ましくは環状アミン、特に１もしくは２個の窒素原
子を持つ５，６．あるいは７員の複素環糸の誘導体で、
それは窒素原子に対して両方のオルト位に第三炭素原子
を有し、この様に窒素原子の立体障害をもたらす。 そのような環系の例は、次式： で表わされる２、２．５．５−　テトラ置換ピロリジノ
、イミダゾリ　トンもしくはオキサ／ツノまたは次式： で表わされる２、２．６．６−テトラ置換ピペラジノン
及びピペラジンジオンあるいは次式：で表わされるジア
ザシクロヘプタノンであり、式中、几、、Ｒ，、Ｒ，及
びＲ４はスピロ環を形成するために結合してもよい脂肪
族炭化水素基を表わし、Ｒ５及び場は水素原子もしくは
アルキル基を表わし、Ｘは水素原子、オキシル酸素原子
、ＯＨ基イ、しぐけ−価の有機基を表わし、並びにＹは
水素原子または、−価もしくは二価の有機基、例えば次
式： で表わされる基を表わす。２位に置換されたデカヒドロ
キノリンはまた、立体障害性アミンの代表例である。 立体障害性アミン化合物中で、２．２，６．６−テトラ
アルキルピペリジン誘導体は、特に重要である。それら
は、次式１： （式中、Ｒは水素原子もしくはメチル基を表わす）で表
わされる基を少なくとも１種分子中に含有する化合物で
ある。光安定ｉ’ｉｌｌ　Ｉｔｓ、式■で表わされる該
基を１種もしく（グそル以上含有してもよく、例えげモ
ノ−、ビス−、トリス−、テトラ−もしくはオリゴ−ピ
ペリジン化合物であ、＋ る。該ヒベリン誘導体は、式Ｉ中、此が水素原子を表わ
し、そして環中の窒素原子が水素原子を有しない式１で
表わされる基を１棟もしくにそれ以上含有する化合物が
好ましい。 該ヒヘ’）ジン光安定Ａｌｌの大部分に、ピペリジン環
の４位に極性置換基（ｉｌ−有するが、ある論はこの位
置にスピロ環を有する。 ピペリジン化合物の以下の／ｌｊ１ハ特に重要である。 ａ）次式ａ： 〔式中、ｎは１ないし４．好ましくは１もしくば２の数
を表わし％Ｒは水素原子もしくにメチル基を表わし、Ｒ
は水素原子、オキシル基。 炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３な
いし８のアルケニル基、炭素原子数３ないし８のアルキ
ニル基、炭素原子数７ないし１２のアルアルキル基、炭
素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数３な
いし５のアルケノイル基、グリシジル基もしくは基−Ｃ
Ｈ２ＣＨ（ＯＨ）−Ｚ（式中、２は水素原子、メチル基
あるいはフェニル基金表わす。）で表わされる基を表わ
し、 Ｒ１は好ましくは炭素原子数１ないし１２のアルキル基
、アリル基、ベンジル基、アセチル基、アクリロイル基
を表わし、Ｒばｎが１を表わす場合には、水素原子、１
個もしくはそれ以上の酸素原子で中断されても良い炭素
原子数１ないし１８のアルキル基、シアノエチル基、ベ
ンジル基、グリシジル基を表わすかまたに、脂肪族。 脂環式、芳香脂肪族、不飽和もしくに芳香族カルボン酸
、カルバミン酸または燐を含有する酸の一塩基性基ある
いは一価のシリル基を表わし。 好ましくは炭素原子数２ないし１８の脂肪族カルボン酸
、炭素原子数７ないし１５の脂環式カルボン酸、炭素原
子数３ないし５のα、β−不飽和カルポン酸もしくは炭
素原子数７ないし１５の芳香族カルボン酸の基を表わし
、まだは、ｎが２を表わす場合には、Ｒは炭素原子数１
ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２の
アルケニレン基、キシリレン基を表わすかまたに、脂肪
族、脂環式、芳香脂肪族もしくに芳香族ジカルボン酸、
ジカルボン酸またに燐を含有する酸の二塩基性基あるい
は二価のシリル基を表わし、好ましくは炭素原子数２な
いし３６の脂肪族ジカルボン酸、炭素原子数８ないし１
４の脂環式もしくは芳香族ジカルボン酸、または炭素原
子数８ないし１４の脂肪族、脂環式もしくは芳香族ジカ
ルボン酸の基を表わし、ｎが３を表わす場合にｆｌ、Ｒ
は脂肪族、脂環式あるいに芳香族トリカルボン酸、芳香
族トリカルバミン酸まだは燐を含有する酸の三塩基性基
。 または三価のシリル基を表わし、そしてｎが４を表わす
場合には、Ｒ２は肪脂族、肪環式または芳香族テトラカ
ルボン酸の四塩基性基を表わす。〕で表わはれる化合物
。 全ての炭素原子数１ないし１２のアルキル置換基に、例
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、第二〜ブチル基、第三−ブチル基、ｎ−ヘキシル基
、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル
Ｎ、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、またｉｎ−ドデ
シル基である。 炭素原子数１ないし１８のアルキル基ＲまだにＲ２は１
例えば上に記載した群及び加えて、例えばｎ−）リゾシ
ル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基または
ｎ−オクタデシル基であり得る。 炭素原子数３ないし８のアルケニル基Ｒは、例えば１−
プロペニル基、アリル基、メタリルＭ、２−７”テニル
基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基、２−オクテ
ニル基−または４−第三−ブチル−２−ブテニル基であ
り得る。 炭素原子数３ないし８のアルキニル基Ｒは好ましくはプ
ロパルギル基である。 炭素原子数７ないし１２のアルアルキル基Ｒ１は特にフ
ェネチル基またはとジわけベンジル基である。 炭素原子数１ないし８のアルカノイル基Ｒは。 例えばホルミル基、グリシジル基、ブチリル基、オクタ
ノイル基または好ましくはアセチル基であり、及び炭素
原子数３ないし５のアルケニル基は、ｔ￥ｆにアクリロ
イル基である。 Ｒ２がカルボン酸の一塩基性基である場合には、これに
例えば酢酸、カプロン酸、ステアリン酸。 アクリル酸、メタクリル酸、安息香酸またはβ−（３，
５−ジー第三−プチル−４−ヒドロキシフェニル）−プ
ロピオン酸の基である。 Ｒ２がジカルボン酸の二塩基性基である場合には、それ
は例えばマロン酸、アジピン酸、スペリン酸、セパシン
酸、マレイン酸、フタル酸。 ジプチルマロン酸、ジベンジルマロン酸、フチルー（５
，５−ジー第三−プチル−４−ヒドロキシベンジル）−
マロン酸またはビシクロへブテンジカルボン酸の基であ
る。 Ｒ２がトリカルボン酸の三塩基性基でちる場合には、そ
れに例えばトリメリド酸またにニトリロトリ酢酸の基で
ある。 Ｒ２がテトラカルボン酸の四塩基性基である場合には、
それは例えばブタン−１，２，３，４−テトラカルボン
酸またはピロメリト酸の四塩基性基である。 Ｒ２がジカルボン酸の二塩基性基である場合ニ汀、そｒ
Ｌｈ例えばヘキサメチレンージカルボン酸またに２．４
−）ルイレンージカルパミン酸の基である。 式■中、ｎが１′またに２を表わし、Ｒが水素原子を表
わし、Ｒ１が水素原子、オキシル基、炭素原子数１ない
し６のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル
基１例えばアリル基。 ベンジル基、炭素原子数２ないし６のアルカノイル基、
炭素原子数３ないし５のアルケノイル基、例えばアクリ
ロイル基またはメタクリロイル基、グリシジル基または
次式：　　ＣＨｚＣＨ（ＯＨ）−Ｚ＋（式中ｍＺ１が水
素原子またはメチル基を表わす。）で表わされる基を表
わし、Ｒ２１ｎが１を表わす場合には、水素原子、炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、ベンジル基または炭
素原子数２ないし１８の肪脂族カルボン酸の基。 炭素原子数３ないし５のα、β−不飽和カルボン酸の基
または炭素原子数７ないし１５の芳香族カルボン酸の基
を表わし、ｎが２を表わす場たに炭素原子数２ないし１
８の肪脂族飽和または不飽和ジカルボン酸の基を表わす
１式■で表わされる化合物は特筆されるべきである。 この類からのテトラアルキルピペリジン化合物の例は下
記の化合物である：１）４−ヒドロキシ−２，２，６，
６−テトラメチルビペリジン、２）１−アリル−４−ヒ
ドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
３）１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−
テトラメチルビペリジン％４）ｊ−（４−第三−ブチル
−２−ブテニル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−
テトラメチルビペリジン、５）４−ステアロイルオキシ
−２、２，６，６−テトラメチルピベリジン、６）１−
エチル−４−サリチロイルオキシ−２，２，６，６−テ
トラメチルピベリジン、７）４−メタクリロイルオキシ
−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、８）
１，２，２，６．６−ペンタメチルビペリジー４−イル
−β−（３，５−ジー第三−プチル４−ヒドロキシフェ
ニル）−プロピオネート、９）ジー（１−ベンジル−２
，２，６，６−テトラメチルピベリジー４−イル）マレ
エート、１０）ジー（２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジ−４−イル）アジペート、１１）ジー（２，２゜
６．６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セパケート
、１２）ジー（１，２，３，６−テトラメチル−２，６
−ジニチルーピベＩ）シー４−イル）セバケー）、１３
）ジー（１−アリル−２，２，６゜６−テトラメチルビ
ベリジ−４−イル）フタレ−）、１４）ｊ−プロパルギ
ル−４−β−シアノエトキシ−２，２，６，６−チトラ
メチルピペリジン、１５）１−アセチル−２，２，６，
６−テトラメチルビベリジ−４−イルアセテ−）、１６
））リ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４
−イル）トリメリテー）、１７）１−アクリロイル−４
−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルビペ
リジン、１８）ジー（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルビペリジー４−イル）ジブチルマロネート、１９）ジ
ー（＋、２，２，６．６−ベンタメチルピペリジー４−
イル）ブチル−（３，ｊ−シー第三　−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−マロネート、２０）ジー（１，２
，２，６，６−ペンタメチルビペリジー４−イル）ジベ
ンジルマロネート、２１）ジー（１，２，３，６−テト
ラメチル−２，６−ジニチルピペリジー４−イル）ジブ
チルマロネート ビス−（４−カルバモイルオキシ−１−ｎ−ブチル−２
，２，６，６−テトラメチルビペリジン）。 ２３）トルエン−２’、４’−ビス−（４−カルバモイ
ルオキシ−１−ｎ−プロピル−２，２，６，６−チトラ
メチルピペリジン）、２４）ジメチル−ビス−（２，２
，６，６−テトラメチルビペリドー４−イルオキシ）−
シラン、　　２５）フェニル−トリス−（２，２，６，
６−テトラメチルビペリジ−４−イルオキシ）−シラン
、　２６）　）リス−（１−プロピル−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジ−４−イル）ホスフィツト、　
２７）　）リス−（１−プロピル−７、２，６，６−テ
トラメチルビベリジ−４−イル）ホスフェート＆２８）
ビス−（１゜２、２．６．６−ベンタメチルビペリジー
４−イル）フェニルホスホネート、２９）ジー（１，２
，２，６゜６−ペンタメチルビペリジー４−イル）セパ
ケート％　２９Ｂ）４−ヒドロキシ−１，２，２，６，
６−ペンタメチルピペリジン、　２９ｂ）４−ヒドロキ
シ−Ｎ−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメ
チルビペリジン％２９ｃ）４−ヒドロキシ−Ｎ−（２−
ヒドロキシプロピル）　−２，２，６，６−テトラメチ
ルビペリジン及び２９ｄ）１−グリシジル−４−ヒドロ
キシ−２，２，，６，６−チトラメチルピペリジン。 ｂ）次式（ＩＩＩ）　： 〔式中％ｎは１または２の数に表わし、Ｒ及びＲば、好
ましい定義を含むａ）で定義されたものを表わし、Ｒは
水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルギル基、炭素
原子数２ないし５のヒドロキシアルキル基、炭素原子数
５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし８
のアルアルキル基、炭素原子数２ないし１８のアルカロ
イル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル基またにベ
ンゾイル基を表わし、そしてＲ４に、ｎが１全表わす場
合には水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基
、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、炭素原子数５
ないし７のシクロアルキル基、ヒドロキシル基、シアン
基、アルコキシカルボニル基またにカルボアミド基によ
り置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基、グリ
シジル基または次式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｚ、−Ｃ
ＯＮＨ−Ｚ　（式中、Ｚｆｌ水素原子、メチル基または
フェニル基金表わす。）で表わされる基を表わし、ｎが
２を表わす場合には、Ｒｆｌ炭素原子数２ないし１２の
アルキレン基、炭素原子数６ないし１２のアリーレン基
、キシリレン基、　ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−基また
げ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）　　ＣＨ２０Ｄ　　ＯＣＨ２Ｃ
Ｈ（ＯＨ）　　ＣＲ２−基（式中、Ｄに炭素原子数２な
いし１０のアルキレン基、炭素原子数６ないし１５のア
リーレン基または炭素原子数６ないし１２のシクロアル
キレン基を表わす。）で表わされる基を表わし、またに
Ｒは、Ｒがアルカノイル基、アルケノイル基またはベン
ゾイル基を表わさない場合、脂肪族、脂環式または芳香
族ジカルボン酸またにジカルボン酸の二塩基性基またに
一〇〇−基を表わしても良く、またにＲ３及びＲ４に一
緒になって、ｎが１の場合には脂肪族、脂環式またに芳
香族１．２−またに１．３−ジカルボン酸の二塩基性基
を表わしても良い。〕で表わ嘔れる化合物。 炭素原子数１ないし１２またに炭素原子数１ないし１８
のアルキル置換基はａ）ですでに定義したものである。 炭素原子数５ないし７のシクロアルキル置換基は特にシ
クロヘキシル基である。 炭素原子数７ないし８のアルアルキル基Ｒは特にフェニ
ルエチル基または特にベンジル基である。 炭素原子数２ないし５のヒドロキシアルキル基Ｒ３は特
に２−ヒドロキシエチル基または２−ヒドロキシプロピ
ル基である。 炭素原子数２ないし１８のアルカノイル基Ｒ３に、例え
ばプロピオニル基、ブチリル基、オクタノイル基、ドデ
カノイル基、ヘキサデカノイル基またにオクタデカノイ
ル基、及び好ましくはアセチル基、及び炭素原子数３な
いし５のアルケノイル基ｉ−ｘ、！！！ｆにアクリロイ
ル基である。 炭素原子数２ないし８のアルケニル基Ｒは。 例えばアリル基、メタリル基、２−ブテニル基、２−ペ
ンテニル基、２−ヘキセニル基または２−オクテニル基
である。 ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基ま
たはカルバミド基により置換された炭素原子数１ないし
４のアルキル基Ｒ４は１例えば２−ヒドロキシエチル基
、２−ヒドロキシグロビル基、２−シアノエチル基、メ
トキシカルボニルメチル基、２−エトキシカルボニルエ
チル基、２−アミノーカルボニルグロビル基マタに２−
’（ジメチルアミノカルボニル）−二チル基である。 炭素原子数２ないし１２のアルキレン置換基に１例えば
エチレン基、プロピレン基、２．２−ジメチルプロピレ
ン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメ
チレン基、デカメチレン基またにドデカメチレン基であ
る。 炭素原子数６ないし１５のアリーレン置換基汀、例えば
０−％ｍ−またにｐ−フェニレン基。 チル基全表わす。）で表わされる基である。 炭素原子数６ないし１２のシクロアルキレン基りは特に
シクロヘキシレン基である。 弐■で表わされるこれらの化合物ニ、特にＲ及びＲがａ
）で定義した好ましい意味を有し、Ｒが水素原子または
炭素原子数１ないし６のアルキル基を表わし、セしてＲ
はｎが１を表わす場合には水素原子、炭素原子数１ない
し１２のアルキル基、炭素原子数６ないし８のアルケニ
ル基、ヒドロキシル基、シアノ基またにカルバミド基に
よ）置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基、Ｃ
Ｈ２ＣＨ（ＯＨ）Ｚ基またにＣ０ＮＨ−Ｚ基金表わし、
そしてｎが２を表わす場合にＨ，Ｒは結合したＲ＋Ｒ？
除いて弐■で定値したもの全表わす化合物を特記すべき
である。 この類からのテトラアルキルピペリジン化合物の例に、
下記の化合物である：３０）Ｎ、Ｎ−ビス−（２，２，
６，６−テトラメチルビペリジ−４−イル）−へキサメ
チレン−１，６−ジアミン、３１）Ｎ、Ｎ’−ビス−（
２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）−
へキサメチレン−１，６−ジアセドアミド、３２）１−
アセチル−４−（Ｎ−シクロヘキシルアセトアミド）−
２、２，６，６−テトラメチルピベリジン、３３）４−
ベンゾイルアミノ−２，２，６，６−チトラメチルピペ
リジン、３４）Ｎ、Ｎ’−ビス−（２，２，６゜６−テ
トラメチルビベリジ−４−イル）−Ｎ。 Ｎ−ジブチル−アジパミド、３５）Ｎ、Ｎ’−ビス−（
２，２，６，６−テトラメチルピベリジー４−イル）−
Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシル−２−ヒドロキシプロピレ
ン−１，６−ジアミン、５６）Ｎ。 Ｎ−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピベリジー
４−イル）−ｐ−キシリレンジアミン。 ３７）　　次式： ％式％ で表わされる化合物、 ３８）４−（ビス−２−ヒドロキシエチルアミン）　−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、３９）
　４−　（５−メチル−４−ヒドロキシ−５−筆三一プ
チルーベンズアミド）　−２，２，６，６−チトラメチ
ルピペリジン及び４０）４−メタクリルアミド−１，２
゜２、６．６−ペンタメチルピペリジン。 Ｃ）次式（Ｍ： （式中、ｎは１または２の数を表わし、Ｒ及びＲ１は好
塘しい定義を含むａ）で定義したものを表わし、そして
Ｒ５はｎが１を表わす場合には、炭素原子数２ないし８
のアルキレン基または一ヒドロキシアルキレン基または
炭素原子数４ないし２２のアシルオキシ−アルキレン基
を表ワシ、ナしてｎが２を表わす場合には基−（ＣＨｔ
）Ｉ　Ｃ（ＣＨｚ−）ｚを表わす。）で表わされる化合
物。 炭素原子数２々いし８のアルキレン基または一ヒドロキ
シアルキレン基Ｒ５は、例ｔばエチレン基、１−メチル
エチレン基、フロピレン基、２−エチル−プロピレン基
または２−エチル−２−ヒドロキシメチルプロピレン基
である。 炭素原子数４ないし２２のアシルオキシアルキレン基Ｒ
５は、例えば２−エチル−２−アセトキシメチルプロピ
レン基である。 この様にｎが２を表わす場合には　Ｒ５はスピロ−６−
環を形成するための成分、そしてｎが１を表わす場合に
は好ましくはスピロ−５−または−６−環を形成するた
めの成分である。 この類からのテトラアルキルピペリジン化合物の例は、
下記の化合物である。 ４））９−アザ−８，８，１０，１０−テトラメチル−
１，５−ジオキサスピロ（５，５）ウンデカン、４２）
９−アザ−８，８，１０，１０−テトラメチル−３−エ
チル−１，５−ジオキサスピロ［５，５］ウンデカン、
４３）８−アザ−２，７，７，８，９，９−ヘキサメチ
ル−１，４−ジオキサスピロ［４，５］デカン、４４）
　９−アザ−５−ヒドロキシメチル−３−エチル−８，
８，９，１０，１０−ペンタメチル−１，５−ジオキサ
スピロ［５，５］ウンデカン、４５）９−アザ−３−エ
チル−３−アセトキシメチル−９−アセチル−８，８，
１０，１０−テトラメチル−１，５−ジオキサスピロ［
５，５）ウンデカン及び ４６）　２．２．６．６−テトラメチルピペリジン−４
＝スピロ−２／　　（１′、　３／−ジオキサン）−５
７−スピロ−５“−（１′／、３“−ジオキサン＞　−
２／／−スヒｏ　−４”　−（２”、　　２”、　　６
”、　　６”−ｆ　トラメチルピペリジン）。 ｄ）次式ＶＡ、ＶＢ及び■Ｃ： 〔式中、ｎは１捷たは２を表わし、Ｒ及びＲ１は好−ま
しい定義を含むａ）で定義したものを表わし、Ｒ６は水
素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、アリル
基、ベンジル基、グリシジル基、または炭素原子数２な
いし６のアルコキシアルキル基を表わし、そしてＲ７は
ｎが１を表わす場合には水素原子、炭素原子数１ないし
１２のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル
基、炭素原子数７ないし９のアルアルキル基、炭素原子
数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし
４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２ないし６のア
ルコキシアルキル基、炭素原子数６ないし１０のアリー
ル基、グリシジル基または次式−（ＣＨｚ　）ｐ−Ｃ０
０Ｑまたは−（ＣＨ２）、−〇−ＣＯ−Ｑ（式中、ｐは
１または２を表わし、そしてＱは炭素原子数１ないし４
のアルキル基またはフェニル基を表わす。）で表わされ
る基を表わし、またけｎが２を表わす場合には、Ｒ７は
炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４
ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数６ないし１２
のアリーレン基、次式 ％式％ （式中、Ｄは炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、
炭素原子数６ないし１５のアリーレン基または炭素原子
数６ないし１２のシクロアルキレン基を表わす。）で表
わされる基または次式 ％式％） （式中、Ｚ′は水素原子、炭素原子数１ないし１Ｂのア
ルキル基、アリル基、ベンジル基、炭素原子数２ないし
１２のアルカノイル基またはベンゾイル基を表わす。）
で表わされる基を表わし、そしてＴ、及びＴ２はお互い
に独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル基を表わすか、捷たは未置換捷だは水素原子または炭
素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子
数６ないし１０の了り−ル基または炭素原子数７ないし
９のアルアルキル基を表わし、またはＴＩ及びＴ２はそ
れらを結合する炭素原子と一緒になって炭素原子数５な
いし１２のシクロアルカン＊ｉ形成する。〕で表わされ
る化合物。 炭素原子数１ないし１２のアルキル基は、例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基ｓ　ｎ−ブチル基、第ニ
ーブチル基、第三−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オ
クチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−
デシル基、ｎ−ウンデシル基またはｎ−ドデシル基であ
る。 炭素原子数１ないし１８のアルキル置換基は例えば上に
あげた基、加えて例えばｎ−トリデシル基、ｎ−テトラ
デシル基、ｎ−ヘキサデシル基またはｎ−オクタデシル
基である。 炭素原子数２ないし６のアルコキシアんキル置換基は、
例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキ
シメチル基、第三−ブトキシメチル基、エトキシエチル
基、エトキシエチル基、ｎ−ブトキシエチル基、第三−
ブトキシエチル基、インプロポキシエチル基またはプロ
ポキシプロビル基である。 炭素原子数３ないし５のアルケニル基Ｒ７は、例えば、
１−プロペニル基、アリル基、メタリル基、２−ブテニ
ル基まだは２−ペンテニル基である。 炭素原子数７ないし９のアルアルキル基Ｒ７は、Ｔ１及
びＴ２が特にフェネチル基または特にベンジル基である
。炭素原子と一緒になってシクロアルカン環を形成する
Ｔｘ＆びＴ２は例えば、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、シクロオクタンまだはシクロドデカン環である。 炭素原子数２ないし４のヒドロキシアルキル、７ＡＲ７
Ｈ１例えば２−とドロキシエチル基、２−ヒドロキシプ
ロピル基、２−ヒドロキシブチル基または４−ヒドロキ
シブチル基である。 炭素原子数６ないし１０のアリール基Ｒ７は、Ｔ１及び
Ｔ２が特に未デを換またはハロゲン原子または炭素原子
数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基また
はα−もしくはβ−ナフチル基である。 炭素原子数２ないし１２のアルキレン基Ｒ７は、例、ｔ
ばエチレン基、プロピレン基、２．２−ジメチルプロピ
レン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタ
メチレン基、デカメチレン基１だはドデカメチレン基で
ある。 炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基Ｒ７ｕ特に２
−ブテニレン基、２−ペンテニル基または３−ヘキセニ
レン基である。 炭素原子数６ないし１２のアリーレン基Ｒ７は、例えば
０−１ｍ−１たはｐ−フ二二しン基、１゜４−ナフチレ
ン基まだは４．４′−ジフェニレン基である。 炭素原子数２ないし１２のアルカノイル基Ｚ′は例えば
グロビオニル基、ブチリル鵡、オクタノイル基捷たはド
デカノイル基、そして好ましくはアセチル基である。 炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、炭素原子数６
ないし１５のアリーレン基捷たは炭素原子数６ないし１
２のシクロアルキレン基りはｂ）で定義された好ましい
ものである。 この類からのテトラアルキルピペリジン化合物の例は下
記の化合物である。：　４７）　３−ベンジル−１，３
，８−）リアザー７．７．９．９−テトラメチルスピロ
［４，５）デカン−２，４−ジオン、４８）　３−、−
オクチル−１，３，８−トリアザ−７゜７、９．９−テ
トラメチレン基ｃｒ［４，５）デカン−２，４−ジオン
、４９）３−アリル−’＃’１８−トリアザー１．７．
７．９．９−ペンタメチルスピロ［４，５］−デカン−
２，４−ジオン、５０）３−グリシジル−１，５，８−
トリアザ−７、７，８，９，９−ペンタメチルスピロ〔
４，５〕デカン−２，４−ジオン、５１）２−インプロ
ピル−７、７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３
，８−ジアザ−４−オキソースピｃｙ　（４，５）デカ
ン、５２）２゜２−ジブチル−７、７，９，９−テトラ
メチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−ス
ピロ〔４５〕デカン、５３）　２．２．４．４−テトラ
メチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ−２１−オキン
ージスビロ（５，１，１１，２）ヘンエイコサン、５４
）２−ブチル−７、７，９，９−テトラメチル−１−オ
キサ−４，８−ジアザ−３−オキンースビロ〔４，５）
デカン及び５４ａ）　８−アセチル−３−ドデシル−１
，５，８−トリアザ−７、７，９，９−テトラメチルス
ピロＣ４，５）デカン−２，４−ジオンまたは次式： で表わづれる化合物。 ｅ）次式■： 〔式中、ｎは１または２を表わし、そしてＲ８は次式。 （式中、Ｒ及びＲ１は好寸しい定義を含むａ）で定荘し
たものを表わし、Ｅに−０−または−ＮＲ”−で表わし
、Ａは炭素原子数２ないし乙のアルキレン基または＝（
ＣＨ２）３−０−　を表わし、そしてＸはゼロまたは１
の奴の１つを表わす。）で表わてれる基を表わし、Ｉｔ
９はＲ８と同一かまたけ＆　　　　　ＮＲ”　　ｋ％”
、　　　−ＯＲ”、　　　−ＮＨＣＨ２（ＪＩＬ１３　
　　’ｊ　　た　ｉｊ　　　　−Ｎ（ＣＩ−１□ＩＪ）
も１３）２の１つを表わし、ｌ（、ＩＯハｎが１を表わ
す場合には　ＢｍまたはＲ９と同一であり、そしてｎが
２を表わす場合には、基−Ｅ−Ｂ−Ｈ（式中、Ｂは−Ｎ
（Ｒ１１）−で中断きれても良い炭素原子数２ないし６
のアルキレン基を表わす。）で表わされる基を表わし、
ｋＬｌｌは炭素原子数１ないし１２のアルキル基、シク
ロヘキシル基、ベンジル基または炭素原子数１ないし４
のヒドロキンアルキル基または次式： で衣わされる基を表わし、Ｒ１２は炭素原子数１ないし
１２のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基また
は炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基を衣わ
し、そして８１３は水素原子、炭素原子数１ないし１２
のアルキル＆またはフェニル基を表わすか、または１（
１１及びＲ１２は一緒になって炭素原子ｅ１４ないし５
のアルキレフ基または−オキサアルキレン基、？ｌＪえ
ばて衣わづれる基を衣わし、または１ｕｌｌ及び几１２
は各々次式。 で表わされる基も表わして良い。〕で表わきれる化合物
。 炭素原子数１ないし１２のアルキル置換基は、例えばメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、第
二−ブチル基、第三−プチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−
オクチル基、２−エチル°ヘキシル基、ｎ−ノニル基、
ｈ−デシル基、ｎ−ウンデシル基またはｎ−ドデシル基
である。 炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル置換基ハ、
例えば２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロギシプロビ
ル基、５−ヒドロキンプロピル基、２−ヒドロキシブチ
ル基または４−ヒドロキシブチル基である。 炭素原子数２ないし６のアルキレン基Ａは、例エバエチ
レン基、プロピレン基、２．２−ジメチルプロピレン基
、テトラメチレン基またはへキサメチレン基である。 几１１及びＲ１２が一緒になって炭素原子数４ないし５
のアルキレン基またはオキサアルキレン基を表わす場合
には、それらは例えばテトラメチレン基、ペンタメチレ
ン基または５−オキサペンタメチレン基である。 この類からのテトラアルキルピペリジン化合物の例は、
次式： 懸　ｉ　　山 Ｑ 工 〜 工 で表わされる化合物である。 ｆ）式（１）で表わされる２、２，６．６−テトラアル
キルビベリジン基を含む繰り返し単位を有するオリゴマ
ーまたはポリマー化合物、特に該基ヲ含むポリエステル
、ポリエーテル、ポリアミド、ポリアミン、ポリウレタ
ン、ポリウレア。 ポリアミノトリアジ／、ポリ（メタ）アクリレート、ポ
リ（メタ）アクリルアミド及びそれらのコポリマー。 この類からの２．２，６．６−テトラアルキルビベリジ
ン光安定剤の例は次式で表わされる化合物であるが、ｍ
は２ないし２００の数を表わす。 しｔ１３　　　　Ｌｌ’ｉ３　　　　　　　　　　　　
　Ｌ；Ｈ３にＦ１３８６）　　　　　　　ＣＨ３ Ｐｉ　　　　　　　　　　　　　　　　　　ＭＢ２） 付加重上ミクロ粒子の光安定剤の点から特に好ましい立
体障害性アミンは、エチレン性不飽和基１例えばその他
のモノマーと共重合するアリル基、ビニル基、またはマ
レエート基、そして特にアクリル基またはメタクリル基
を含むものである。その様な化合物の例は上にあげた化
合物２，７，９．１７及び４９並びに下記の化合物であ
る：６７）１．２．２．６．６−ベンタメチルー４−ア
クリロイルオキシピペリジン、６８）１−アセチル−２
，２，６，６−チトラメチルー４−（メタ）アクリコイ
ルオキシ−ピペリジン、６９）１−ベンジル−２，２，
６゜６−チトラメチルー４−（メタ）アクリロイルオキ
シ−ピペリジン、７０）１゜２，２，６゜６−ペンタ−
メチル−４−（メタ）アクリルアミド−ピペリジン、７
１）１，２，２，６．６−ペンタメチル−ａ−（Ｎ−ブ
チル）−アクリルアミド−ピペリジン、　　７２）１．
２，２．．６゜６−ベンタメチルー４−マレイミド−ピ
ペリジン、７３）１．３．８−）リアイー２．４−ジオ
キンー５−アクリロイルオキシエチル−７゜７．８，９
．９−ペンタメチル−スピロ（４，５）−デカン、７４
）１−（（２−メタクリロイルオキシ）−エチル）−２
，２，６，６−テトラメチルーピベリジン、７ｓ）１．
２’、ｌ、６゜６−ベンタメチルー４−ビニルオキシ−
ピペリジン及び７５ａ）１．２，２，６．６−ペ／タメ
チル−４−メタクリロイルオキシ−ピペリジンである。 特別な場合には、立体障害性アミンの混合物を使用する
ことは有利である。 立体障害性アミンの類からの光安定剤に例えばＥＰ−Ａ
　１１４．７８４号より公知であり、そして公知の方法
により製造できる。 光安定剤の別の群は、立体障害性アミンとは別に重要で
あり、さまざまな類の化合物に楓する紫外線吸収剤であ
る。紫外線の吸収剤も１だ本発明によるポリマーミクロ
粒子を安定化する・ために適している。この様な紫外線
吸収剤の最初のＭは、２−（２−ヒドロキシフェニル）
−ベンゾトリアゾールにより代表てれ、下記の構造のタ
イプは本発明によるポリマーミクロ粒子に特に適してい
る： Ａ）次式■。 〔式中、Ｒ１ａハＨ，ＣＩ！、　　炭素原子ｆｆ１ナイ
Ｌ４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基（好ましくはＨ）を表わし、町は１または２の叙の１
つを表わし、そしてｌ（，１５はａ）ｍ、１が１を表わ
す場合には、 を表わし、そして ｂ）ｍｌが２を表わす場合には、 （式中Ｊ　Ｒ１６はＨ１未置換または１ないし１０個の
ＯＨ基で置換された炭素原子数１ないし１８のアルキル
基、未置換またはＯＨ−置換された炭素原子数５ないし
１２のシクロアルキル基、未置換またはＯＨ−置換され
た直鎖または枝分れした炭素原子数２ないし１８のアル
ケニル基、炭素原子数６ないし１４のアリール基、炭素
原子数７ないし１５のアルカリール基または未置換また
は１または２個のＯＨ基で置換された炭素原子数７ない
し１５のアルアルキル基、または次式： で表わされる基を表わし、 Ｒ１７及び托Ｉ８はお互いに独立して、Ｈ１未置換また
は１個またはそれ以上の（ＪＨ基で置換された直鎖また
は枝分れした炭素原子数１ないし１８のアルキル基、１
度または数度−〇−または−Ｎｇ１Ｇ−で中断された直
鎖または枝分れした炭素原子数３ないし１８のアルキル
基、未置換筐たは１個またはそれ以上のＯＨ基により置
換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、
炭素原子数６ないし１４のアリール基、炭素原子数７な
いし１５のアルカリール基、未置換または１個または２
個のＯＨ基により置換された炭素原子数７ないし１５の
アルアルキル基、または直鎖または枝分れした炭素原子
数３ないし８のアルケニル基、または几１７及び１（１
８はそれらが結合する窒素原子と一緒になってピロリジ
ン、ピペリジン、ピペラジンまたはモルフォリン環ヲ表
わし、Ｒ１１９はＨ，−または直鎖または枝分れした未
置換または１個またはそれ以上の（ＪＨ基により置換さ
れた炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わし、Ｒ
２０はＨｌまたはメチル基を表わし、ｒは１ないし１０
の整数を表わし、Ｒ”はＨ１直鎖筐たは枝分れした炭素
原子数１ないし１８のアルキル基、未置換またはｔＪＨ
−置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし１５のア
ルアルキル基または炭素原子数７ないし１５のアルカリ
ール基、　　−５Ｏ２−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、　　−８ｏ２−炭素原子数７ないし１８のアルカ
リール基、−８０２−炭素原子数６ないし１４のアリー
ル基、または−ＣＨ２−０−８２２を表わし。 Ｒ２２は直鎖または枝分れした炭素原子数１ないし１８
のアルキル基または炭素原子数３ないし１８のアルケニ
ル基、炭素原子数５ないし１２の７クロアルキル基、炭
素原子数６ないし１４のアリール基、炭素原子数７ない
し１５のアルアルキル基壇たは炭素原子数７ないし１５
のアルカリール基を表わし、Ｒ２３は未置換または０１
−１−置換された炭素原子数２ないし１２のアルキレン
基または炭素原子数４ないし８のアルケニレン基、炭素
原子ｆｆ４（７）アルキニレン基、シクロヘキシレン基
。 １度または数度−〇−で中断された直鎖または枝分れし
た炭素原子数４ないし１８のアルキレン基、または次式 ％式％（ で表わされる基を表わし、Ｒ１２４は１度または数度−
〇−により中断きれても良い直鎖または枝分れした炭素
原子数２ないし１２のアルキレン基。 シクロヘキシレン基、または次式 で表わされる基を表わし、またはＲ２４及び几１９は２
個の窒素原子と一緒になってピペラジン環を表めし、ｈ
ｚｓは直鎖または枝分れした炭素原子数２ないし８のア
ルキレン基、１度または数度−（Ｊ−により中断された
直鎖または枝分れした炭；ｇｌｇ、子数４ないし１０の
アルキレン基、１゜３−ｆｉだｉｊｌ、４−シクロヘキ
シレン基、１゜３−ｊたけ１．４−〕二ニレし基、また
は次式で表わきれる基を表わす。］で表わされる化合物
。 式■で表わされるＣれらの化合物は、式中。 Ｒ１４が一〇Ｒ１６または一〇Ｒ２３−０−を表わす化
合物を選択すぺ−きであり、そしてこれらの中で特にＲ
１６が未置換またはＯＨ−置換されたアルキル基または
アルケニル基、または（ＣＨ，Ｃｌ−１，０＋Ｔ−Ｈを
表わし、セしてＢ、ｚｓが未置換またはＯＨ−置換され
たアルキレン基またはアルケニレン基、１度または数度
−いにより中断されたアルキレン基１例えば−ＣＨ２（
ＣＨ２０ＣＨ２）　ｒＩ　ＣＨｚ　−（式中ｒ１　は１
ないし９を表わす。）を表わす化合物である。 アルキル基Ｒ１４は、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、インプロピル基、ブチル基及び第三−ブチル基
であり、そしてアルコキシ基Ｒ１４は例えば、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基及びブトキシ基でありう
る。 ）ｔ＋１６　、　Ｒ１７，几１ｇ、　ＲＪ９．　Ｒ＋２
１及びＲ’は、例えば下記のアルキル基である：メチル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第ニーブチル基、
第三−プチル基、第三−アミル基、２−エチルヘキシル
基、ｎ−オクチル基、１，１，３．３−テトラメチルブ
チル基、ｎ−ドデシル基、１，１゜７．７−チトラメチ
ルオクチル基及びｎ−オクタデシル基。 基Ｒ１１６，Ｒ１１７，几１８及び凡１９は好ましくは
１個またはそれ以上のＯＨ基で置換されている。 几１７及びＲ＋１ｇは、例えば−８−、−０−または−
ＮＲ１９−により中断され、または／及び−ＯＨにより
置換された下記の炭素原子数３ないし１８のアルキル基
である：メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブトキ
シエチル基、ブトキシプロピル基、メチルチオエチル基
、ＣＨ３０ＣＨ２ＣＨ２（ＪＣ）１２Ｃ１−１２−、Ｃ
Ｈ３ＣＨ，（ＪＣ）ｉ、　ＣＨ，ＵＣ）１２ＣＨ２−、
ｃ４Ｈ，ＯＣＨ２Ｃ）１．　ＯＣＲ，Ｃ）１２−、ドデ
シルオキシプロビル基、２−ヒドロキシエチル基、２−
ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、６−
ヒドロキシプロピル基、−Ｃ１（２ＣＨ２−ＮＨ−Ｃ４
Ｈ，、ＣＨ３Ｃ２に−１゜ Ｃ４Ｈ，。 ）Ｌｌａ、　Ｒ＋１７、Ｈｌｍ　及ヒＲ”　ハ、例、ｔ
　ハ下記（７）炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
ル基であるニジクロペンチル基、シクロヘキシル基、シ
クロオクチル基、またはシクロドデシル基。Ｒ１６゜４
゜ １（，１７及びＲ１”の場には、シクロアルキル基はＯ
Ｈ−置換されても良い。 Ｒ１７及びＲ１１８は、例えば下記のアルケニル基であ
る：アリル基、メタリル基、２−ｎ−へキセニル基、及
び４−ｎ−オクテニル基。 アルケニル基１１６はアルケニル基Ｒ１７及びＲｌｇに
定義したものであって良く、または例えば−Ｃ）１＝Ｃ
）１２．１Ｏ−ｎ−ウンデセニル基または９−ｎ−オク
タデセニル基、そして基Ｒ１’６はＯＨ−置換されたも
のであって良い。 Ｒ１６、Ｒ１７、ｋＬｌ”、　ｆ（＋２１及び１４２２
は互いに独立して、例えば下記の炭素原子数７ないし１
５のアルアルキル基であって良い：ペンジル基、α−フ
ェニルエチル基、β〜フエ具ルエチル基及ヒ４−＠三＝
ブチルベンジル基。 几１６、ｋＬｌ７．ｋＬ”及びＲ”ｔｉミオイニ独立シ
テ。 例えば下記の炭素原子数６ないし１４のアＩＪ−ル基で
あって良い：フェニル基、α−ナフチル基及びβ−ナフ
チル基。 炭素原子数７ないし１５のアルカリール基Ｒ１’４Ｒ１
７，Ｒ１８，Ｒ”またはＲ１２２は、トリル基、キシリ
ル基、エチルスエニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ
−ブチルフェニル基、第三−プチルフェニル基、オクチ
ルフェニル基、ジー第三−プチル−フェニル基またはノ
ニルフェニル基である。これらの基は芳香核上または好
ましくはアルキル置換基上で１個またはそれ以上のＯＨ
基で置換でれても良い。 −５（Ｊ２−炭素原子数１ないし４のアルキル基Ｒ１２
１中のアルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、またはｎ−１第ニーまたは第三
−ブチル基でおる。 −ＳＯ，−炭素原子数６ないし１４のアリール基Ｒ２１
中のアリール基は、例えばフェニル基。 α−ナフチル基またはβ−ナフチル基である。 −５Ｏ２−炭素原子数７ないし１８のアルカリール基几
２１中のアルカリール基は几！６に定義したものである
。 炭素原子数２ないし８のアルキレン基Ｂｚｓ及びＲ２Ｓ
は１例えば下記の基であって良い：エチレン基、プロピ
レン基、ブチレン基、ヘキシレン基及びオクチレン基。 アルキレン基Ｒ２４は几２３の定義とは独立して。 または付加的により高分子の基であって良く、例えばデ
シレンまたはドデシレン基である。 炭素原子数４ないし８のアルケニレン基Ｒ，２３は２例
えば下記のものであって良い、ブテニレン基。 ）ｔ、２３及びＲ２Ｓの場合には一〇−により中断され
た直鎖または枝分れした炭素原子数４ないし１０のアル
キレン基は例えば下記の基である：ｍが１ｔ−表わす式
Ｖ１１で表わされる化合物の典型的な代表例は下記のも
のである：２−（２−ヒドロキシ−３−第三−ブチル−
５−（２−カルボキシエチル）−フェニル１−５−クロ
ロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第
三−ブチル−５−（２−カルボメトキシエチル）−フェ
ニル〕ペンツトリアゾール、２−〔２−ヒドロキン−３
−第三−ブチル−５−（２−カルボメトキシエチル）−
フェニル〕−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２
−ヒドロキシ−３−第三−ブチル−５−（２−カルボシ
クロへキシルオキシエチル）−フェニル〕−ベンソトリ
アゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三−ブチル−
５−（２−カルボオクチルオキシエチル）−フェニルク
ーベンゾトリアゾール、２−１２−ヒドロキシ−５−第
三−ブチル−５−［２−カルボ−（２−エチルへキシル
オキシ）−エチルクーフェニル）−ベンゾトリアゾール
、２−（２−ヒドロキシ−３−第三−フチルー５−（２
−カルボ−イン−デシルオキシエチル）−フェニル〕−
ベン／　）　ＩＪアソール、２−（２−ヒドロキシ−３
＝第三−プチル−５−（２−カルポドデシルオキシエチ
ル）−フェニル〕−ベン７”　）　ＩＪアゾール、２−
（：２−ヒドロキシ−３−第三−ブチル−５−（２−カ
ルボドデシルオキシエチル）−フェニル〕−５＝クロロ
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｉＪ
三−フチルー５−　（２−カルボオクチルオキシエチル
）−フェニル〕−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
ｉ２−ヒドロキシ−３−第三−ブチル−５−〔２−カル
ボ＝（２−エチルへキシルオキシ）−エチルクーフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−１２−ヒド
ロキシ７３−第三−ブチル−５−〔２−カルボ−（２−
ヒドロキシシクロへキシルオキシ）−エチル〕−フェニ
ル１−ペンツトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３
−第三−ブチル−５−（２−カルボピペリジルｙｔドエ
チル）−フェニル）−ベンツトリアソール、２−〔２−
ヒドロキシ−３−第三−ブチル−５−（２−カルボモル
ホリンアミドエチル）−フェニルクーベンゾトリアゾー
ル及び２−１２−ヒドロキシ−３−第三−ブチル−５−
［２−カルボ−（３，５−ジー第三−プチル−４−ヒド
ロキシアニリド）−エチルクーフェニル）−ベンゾトリ
アゾール。 ｍｌが２を表わす式■で表わされる化合物の典型的な代
表例は下記のものである。 式■で表わされる。さらに好ましい化合物は：２−〔２
−ヒドロキシ−３−第三−ブチル−５−（２−カルボ−
６−オクチルオキシエチル）−フェニルクーベンゾトリ
アゾール、　　２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル
−５−［２−カルボ−（２−エチルヘキシル）−オキシ
エチル］−フェニル）−ベンゾトリアゾール、　　２−
（２−ヒドロキシ−５−第三プチル−５−（２−カルボ
−ｎ−オクチルオキシルエチル）−フェニル］　−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３
−第三プナル−５−（２−カルボ−（２−エチルヘキシ
ル）−オキシエチル】−フェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾールで表わされる化合物である。 ある場合には１式Ｖｌで表わされる化合物の１樗または
それ以上の混合物を便用することは有利である。例は、
２−（２−ヒドロキシ−３−第三プチル−５−（２−カ
ルボ−ｎ−オクチルオキシエチル−フェニル）−５−ク
ロロベンゾトリアゾール、ｌ”２１２−ヒドロキシ−３
−抱三一ブチル−５−〔２−カルボ−（２−エチルヘキ
シル）−オキシエチル〕フェニル）−５−クロロペンゾ
トリアゾールの重量比で１：１の混合物である。 Ｂ）次式■ｆｆ　： （式中　Ｒ２５はＨ１塩素原子またはカルボキシル基金
表わし、Ｒ２７は直鎖筐たは枝分れした未置換筐たは置
換炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７
ないし１５のアルキル基。 炭素原子数２ないし３のアルケニル基筒たは次して部８
はＨまたはＲ，２７に定義したものと同じものを表わす
。）で表わされる化合物。 置換または未置換の炭素原子数１ないし１８のアルキル
基Ｒ２７及びＢ、２８は各々独立してＲ１”で定義した
ものを表わす。他の可能な置換基はカルボキシル基であ
る。好ましくは、アルキル置換基は少なくとも１つのヒ
ドロキシル基またはカルボキシル基により置換されたも
のである。 炭素原子数７ないし１５のアルアルキル基ＲＦ及び１％
２８は、お互いに独立して例えばベンジル基、α−フェ
ニルエチル基、β−フェニルエチル基、α、α−ジメチ
ルベンジル基または４−第三−ブチ化ベンジル基である
。 式■で表わされる適当な化合物の例は。 である。 Ｃ）次式■： （式中、Ｒ２６は上で定義したものと同じ意味を表わし
、そしてＲ１１は未置換または１個またはそれ以上のＯ
Ｈ、カルボキシル基またはエポキシ基で置換され、そし
て１度または数度の一〇−により中断されても良い直鎖
または枝分れした炭素原子数１ないし１８のアルキル基
。 Ｒ，ル１１ を表わし、ｑは１ないし１２の整数を表わし、Ｒ３１は
水素原子またはメチル基を表わし、Ｒｏは水素原子また
はヒドロキシル基を表わし、そしてｑ′はゼロまたは１
を表わす。）で表わされる化合物。 ｔｌを換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基１
（，２９は、ここでは１ないし７３１固のＯＨ，カルボ
キシル基またはエポキシ基により置換されたものが好゛
ましく、そして特に１個のＯＨ、カルボキシル基または
エポキシ基により置換されたものが好ましい。 −０−により中断された炭素原子数１ないし１８のアル
キル基１モ２９は１例えば次式：％式％ （式中、ｒ及びＲ２０は上で定義したものと同じ意味を
表わす。）で表わされる構造を有する。 式■で表わされる適当な光安定剤の例はである。 Ｄ）次式Ｘ゛。 （式中、　Ｒ３１は上で定義したものと同じ意味を表わ
し、そしてＲ３２は水素原子または未置換または一〇Ｈ
によりモノ置換またはポリ置換ぐれた直鎖または枝分れ
した炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わす。）
で表わされる化合物。 炭素原子数１ないし１８のアルキル基几冨は。 ここではｌ（，１６に定義したものと同じ意味を表わし
、そして好ましくは未置換の炭素原子ｆｆ１ないし１２
のアルキル基を表わす。 この構造のタイプの２−（２−ヒドロキシフエニル）−
ベンゾトリアゾールの例は：ＣＨ・　。 ＼。Ｈ３ である、 Ｅ）次式ｙＪ： 〔式中、Ｘは一〇−または−Ｎ（几４））−を表わし、
Ｙは一〇−または−Ｎ　（Ｒ”　）−を表わし、Ｚは炭
素原子数２ないし１２のアルキレン基、１個ないし５個
の−Ｎ　（Ｒ４７）基及び／または酸素原子により中断
された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基、ヒドロ
キシル基により置換された炭素原子数５ならし１２のア
ルキレン基、ブテニレン基、プｆニレン基、シクロヘキ
シレン基またはフェニレン基を表わし、ｍはゼロ、１．
または２の数を表わし、ｎは１を表わすかまたはＸ及び
Ｙが各々−Ｎ（Ｒ”）−−！たけ−Ｎ（几４２）を表わ
す場合には、ｎはゼロを表わし、Ｒ４６は水素原子、塩
素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基（好ましくは水素原子
）を表わし、）ｔ３９は水素原子または炭素原子数１な
いし８のアルキル基、Ｒ１４０は基−Ｃ（Ｃ））−Ｃ（
Ｒ４３）＝Ｃ（Ｈ）Ｒ４４を表わ１−か、またはＹが−
Ｎ　（Ｒ，”　）−を表わす場合には・　１（４（ｌは
ｌ（，４２と−、緒になって−Ｃ（Ｕ　）　−Ｃ）ｌ＝
ＣＨ−Ｃ＜Ｖ）−を形成し、１（４３は水素原子または
メチル基を表わし、そしてＲ４４は水素原子、メチル基
または一〇（Ｕ）−Ｘ−ＲＡＳを表わし、几４５は水素
原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基ま（式中、
記号Ｒ４６、Ｒ”、Ｘ、Ｚ、ｍ及びｎは、上で定義した
ものと同じ意味を表わす）で表わされる基を表わし、そ
して几４）．Ｒ社及びＲ４７はお互いに独立して水素原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、１ないし３
１１５の酸素原子により中断された炭素原子数６ないし
１２のアルキル基、シクロヘキシル基または炭素原子数
７ないし１１のアルアルキル基を表わし、そしてＲ４）
はＲ４２と一緒になって、Ｚがエチレン基を表わす場合
には、エチレン基を形成しても良い。〕で表わされる化
合物。 弐Ｘで表わされるベンゾトリアゾールの例は：２−（ア
クリリルオキシ）−シクロヘキシル３−（２Ｈ−ベンゾ
トリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−第三
プチルーベンゼンブロハノエー）、２−（アクリリルオ
キシ）−シクロヘキシル５−　（５−クロロ−２）１−
ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５
−第三プチル−ベンゼンプロパ／！−）、Ｎ−（２−ア
クリリルオキシエチル）−１−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−４−ヒドロ＋シー　５−第三プチル
−ベンゼンプロパンアミド、Ｎ−（２−アクリリル−オ
キシエチル）−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−第三プチル
−ベンゼンプロパンアミド、Ｎ−（３−アクリリルオキ
シプロピル）−３−（２Ｈベンツトリアゾール−２−イ
ル）−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルベンゼンプロパ
ノエート、２−（アクリリルオキシ）−プロピル３−　
（２Ｈ−ペン／ｉＪアゾールー２−イル）−４−ヒドロ
＋シー、５４ｇ三ブチルーベンゼングロパノエート、２
−（アクリリルオキシ）−ブチル３−（２ｈ−ペンツト
リアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−第三プ
チル−ベンゼンプロパノエート、　　２−１り’）　Ｉ
Ｊシル−−フェニル−エチル３−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−第三ブチル
−ベンゼンプロパノエート、２−アクリリル−３−フェ
ノキシ−プロピル３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−ヒドロキシ−５−第三プチル−ベンゼン
プロパノエート及びＮ−（２−（４−メトキシ−１，４
−ジオキン−シス−ブドー２−エン−１−イルオキシ）
−エチル）−５−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−ヒドロキシ−５−第三プチル−ベンゼンプロ
パンアミド。 （式中、Ｒ４”は置換されたまたは未置換の炭素原子数
１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし１５の
アルキル基または炭素原子数２ないし３のアルケニル基
金表わす。）で表わされる化合物。 置換されたまたは未置換のアルキル基Ｒ４８は、ここで
は例えば几１＠に定義したものである。さらに可能な置
換基はカルボキシル基である。次Ｋｆｌｌ換されたアル
キル基孔４８は好１しくは１個ないし３個のヒドロキシ
ル基または／及び１個のカルボキシル基により置換され
たものである。 しかしながら、アルキル基ＲＪ４ｓは好ましくけ未置換
である。 ミクロ粒子の光安定剤として使用し得る２−（２−ヒド
ロキシフェニル）−ベンゾトリアゾールは公知であり、
または公知の方法は、例えばＥＰ−Ａ５７，１６０号に
より製造できる。 紫外線吸収剤の群からの適当な光安定剤の別のタイプは
、例えば次式Ｘ■。 （式中、Ｒ３３は水素原子、１度または数度−〇−によ
り中断されても良く、そして好ましくは少なくとも１個
のヒドロキシル基、カルボキシルＡ１たはエポキシ基に
より置換された直鎖または枝分れした炭素原子数１ない
し１８のアルキル基、または を表わす。）で表わされる構造を有する２−ヒドロキシ
ベンゾフェノンにより代表される。 適当な２−ヒドロキシベンゾフェノンの例は、４−ヒド
ロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシ
ルオキシまたは４−ドデシルオキシ誘導体であり、そし
てそれらは１ないし３個の、好ましくは１個のヒドロキ
シル基、カルボキシル基またはエポキシ基により置換て
れても良い。 適当な紫外線吸収剤の別の類は、２．４−ビス−（２′
−ヒドロキシフェニル）−６−アルキル−５−）リアジ
ン、例えば６−エチル、６−ヘプタデシルまたは６−ウ
ンデシル誘導体、及び蓚酸ジアミド、特に蓚酸ジアニリ
ド１例えば４．４′−ジ−オクチルオキシ−オキサアニ
リド。 ２．２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジー第三−
プチル−オキサアニリド、　　２　、２’−ジ−ドデシ
ルオキシ−５，５′−ジー第三ブチル−オキサアニリド
、２−エトキシ−２７−ニチルーオキサアニリド、Ｎ　
、　Ｎ’−ビス−（３−ジメチルアミノプロピル）−オ
キサルアミド、２−エトキシ−５−第三プチル−２′−
二チルーオキサアニ゛ノド及びその２−エトキシ−２′
−エチル−５゜４′−ジー第三ブチル−オキサアニリド
との混合物、及び〇−及びｐ−メトキシ−及び〇−及び
ｐ−エトキシ−ジー置換オキサアニリドの混合物である
。 はクロ粒子のその他の可能な光安定剤は、次式ＸＩＶ： （式中、Ｒ３４は水素原子または一〇−により中断され
ても良い直鎖または枝分れした炭素原子数１ないし１８
のアルキル基を表わし、Ｒ３５は水素原子、炭素原子数
１ないし４のアルキル基、メトキシ基またはフェニル基
を表わし、ＲＭ及びＲ３７はお互いに独立してシアノ基
または−ｑｑＯ托３８基を表わし、そしてＲ３ｇは一〇
−により中断されでも良い直鎖または枝分れした炭素原
子数１ないし１８のアルキル基を表わす。）で表わされ
る桂皮酸誘導体である。適当な桂皮酸誘導体の例は、エ
チル及びインオクチルα−シアノ−β、β−ジフェニル
アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート
及びメチルα−シアノ−β−メトキシ−シンナメートで
ある。 すでに上で述べた様に、これらの光安定剤は、化学的に
固着したものが好ましく、すなわち本発明によるポリマ
ーばクロ粒子の中に共重合されているのである。一般的
にこれは光安定剤に関する場合であり、特に上で定義し
た類からのものであり、それらは製造条件下での重合反
応に関与し得る反応性置換基を含有する。この様な置換
基は特に、エチレン性二重結合（特にそれらが付加重合
により製造するポリマーミクロ粒子に使用される場合、
例えばアクリレート）またはカルボキシル基、ヒドロキ
シル基及びエポキシ基を含有するものである。最後に述
べた３種の基は２重縮合により製造するミクロ粒子に使
用される場合特に重要である。それらの光安定剤は少な
くとも部分的には化学的に結合していて良く、反応性の
基が重合条件下で形成きれる様な基を含む。それらの例
はエステル基及びエステル基全含む複合置換基である。 立体障害性アミン光安定剤の場合には、それらはヒドロ
キシル基またはエチレン性二重結合を含む基を有してい
るものが特に好ましい。紫外５憧吸収剤の中では、ヒド
ロキシル基、カルボキシル基またはエポキシ基またはエ
チレン性二重結合全含む基を有するものが好ましい。 一般に２　、２　、６’、　６−テトラアルキルビベリ
ジン誘導体（特に上の分類ａ）ないしｆ）に記載したも
０）及び２−（２−ヒドロキンフェニル）−ベンゾ）　
ＩＪアゾール（時に上の分類Ａ）ないしＥ）に記載した
もの）は、光安定剤として好１しく使用さレル。式１１
、■、■、ｖＡ−ｖｃ及び■で表わｇれる化合物（！Ｔ
ｊに式■、■、ｖＡ及び■で表わされる化合物）及び式
ｖｎ、　ＩＸ、Ｘ及びＸで表わされる化合物はここでは
特に言及されるべきである。 本発明はまた。０．０１−２０μｍ　の粒度分布を有す
る光安定化ポリマーミクロ粒子の製造方法にも関し、そ
れは１種または数種の異なるエチレン性モノ−またはポ
リ−不飽和モノマー化合物または／及びポリアルコール
、ポリカルボン酸、とドロキシカルボン酸、ラクトン、
アミノカルボン酸、アミノアルコール及びポリアミンか
らなる群からの１種または数種の異なるモノマーを、公
知の方法で七ツマ−に対して１棟またはそれ以上の光安
定剤をα１ないし３０重量幅の存在下寿られるポリマー
の少なくとも一部が架橋するように重合することよりな
る。重合は、ここでは一工程または数工程で行なわれ。 少なくとも一つの工程は光安定剤の存在下で行なわれる
。 使用きれるモノマーは、（：）アクリル酸及びメタクリ
ル酸及びそれらの誘導体１例えばそれらのエステル特に
メチルまたはエチルエステルが特に有利である。有利に
は七ツマー混合物が使用される（コポリマー）。この様
にして例えばポリアクリレートミクロ粒子が得られる；
そして（ｌｉ）ポリアルコール、ポリカルボン酸及びヒ
ドロキシカルボン酸はポリエステルミクロ粒子を与える
。付加重合及び１協合の両方の官能基を有するモノマー
を使用した場合には、両方のタイプの混合物もまた可能
である。使用されるモノマーの例は、上で述べたもので
ある。 粒子の向上した分散性を生じる部分を含有するミクロ粒
子ｔ−ｎ造することは特に有利である。 これらの部分は、例えばポリマーミクロ粒子コア上に重
合した実質的に直線状ないし枝分れしたポリマーである
両親媒性の分散剤からなる。 本発明による製造方法は、それ故に例えば。 下記のように実施てれる。 ａ）１種または数種の異なるエチレン性七ノーまたはポ
リー不飽和モノマー化合物または／及びポリアルコール
、ポリカルボン酸、とドロキシカルボン酸、ラクトン、
アミノカルボン酸、アミノアルコール及びポリアミンか
らなる群からの１種または数棟の異なる七ツマ−を架橋
すると共に重合し、 ｂ）実質的に直線状ないし枝分れしたポリマーを与える
ためにａ）に示したモノマーの１種またはそれ以上を重
合し。 Ｃ）　　ａ）により得たポリマー上にｂ）に、より得た
ポリマーを重合（グラフト）シ。 ａ）による筐たはｂ）による重合またはその両方の重合
は１種またはそれ以上の光安定剤の存在下で行なわれ、
２つの重合工程における光安定剤は、同一または異なっ
ていて良く、その両方の重合工程においてモノマーに対
して光安定剤の総量が（１１ないし５０重重易であって
良く。 そして重合ａ）は、全体または部分的にｂ）により形成
されるポリマーの存在下で行なわれて良い。 工程ｂ）で使用し得るモノマーは、原理的には工程ａ）
に使用されるものでもある。しかしながら、それらは重
合の間に架橋しない様なものを選択しなければならない
。工程ｂ）により得られる直線状ないし枝分れしたポリ
マー（゛両筏媒性分散剤”）は、好１しくはａ）により
得られる架橋ポリマー（”コア”）の上に慣用の方法で
グラフトしたコポリマーである。特に良好な光安定剤を
有するミクロ粒子は、光安定剤の添加を重合工程ｂ）に
または工程ｂ）及びａ）の両方に行なった場合に得られ
る。 重合自体は公知の方法例えばＥＰ−Ａ３，１６６号、Ｅ
）’−ＡＩ　１９．０５１号、ＵＳ−Ａ４．２９１１１
．９５２号、ＤＥ−Ａ２，８１８．１０２号マタは０Ｂ
−ＡＩ、　１５６．０１２号に記載の方法により、及び
これらに記載された参考文献の方法により行なわれる。 光安定化付加重合ミクロ粒子は、例えばＥＰ−Ａ１１９
．０５１号筐たはＩＪ８−Ａ４．２９へ９５２号による
乳ｊヒ重合によＬＪ当なエチレン性不飽和モノマーを水
中、ある量の下に定楔される様な１棟またはそれ以上の
光安定剤の存在下重合化することにより得られる。引き
続き２例えば共沸蒸留により水を除去する。 本発明の分散重合工程による、例えばＥＰ−Ａ３．１６
６号またはＧＨ−ＡＩ、１５６，０１２号に開示されて
いるようなばクロ粒子の製造は好ましい。 この場合には、例えば選択した七ツマ−を、下に定義し
たある量の１種またはそれ以上の光安定剤の存在下、光
安定剤及びモノマーが可能な限り可溶で、コポリマーが
不溶である有機溶媒中重合する。使用される光安定剤ま
たは縮合ポリマーミクロ粒子のもとになるモノマーが、
東金が起こる液中にわずかだけ可溶であっても良い。こ
の場合１分散重合の最初の段階は１元安定剤またはモノ
マー全分散剤により不活性Ｍ液中のコロイド分散の状態
に導くことからなる。 串 ＥＰ−Ａ３，１６６号による光安定ホリマーミクロ粒子
の製造方法は、脣に好ましく、これは粒子形成は両親媒
性分散剤の調製を先に行なうが。 この分散剤は存在する有機溶液により溶かされる成分、
７ＩＯえてポリマーミクロ粒子に固着し得る別の成分を
含有する。適当なモノマーを次に不活性希釈剤及びその
場所で調製した両親媒性分散剤の存在下有利に重合する
が、後者は工程ａ）による重合の前、その間またはその
後にクロえることが可能である。所望により、次にミク
ロ粒子を生成した分散系から例えば噴霧乾燥または凍結
乾燥により分離できる。ポリマーミクロ粒子への両親媒
性分散剤の固着は、物理的または化学的性質のものであ
って良いが、ミクロ粒子への化学結合が好ましい。適当
な両親媒性分散剤及びその農法は１例えばＥＰ−Ａ４）
６６号に記載されている。 光安定剤を重合すべきモノマー混合物に、そのモノマー
に対して各々ｃＬ１ないし３０重量憾好１しくはＱ、５
ないし１（ＬＯ重量易の量で加える。添加は、モノマー
と共に出発時に、または重合／！協合工程の間連続的に
、または終了近くに行なうことができる。この方法で、
ミクロ粒子中の光安定剤の均一な分布または外側の１−
により多く存在させることが達成嘔れる。このことは、
光安定剤が生成したポリマーミクロ粒子に光安定剤の性
質に依存して物理的にまたは化学的に固着していること
を保証する。好ましくは光安定剤は反応基、例えばヒド
ロキシル基、カルホキツル基、エステル基、エポキシ基
、インシアネート基、アミン基、アミド基またはエチレ
ン性二重結合例えば（メタ）アクリレートまたはビニル
基を有し、その基によりポリマーに化学的だ結合するこ
とができ、そして適当ならば重合に直接関与し得ること
が好ましい。 本発明は本発明によるポリマーミクロ粒子を含有する分
散系にも関する。実際の目的のためには、ミクロ粒子は
、単離せずに重合が起こった溶媒中の分散系の１１でさ
らに加工さ、れる。 使用される分散媒体は特に芳香族、脂肪族及び脂環式炭
化水素を使用できるがその他のもの例えば水もまた使用
できる。炭化水素の例はベンゼン、トルエン及び特に高
沸点脂肪族炭化水素留分１例えば１００℃−２００℃の
沸点の範囲を有するものである。 本発明の分散系は、ミクロ粒子を含むが１例えば分散系
に対して１０ないし９０％、特に２゜ないし８０％例え
ば４ｏないし８０％の蛍を含有する。 本発明は、フィルム形成材料が。 ａ）本発明によるミクロ粒子を含む分散相を３０ないし
９５容量易及び ｂ）室温での粘度が１１ないし３０ポワズであり、そし
てフィルム形成ポリマーを硬化することができる液体連
続相が７０ないし５容量幅、からなり、ａ）及びｂ）の
総体積が１００易であり、そして分散層が被膜ｔ−硬化
することに関与することからなる被覆組成物己も関する
。相ｂ）はここでも１種またはそれ以上の光安定剤を含
有して良い。分散相は好ましくは少なくともミクロ粒子
の５０容量％を含む。 これらの被覆組成物は、フィルム形成材料が本発明に尖
るミクロ粒子を少なくとも５０容量％含む分散相３０な
いし８５容量奎、及び室温でｌ１１ないし２０ボワズの
粘１度を有する液体連続相７０ないし１５容量易からな
るものが好ましい。 該被覆組成物の基本構造は１例えばＥＰ−Ａご、１６６
号、ＥＰ−Ａ１１９．０５１号、Ｕ　Ｓ　−Ａ　４２９
０９３２号、　ＤＥ−Ａ２，８１　＆１０２　号”！、
　タｔｒｉ　ＧＢ−ＡＩ、１５６，０１２号中に見られ
る。分散相の粒子はα１ないし２０μｍの範囲の粒径ま
たは粒度分布を有する。 分散相はポリマーミクロ粒子からのみ構成されても良い
：しかしながらミクロ粒子及び、適当ならば溶媒に加え
て分散相は顔料、充てん剤及び／または増量剤１例えば
被覆組成物において通常使用される様なものの粒子も含
むのが好ましい。有利には、これらの粒子は１例えば被
覆技術で慣用である様なα１ないし５μｍの大きさを有
する。 ポリマーばクロ粒子及び顔料、充てん剤及び／または増
量剤粒子は、液体連続相中に凝集しない状態での安定な
分散系であるのが有利である。このことは例えば公知の
顔料分散剤によって達成できる。またはその代りに連続
相中の液体フィルム形成材料またはそれらの化学変種が
それ自体効果的な分散剤であることもできる。 顔料の分散は、被覆技術で慣用の方法、例えばボールミ
ル、ビーズばル、摩擦ミルまたはコロイドミルを使って
行なう。 すでに述べた様に１本発明による光安定化ミクロ粒子は
、ＥＰ−Ａ４）６６号に従って不活性液体中で１両親媒
性分散剤の存在下でポリマーミクロ粒子の安定な分散が
形成される様に製造することが好ましい。この分散系中
の顔料、充てん剤及び／または増量剤粒子は、息様に両
親媒性分散剤の基により安定化される。この様に得た分
散相を次に被覆組成物を形成するために連続相に貼合す
る。この点でさらに詳しくはＥＰ−Ａへ１６６号を参照
する。 ばクロ粒子コアまたは分散剤部分またはその両方が化学
的反応基を有する場合には、その反応基が重縮合反応に
関与できることにより１分散相は被膜の硬化に関与する
ことができる。重縮合に関与しつる反応性基を有する光
安定化ばクロ粒子、及びそれらの製造方法はすでに上で
述べた。硬化反応に関与する能力が分散剤部分に存在し
ている場合、その分散剤部分は、適当な反応基、例えば
溶解したポリマ一部分またはミクロ粒子の固着成分とし
て作用する分子の部分ニ局在し得るヒドロキシル基また
はカルボキシル基を含む。 前のパラグラフで記載した条件の結果として。 分散相／連続相系は、それ自体二成分系を形成し得、す
なわちフィルム形成は、二相のお互いの反応により完成
する。この様な場合の例において、分散相は反応基を有
するポリエステルミクロ粒子を含有し、及び連続相は例
えばインシアネート樹脂を含む。この結果ポリウレタン
フィルムを生じる。 相当する両親媒性分散剤の例は、メチルメタクリレート
、メタクリル酸及び１２−ヒドロキシステアリン酸及び
ジメチロールプロピオ／ＩＷ！からのコポリエステルの
グリシジルメタクリレート付加体の共重合により得るこ
とができるグラフトコポリマーである。さらに適当な分
散剤の例は、ＥＰ−Ａ３，１６６号に与えられている。 本発明による被覆組成物のその他の成分は。 液体連続相であり、この連続相は付加型／＠″または重
縮合により硬化した場合にポリマーフィルムを得ること
ができる。 重縮合は、ここで対の官能基の反応によってモノマーに
は存在しない官能性ユニ＝）を形成すると共ＶＣ重合す
る意味として特に理解きれ。 この場合には１反応は適当であれば低分子副生成物の発
生につながり得る（ＥＰ−Ａ５，１６６号参照）。 連続相の適当な成分は、特に加熱及び／″！たけ触媒の
添加によりフィルム形成ポリマーに変換し得る硬化可能
なまたは熱硬化性樹脂である。 その様な樹脂の例： １、　フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、すなｈ　ｈ
−ｙエノールとホルムアルデヒドとの反応生成物。 Ｚ　アミノ／ホルムアルデヒド樹脂１例えば尿素／ホル
ムアルデヒドまたはメラミン／ホルムアルデヒド樹脂、
尿素、メラミンまたは他の窒素含有化合物とホルムアル
デヒドとの反応により得られる。 五　置換アクリレートから誘導される架橋性アクリル樹
脂１例えばエポキシ−アクリレート、ウレタン−アクリ
レートまたはポリエステル−アクリレート、及び縮合反
応に関与し得るオレフィン二重結合及びＯＨ基及び／ま
たはＣ０ＯＨ基を含まないアクリル樹脂。 ４、　ポリエステル樹脂及びアルキド樹脂。 ５、　ジインシアネートまたはポリイソシアネートとポ
リヒドロキシ化合物との反応に基づくポリウレタン樹脂
。 ＆　エポキシド樹脂、例えばエビクロロヒドリンとビス
フェノールＡの反応により得られるもの。 連続相は、原則的には一種の液体物質または二種または
それ以上の物質の均一な液体混合物からなる。 二種またはそれ以上の物質の混合物が好ましく、そして
これは−成分または二成分系の形であっても良い。 連続液体相が、−成分系である場合には、これは貯蔵に
安定な形のフィルム形成成分を含み。 そして硬化が例えば単に加熱するかまたは硬化剤を加え
ることにより起こり得る。 適当な一成分系は１例えば該熱硬化性樹脂の一つ及び適
当ならば別の液体物質１反応基を含むいはゆる反応性希
釈剤から製造されるが、この反応基によってフィルム形
成材料の硬化に関与し、そして特に被覆フィルムの可撓
性に冨与する。反応性希釈剤は１例えば約１０００まで
の分子１１を有し、そして特にＯＨ基例えば２ないし６
個の０）１基を含む二官能価のモノマーまたはオリゴマ
ーである。 これらの例は単純なグリコール筐たはポリオール例えば
ブタン−１，４−ジ芽−ル、及び特にポリアルコールと
ポリカルボン酸及び／またはモノカルボン酸とのヒドロ
キシ末端のオリゴ−１・−エステルである。適当な反応
希釈剤の例はＥＰ−Ａ１６６号に与えられている。 連続液体相が二成分系である場合には、これは完成した
被覆組成物の施用の直前にお互いに反応性であり、そし
て加えてフィルムを形成することができる二つの液体組
成物を結合することにより製造される。 この場合において、第二の成分は第一の成分と共反応し
、そして硬化フィルムを形成し得るが、この場合例えば
二成分ポリウレタン被覆と共反応する。しかしながら、
第二の成分は第一の成分の硬化反応の触媒であっても良
く、アミノ樹脂の酸触媒硬化゛が例である。 本発明による被覆組成物は、架橋性アクリレート、適当
ならばアミノブラスト、ポリインシアネートまたはポリ
エポキシドと架橋したポリエステル／アルキドまたはポ
リウレタン樹脂に基づいたものが好筐しい。 特別な場合として、上にあげた様に１分散及び連続相の
二成分系をここでのべてもよい、この場合被覆フィルム
はお互いの二相の反応により形成される、例えばポリウ
レタンフィルムの。 製造は１反応基を有するポリエステルミクロ粒子を含む
分散相とインシアネート樹脂を含む連続相との反応によ
って行われる。 本発明による被覆組成物は、連続相に、被膜？硬化する
ための触媒を含み、その触媒は、使用されるフィルム形
成材料の性質に依存して、好１しくは存在する反応性希
釈剤を含む全体の連続相に対して０．１ないし１５重量
優の童を加える。 連続相が主として熱硬化性樹脂からなる場合には、触媒
は好１しくは酸性触媒または加熱で酸全遊離する触媒で
あシ１例えばメタンスルホンｒ＆、トルエンスルホンＵ
、Ｗｉ　虐、マレイン酸の半エステル、シクロヘキシル
ホスホン酸、トリフ０口酢酸、トリフルオロ酢酸または
テトラハロゲノフタル酸及びそれらの半エステルである
。 フィルム形成成分、即ち分散相及び液体連続相に加えて
、本発明による被覆組成物は不活性液体希釈剤を、例え
ば５０容量易特に３０容蓋苗で含むことができ、　これ
は基材に対する被覆組成物の施用の条件下で蒸発する。 適当な不活性溶媒の例は、芳香族及び脂肪族炭化水素、
ハロゲン化炭化水素、低級アルコール筐たは水である。 ある特性例えば基材に対する流動性または接着性に影響
する物質を更に被覆組成物に加えることは望ましい。そ
の様な添加は、一般に連続相に加えるが、この分野の当
業者には公知である。 好１しくは、本発明による被覆組成物中のフィルム形成
材料は４０ないし８０容量倦の分散相及び６０ないし２
０容量茶の液体連続相からなる。 本発明による被覆組成物は、当業者に公知の慣用の方法
例えばハケ塗り、噴霧または浸漬により基材に適用でき
る。本発゛明による組成物に基づく被覆及び仕上げは適
用後に乾燥しそして焼付ける。 本発明による被覆組成物は、あらゆるタイプの工業用塗
装例えば機械、重両、船筐たは構造部品の塗装用のため
の便用に適している。特に車両塗装に重要である。これ
は、一度塗りまたは二度塗り塗装のどちらでも良い。 本発明による被覆組成物に基づく被覆及び仕上げは向上
した耐候性及び特に高い光安定性により特徴づけられる
。 きらに本発明は１本発明による光安定化ミクロ粒子の被
覆組成物の構成要素としての使用にも関する。 本発明による工程により得られるそして本発明によるポ
リマーミクロ粒子を含む分散系中には、要求される仕様
に合う実際のミクロ粒子（粒度分布ａ０１−２０１１ｍ
及び架橋）、にガロえて上記したミクロ粒子でないその
他のポリマーをある割合で含む。 これらは被覆組成物中への更用に干渉しないので得られ
る分散系は概して直接使用できる。 しかしながら所望により、ミクロ粒子に分離または存在
する他のポリマーの除去によりＫｆｔＪしても良い。ｆ
ｆｆｉは、例えば架橋していない部分が可溶である適当
な溶媒中に再沈殿により行なうことができる。これによ
り精製されたミクロ粒子分散系２与え、その分散系から
粒子自体を適当な公知の方法、例えば噴霧乾燥及び特に
凍結乾燥により分離できる。分離したミクロ粒子は次に
同様にポリマー化学で慣用の方法、例えば光分散測定、
走食電子顕微鏡により、粒度分布、形及びその他を特徴
づける。 すでに前に述べた様に、ミクロ粒子は、理想的な場合に
は球状ないし卵状の形を有する。ポリマーミクロ粒子の
分離及び特徴づけは多くの文献、例えば７７り（Ｆｕｎ
ｋｅ　）等、　Ｐｒｏｇｒ、　ＣｏｌＣｏ１１ｏｉｄＰ
ｏｌｙ　Ｓｃｉ、　　第５７巻、第４８−５３ｇ（１９
７５年）Ｋ記載されている。 次に本発明のいろいろな面を更に説明するための実施例
を示すが、これらの実施例は本発明の原理？一般的に適
用できる範四内においていかなる制限全も示すものでは
ない。実施例においては、他の記載部分と同様にことわ
りがない限りすべての部及び％は重量によるものである
。 製造実施例１ないし１８において、簡単にするためにミ
クロ粒子の分ｇ　ＩＩこは言及しなかった。 この分離は、明確に上記した方法で行なっている。 実施例１ａ ■、１２−ヒドロキシステアリン酸／ジメチロールプロ
ピオン酸コポリエステルの製造１２−ヒドロキシステア
リンｆｉ１３５（ｌ及び２，２−ビス−（ヒトｂキシメ
チルンープロビオン酸１０ＣＬＦｌ並びにアルカン混合
物（１８０−２２０℃）１４５Ｆ及び触媒としてメタン
スルホン酸６？を撹拌器、水分離器及び窒素注入口付き
の２．５ｔスルホン化フラスコに入れる０その後、反応
混合物を１５６℃に加熱し、６時間以内に約７８２の水
を分離する（溶液Ａ１）ｏ　　　　’ Ｉｌ、　　Ｉのグリシジルメタクリレート付加物の製造 そうして得られた溶液Ａ、５００Ｆを６時間還流下でグ
リシジルメタクリレート４　＆５　Ｆ。 ジメチルアミノドデカン１．５Ｆ、　　ヒドロキノンα
５を及びアルカン混合物（１８０−２２０℃）２０２と
共に窒素注入口及び還流コンデンサー付きの１．５ｔス
ルホン化フラスコ中で加熱する。 ＩＩｌ、　　共重合 メチルエチルケトン３７５Ｐ　’ｉ還流コンデンサー及
び窒素注入口付きの１．５ｔスルホン化フラスコに入れ
、還流（８０℃）するために加熱する。２時間以内に、
以下の混合物を滴下する。： 浴液Ｂｌ（ＩＩより得られる）　　　２１Ｘ５タメチル
メタクリレー）　　　　　　１８４Ｆメタクリル１９　
　　　　　　　　２０５？４−アクリロイルオキシ−１
゜ ２．２．ｂ、６−ベンタメテルヒ ペリジン　　　　　　　　　　　　　　　１（１４タア
ゾジイソプチロニトリル　　　　　　２．１！Ｍｎ−オ
クチルメルカプタン　　　　　　２．１５ｆ該溶液の滴
下を完了した後、更にアゾジイソブチロニトリルα５ｆ
ｆ！：添加し、そして溶液を史に２時間還流下で沸騰す
る。その後、該溶液−！ｉ、”５ｏｌｖｅｓｓ。１０Ｇ
　（アルカン混合′吻：沸点範囲１６２−１７７℃）５
８（ｌで希釈し、並びに約４０９の溶媒混合物を留去す
る０これにより約３０チの固形分を有する溶液を得る。 光安定剤の成分（４−アクリロイルオキシ−１，２，２
，６，６−ペンタ−メチルピペリジン）は固形分（溶液
Ｃｓ）に対して約２．５係である０゛製造 イソフタル酸　　　　　　１５６２ トリメチロールプロパン　　　　７５．５？ネオペンチ
ルグリコール　　　１１７ｆＩＪ及びテトラブチルオル
トチタネ−）　　　１ｆｋ攪拌器、水分離器及び窒素ガ
スゾール連接器付きノ１．５６スルホン化フラスコに入
れル。 反応混合物を１９５℃に加熱し、水を分離するための共
留剤としてキシレン異性体混合物を内部温度が１９５℃
に維持されるようにゆっくりと滴下する０約２５２の水
を蒸留した後、反応混合物を１４０℃まで冷却し、アジ
ピン酸１１８２を添加する。続いて再び混合物を攪拌し
ながら１６０℃に加熱する０その後、攪拌をやめて、１
５０℃にあらかじめ加熱し、溶液Ｃ１６７１及びアルカ
ン混合物（１８０−２２０℃）２２０？からなる混合物
を添加する。その後。 溶液温合物を再び最高速度で続けて速やかに攪拌しなが
ら１８０−１９０℃に加熱する。更にｍ液Ｃ＋　２５　
？　及Ｕ　７　／’　カフ　ＹＩＡ合物（１８０−２２
０℃）２５９からなる混合物全３時間で滴下し、同時に
反応水約８０２を留去する。約１７０２の溶媒混合物を
留去することにより、約７５係の固形分を有するポリエ
ステルミクロ粒子分散剤（＝分散系Ｄｔ）を得る。それ
は固形成分のα２チの光安定剤（４−アクリロイルオキ
シ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン）を
含有する。 実施例１ｂ Ａ、　　４−７クリロイルオキシー１．２，２，６．６
−ペンタメチルピペリジンを１α４２の代わりに５２．
Ｏｆｆ用いること以外は実施例１ａのＡ１１ｌで記載し
た手順を正確に実施する。これにより固形分く溶液Ｃ２
）に対して光安定剤が約１１．７係を含有する固形分約
３０チの溶液を得るＯ Ｂ、溶液Ｃ１の代わりに浴液Ｃ２を用いること以外は実
施例１ａ、Ｂに記載した手順を正確に行なう。これによ
シ固形分約７５係のポリエステルミクロ粒子分散系を得
て、それは固形分（°分散剤Ｄ２）に対して約１．０％
の光安定剤を含有する〇 実施例１Ｃ Ａ、　　４−アクロイルオキシ−１，２，２，６，Ｓ−
ベアｆｉ）ｆルビベリジン１α４？の代わりに１０４．
０２を使用すること以外は実ｋ１例１ａに記述しである
ような手順を正確に行なう。これによシ固形分（溶液Ｃ
３）に対して約２５４係の光安定剤を含有する固形分約
３０係の溶液を得る。 Ｂ、溶液Ｃ１の代わりに溶液Ｃ３を使用する以外は実施
例１ａ、Ｂで記載したような手順を正確に行なう。これ
によシ約７５係の固形分のポリエステルミクロ粒子分散
剤を得て、それは固形分（分散剤Ｄ３）に対して約２．
０係の光安定剤を含有する。 実施例２ａ メチルエチルケトン３７５Ｍ　ｅ還流コンデンサー及び
窒素注入口付きの１．５ｔスルホン化フラスコに入れ、
還流するために加熱する（８０℃）。２時間以内に以下
の混合物を滴下する。： 溶液Ｂｓ　（実施例１ａ、Ａｌｌによシ得る）　　　　
　　　　　　　　　２１五５？メチルメタクリレート　
　　　　　１８４２メタクリル酸　　　　　　　　　　
２Ｇ、５ｒアゾジイソブチロニトリル　　　　　２．１
５Ｐｎ−オクチルメルカプタン　　　　　２．１４Ｍ該
溶液の添加が完了したとき、他のアゾシイノブチロニト
リルα３ｆを添加し、並びに溶液を更に２時間還流下で
煮沸する。その後。 該溶液を■５ｏｌｖｅｓｓｏ　１００　（７＃力、混合
物：沸点範囲１６２−１７７℃）５８０ｆで希釈し、並
びに約４０Ｆの溶媒混合物を留去する。これにより約３
０係の固形分を有する溶液（溶液Ｃ４）を得る〇 イソフタル酸　　　　　　　　１５６２トリメチルプロ
パン　　　　　　７５．４）１’ネオペンチルグリコー
ル　　　１１７？４−ヒドロキシ−１−ヒド ロキシエチル−２，２，６゜ ６−テトラメチルピベリジン　　１α４ｒ及びテトラブ
チルオルトチタネート　　　１２をタービン攪拌器、水
分離器及び窒素ガスシール連ｉ器付キの１．５ｔスルホ
ン化フラスコに入れる。 混合物を１９５℃に加熱し、水を分離するための共留剤
としてキシレン異性体混合物を内部温度が１９５℃に維
持されるようにゆっくりと添加する。約２５２の水を蒸
留した後、反応混合物を１４０℃まで冷却し、アジピン
酸１１８Ｐ’ｉ加える。続いて再び混合物を攪拌しなが
ら１６０℃に加熱する。その後、攪拌をやめて、１５０
℃にあらかじめ加熱し、上記で得た溶液Ｃ４６７ｒ及び
アルカン混合物（１８０−２２０℃）２２０りからなる
混合物を添加する。 その後、溶液混合＊Ｊを再び最高速度で続けて攪拌しな
がら１８０−１９０℃に加熱する。更に溶液Ｃ４２ｓ　
ｙ及びアルカン混合物（１８０−２２０℃）２５９から
なる混合物を６時間以内で添加し、同時に反応水約８Ｏ
ｆを留去する。約１７０２の溶媒混合物を留去すること
により。 約７５俤の固形分のポリエステルミクロ粒子分散剤を得
る。それは２−５％の光安定剤（４−ヒドロキシ−１−
ヒドロキシエチル−２，２゜６．６−テトラメチルビペ
リジン）を含有する（分散系ＦＩ）。 実施例２ｂ ４−ヒドロキシ−１−ヒドロキシエチル−２゜２．６．
６−テトラメチルピベリジンを１α４２の代わ９に５，
２ｆだけ用いること以外は実施例２ａのＢで記載したよ
うな手順を正確に実施する。 コレにより固形分約７５係のポリエステルミクロ粒子分
散系を得て、これは固形分に基づいて計算して約１．２
憾の光安定剤を含有する（分散系Ｆ２）０ 実施例５ａ 溶液Ｃ４の代わりに、溶液Ｃ２（実施例１ｂ、Ａによシ
得る）を使用すること以外は実施例２ｂ、に記載したよ
うな手順を正確に行なう。これにより約７５係のポリエ
ステルミクロ粒子分散系を得て、それは、固形分に基づ
いて計算して約２２俤の光安定剤（４−アクリロイルオ
キシ−１，２゜２．６．６−ペンタメチルピペリジン及
び４−ヒドロキシ−１−ヒドロキシエチル−２，２，６
，６−テトラメテルビペリジン）を含有する（分散系Ｆ
’３）。 実施例３ｂ 溶７［ｆＣ４の代わりに、溶液Ｃ３（実施例１ｃ、Ａに
よシ得る）を使用すること以外ｆ′ｉ実施し１１２ｂに
記載したような手順を正確に行なう。これにより約７５
俤のポリエステルミクロ粒子分散系を得て、それは、固
形分に基づいて計算して約Ｘ２ｑｂの光安定剤（４−ア
クリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチル
ピペリジン及び４−ヒドロキシ−１−ヒドロキシエチル
−２゜２．６．６−テトラメチルビベリジン）を含有す
る（分散剤Ｆ４）。 実施例４ａ 系の製造 ■５ｏｌｖｅｓｓ。１００（アルカ、混合物、ｄ＝α８
５゜沸点１６２−１７７℃ン１４２ｄ、、ヘキサン４６
−及びトルエン２３２ａｆ！を温耽計、攪拌器、蒸留ブ
リッジ、窒素ガスシール連接器及び滴下ろうと付きの７
５０づスルホン化フラスコに入れる。混合′吻を窒素下
で還流温度（約９４℃ンに加熱する。 メチルメタクリレート　　　　　　　　９７２メタクリ
ル酸　　　　　　　　　　　　０．２９溶に！ｉ、Ｃ４
（実施例２ａ、Ａにより得る）　　　１６９４−アクリ
ロイルオキシ−１，２，２，６゜６−ペンタメチルピペ
リジン　　　　　　　　１３？アゾジイソブチロニトリ
ル　　　　　　（Ｌ８ｊ’からなる混合物を１度に全て
添加し、並びに該混合物を還流下で約３０分間煮沸する
（第１回重合段階）０以下の混合物： メチルメタクリレート　　　　　１８４．８？メタクリ
ル酸　　　　　　　　　　　１．９Ｆグリシジルメタク
リレート　　　　　１．９ｆアゾジイソブチロニトリル
　　　　　２．５２ジメチルアミノエタノール　　　　
　α４Ｆ溶液Ｃ４（実施例２ａ、Ａによ り得る）　　　　　　　　３ａ８ｐ及び４−アクリロイ
ルオキシ−１゜ ２．２，６．６−ペンタメチル ピペリジン　　　　　　　　　　　　　　　４．５２を
まだ還流下で上記の透明な溶液に３時間以内に滴下する
（第２回重合段階）。反応の進行に伴い１反応混合物の
粘度は増加する。滴下後。 約１５０−の溶媒混合物を内部温度を約１４０℃に上げ
て留去する。これにより約４５係の固形分ヲ有する均質
なポリメタクリレートミクロ粒子分散系を得て、これは
総固形分に対して約２チの光安定剤（４−アクリロイル
オキシ−１，２゜２．６．６−ペンタメチルピペリジン
）全含有する（分散糸Ｇ＋　）。 実施υ１１４ｂ ４−アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−べ／タ
ッチルビベリジン０１１（第１回重合段１着ン及び２．
３　ｆ　（第２回重合段階）を用いること以外は実施例
４ａの手順を正柿に行なう。こＣにより称固形分に対し
て約１係の光安定剤全含有する約４５％ポリメタクリレ
ートミクロ粒子分散系を得る（分散系Ｇ２）０ 実施例４ｃ ４−アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタ
メチルピペリジン１．２　ｆ　’ｉ用いる（２回のｐｆ
合段階にわたって分散する）こと以外は実施し１１４３
の手Ｊｌｉを正確に行なう０これにより総固形分に対し
て約１５％の光安定剤全含有する約４５係ポリメタクリ
レートミクロ粒子分散系を得る（分散系Ｇ３）。 実施例４ｄ ４−アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ベンタ
メテルピベリジンーｉ　ｃＬ２４　ｔのみ用いる（２回
の重合で分けるンこと以外は実施例４ａの手順を正確に
行なう。これにより総固形分に対して約α１％の光安定
剤を含有する約４５チボリメタクリレートミクロ粒子分
散系を得る（分散系Ｇ４）０ 系の製造 ■５ｏｌｖｅｓｓｏ　１００　（アルカン混合物、ｄ＝
α８５、沸点１６２−１７７℃）１４２ｍ／、ヘキサン
４６ｔｎ！及びトルエン２５２ｍ１を温度計、攪拌器、
蒸留ブリ忌 ソジ、窒素ガスシール連接及び滴下ろうと付きの７５０
−スルホン化フラスコに入れる。混合物を窒素下で還流
するために加熱する。（約９４℃） メチルメタクリレート　　　　　　　　９．７ｔメタク
リル酸　　　　　　　　　　　　０２を溶液’＋　（実
施例１ａ、Ａにより得る）　　五６？４−アクリロイル
オキシ−１，２，２゜６．６−ペンタメチルピペリジン
　　　　　　α３２アゾジインブチロニトリル　　　　
　　０．８２からなる混合物を１度に全て添加し、並び
に該混合物を

【す流下で約３０分間煮沸する（第１回１
「合段階）０以下の混合物： メチルメタクリレート　　　　　１８４．８Ｆメタクリ
ル酸　　　　　　　　　　　１．９２グリシジルメタク
リレート　　　　　１．９２アゾジイソブチロニトリル
　　　　　λ５２ジメチルアミノエタノール　　　　　
α４ノ及び浴液Ｃ＋　（実施例１ａ、Ａによ り得る）　　　　　　　　　　３ａ８ｔを還流下で上記
の透明な溶液に３時間以内に滴下する（第２回重合段階
）０反応の進行に伴い。 反応混合物の粘度は増加する。滴下後、約１５０−の溶
媒混合物を内部温度を約１４０℃に上げて留去する。こ
れにより約４５俤の固形分を有する均質で゛わずかに濃
厚なポリメタクリレートミクロ粒子分散系を得て、これ
はミクロ粒子の両親媒性部中に約２．５チの光安定剤（
４−アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタ
メチルピペリジン）を含有する（分散系Ｈ＋　）。 実施例５ｂ 更に０．ＩＰの４−アクリロイルオキシ−１゜２．２，
６．６−ペンタメチルピペリジンを第１回束合段階に加
え、並びに第２回重合段階にｚ５りを添加する以外は実
施例５ａの手ｒＭを正確に行なう。これにより固形分に
対して約１％の光安定剤全含有する４５チポリメタクリ
レ一トミクロ粒子分散系を得る（分散系Ｈ２）。 実施例５Ｃ 史にａ、Ｓｔの４−アクリロイルオキシ−１゜２．２，
６．６−ペンタメチルピペリジンを第１回重合段階に加
え、並びに第２回重合段階に２．３２を添加すること以
外は実施例５ａの手順を正確に行なう。これにより固形
分に対して約２係の光安定剤全含有する約４５％ポリメ
タクリレートミクロ粒子分散系を得る（分散系Ｈ２）。 実施例５ｄ 史に［］、４Ｆの４−アクリロイルオキシ−１゜２．２
，６．６−ペ／タメチルビベリジンを第１回山−合段階
に加え、並びに第２凹型合段階ＶＣ６，８？全冷カロす
ること以外は実施例５ａの手１１１を正確に行なう。こ
れにより凹形分に対して約３係の九安に？ｒｌＪを含有
する約４５係ポリメタクリレートミクロ粒子分散系金出
る（分散系）−１，Ｊ。 −％＃ｉｉタリ５ｅ 更に０．５２の４−アクリロイルオキシ−１゜２．２，
６．６−ペンタメチルピペリジノを第１四組合段階に加
え、並ひに第２回沖８段階に９．１２を添加すること以
外は実施ｆｊ１１５　ａの＋＋ｉａを正確に行なう。こ
れにより鯰固形分に対して約４憾の光安定剤を含有する
約４５係ポリメタクリレートミクロ粒子分散削を得る（
分散系Ｈ５）０分散系Ｈ２ないしＨ５において、光安定
４）１は両親媒性分散剤及び架橋ミクロ粒子コアー甲の
両方に存在する。 実施例６ａ Ａ０両親媒性分散剤の製造 メチルエチルケトン３７４Ｍ（ｉ−ｆｉ拌器、還流コン
デンサー及び窒素注入口付きの１．５ｔスルホン化フラ
スコに入れ、還流するために加熱する（８０℃）。以下
の混合Ｉ′ｙＪ：溶液Ｂ＋　（実施５１１ａ　、　Ａ＋
Ｉｌにより得る。）　　２１五５２ メチルメタクリレート　　　１８４？ メタクリル）タ　　　　　　　　２α５？゛　アゾジイ
ソブチロニトリル　　　２．１５　ｒ及びｎ−オクチル
メルカプタン　　　２．１５Ｆを２時間以内に滴下する
。 全ての混合物を添加した後、史にアゾジインブチロニト
リルα３２全除加し、該混＠物金史に２時間還流下で煮
沸する。その後浴叡ｉ　５８０Ｆの■５ｏｌｖｅｓｓｏ
　１００　（アルカン混合吻：沸点範囲１６２−１７７
℃）で希釈し、並びに約４０２の溶媒混合物を留去する
。これにより約３０ｑｂの固形分を有する溶Ｏ，全得る
（溶液Ｃｓ）。 Ｂ、　　光安定化ポリエステルミクロ粒子分散系の製造 イン７タル酸　　　　　　　　１２４．６２トリメチロ
ールグロバン　　　　６［１４Ｓ’ネオペンチルグリコ
ール　　　　９五６２２−〔２−ヒドロキシ−３−第 三プチル−５−（２−カルホキ シエチル）フェニルシーベンゾ トリアゾール　　　　　　　　　　　　９８′及びジプ
チル咳化スズ　　　　　　　　１２全温度ｇ丁、水分離
４、窒素ガスシール連接器及び滴下ろうと付の７５０−
スルホ／化フラスコに入れる。 その後混合物を１８０℃捷で加熱し、少量のキシレン異
性体を水を分離するための共留剤として内部温度を１８
０℃に維持しながらゆっくりと滴下する。五５時間後、
３２−の水をこの方法で除去する。内部温度を１９５℃
にゆっくりと上昇させる。その後透明な黄色の溶融体を
１４０℃に冷却し、アジピンｆｆ”９４．６ｔを添加す
る。該混合物音１６０℃に再び加熱する。 ■５ｏｌｖｅｓｓｏ　１００　２００−中の浴液６（実
施例６　ａ　ｓ　Ａから得る）５ｉ６ｆからなり、あら
かじめ１５０℃に熱した該浴液をその後添加し、混合物
を続いて速やかに攪拌しながら約１６５℃（還流）に加
熱する０２時間実施した後。 史に■５ｏｌｖｅｓｓｏ　１００　２０−中のＭ　Ｍ　
Ｃｓの２０２の溶液を滴下する。総置６０−の水１！ｒ
：除去した後、更に溶媒１５０−を醒去する。冷却抜、
約７５−８０％の固形分を有する均質なポリエステルミ
クロ粒子分散系を得て、それは固形分に対して約６％の
ベンゾトリアゾール光安定剤を含有する（分散剤Ｊ＋）
。 実施例６ｂ ２−〔２−ヒドロキシ−５−第三ブチル−５−（２−カ
ルボキシエチル）−フェニル〕−ベンゾトリアゾールの
代わりに総、’、ｉ：　９．７５　Ｆの２−〔２−ヒド
ロキシ−５−第三プチル−５−（２−メトキシカルボニ
ルエチル）−フェニル〕−ベンゾトリアゾールを便用す
ること以外は実施例６ａの手順を正確に実施する。これ
により固形分に対して約３％のベンゾトリアゾール光安
定剤全含有する約７５−８０％のポリエステルミクロ粒
子分散系を得る（分散糸Ｊ２）０ 実施例６Ｃ ２−〔２−ヒドロキシ−６−第三ブチル−５−（２−カ
ルボキシエチル）−フェニルシーベンゾトリアゾールの
代わりに以下の成分ａ）ないしＣ）からなる混合＊Ｊｋ
　ａ）　：　ｂ）　：　Ｃ）が５０：３８：１２で使用
すること以外は実施例６ａの手順を正確に実施する。 ａ）ポリエチＬ／７グリーｙ　−ル５００β−〔３−（
２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキ
シ−５−第三プチル−フェニル〕−フロビオネート ｂ）　　ポリエチレングリコール５００　ビス−（β−
（：３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４
−ヒドロキシ−５−第三ブチル−フェニルツープロピオ
ネート） Ｃ）ポリエチレングリコール　３００ これにより飴固形分に対して約２係のベンゾトリアゾー
ル光安定剤を含有する約７５−８０４のポリエステルミ
クロ粒子分散系を得る（分散系Ｊ３）。 ２−〔２−ヒドロキシ−３−第三プチル−５−（２−カ
ルボキシエチル）−フェニルシーベンゾトリアゾールの
代わシに６．５ｔの２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ジ
ー（α、α−ジメチルベンジ・ル）−７エニル〕−ベン
ゾトリアゾールを使用　、すること以外は実施例６ａの
手＋ｔａを正確に実施する。これにより固形分に対して
約２チのベンゾトリアゾール光安定剤を含有する約７５
−８０係のポリエステルミクロ粒子分散系を得る（分散
系Ｊ４ン。 実施例６ｅ ２−〔２−ヒドロキシ−３−第三プチル−５−（２−カ
ルボキシエチル）フェニルシーベンゾトリアゾールの代
わりに＆５ｆの２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ジー第
三アミル−フェニルシーベンゾトリアゾールを使用する
こと以外は実施例６ａの手順を正確に実施する。これに
よシ固形分に対して約２係のベンゾトリアゾール光安定
剤を含有する約７５−８０１のポリエステルミクロ粒子
分散系を得る（分散系Ｊｓ）。 実施例７ａ 光安定化ポリメタクリレートミクロ粒子分散系の製造 ”　５ｏｌｖｅｓｓｏ　　１００　（ア／ｌ／　力ｙ混
合物、ｄ＝Ｑ、８５゜沸点１６２−１７７℃）１４２ｍ
／、ヘキサン（ｄ＝α６５９）４６ｍ／！及びトールエ
ン２３２ｍ／（ｄ＝１８７１）を温度計、攪拌器、窒素
ガスシール連接器及び簡下ろうと付きの７５０−スルホ
ン化フラスコに入れる。混合物を還流するために加熱す
る（約９０℃）０ メチルメタクリレート　　　　　　　　　９．７？メタ
クリル酸　　　　　　　　　　　　α２？アゾジイソブ
チロニトリル　　　　　　α８？溶液Ｃｓ　（実施例６
ａ、Ａによ り得る）　　　　　　　　５．６９及び２−（２−ヒド
ロキシ−５−第三プチ ル−５−［２−（２−アクロイルオキ シシクロへキシルオキシカルボニルン ーエチル〕−７エニル）−ベンゾトリ アゾール　　　　　　　　　　　　　　　４．８ｔから
なる溶液を添加し、該混合物を還流下で約５０分間煮沸
するとわずかに混濁する０その後。 以下の混合物を３時間以内に添加する。 メチルメタクリレート　　　　１８４．８ｆメタクリル
岐　　　　　　　　　　１．９ｔグリシジルメタクリレ
ート１．９ｆ アゾジイソブチロニトリル　　　　２．５２静液Ｃ４（
実施例６ａ、Ａによ り得る）　　　　　　　　５ａ８を及びジメチルアミノ
エタノール　　　　ｌ１１４？滴下の進行に伴い、反応
混合物は更に粘性金増す。滴下後、約１５０−の溶媒混
合物を内部温度約１００℃、シな温を１４０℃にして留
去する０こ几により約４５チの固形分を有する均質なポ
リメタクリレートミクロ粒子分散系を得て、これば約固
形分に対して約２係のベンゾトリアゾール光安定剤を言
む（分散糸に＋）。 ここでｔ己載された２−ヒドロキシ−フェニル−ベンゾ
トリアゾール誘導体の代わりに４．８１の２−（２−ヒ
ドロキシ−６−第三ブチル−５−（２−（２−アクリロ
イルオキシエチルアミノカルボニル）−エチルクーフェ
ニル）−ベンツトリアゾールを用いること以外は実施例
７ａに指示したような手順を正確に行なう０これにより
約固形分に対して２チのベンゾトリアゾール光安定４）
１　’ｅ金含有る均質な約４５係ポリメタクリレ−２ク
ロ粒子分散系を得る（分散系に２　）。 実施例７　ｃ’ ここで記載された２−ヒドロキシ−フェニル−ベンゾト
リアゾール誘導体の代わりに４．８２の２−（２−ヒド
ロキシ−３−第三プチル−５−（２−（２−アクリロイ
ルオキシプロピルアミノカルボニル）−エチル）　−７
ｘニル）−ベンゾトリアゾールを用いること以外は実施
例７ａに指示したような手１１１　ｆ正確に行なう０こ
れにより約固形分に対して２係のベンゾトリアゾール光
安定剤を含有する均質な約４５％ポリメタクリレートミ
クロ粒子分散系を得る（分散系に３）Ｏ実施例７ｄ ここで記載された２−ヒドロキシ−フェニル−ベンゾト
リアゾール誘導体の代わりに４．８２の２−（２−ヒド
ロキシ−３−第三プチル−５−［２−（２−アクリロイ
ルオキシプロピルオキシカルボニル）−エチル］−フェ
ニル）−べ／ソトリアゾールを用いること以外は実Ｍ（
ｎｌ１７ａに指示したような手１１Ｍを正確に行なう。 これにより約固形分に対して２係のベンゾトリアゾール
光安定剤を含有する均質な約４５係ポリメタクリレート
ミクロ粒子分散系を得る（分散系塙）。 実施例７ｅ ここで記載された２−ヒドロキシ−フェニル−ベンゾト
リアゾール誘導体の代わりに４．８２の２−（２−ヒド
ロキシ−３−第三プチル−５−（２−（２−アクリロイ
ルオキシ−５−ｎ−ブトキシ−プロピルオキシカルボニ
ル）−エチルクーフェニル）−ベンゾトリアゾールを用
いること以外は実施例７ａに指示したような手順を正確
に行なう。これにより約固形分に対して２係のベンゾト
リアゾール光安定剤を含有する均質な約４５係ポリメタ
クリレートミクロ粒子分散系を得る（分散系Ｋｓ）。 実施例７ｆ ここで記載された２−ヒドロキシ−フェニル−ベンゾト
リアゾール誘導体の代わりに４．８２の２−４２−ヒド
ロキシ−３−（２，５−エポキシプロビル）−５−メチ
ル−フェニルクーペンツトリアゾールを用いること以外
は実施例７ａに指示したような手順を正確に行なう。こ
れにより約固形分に対して２％のベンゾ）　ＩＪアゾー
ル光安定剤を含有する均ノ庶な約４５％ポリメタクリレ
ートミクロ粒子分散系全得る（分散系Ｋａ）。 実施例７ｇ ここで記載された２−ヒドロキシ−フェニル−ベンゾト
リアゾール誘導体の代わりに４．８２の２−（２−ヒド
ロキシ−３−第三プチル−５−（２−（２−ヒドロキシ
−３−アクロイルオキシ−フロビルオキシカルボニル）
−エチルクーフェニル）−ベンゾトリアゾールを用いる
こと以外は実施例７ａに指示したような手順を正確に行
なう。これにより約固形分に対して２係のベンゾトリア
ゾール光安定剤を含有する均質な約４５係ポリメタクリ
レートミクロ粒子分散系を得る（分散系に７）０ 実施例７ｈ ここで記載された２−ヒドロキシ−フェニル−ベンゾト
リアゾール誘導体の代わりに４．８２の２−（２−ヒド
ロキン−３−［（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイル
オキシ）−プロピル〕−５−メチル−フェニル）−ベン
ゾトリアゾールを用いること以外は実施例７ａに指示し
たような手＋１ａを正確に行なう。これにより約固形分
に対して２係のペンシトＩＪアゾール光安定剤ヲ含有す
る均質な約４５幅ポリメタクリレートミクロ粒子分散系
を得る（分散系に８１゜ 実施例７１ ここで記載された２−ヒドロキン−フェニル−ベンゾト
リアゾール誘導体の代わりに４．８ノの２−〔２−ヒド
ロキ７−５　、５−ジー（α、α−ジメチルペ／ジル）
−フェニル−ベンゾトリアゾール音用いること以外は実
施り１］７ａに指示したような手順を正確に行なう０こ
れによυ総固形分に対して２％のベンゾトリアゾール光
安定剤を含有する均質な約４５％ポリメタクリレートミ
クロ粒子分散系を得る（分散系■＜４）。 実施）シリ　７　ｋ ここで記載された２−ヒドロキシーフェニルーペンズト
ＩＪアゾール誘導体の代わりに４．８２の２−（２−ヒ
ドロキシ−３，５−ジー第三アミル−フェニルシーベン
ゾトリアゾールを用いること以外は実施例７ａに指示し
たような手）１−を正確に行なう。これにより飴固形分
に対して２チのベンゾ）　ＩＪアゾール光安定４）ヲ含
有する均質な約４５係ポリメタクリレートミクロ粒子分
散系を得る（分散系に＋ｏ　）　。 実施例７ｔ ここで記載された２−ヒドロキシ−フェニル−ベンゾト
リアゾール誘導体の代わりに４．８２の以下に示す成分
ａ）ないしＣ）からなる混合物をａ）：　ｂ）：　ｃ）
が５０：３８：１２の割合で使用すること以外は実施例
７ａに指示したように正確に行なう０　： ａ）ポリエチレングリコール５００β−（３−（２Ｈ−
ベン７”　）　ＩＪアゾール−２−イル）−４−ヒドロ
キシ−５−第三ブチル−フェニルツープロピオネート ｂ）　　ポリエチレングリコール５００　ビス−（β−
（：３−（２）（−ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４−ヒドロキシ−５−第三プチル−フェニルツープロピ
オネート） Ｃ）ポリエチレングリコール３００ これにより総固形分に対して約２係のベンゾトリアゾー
ル光安定剤を含有する約７５−８０％のポリエステルミ
クロ粒子分散５モを得る（分散系　Ｋ１１ンＯ 実施例８ａ Ａ１両親媒性分散剤の製造 メチルエチルケトン７４−を温度計、攪拌器、還流コン
デンサー及び窒素ガスシール連接器付ｆｉ）３５０．７
スルホン化フラスコに入れ、還流温度（約８０℃）に加
熱する。２時間かけて。 メチルメタクリレート　　　　　　２９．３９メタクリ
ル酸　　　　　　　　　　五２５２ＭＱＢ＋（実施例１
ａ、Ａ■より得る）　　　３４．２？アゾジイソブチロ
ニトリ化　　　　　　α４２及びからなる浩液を砲加す
るＯその後、更にアゾジイソブチロニトリル０．１ｒを
ｑ＞加し、該混合物を更に２時間還流下で沸騰させる０
１０ローの＠５ｏｌｖｅｓｓｏ　１００　（アルカン混
合物、沸点１６２−１７７℃）を姫加し、その粘性溶液
全冷却する（浴液Ｃ６）。 Ｂ、光安定化ポリメタクリレートミクロ粒子分散系の製
造 ５ｏｌｖｅｓｓｏ　１００　（アルカン混合物、沸点１
６２−１７７℃）　１４２ｄ、ヘキサン４６−及びトル
エン２３２ゴを温度計、攪拌器、水分離器、７素ガスシ
ール連接器及び滴下ろうと付きの７５０＃！７！スルホ
ン化フラスコに入れる。この混合物を還流温度（約９０
℃）に加熱する。その後、メチルメタクリレート　　　
　　　　　９，７ｆメタクリル酸　　　　　　　　　　
　α２ノ了ゾジイソブチロニトリル　　　　１．８？及
び溶心Ｃ６（実施例８ａ、Ａにより得る）　　５６ノか
らなる溶冴を添加する。該混合物を還流下で約３０分間
煮沸すると白濁を生じる。５時間で、更に以下の混合物
を添加する。 メチルメタクリレート　　　　　　１８４．８ｙメタク
リル酸　　　　　　　　　　　１．９２グリシジルメタ
クリレート　　　　　１．９９アゾジイソブチロニトリ
ル　　　　　２．５２溶冴ｃ６３ａＥｌ及び ジメチルアミンエタノール　　　　　０．４）象加の進
行に伴い、反応混合物は、史に粘質になる。ｇ８ｉ下後
、約１５０Ｍの溶媒混合物を内部γ晶度を約１００℃、
　溶幅度１４０℃にして留去する。これにより總固形分
に対して２％のベンゾトリアゾール光安定剤を含有する
均粕な約４５係ポリメタクリレートミクロ粒子分散系金
得る（分散糸Ｌｌ　）。 Ａ、ここで用いたベンゾ）　＋７アゾ一ル誘導体の代わ
りに２７．４ｆの２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブチ
ル−５’−（２−（２−アクリロイルオキシエチルアミ
ノカルボニル）−エチルクーフェニル）−ベンゾトリア
ゾールを用いる以外は、実施例８ａＳＡの手順を正確に
行うと、溶液Ｃ７を得る。 Ｂ、溶ＱＣ６の代わりに溶敢Ｃ７を用いる以外は、実施
例８ａ１Ｂを正確に行う。これにより、総固形分に対し
て２％の量で上記に記述したベンゾトリアゾール光安定
剤を含有する約４５％ポリメタクリレートミクロ粒子分
散系を得る（分散系Ｌ２　）。 Ａ、ここで用いたベンゾトリアゾール誘導体の代わりに
２７．４７の２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−
５−（２−（２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシ
グロビルオキ７カルボニル）−エチルクーフェニル）−
ベンツトリアゾールを用いるり外は、実施例８ａ、Ａを
正確に行うと、浴融Ｃ８を得る。 Ｂ、溶液Ｃ６の代わりに溶ｉｆ　Ｃｓを用いる以外は、
実施例８ａ、Ｂを正確に行う。これにより、総固形物に
対して２％の量で上記に記述したベンゾトリアゾール光
安定剤を含有する約４５％ポリメタクリレートミクロ粒
子分散系ｋ　４４る（分散系Ｌ！　）。 実施例　９ 土 イノフタル酸　　　　　　　　　１２４．６ｆトリメチ
ロールプロパン　　　　　　　６ｃＬ４ｆネオペンチル
グリコール　　　　　　　９５．６７ジブチル酸化スズ
（０，５モル％）　　　　　１ｔ　　及Ｕ２−〔２−ヒ
ドロキシ−３−２ｐ、三ブチル　　　　９７５７−５−
（２−刀ルボキシエチル）−フェニルクーベンゾトリア
ゾール を＋ＡＡ度計、滴下ろうと、攪拌器及び水分離器付きの
７５０１スルホン化フラスコに入れ、該混合物を少量の
キシレン（異性体混合物）と共に１８０℃に加熱する。 ５７４時間で、内部温度を約１９５℃に上昇させて約５
６ｒｒｔｌの水を水分離器中に除去する。その後透明な
溶融体を１４０℃に冷却する。次いで９４．６９のアジ
ピン酸を添加する。全物質が溶Ｗｌ’Ｅ　したとき、該
混合物を内部温度１６０℃に加熱する。攪拌を終了して
、ｏＳｏｌｖｅｓｓｏ　１００　２０ＯａＪ中の５五６
２の溶ＷＣ＋（実施例１ａ、Ａにより得る）をあらかじ
め１５０℃に加熱して、その後添加する。速やかに攪拌
しながら、該混合物を再び１ｉ−１６５℃（還流）に加
熱する。２時間以内で、更にｏＳｏｌｖｅｓｓｏ　　１
００　２０　ｍ／中に溶解している２０７の溶液Ｃ１を
その後ゆっくりとｌ画工する。総量６０ｒｕｌの水を除
去したらすぐに、更に１５０尻εの溶媒混合物を留去し
、反応を終了する。 これにより総固形分に対してそれぞれ約ＣＬＺチのアミ
ノ光安定剤（４−アクリロイルオキシ−１，２，２，６
，６−ペンタメチルピペリジン）及び３％のベンゾトリ
アゾール光安定剤を含有する均質な約７５−８０％ポリ
エステルミクロ粒子分散系を得る（分散系Ｍ＋　）。 実施例１０ 光安定化ポリメタクリレートミクロ粒子分散系の製造 ’５ｏｌｖｅｓｓｏ　　１００　　（アヤ力７混合物、
ｄ−ａ８５、沸点１６２−１７７℃）１４２罰、ヘキサ
ン４６ｒＰＬｅ及びトルエン２３２ｍ１を攪拌器、温度
計、水分離器、窒素ガスシール伸接′５ｂｏ：滴下ろう
ト付キの７５０ｍ１スルホン化フラスコに入れる。 混合物を蹴流温度（約９０℃）に加執する。 メチルメタクリレート　　　　　　９７１メタクリル酸
　　　　　　　　　　ｌ１１２１アゾシイノブチロニト
リル　　　　　　０．ｓＳ’　　及Ｕ溶０ＣＲ（￥施ｆ
ｌｉ１ａ、Ａにより得る）　５０７２−（２−ヒドロキ
ン第三−第三プチル　　　４，８）−５−［２−（２−
アクリロイルオキシノクロへギシルオギ７カルボニル）
−エチル］−フェニル）−ヘンシトリアゾールを添加し
、並びに金物刊を葆流下で約３０分量論２する。更に以
下の成分 メチルメタクリレ−）　　　　　　　　１８４．８９メ
タクリル酸　　　　　　　　　　１９ツクリシジルメタ
クリレート　　　　　　　１９１アゾジイソブチロニト
リル　　　　　　２．５２ｆｆｉ沿ｃ１（実施例１ａ、
Ａにより得る）５０．ｏｒ　　＆Ｕジメ千シルアミノエ
タノール　　　　　０，４）ケ３時間匂、内に滴下ろう
とからｔ滴下する。滴下の進行に伴い、反応混合物は史
に粘質になる。 滴下後浴篇を約１４０℃にして、１５０酎の溶媒混合物
を内部温度約１００℃で貿去する。これにより、総同形
分に対して約２％のアミン光安定剤及び約２％ペンシト
＋７アゾール安定剤を含有する約４５％の均質なホ１１
メタクリレートξクロ粒子分散系を得る（分散糸Ｎ＋　
）。 ここで記述した２−ヒドロキシ−フェニル−ベンシトＩ
＋アゾール誘橋体の代わりに実施例７ｂ−７１１中で１
史用されている４、８１の２−ヒドロキシフェニル−ベ
ンゾトリアゾール−ｔ−’すれぞｎの場合に用いる以外
は実施例１０ａに示されたように竹なうと、４５％ポリ
メタクリレートミクロ粒子分散系Ｎ２ないしＮ８を得る
。 実施例１１ 糸の製造 ”Ｓｏ！ｖｅｓｓｏ　１００　１４２ｍ１．　ヘキ＋ン
４６ｒａｌ及びトルエン２３２流ｅを攪拌器、温度計、
水分離器、窒素ガスシール連接器及び滴下ろうと付きの
７５０酎スルホン化フラスコにそれぞれ入れる。 混合物を還流するために加熱する（約９０℃）それぞれ
の場合に、以下の成分の溶液を添加する。 メチルメタクリレート　　　　　　９．７ｐメタクリル
酸　　　　　　　　　　α２２アゾジイソフ゛チロニト
リル　　　　０．８７及び射計Ｃ６、Ｃ７もしくはＣａ
１（それぞれ実施例　　五６２８ａ％Ａ、　Ｆ３ｂ、Ａ
または８ｃ、Ａによりイ（する、　　　） ５に混合物ｋ　Ｒｒｄｉ下で約５Ω分間煮沸すると、わ
ずかに混濁する。以下の成分の溶液をその後３１１１間
以内に７勃下ろうとがら２鈴下する。：メチルメタクリ
レート　　　　　１８４．Ｅｌメタクリルｒ＊１．９９ グリソジルメタクリレート　　　　１，９ｔアゾジイン
ブチロニトリル　　　　２．５２溶淋Ｃ６、Ｃ７もしく
Ｉｆ−１ｃｓ（それぞれ実Ｍ　　　３８８℃例８ａ、Ａ
１８ｂｓ　　Ａもしくは８Ｃ％Ａから得る。） ジメチルアミンエタノール　　　　　　０４ノ及び４−
アクリロイルオキシ−１，２，２，２，２７６，６−ペ
ンタメチルピペリジン 、し反応混合物は時ｊ）１１とともにより粘質になる。 尚下稜、浴温を約１４０℃にして、約ｊ５０ｍの溶媒混
合物を留去する。これによりそれぞれ分散系の総的形分
に対して約１＆−チのアミン光安定剤及び約２％の特別
なベンゾトリアゾール光安定剤を含有する約４５％の均
質なホリメタクリレートミクロ粒子分散系を得る（分散
系Ｐ、、　Ｐ２及びＰｓ　）。 造 アルカン混合物（５ｏｌｖｅｓｓｏ　１００．　１２　
Ｃ５ｆ沸や範囲１６２−１７７℃） 溶液Ｃ４（実施例２ａ、Ａより得る）　　　　　　ｑａ
、ｓｙ無水フタル酸　　　　　　　　　　　１９２．Ｏ
ｆテトラブチルオルトチタネート　　　　　　　０．３
１をタービン攪拌器、水分離器及び窒素ガスシール弾接
器付きの７５０１１スルホン化フラスコに入れる。混合
物を窒素下で並びに速やかに攪拌しながら約１５０℃に
加熱すると、無水フタル酸が溶解して、溶媒中で乳濁す
る。以下の混合物：トリメチロールプロパン　　　　　
　３５，０グ１．４−ブタンジオール　　　　　　　７
９８ノ１．６−ヘキサンジオール　　　　　　　＆８ノ
及び４−ヒドロキシ−Ｎ−ヒドロキシエチル　　　４．
５２−２．　２．　６．　６−テトラメチルビペリジン の捷ず半分をその後添加し、並びに全物質をＥＨ流する
ために加勢する。混合物の残りの半分を２時間以内で反
応混合物に添加する。その後、反応混合物ＩＪ水を分離
して更に１６時間、還流下で煮沸する。これにより２０
”９　ＫＯＨ／ｒの酸価を有する白色で不透明な安定し
た分散系を得る。 溶媒４０７を留去した後、これにより約７０チの固形分
のポリエステルミクロ粒子分散系を得て、これは、固形
分に対して約１．０％のアミン光安定剤を含有する（分
散系Ｑ、　）。 ３．５２の該４−ヒドロキシ−Ｎ−ヒドロキシエチル−
２，２，６，６−テトラメチルービペリジンの代わりＫ
この化合物７．　Ｏｆ　ｆ使用すること以外は実施例１
２ａに記述されている手順を正確に行なう。これにより
約７０係の固形分のポリエステルミクロ粒子分散系をイ
（＾て、これは固形分に対して約２．０％の光安定ｉｌ
ｌを含有する（分散糸（ｈ　）。 実施例１３ ヘプタン（異性体混合物）　２６０ｍを攪折器、温度計
、還流コンデンサー、窒素ガスシール連接器及び滴下ろ
うと付きの７５０ｒａｌスルホン化フラスコに入れ、還
流温度（９５−９９℃）に加熱する。以下の溶液： メチルメタクリレート　　　　　２７．１タアゾジイソ
ブチロニトリル　　　　２．１２及び溶液Ｃａ（実施例
２ａ、Ａより得る）　　　　９９２を最初の混合物に添
加する。添加後、この溶液を５０分間窒素下で反応させ
る。その後、以下の溶液を３時間以内で滴下ろうとから
反応混合物に滴下する。： メチルメタクリレート　　　　　１２４．６！？アリル
メタクリレート　　　　　　　五９２アゾジインブチロ
ニトリル　　　　　１．７ｔ溶ｍ　Ｃ４（ＷＭ例２ａ、
Ａにより得る）　　　２６．６２及び４−アクリロイル
オキシ−１，２，２，４，５ｆ６．６−ペンタメチルビ
ペリシン 時間が経過すると、うすい白色懸濁液が形成する。これ
を約１時開戸流下で攪拌する。ヘプタン９５ｍをその後
添加する。更に以下の溶液を１時間ｐＪ内で滴下ろうと
から＠下する。二メチルメタクリレート　　　　　　１
９３？ブチルアクリレート　　　　　　　ｊ６．１ｆヒ
ドロキシエチルアクリレート　　　１α２１アクリル酸
　　　　　　　　　　　　６．２２アゾジイソブチロニ
トリル　　　　０．３５９及び溶ａ’１ｃａ（実施例２
ａ、Ａより得る）　　　　１１８１滴下後、白色懸濁を
最後に１時間榛拌する。 これにより総固形分に対して約２％の光安定剤を含有す
る約４５俤ポリメタクリレートミクロ粒子分散系を得る
（分散系Ｒ＋　）。 １３．２　　水中でのミクロ粒子分散系の製造水５６２
ｘ１１ブト＊　シｘ　ｐ　／−ル５７．２ｒｔｔｌ及び
ジエチルアミノエタノール６　ｒｒｔｌを攪拌器、温度
計、潮下ろうと及び蒸留ブリッジ付きの１ｓｍビグルー
（Ｖｉｇｒｅｕｘ　）カラムを備えた１、５ｔのスルホ
ン化フラスコに入れ、該混合物を素速く攪拌しなから４
５−５０℃に加熱する。４５−６０分以内で、４６５．
２９のミクロ粒子分散系Ｒ１を、全てのへブタンをすぐ
に留去するようにわずかな減圧下で簡下ろうとから流し
込む。いくらかの水もオた共沸して留出物になる。これ
より約３０−３２％の固形分を有する光安定性ミクロ粒
子のりすい白色水性分散系を得る（分散系ＷＲ１）。 実施例　１４ 溶液Ｃ４の代わりに光安定化溶＊＋　Ｃ，（実施例８ａ
、Ａより得る）を用いること、並びに光安定剤（４−ア
クＩＪ　Ｃフィルオキシ−１，２，２，Ａ。 ６−ペンタメチルピペリジン）を添加しないこと以外は
実施例１３１に記載されている手順を正６゛１〆に行な
う。これにより総固形分に対して約２係のベンゾトリア
ゾール光安定剤全含有する。約４５％ポリメタクリレー
トミクロ粒子分敢糸をイ′する（分散系Ｒ２）。 Ｒ２の代わりに分散糸Ｒ２ヲ用いること以外は実施例１
３．２で詳にｉｌｌに記ｒｌｉｙ　ｌ、たよりな手１１
１＋１を正確に行なう。これも１占＋ｂｔに約３０−３
２％水性ミクロ↑ｑ子分散糸（分散系ＷＲｚ　）を得る
。 ＝Ｉイ廁例　１５ １５．１　　光安定化両親媒性分散系の製造４−ア°ク
リ口イルオギシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピ
ペリジンＩＣＬ４Ｓ’の代わりに５９７用いる以外は実
施例１ａ％Ａ…と同様の千舶を行なう。これにより固形
分に基づいて計算１〜で約１！Ｌ１％の光安定剤を含有
する約３０％溶液を得る（溶液Ｃ７゜）。 溶液Ｃ４の代わりに上記で得た溶層ＣＩＯを用いて、並
びに光安定剤（４−アクリロイルオキシ−１゜２、２．
６．６−ペンタメチルピペリジン）を添加しないこと以
外は実施例１！Ｌ１に記述した手１；ｆ（を正確に行な
う。これにより総固形分に７・↑して約１％の光安定剤
を含有する約４５％ポリメタクリレートミクロ粒子分散
糸を得る（分散系Ｒ３）。 この手＋１１１は、分散系Ｒ，の代わりに分散系Ｒ３を
使用して実施例１３．２に詳刊１に記載されたように正
確に行なう。これにより同様に約３０−３２％水性光安
定性ミクロ粒子分散系（分散系ＷＲ３）を得る。 実施例　１６ 溶ＲＣ４の代わりに実施例１５．１により得られた溶液
ｃ１ｏを用いる以外は実施例１３．１に記述した手順を
正確に行なう。これにより総固形分に対して約３％の光
安定剤を含有する約４５％ミクロ！υ子分散系を得る（
分散糸Ｒ４）。 分散糸Ｒ，の代わりに分散系Ｒ４を便用して、実施例１
！Ｌ２に詳細にｔヒ述した手順と同様に行なう。 これにより約５０−５２％水性光安定性ミクロ　ｆＱ子
分散糸（分散系ＷＲ４）を得る。 実施例　１７ ｋＩ沿Ｃ４の代わりに溶Ｑ　Ｃ，（実施例８ａ、Ａによ
り得る）を用いること以外は実施例１五１に記載した手
順に従ってＩＰ確に行なう。これにより総固形分に１ｔ
シてそれぞれ約２係のペンシトＩ＋アゾール及びアミン
光安定剤を含有する４５％ポリメタクリレートミクロ粒
子分散系をイ（）る（分散系Ｒｓ　）。 １１２　　水中でのミクロ粒子分散系の装造分散系Ｒ３
の代わりに分散系Ｒ５を使用して実施例１五２に詳細に
記載した手順を行なう。これにより約３０−３２％の水
性光安定化ミクロ粒子分散系（分散系ＷＲ５）を得る。 実施例１８ この手１１１を溶液Ｃ４の代わりに上記に記載した溶層
Ｃｏｏ　（実施例１５．１により得る）を用いて、並び
に４．５２の４−アクリロイルオキシ−１，２゜２、６
．６−ペンタメチルピペリジンの代わりに４．５２の２
−【２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−［”　２−
　（２−アクリロイルオキシシクロへキシルオキシカル
ボニル）−エチルクーフェニル）−ベンゾトリアゾール
を用いること以外は″ｆ＃施例１３．１に記載したよう
に正確に行なう。 これによりそれぞれ総固形分に対して約１％のアミン光
安定剤（４−アクリロイルオキシ−１゜２、２．６．６
−ペンタメチルピペリジン）及び約２％の用いられたベ
ンゾトリアゾール光安定剤を含有する約４５％ポリメタ
クリレートミクロ粒子分散系を得る（分散系Ｒｓ　）。 分散糸均の代わりに分散系Ｒ６を用いて、実施例１五２
に詳細に記ｉ１＊　したのと同様の千１．痘を行なう。 これにより約３０−３２％の光安定化ミクロ佼子の光性
分散系（分散系ＷＲ６）を侍る。 実願例　１９ 反応性布釈剤の製造 オレイン酸（工業相）　　　　　　　１４）ｙトリメチ
ロールグロパン　　　　　　　６７ｆアジピン酸　　　
　　　　　　　　９１７及び１、６−ヘキサンジオール
　　　　　５９７を帝拐−器、窒素注入口及び水分離器
付きの７５０ｍ１スルホン化フラヌコに入れる。 この混合物を１９０℃に加熱し、水共留剤としてのトル
エンを１９０℃のτ品度を維持するように８時曲以内で
ゆっくりと、西下する、約４３２の反応水を留去する。 得られたエステルは固形分約９３俤である（溶液Ｅｌ　
）。 実施例２０ めの） ラウリルｎ？　４　Ｄ　Ｏ，６？　Ｅｚびトリメチロー
ルプロパン２６ａ４９を攪雇−器、窒素圧入口及び水分
な器付きの１．５１スルホンイヒフラスコに入れる。 この混合物を１９０℃に加絶し、並びに水共留剤として
のトルエンを１９０℃の温度金＋１［持するように８時
間以内にゆっくりと九功下する。無水コハク酸１００．
１　ｒをその後添加し、加熱を同じ条件で、更に８時間
続ける。イ０られたエステルは同）し公約９５係及び酸
価５　”Ｓ’　ＫＯＨ／ｒである。 （溶液Ｅ２　） ′μ勤作例１２ １施例１ｂ％Ｂにより得たポリエステルミクロ粒子分散
系Ｄ２をメラミン／ホルムアルデヒド［Ｆ］ 樹脂（Ｃｙｍｅｌ　　５０１　Ｃｙａｎａｍｉｄ　Ｃｏ
ｒｐ社製）と、固体比が１ｏ：１になるように混合する
。総固形分に対して０．２％のｐ−トルエンスルホン酸
を添加する。その結果中じた混合物は総固形分約７５俤
である。 こらして得られた被曖混合物を、噴精適性になるまでブ
チルグリコールアセテートで希釈しく更に、流動性助剤
を添加してもよい。）、準備シたアルミニウムシート（
コイル被〜、充填剤、シルバーメタリックベースコート
）　ＫＦ’ＪＴ、４し、１５０℃で３０分間焼付ける。 これによシ厚さ４０μｍの透明な被への乾燥した層を得
る。 比較のために、未安定化ミクロ粒子（光安定剤を使用せ
ずに製造した）を含有する被檀混合物を用いて、他の点
に関しては上記と同じ方法で製造し、かつ施用した。 ［Ｆ］ 試験片を促進屋内暴露（Ｕｖｃｏｎ暴露装箇、Ａｔ１ａ
ｓ　Ｃｏｒｐ、社製、４時間６ａ℃でＵＶ照射、４時間
５０℃で結％）及び屋外暴露（フロリダ、南位５°１ブ
ラックボックス中、加熱せず）による両方を試験する。 安定化試験片はより良好な”を沢保留性を有し、並びに
未安定化比較試験片よりも長い間亀裂を生じなかった。 実施例２２−２６ 分散系り、の代わりに分散系 Ｄ３（実施例１ｃ、Ｂにより得る。） Ｆ２　（実施例２ｂにより得る。） Ｆ３　（実施例３ａにより得る。） Ｆ４（実施例３ｂにより得る。）及び Ｊ＋　（実施例６ａによシ得る。） を用いる以外は実施例２１に示した手順を正確に行なう
。 促進基４試験の結果を以下に示す表１に記載する。それ
ぞれの場合において、２０°の光沢鴎）を測定し、亀裂
形成時間を測定する。 表１ 実施例　２７ ６ψイヒ性被八モ目成物の一喪造及び施用実施例１ｂ、
Ｂによって得られたポリエステルミクロ粒子分散糸Ｄ２
にメラミン／ホルムアル［Ｆ］ デヒドｒクツ脂（Ｃｙｍｅｌ　５０１Ｃｙａｎａｍｉｄ
　Ｃｏｒｐ、社製〕と実施例１９によりｉ４にられた反
応性希釈剤（溶ｍ　Ｅ＋　）　ｋ　３成分の固体比が９
：１．３：１になるように混合する。上ハ［：の固形分
に対してα４％のｐ−トルエンスルホン酸を混合物に添
加する。 このようにして得られ１１′９混合ｉ吻の施用、硬化及
び試、験は実施例２１に記述したように実施する。 分散系Ｄ２０代わりに分散系 り、　（実施例１０％Ｂにより得る） Ｆ、　（実施例２ｂにより得る） Ｆ３（実施例３ａにより得る） Ｆ４（実施例３ｂにより得る） を用いて実施例２７の手順を正確に行なう。 促進暴露試験の結果は以下に示す表２に記載するつそれ
ぞれの場合において、２０°の光沢鴎）を抑Ｉ定し、並
びに亀裂形成時間を測定する。 表２ 実施例　３２ 分散系Ｄ２の代わりに分散系り、　（実施例１ａ、Ｂよ
り得る）もしくはＦｌ（実施例２ａ、Ｂより得る）を用
いる以外は実施例２１もしくは２７と同様の手１；口を
行なう。得られたペイントフィルムは未安定化ミクロ粒
子を用いた場合よりも良好な光沢保留性を示し、並びに
亀裂をより長期間中じなかった。 実施例３３ それぞれの場合において分散系Ｄ２の代わりに分散系Ｇ
、ないしＧ４　（実施例４ａないし４ｄにより得る）、
ＨｌｆｒいしＨ５（実施例５ａないし５ｅにより得る）
、Ｊ＋ないしＩｓ　（実施例６ａないし６ｅにより得る
）、Ｋ１ないしに１１（実施例７ａないし７．Ｌにより
得る）あるいはり、ないしＬｓ　（実施例８ａないし８
ｃにより得る）を使用する以外は実施例２７と同様の手
順で行なう。得られたペイントフィルムは未安定化ミク
ロ粒子を用いた場合よりも良好な光沢保留性を示し、並
びて亀裂をより長期間中じなかった。 実施例３４ 硬化性ＰＵｋ被〜被成組成物造及び施用実施例１２ａに
よって得たミクロ粒子分散系Ｑ１をインシアネート樹脂
（’Ｄｅｓｍｏｄｕｒ　Ｎ　７５、Ｂａｙｅｒ　ＡＧ社
製）と固体比が１：１になるように混合する。総固形分
に対してα５％のオクタン酸亜鉛（８％溶液）を混合物
に添加する。 こうして得られた被覆組成物を噴修適性になるまでブチ
ルグリコールアセテートで希釈しくさらに、流動性助剤
を添加してもよい。）、準備シたアルミニウムシート（
コイル被接、充填剤、シルバーメタリックベースコート
）ニ噴霧し、１５０℃で３０分間焼付ける。これにより
厚さ約５０μｍの透明な被覆の乾燥したフィルムを得る
。 試験片を促進暴露により試験する。（’ＵｖｃｏｎＭ捲
装首、Ａｔ１ａｓ　Ｃｏｒｐ社製、４時間６０℃でＵＶ
照射、４時間５０℃で結露） 実施例３５ 硬化性ＰＵＲ被枠組枠組成物造及び施用実施例［ｆｉに
より得たミクロ粒子分散系Ｑ１を［Ｆ］ インシアネート樹脂（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ　Ｎ　７５、Ｂ
ａｙｅｒＡＧ社＃）と実施例２０により得た反応性希釈
剤（溶液Ｅ２）とを３成分の固体比が４：５：１になる
ように混合する。総固形分に対してα５−％のオクタン
酸亜鉛（８％溶液）を混合物に添加する。 こうして得た被１混合物の施用硬化、及び試験は、実施
例３４に記載したように実施する。 実施例３６ 分散系Ｑ】の代わりに分散糸Ｑ２（実施例１２ｂにより
？！する）を使用すること以外は実施例３４と同様の手
順を行なう。 実施例６７ 分散系Ｑ、の代わりに分散糸Ｑ２（実極例１２ｂよす１
↓する）を用いること以外は実施例３５と同様の手順を
行なう。 実砲例３８ 水性ミクロ粒子分散系ＷＲ，（実施例１五２より＜！＋
る）を水溶性メラミン樹脂（’Ｌｕｗｉｐａｌ　０６３
、ＢＡＳＦ社喪）と固体比が７：３になるように混合す
る。 得られた混合物を準備したアルミニウムシート（コイル
被接、光増剤、シルバーメタリックベースコート）に噴
霧し、そして焼付ける。これにより厚さ約５０μｍの透
明な抜枠の乾燥したフィルムを得た。 ［Ｆ］ 試＋ｈｔ片を促進暴露（Ｕｖｃｏｎ暴講装置、Ａｔ１ａ
ｓＣＯｒｐ、社製、４時間６０℃でＵＶ照射、４時間５
０℃で凝結）により試静をして、製造時に未安定化ミク
ロ粒子を使用し、同様の方法で処理された試呻片と比較
する。安定化試、９片は、未安定化比較試験片よりも良
好な光沢保留性及び亀裂を長期間生じなかった。 上述で使用されている分散系ＷＲ，を分散系ＷＲ２ない
しＷＲ６（実施例１４ないし１８により得る）に代えて
も同様の結果を得る。 特　許　出　　願　　人　　　チバーガイギーアクチェ
ンゲゼルシャフト

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）１種もしくは多種の異なったエチレン性モノ不飽
   和もしくはポリ不飽和モノマー化合物もしくは／及びポ
   リアルコール、ポリカルボン酸、ヒドロキシカルボン酸
   、ラクトン、アミノカルボン酸、アミノアルコール及び
   ポリアミンからなる群から選択された１種もしくはそれ
   以上の異なったモノマーから公知の方法で重合すること
   により得られる０．０１−２０μｍの粒度分布を有し、
   モノマーに対して１種もしくはそれ以上の光安定剤０．
   １ないし３０重量％を含有する光安定化ポリマーミクロ
   粒子。 （２）モノマーの重合の少なくとも一部が光安定剤の存
   在下で実施されることよりなる特許請求の範囲第１項記
   載のミクロ粒子。 （３）光安定剤がポリマーへの化学結合のために少なく
   とも１種の反応基を有することよりなる特許請求の範囲
   第１項記載のミクロ粒子。 （４）反応基がヒドロキシル基、カルボキシル基、エス
   テル基、アミド基、イソシアネート基、エポキシ基もし
   くはアミノ基、またはエチレン性二重結合である特許請
   求の範囲第３項記載のミクロ粒子。 （５）立体障害アミンからなる群からの少なくとも１種
   の化合物が光安定剤として用いられることよりなる特許
   請求の範囲第１項記載のミクロ粒子。 （６）用いられる光安定剤が少なくとも１種の次式 I
   ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒは水素原子もしくはメチル基を表わす。）で
   表わされる基をその分子中に含有する２，２，６，６−
   テトラアルキルピペリジン誘導体である特許請求の範囲
   第５項記載のミクロ粒子。 （７）光安定剤がＵＶ吸収剤である特許請求の範囲第１
   項記載のミクロ粒子。 （８）ＵＶ吸収剤及び立体障害アミンが光安定剤として
   用いられる特許請求の範囲第１項記載のミクロ粒子。 （９）ＵＶ吸収剤が２−（２−ヒドロキシフェニル）ベ
   ンゾトリアゾールの類に属するものである特許請求の範
   囲第１項記載のミクロ粒子。 （１０）ポリマーが縮合ポリマーである特許請求の範囲
   第１項記載のミクロ粒子。 （１１）縮合ポリマーがポリエステルである特許請求の
   範囲第１項記載のミクロ粒子。 （１２）ポリマーが付加ポリマーである特許請求の範囲
   第１項記載のミクロ粒子。 （１３）光安定剤がポリマー中で物理的もしくは／及び
   化学的に定着されていることよりなる特許請求の範囲第
   １項もしくは２項記載のミクロ粒子。 （１４）架橋コアー及びそれに重合した本質的に線状な
   いし枝分れポリマー鎖からなり、光安定剤がコアーもし
   くは／及びポリマー鎖中に含有されている特許請求の範
   囲第１項もしくは第２項記載のミクロ粒子。 （１５）１種もしくは多種の異なったエチレン性不飽和
   あるいはポリ不飽和モノマー化合物またはポリアルコー
   ル、ポリカルボン酸、ヒドロカルボン酸、ラクトン、ア
   ミノカルボン酸及びポリアミンからなる群から選択され
   たモノマーから公知の方法で重合により得られる ０．０１−２０μｍの粒度分布を有するミクロ粒子であ
   って、該重合がモノマーに対して０．１ないし３０重量
   ％の１種あるいはそれ以上の光安定剤の存在下で実施さ
   れ、並びに光安定剤がポリマーミクロ粒子中に物理的も
   しくは／及び化学的に定着されていることよりなる特許
   請求の範囲第１項記載のミクロ粒子。 （１６）１種もしくは多種の異なったエチレン性モノ不
   飽和あるいはポリ不飽和モノマー化合物または／及びポ
   リアルコール、ポリカルボン酸、ヒドロキシカルボン酸
   、ラクトン、アミノカルボン酸、アミノアルコール及び
   ポリアミンからなる群から選ばれた１種あるいは多種の
   異なったモノマーを公知の方法で、少なくとも得られた
   ポリマーの一部が架橋されるようにモノマーに対して１
   種あるいはそれ以上の光安定剤の０．１ないし３０重量
   ％の存在下で重合し、重合が数段階で行なわれるとき、
   少なくとも１重合段階が光安定剤の存在下で実施される
   ことよりなる、０．０１−２０μｍの粒度分布を有する
   光安定化ポリマーミクロ粒子の製造方法。 （１７）ａ）１種または多種の異なったエチレン化モノ
   不飽和あるいはポリ不飽和モノマー化合 物もしくは／及びポリアルコール、ポリカ ルボン酸、ヒドロキシカルボン酸、ラクト ン、アミノカルボン酸、アミノアルコール 及びポリアミンからなる群からなる１種も しくは多種の異なったモノマーを架橋重合 すること、 ｂ）本質的に線状ないし枝分れ鎖ポリマーを得るために
   ａ）で示された１種もしくはそ れ以上のモノマーを重合すること、 ｃ）ａ）で得られたポリマーにｂ）で得られたポリマー
   を重合すること（グラフトするこ と）よりなり、ａ）もしくはｂ）による重合あるいは両
   方の重合は、１種もしくはそれ 以上の光安定剤の存在下で実施され、並び に光安定剤の加入が同一もしくは異種であ る２種の重合段階で実施することが可能で あり、また総光安定剤量が両方の重合段階 でモノマーに関して０．１ないし３０重量％であり、か
   つ重合ａ）をｂ）で形成されたポリマーの存在下で完全
   にあるいは部分的に実 施することが可能である特許請求の範囲第 １６項記載の製造方法。 （１８）１種もしくは多種の異なったエチレン性モノ不
   飽和もしくはポリ不飽和モノマー化合物もしくは／及び
   ポリアルコール、ポリカルボン酸、ヒドロキシカルボン
   酸、ラクトン、アミノカルボン酸、アミノアルコール及
   びポリアミノからなる群から選択された１種もしくはそ
   れ以上の異なったモノマーから公知の方法で重合するこ
   とにより得られる０．０１−２０μｍの粒度分布を有し
   、モノマーに対して１種もしくはそれ以上の光安定剤の
   ０．１ないし３０重量％を含有する光安定化ポリマーミ
   クロ粒子及びポリマーミクロ粒子が本質的に不溶である
   少なくとも１種の溶媒からなる分散系。 （１９）溶媒として、水または脂肪族、脂環式もしくは
   芳香族炭化水素あるいはこれらの溶媒の混合物を含有す
   る特許請求の範囲第１８項記載の分散系。 （２０）被覆組成物の成分として使用される特許請求の
   範囲第１８項記載の分散系。 （２１）１種もしくは多種の異なったエチレン性モノ不
   飽和もしくはポリ不飽和モノマー化合物もしくは／及び
   ポリアルコール、ポリカルボン酸、ヒドロキシカルボン
   酸、ラクトン、アミノカルボン酸、アミノアルコール及
   びポリアミノからなる群から選択された１種もしくはそ
   れ以上の異なったモノマーから公知の方法で重合するこ
   とにより得られる０．０１−２０μｍの粒度分布を有し
   、モノマーに対して１種もしくはそれ以上の光安定剤の
   ０．１ないし３０重量％を含有する光安定化ポリマーミ
   クロ粒子を含有する分散相の３０ないし９５容量％並び
   に ｂ）室温で０．１ないし３０ポアズの粘度を有し、かつ
   フィルム形成ポリマーを得るために硬化しうる液体連続
   相７０ないし５容量％からなり、ａ）及びｂ）の総容量
   が１００％で、かつ分散相が被膜を硬化することに関係
   する被覆組成物。 （２２）フィルム形成物質ａ）が本発明のミクロ粒子の
   少なくとも５０容量％を含有する分散相 ３０−８５容量％を含有し、並びにｂ）が室温で０．１
   ないし２０ポアズの粘度を有する液体連続相７０ないし
   １５容量％を含有する特許請求の範囲第２１項記載の被
   覆組成物。 （２３）連続相ｂ）がまた１種もしくはそれ以上の光安
   定剤を含有する特許請求の範囲第２１項記載の被覆組成
   物。 （２４）液体連続相ｂ）が熱硬化性樹脂を含有する特許
   請求の範囲第２１項記載の被覆組成物。 （２５）該樹脂が架橋性アクリル樹脂、ポリエステル／
   アルキド樹脂もしくはポリウレタン樹脂であり、適当で
   あるとき、上記の樹脂をアミノブラスト、ポリイソシア
   ネートもしくはポリエポキシドと架橋させることよりな
   る特許請求の範囲第２４項記載の被覆組成物。 （２６）液体連続相ｂ）がそれ自体は硬化しうるのでは
   ないがフィルム形成物質の硬化に関与しうるような反応
   性基を有する反応性希釈剤を含有することよりなる特許
   請求の範囲第２１項記載の被覆組成物。