JPS62125858A - 不飽和化合物の選択的水素添加方法 - Google Patents
不飽和化合物の選択的水素添加方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/04—Reduction, e.g. hydrogenation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は窒素を含有する還元可能な基を有する不飽和の
、任意に高分子量の化合物の選択的水素添加方法に関す
るものである。
、任意に高分子量の化合物の選択的水素添加方法に関す
るものである。
C−C二重結合が、窒素を含有する還元可能な基の存在
下で、固体触媒上で選択的に水素添加し得ることは公知
事項である。この目的には、パラジウムまたは白金触媒
を用いる。この方法で90%までの収率が達成される(
ツーベン−ワイン(Houben−W eyl )有機
化学の方法(M ethodender Organi
schen Chemie > ILJl、101還元
I (1980)、168ページ)。しかし、選択性は
、しばしば不満足なものである。1−シアノシクロヘキ
センの水素添加に白金触媒を用いると、所望のシアノシ
クロヘキサンは31%が得られるのみである〈フライフ
ェルター(M、 Frei−relder) 、実用接
触水素添加(P racticalCatalytic
Hydrogenation)、(1971)、1
57ページを参照)。
下で、固体触媒上で選択的に水素添加し得ることは公知
事項である。この目的には、パラジウムまたは白金触媒
を用いる。この方法で90%までの収率が達成される(
ツーベン−ワイン(Houben−W eyl )有機
化学の方法(M ethodender Organi
schen Chemie > ILJl、101還元
I (1980)、168ページ)。しかし、選択性は
、しばしば不満足なものである。1−シアノシクロヘキ
センの水素添加に白金触媒を用いると、所望のシアノシ
クロヘキサンは31%が得られるのみである〈フライフ
ェルター(M、 Frei−relder) 、実用接
触水素添加(P racticalCatalytic
Hydrogenation)、(1971)、1
57ページを参照)。
均一触媒としてロジウム錯体(ウィルキンソン路体)を
用いる不飽和ニトリルの水素添加法も公知である。この
方法ではシアン基は水素添加されない。しかし、配位子
交換の結果として、この触媒はニトリルにより不活性化
される(ツーベン−ワイルの前掲書、57乃至60ペー
ジを参照)。
用いる不飽和ニトリルの水素添加法も公知である。この
方法ではシアン基は水素添加されない。しかし、配位子
交換の結果として、この触媒はニトリルにより不活性化
される(ツーベン−ワイルの前掲書、57乃至60ペー
ジを参照)。
式[(C6Hs)3P]xRh” Xのロジウム錯体
もニトリルの水素添加に適している(DE−AS 1
793 616)が、ニトリル基の存在上でのオレフ
ィン性二重結合の水素添加には、選択性が常に妥当なも
のではないと考えられる。
もニトリルの水素添加に適している(DE−AS 1
793 616)が、ニトリル基の存在上でのオレフ
ィン性二重結合の水素添加には、選択性が常に妥当なも
のではないと考えられる。
ホスファンを含有するL□M X 2型の錯体(L=C
Oまたは第三級ボスファン、n=3または4、M−ルテ
ニウムまたはオスミウム、X=ハロゲンおよび/または
水素〉を用いてケト−、ホルミル−、ニトリル−1非芳
香族−C=Cおよび=CゴC1を水素添加し得ることは
US−P 3 454644により公知事項であり
、この場合には、存在するこの型の全ての基が水素添加
される。
Oまたは第三級ボスファン、n=3または4、M−ルテ
ニウムまたはオスミウム、X=ハロゲンおよび/または
水素〉を用いてケト−、ホルミル−、ニトリル−1非芳
香族−C=Cおよび=CゴC1を水素添加し得ることは
US−P 3 454644により公知事項であり
、この場合には、存在するこの型の全ての基が水素添加
される。
酸性のメタノール溶液でのオレフィンの水素添加に均一
触媒として好適なカチオン性ルテニウム錯体は、ドール
トン(J、 C,S、 Dalton )1973の8
46乃至854ページに記載されている。内部に位置す
る二重結合の水素添加は、この触媒では起こらない。
触媒として好適なカチオン性ルテニウム錯体は、ドール
トン(J、 C,S、 Dalton )1973の8
46乃至854ページに記載されている。内部に位置す
る二重結合の水素添加は、この触媒では起こらない。
窒素を含有する還元可能な基を有する重合体性不飽和化
合物の選択的水素化は、この場合に、副生成物の分離が
不可能であるか、または、少なくとも極めて大きな費用
を払ってはじめて可能であるので、特に問題である。
合物の選択的水素化は、この場合に、副生成物の分離が
不可能であるか、または、少なくとも極めて大きな費用
を払ってはじめて可能であるので、特に問題である。
均−系で、クロロベンゼン中でロジウム−ハロゲン錯体
を用いて、ジエン−ニトリル交替単位が大部分を占める
ジエン−(メタ)−アクリロニトリル共重合体のC−C
二重結合に水素添加する方法は、tJs−P 3 7
00 637により公知である。均−系であれ、不均一
系であれ、他の金属、たとえば白金、ルテニウム、イリ
ジウム、パラジウム、レニウム、コバルトまたは銅の適
合性も示されている。
を用いて、ジエン−ニトリル交替単位が大部分を占める
ジエン−(メタ)−アクリロニトリル共重合体のC−C
二重結合に水素添加する方法は、tJs−P 3 7
00 637により公知である。均−系であれ、不均一
系であれ、他の金属、たとえば白金、ルテニウム、イリ
ジウム、パラジウム、レニウム、コバルトまたは銅の適
合性も示されている。
DE−O32539132のブタジェン−アクリロニト
リル共重合体の選択的水素添加は溶媒に依存し、公知の
ロジウム触媒を前提にすれば、クロロベンゼンを溶媒と
して用いる場合には、CN−三重結合およびシス−二重
結合は保存され、ビニル−およびトランス二重結合は定
量的に水素添加される。他の溶媒、特にケトンでは、水
素添加速度が遅いのみである。
リル共重合体の選択的水素添加は溶媒に依存し、公知の
ロジウム触媒を前提にすれば、クロロベンゼンを溶媒と
して用いる場合には、CN−三重結合およびシス−二重
結合は保存され、ビニル−およびトランス二重結合は定
量的に水素添加される。他の溶媒、特にケトンでは、水
素添加速度が遅いのみである。
最後に、DE−O82459115は、ルテニウム触媒
を用い、水酸基を保存しながら分子ff14000以内
の不飽和ポリヒドロキシ炭化水素を均−系で、または、
好ましくは不均一系で水素添加する方法を提供している
。脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール類、エ
ーテル類、エステル類および水が不均一系水素添加工程
に溶媒としで用いられる。均一系水素添加工程に関して
は、詳細は記載されていない。重合体は明らかに、たと
えばアクリロニトリルを共重合単量体として含有してい
てもよい。しかし、ベンゾニトリルのニトリル基がエタ
ノール中で、不拘−RU−触媒を用いてアミノ基に水素
添加されることがUS−P 3 454 644、実
施例■により公知であることは考慮にあったに違いない
が、詳細な記載はない。
を用い、水酸基を保存しながら分子ff14000以内
の不飽和ポリヒドロキシ炭化水素を均−系で、または、
好ましくは不均一系で水素添加する方法を提供している
。脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール類、エ
ーテル類、エステル類および水が不均一系水素添加工程
に溶媒としで用いられる。均一系水素添加工程に関して
は、詳細は記載されていない。重合体は明らかに、たと
えばアクリロニトリルを共重合単量体として含有してい
てもよい。しかし、ベンゾニトリルのニトリル基がエタ
ノール中で、不拘−RU−触媒を用いてアミノ基に水素
添加されることがUS−P 3 454 644、実
施例■により公知であることは考慮にあったに違いない
が、詳細な記載はない。
ロジウムの存在量が極めて少ないものであり、かつ、ロ
ジウムが化学工業のみでなく、主として電機工業、ガラ
ス工業およびセラミックス工業で、また、最近では、特
に自動車工業(排気触媒)でも用いられているので、こ
の高価な金属の不足の可能性は将来においては避けられ
ない。
ジウムが化学工業のみでなく、主として電機工業、ガラ
ス工業およびセラミックス工業で、また、最近では、特
に自動車工業(排気触媒)でも用いられているので、こ
の高価な金属の不足の可能性は将来においては避けられ
ない。
本発明の目標は、ロジウムに依らずに、窒素を含有する
還元可能な基を有する不飽和化合物に選択的に水素添加
するための、また、窒素を含有する還元可能な基を有す
る重合体性不飽和化合物を、窒素を含有する還元可能な
基を保存しながら水素添加するこを可能にする新規な均
一水素添加方法を提供することにあ、った。
還元可能な基を有する不飽和化合物に選択的に水素添加
するための、また、窒素を含有する還元可能な基を有す
る重合体性不飽和化合物を、窒素を含有する還元可能な
基を保存しながら水素添加するこを可能にする新規な均
一水素添加方法を提供することにあ、った。
驚くべきことには、この目標は特殊なルテニウムヒドリ
ドホスファン錯体を用いる均一反応工程により達成され
た。
ドホスファン錯体を用いる均一反応工程により達成され
た。
したがって、本発明は式
%式%
式中、
Lはホスファンまたはアルサンを表わし、nは1または
2を表わす の化合物を触媒としてもちいることを特徴とする、均一
相で、窒素を含有する還元可能な基を保存しながら行な
う、窒素を含有する還元可能な基を有する不飽和化合物
の水素添加方法を提供する。
2を表わす の化合物を触媒としてもちいることを特徴とする、均一
相で、窒素を含有する還元可能な基を保存しながら行な
う、窒素を含有する還元可能な基を有する不飽和化合物
の水素添加方法を提供する。
ホスファンおよびアルサンは、好ましくは弐式中、
R1、RtおよびR3は同一であっても異なっていても
よく、アルキル、アリール、シクロアルキルおよびアラ
ールキルを表わす、に相当するものである。
よく、アルキル、アリール、シクロアルキルおよびアラ
ールキルを表わす、に相当するものである。
アルキル残基の例は、1乃至20個の、好ましくは1乃
至12個の、特に好ましくは1乃至6個のC−原子を有
する直鎖の、または枝分れのある飽和の炭化水素残基で
ある。
至12個の、特に好ましくは1乃至6個のC−原子を有
する直鎖の、または枝分れのある飽和の炭化水素残基で
ある。
シクロアルキル残基は、たとえば5乃至7個のC−原子
を有する環式飽和炭化水素残基である。
を有する環式飽和炭化水素残基である。
アリール残基は、たとえば6乃至18個の、好ましくは
6乃至10個のC−原子を有するベンゼン系列の芳香族
炭化水素残基である。
6乃至10個のC−原子を有するベンゼン系列の芳香族
炭化水素残基である。
アラールキル残基は、たとえば、脂肪族部分の1乃至6
個のC−原子を有する直鎖の、または枝分かれのある炭
化水素残基と芳香族部分のベンゼン系列の残基、好まし
くはフェニルとよりなる、アリールによりM換されたア
ルキル残基である。
個のC−原子を有する直鎖の、または枝分かれのある炭
化水素残基と芳香族部分のベンゼン系列の残基、好まし
くはフェニルとよりなる、アリールによりM換されたア
ルキル残基である。
上記のアルキル−、シクロアルキル−、アリール−およ
びアラールキル残基は、水酸基、Cr−乃至C6−アル
コキシ、C1−乃至CローカルポーC1−乃至C4−ア
ルコキシ、フッ素、塩素またはジーCIC4−アルキル
アミノ基により置換されていてもよく、シクロアルキル
−、アリール−およびアラールキル残基はC1−乃至C
b−アルキルにより置換されていてもよい。アルキル−
、シクロアルキル−およびアラールキル基はケト基を含
有していてもよい。
びアラールキル残基は、水酸基、Cr−乃至C6−アル
コキシ、C1−乃至CローカルポーC1−乃至C4−ア
ルコキシ、フッ素、塩素またはジーCIC4−アルキル
アミノ基により置換されていてもよく、シクロアルキル
−、アリール−およびアラールキル残基はC1−乃至C
b−アルキルにより置換されていてもよい。アルキル−
、シクロアルキル−およびアラールキル基はケト基を含
有していてもよい。
配位子りとしては、たとえばトリフェニルボスファン、
ジエチルフェニルホスファン、トリトルイルホスファン
、トリナフチルホスファン、ジフェニルメチルホスファ
ン、ジフェニルブチルホスファン、トリス−(p−カル
ボメトキシフェニル)−ホスファン、トリス−(p−シ
アノフェニル)−ホスファン、トリブチルホスファン、
トリス−(トリメトキシフェニル)−ホスファン、ビス
−(トリメチルフェニル)−フェニルホスファン、じス
ー(トリメトキシフェニル〉−フェニルホスファン、ト
リメチルフェニル−ジフェニルホスファン、トリメトキ
シフェニル−ジフェニルホスファン、トリス−(ジメト
キシフェニル)−ホスファン、ビス−(ジメチルフェニ
ル)−フェニルホスファン、ビス−(ジメトキシフェニ
ル)−フェニルホスファン、ジメチルフェニル−シフI
ニルホスファン、ジメトキシフェニル−ジフェニルホス
ファン、ジフェニルトリフルオロメチルホスファン、ト
リフェニルアルサン、ジトルイルフェニルアルサン、ト
リス〜(4−エトキシフェニル)−アルサン、ジフェニ
ルシクロへキシルアルサン、ジブチルフェニルアルサン
およびジエチルフェニルアルサンを使用し得る。
ジエチルフェニルホスファン、トリトルイルホスファン
、トリナフチルホスファン、ジフェニルメチルホスファ
ン、ジフェニルブチルホスファン、トリス−(p−カル
ボメトキシフェニル)−ホスファン、トリス−(p−シ
アノフェニル)−ホスファン、トリブチルホスファン、
トリス−(トリメトキシフェニル)−ホスファン、ビス
−(トリメチルフェニル)−フェニルホスファン、じス
ー(トリメトキシフェニル〉−フェニルホスファン、ト
リメチルフェニル−ジフェニルホスファン、トリメトキ
シフェニル−ジフェニルホスファン、トリス−(ジメト
キシフェニル)−ホスファン、ビス−(ジメチルフェニ
ル)−フェニルホスファン、ビス−(ジメトキシフェニ
ル)−フェニルホスファン、ジメチルフェニル−シフI
ニルホスファン、ジメトキシフェニル−ジフェニルホス
ファン、ジフェニルトリフルオロメチルホスファン、ト
リフェニルアルサン、ジトルイルフェニルアルサン、ト
リス〜(4−エトキシフェニル)−アルサン、ジフェニ
ルシクロへキシルアルサン、ジブチルフェニルアルサン
およびジエチルフェニルアルサンを使用し得る。
トリアリールボスファン、特にトリフェニルボスファン
が好ましい。
が好ましい。
使用したある種の錯体は公知物質である。これらは、た
とえば二塩化ルテニウム−トリス−トリフェニルボスフ
ァンから還元により得られる(有機金属化学i誌(J
、 Organomet、 Chem、 ) iL。
とえば二塩化ルテニウム−トリス−トリフェニルボスフ
ァンから還元により得られる(有機金属化学i誌(J
、 Organomet、 Chem、 ) iL。
(1973)259−264)。
たとえばニトリル類、イミン類およびオキシム類が窒素
を含有する還元可能な基を有する不飽和化合物として用
いられるが、その内、ニトリルが好ましい。
を含有する還元可能な基を有する不飽和化合物として用
いられるが、その内、ニトリルが好ましい。
高分子の、窒素を含有する還元可能な基を有する不飽和
化合物として好ましいものは、85乃至50車吊%、好
ましくは82乃至55重量%の少なくとも1種の共役ジ
エン、15乃至50重量%、好ましくは18乃至45重
量%の少なくとも1種の不飽和ニトリルおよびO乃至1
0重量%、好ましくはO乃至8重量%の少なくとも1種
の共役ジエンおよび不飽和ニトリルと共重合し得る他の
単量体よりなるニトリル基含有共重合体である。
化合物として好ましいものは、85乃至50車吊%、好
ましくは82乃至55重量%の少なくとも1種の共役ジ
エン、15乃至50重量%、好ましくは18乃至45重
量%の少なくとも1種の不飽和ニトリルおよびO乃至1
0重量%、好ましくはO乃至8重量%の少なくとも1種
の共役ジエンおよび不飽和ニトリルと共重合し得る他の
単量体よりなるニトリル基含有共重合体である。
たとえば、ブタ−1,3−ジエン、2−メチルブタ−1
,3−ジエン、2.3−ジメチルブタ−1,3−ジエン
およびペンター1.3−ジエンが共役ジエンとして用い
られ、アクリロニトリルおよびメタクリロニトリルが不
飽和ニトリルとして用いられる。
,3−ジエン、2.3−ジメチルブタ−1,3−ジエン
およびペンター1.3−ジエンが共役ジエンとして用い
られ、アクリロニトリルおよびメタクリロニトリルが不
飽和ニトリルとして用いられる。
ビニル芳香族物質、たとえばスチレン、0−lm−また
はp−メチルスチレン、エチルスチレン、ビニルナフタ
レンおよびビニルピリジン、3乃至5個のC原子を有す
るα、β−不飽和モノカルボン酸たとえばアクリル酸、
メタクリル酸およびクロトン酸、ならびに4乃至5fM
のC原子を有するα、β−不飽和ジカルボン酸たとえば
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸およびイタコン酸
が、また、アルキル部分に1乃至4個のC原子を有する
ビニルアルキルエーテルが他の単量体として用いられる
。
はp−メチルスチレン、エチルスチレン、ビニルナフタ
レンおよびビニルピリジン、3乃至5個のC原子を有す
るα、β−不飽和モノカルボン酸たとえばアクリル酸、
メタクリル酸およびクロトン酸、ならびに4乃至5fM
のC原子を有するα、β−不飽和ジカルボン酸たとえば
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸およびイタコン酸
が、また、アルキル部分に1乃至4個のC原子を有する
ビニルアルキルエーテルが他の単量体として用いられる
。
好ましくは、ブタジェンとアクリロニトリルとの二元共
重合体を水素添加する。
重合体を水素添加する。
重合体の分子量は厳密ではないが、1モルあたり500
乃至500.000g、好ましくは1モルあたり100
0乃至200,000!+ 、特に1モルあたり30,
000乃至200.000g(数平均、ゲル浸透法によ
り測定)である。
乃至500.000g、好ましくは1モルあたり100
0乃至200,000!+ 、特に1モルあたり30,
000乃至200.000g(数平均、ゲル浸透法によ
り測定)である。
転化率または水素添加度(初期に重合体中に存在したC
−C二重結合の全数に対する水素添加されたC−C結合
の百分率)は、それぞれ100%に達し得る。しかし、
必要ならば水素添加工程をそれ以前に中断することもで
きる。水素添加度が80%以上、特に90%以上、好ま
しくは95%以上の重合体が、本発明記載の方法により
好適に製造される。水素添加度はIR−およびNMR−
スペクトルにより測定する。
−C二重結合の全数に対する水素添加されたC−C結合
の百分率)は、それぞれ100%に達し得る。しかし、
必要ならば水素添加工程をそれ以前に中断することもで
きる。水素添加度が80%以上、特に90%以上、好ま
しくは95%以上の重合体が、本発明記載の方法により
好適に製造される。水素添加度はIR−およびNMR−
スペクトルにより測定する。
特に、3乃至10個のC原子を有する低分子量のケトン
特にアセトン、ブタノン°、ペンタノン、シクロペンタ
ノンおよびシクロヘキサノンが本件水素添加工程に溶媒
として用いられる。
特にアセトン、ブタノン°、ペンタノン、シクロペンタ
ノンおよびシクロヘキサノンが本件水素添加工程に溶媒
として用いられる。
全溶液に対する不飽和化合物の濃度は1乃至90、好ま
しくは5乃至40重量%である。
しくは5乃至40重量%である。
不飽和化合物に対する触媒の濃度〈ルテニウムとして計
算)は10乃至1000、好ましくは10乃至600p
pm、より好ましくは40乃至500 ppmである。
算)は10乃至1000、好ましくは10乃至600p
pm、より好ましくは40乃至500 ppmである。
本件水素添加工程は80乃至200℃で、好ましくは1
00乃至180℃で、特に115乃至160℃で、また
1乃至350バール、好ましくは20乃至250バール
の水素圧で実施する。
00乃至180℃で、特に115乃至160℃で、また
1乃至350バール、好ましくは20乃至250バール
の水素圧で実施する。
触媒は反応後に通常の方法で分離することかでき、生成
物は、たとえば蒸留または再結晶により精製することか
できる。
物は、たとえば蒸留または再結晶により精製することか
できる。
高分子量化合物の場合には、重合体は通常の方法を用い
て、たとえば蒸留により、水蒸気の注入により、または
非溶媒の添加により溶液から分離する。残留溶媒または
水を除去するために、続いて乾燥工程を行う。
て、たとえば蒸留により、水蒸気の注入により、または
非溶媒の添加により溶液から分離する。残留溶媒または
水を除去するために、続いて乾燥工程を行う。
本発明に従って水素添加した重合体は、放射線照射によ
る架橋により加硫するのでなければ、過lSり化物また
は硫黄による加硫の方法により、通常の手法で硬化され
る。
る架橋により加硫するのでなければ、過lSり化物また
は硫黄による加硫の方法により、通常の手法で硬化され
る。
耐候性、オゾン抵抗性、耐油性および高温空気抵抗性な
らびに寒冷な気候に対する抵抗性が優れているので、こ
れらの重合体は高級(high−grade)なゴム製
品、たとえば電線絶縁および電線被覆用ノシール、ホー
ス、膜(l′llembrane)に使用し得る。
らびに寒冷な気候に対する抵抗性が優れているので、こ
れらの重合体は高級(high−grade)なゴム製
品、たとえば電線絶縁および電線被覆用ノシール、ホー
ス、膜(l′llembrane)に使用し得る。
本発明に従って水素添加した窒素を含有する還元可能な
基を有する低分子化合物は、活性成分を製造するための
中間体として価値がある。
基を有する低分子化合物は、活性成分を製造するための
中間体として価値がある。
実」I丸−」−
アクリロニトリル3469重量%を含有する、ML
1+4 (100℃)のムーニー粘性29のブタジェン
−アクリロニトリル統計的共重合体220gを1800
mlのブタノンに溶解させた溶液を窒素で゛注意深くパ
ージし、これを窒素パージ下で3−リットルのオートク
レーブに入れた。雰囲気を不活性に保ちながら、RIJ
H4(PPh 3 ) 35901119を200m1
のブタノンに溶解させ、これも窒素パージした溶液を添
加し、80バールの水素圧を適用した。この混合物を1
30℃に加熱し、ついで、140バールの水素圧下、1
30℃で4時間、反応を続行した。重合体の水素添加度
はNMR=およびIR−スペクトル法により測定し、9
5%であった。
1+4 (100℃)のムーニー粘性29のブタジェン
−アクリロニトリル統計的共重合体220gを1800
mlのブタノンに溶解させた溶液を窒素で゛注意深くパ
ージし、これを窒素パージ下で3−リットルのオートク
レーブに入れた。雰囲気を不活性に保ちながら、RIJ
H4(PPh 3 ) 35901119を200m1
のブタノンに溶解させ、これも窒素パージした溶液を添
加し、80バールの水素圧を適用した。この混合物を1
30℃に加熱し、ついで、140バールの水素圧下、1
30℃で4時間、反応を続行した。重合体の水素添加度
はNMR=およびIR−スペクトル法により測定し、9
5%であった。
実施例 2
実施例1の指示に従い、550mgのRIJH2(PP
fi 3 ) 4を用いて水素添加工程を実施した。
fi 3 ) 4を用いて水素添加工程を実施した。
重合体の水素添加度は6時間の反応時間後において97
%であった。
%であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 RuH_2_nL_s_−_n 式中、 Lはホスファンまたはアルサンを表わし、 nは1または2を表わす の化合物を触媒として用いることを特徴とする、均一相
で、窒素を含有する還元可能な基を保存しながら行なう
、窒素を含有する還元可能な基を有する不飽和化合物の
選択的水素添加方法。 2、85乃至50重量%の少なくとも1種の共役ジエン
、15乃至50重量%の少なくとも1種の不飽和ニトリ
ルならびに0乃至10重量%の少なくとも1種の共役ジ
エンおよび不飽和ニトリルと共重合可能な他の単量体よ
り構成されているニトリル基含有共重合体を、窒素を含
有する還元可能な基を有する不飽和化合物として用いる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、低分子量のケトンを溶媒として用いることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、トリアリールボスファンを配位子Lとして用いるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 5、トリフェニルボスファンを配位子Lとして用いるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 6、水素添加工程を80乃至200℃で実施することを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 7、水素添加工程を1乃至350バールの水素圧で実施
することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法
。
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