JPS6189543A - デユアルビームスペクトル透過率の測定方法及び装置 - Google Patents
デユアルビームスペクトル透過率の測定方法及び装置Info
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- JPS6189543A JPS6189543A JP21203485A JP21203485A JPS6189543A JP S6189543 A JPS6189543 A JP S6189543A JP 21203485 A JP21203485 A JP 21203485A JP 21203485 A JP21203485 A JP 21203485A JP S6189543 A JPS6189543 A JP S6189543A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/59—Transmissivity
- G01N21/5907—Densitometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/10—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
- G01J1/20—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle
- G01J1/34—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using separate light paths used alternately or sequentially, e.g. flicker
- G01J1/36—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using separate light paths used alternately or sequentially, e.g. flicker using electric radiation detectors
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ｑ梁上の利用分野
本光明はねじては先−ｆ−測定装置に関し、より特定す
ればデュアルビームスベクトル透退学ｒｌｌｌｌ定装置
及びその方法に関するものである。
ればデュアルビームスベクトル透退学ｒｌｌｌｌ定装置
及びその方法に関するものである。
従来の技術
一定の光学波長においである物質を透過する光量を測定
することは、その物質に関する比較的多くの情報を得る
手段となる。これらの波長としては紫外線、可視光線ま
たは赤外線のスペクトル範囲を適用することかできる。
することは、その物質に関する比較的多くの情報を得る
手段となる。これらの波長としては紫外線、可視光線ま
たは赤外線のスペクトル範囲を適用することかできる。
例えば色彩、有害な紫４線の吸収、医学的条件の指標、
厚み、分（蚤ヱなどのような材料特性に関する情報はい
ずれも前述のような測定によって得ることができる。１
または２以上の波長における透Ａ率の測定はスペクトル
透過↓測定と称するものである。
厚み、分（蚤ヱなどのような材料特性に関する情報はい
ずれも前述のような測定によって得ることができる。１
または２以上の波長における透Ａ率の測定はスペクトル
透過↓測定と称するものである。
このような測定か有効であるためには、野密性、正確さ
及び再現性を備えた測定はＩＭを構成しなければならな
い。ＩＩＩＩ型的にはこれは実験室型分光光度計により
Ｊヱせられる。このような分光光度計の多くは測定を安
定化するためにいわ；・ｌる°°デュアルヒビー比゛測
定技術を用いる。この、ような測定器のＩ ｌ？Ｉとし
てはキャリー１４分光光度計かある。
及び再現性を備えた測定はＩＭを構成しなければならな
い。ＩＩＩＩ型的にはこれは実験室型分光光度計により
Ｊヱせられる。このような分光光度計の多くは測定を安
定化するためにいわ；・ｌる°°デュアルヒビー比゛測
定技術を用いる。この、ような測定器のＩ ｌ？Ｉとし
てはキャリー１４分光光度計かある。
デュアルビーム測定の利点は、例えば１９６９年ルトル
フキシグスブレイクアカデミックプレスより刊行された
“Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔｉｃｓ ＆ ０ｐｔｉｃａｌ
ＥｎＨｉｎｅｅｒｉｎｇ“（アブライトオブテｌクス
アンドオブティカルエンシニアリング）第５をにおいて
記述された通りであり、多年にわたってよく知られてき
たものである。
フキシグスブレイクアカデミックプレスより刊行された
“Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔｉｃｓ ＆ ０ｐｔｉｃａｌ
ＥｎＨｉｎｅｅｒｉｎｇ“（アブライトオブテｌクス
アンドオブティカルエンシニアリング）第５をにおいて
記述された通りであり、多年にわたってよく知られてき
たものである。
デュアルビーム比技術をもちいる典型的な実験室型透過
率分光先度Ｊ４は、妥当な波長域にわたって必要なエネ
ルギーを提（１（するための光源を１￥１いるしのであ
る。この光源は赤外線分光光度シ１の場合はグロー・＼
−（赤熱体）を用い、可視光線１１−びに近紫９Ｉ−及
び近赤外分光先度３４の場合にはタンク′ステンーハロ
ゲンランフ゛を用い、さらに紫ｊ４ ｍ 、’ｙ’ｔ
ｊＶ＝光度計の場合に１よ重水素ランプを用いろことか
できる。適当な光字系により光源からの光は、いわゆる
°′モノクロメーダと呵ばれる装置１ｚｂ分に導かれ、
ここでその成分波長に分離される。通常、分；ｈと呼ば
れるこの波長分離：よ、モノクロメータ内に装備された
プリズムまたは回折格子ｔ、シ＜はそれらの結合により
達成される。プリズムは波長に応じた屈折率によりその
分散を行い、これによって異なった波長か異なった角度
においで屈折する。
率分光先度Ｊ４は、妥当な波長域にわたって必要なエネ
ルギーを提（１（するための光源を１￥１いるしのであ
る。この光源は赤外線分光光度シ１の場合はグロー・＼
−（赤熱体）を用い、可視光線１１−びに近紫９Ｉ−及
び近赤外分光先度３４の場合にはタンク′ステンーハロ
ゲンランフ゛を用い、さらに紫ｊ４ ｍ 、’ｙ’ｔ
ｊＶ＝光度計の場合に１よ重水素ランプを用いろことか
できる。適当な光字系により光源からの光は、いわゆる
°′モノクロメーダと呵ばれる装置１ｚｂ分に導かれ、
ここでその成分波長に分離される。通常、分；ｈと呼ば
れるこの波長分離：よ、モノクロメータ内に装備された
プリズムまたは回折格子ｔ、シ＜はそれらの結合により
達成される。プリズムは波長に応じた屈折率によりその
分散を行い、これによって異なった波長か異なった角度
においで屈折する。
回折格子は通常は反射性格子により波長に応した回折を
通じて光を分散させるものである。波長外′Ｉｉを行う
別の方法はｉ）、・：：）散光）−フィルタを用いろも
のである。
通じて光を分散させるものである。波長外′Ｉｉを行う
別の方法はｉ）、・：：）散光）−フィルタを用いろも
のである。
モノクロメータから出た光ビームは回転式ビーム切換器
またはスフリッタに入射する。この装置はその半分か鏡
面であり、池の半分が間口を含む連続回転式ディスクか
らなっている。この装置°７ｒの目的は光を交互１こ通
過させる２つの光路を形成することである。一方の光路
は鏡面部分からの反射光路であり、他方の光路は開口を
通過した光路からなっている。
またはスフリッタに入射する。この装置はその半分か鏡
面であり、池の半分が間口を含む連続回転式ディスクか
らなっている。この装置°７ｒの目的は光を交互１こ通
過させる２つの光路を形成することである。一方の光路
は鏡面部分からの反射光路であり、他方の光路は開口を
通過した光路からなっている。
これら２光路は゛サンプル光路゛（またはサンプルビー
ム）及び°“基準光路゛（または基準ビーム）である。
ム）及び°“基準光路゛（または基準ビーム）である。
測定される・＼きサンプルはサンフ几ヒーノー１中に配
置される。端糸ビームは通フ：１．空気中をＪｊ＋！過
する。これら２ヒームは共通の検出１１１１に導かれて
交互に受は入れられ、さらに電子回路によって処理され
る。
置される。端糸ビームは通フ：１．空気中をＪｊ＋！過
する。これら２ヒームは共通の検出１１１１に導かれて
交互に受は入れられ、さらに電子回路によって処理され
る。
計÷！３ ＝＊計を安定化させろＢｆは基準光路の形成
である。基準光路は可能な限１）サンフル光路に等しく
！−計される。理想的には→Ｌンフル先光路す・・、て
の要）；；はＪｌ！べ１−光路においてら（−１，在す
るは４てｉｒ’：＞。
である。基準光路は可能な限１）サンフル光路に等しく
！−計される。理想的には→Ｌンフル先光路す・・、て
の要）；；はＪｌ！べ１−光路においてら（−１，在す
るは４てｉｒ’：＞。
両光路の唯一の相違はサンフル光路【ｌｊｌこのみサン
プルか存在することである。ザンブルビーム：よ刈ンブ
ルに関する情報を収集すべく用いられるのに対し、基準
ビームは１ｌｌｌ＋定機１１４に関する１ｈ報を含んで
いる。°リーンフル光路における信号レベルの１１１ｚ
′）かの変１ヒはサンプルにのみ基づくと仮定するのは
正しくない。経時変化または電源のドリフトに基づくラ
レブ効率の変動、光字−１浅ＩＩ＆系の［シ動、（金出
器感度の変化、または電子回路利得の変１ヒはすべて検
出信号の強度に影響する。測定＋＋ｊｌＧ中のモノクロ
メータか光字フィルタを用いるしのであろ場合には、フ
ィルタの透過効亭が温度の関数としてしばしば変化する
という別の問題も加わってくる。しかしながら、これら
変動要因のすへては基準光路においても生じており、し
たつ・ってこれを検出してサンフル光路の変動要因を（
■殺することかできる。すなわち、計器変動は両光路に
影箒するが、サンプルの存在はザンブルビームにのみ影
響することは明らかである。
プルか存在することである。ザンブルビーム：よ刈ンブ
ルに関する情報を収集すべく用いられるのに対し、基準
ビームは１ｌｌｌ＋定機１１４に関する１ｈ報を含んで
いる。°リーンフル光路における信号レベルの１１１ｚ
′）かの変１ヒはサンプルにのみ基づくと仮定するのは
正しくない。経時変化または電源のドリフトに基づくラ
レブ効率の変動、光字−１浅ＩＩ＆系の［シ動、（金出
器感度の変化、または電子回路利得の変１ヒはすべて検
出信号の強度に影響する。測定＋＋ｊｌＧ中のモノクロ
メータか光字フィルタを用いるしのであろ場合には、フ
ィルタの透過効亭が温度の関数としてしばしば変化する
という別の問題も加わってくる。しかしながら、これら
変動要因のすへては基準光路においても生じており、し
たつ・ってこれを検出してサンフル光路の変動要因を（
■殺することかできる。すなわち、計器変動は両光路に
影箒するが、サンプルの存在はザンブルビームにのみ影
響することは明らかである。
デュアルビーム測定機（１４において、基準ビームから
の情報を利用するｆｉ洋には種ケのちのがある。
の情報を利用するｆｉ洋には種ケのちのがある。
透過率分光光度Ｊ］において基準光路を用いる通常の方
法は１９５５年発行のＳｐｅｃｔｒｏｃｈｉｍｉｃａ
Ａｃｔａ’ｉｏ１．７においてウィルバー ケイか発表
した論文”Ｎｅａｒ−Ｉｎｆｒａｒｅｄ ５ｐｅｃｔｒ
ｏｓｃｏｐｙ ■、 ｌｎｓｔｒｕｍｅｎＬａｔｉｏｎ
ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ”（近赤外分光分析■、
測定及び技ｂ＃ｉ ）において記述されている。この最
ら一般的な方法はすべてのサンプルビームｔ１１．ｌＩ
定値を対応する基準ビーム測定値で割り算するものであ
る。
法は１９５５年発行のＳｐｅｃｔｒｏｃｈｉｍｉｃａ
Ａｃｔａ’ｉｏ１．７においてウィルバー ケイか発表
した論文”Ｎｅａｒ−Ｉｎｆｒａｒｅｄ ５ｐｅｃｔｒ
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ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ”（近赤外分光分析■、
測定及び技ｂ＃ｉ ）において記述されている。この最
ら一般的な方法はすべてのサンプルビームｔ１１．ｌＩ
定値を対応する基準ビーム測定値で割り算するものであ
る。
すべての変動要因は両ビームに共通ずるためそれらはｔ
０殺され、サンプルの透過１１のみかそのβ二！！Ｅを
残すことになる。基準光路の別の使用態様として、遂行
すべき異なった１ｌｌｌ＋定のために許容されろ実シＢ
（型の透過率分光光度計にわいて：よ、す；１型的に２
個の透過セルもしくはキュヘットが計器内に配置される
。すなわち、一方はサンザシ【ビームにおいて他方は基
準ビーム中において設置される。
０殺され、サンプルの透過１１のみかそのβ二！！Ｅを
残すことになる。基準光路の別の使用態様として、遂行
すべき異なった１ｌｌｌ＋定のために許容されろ実シＢ
（型の透過率分光光度計にわいて：よ、す；１型的に２
個の透過セルもしくはキュヘットが計器内に配置される
。すなわち、一方はサンザシ【ビームにおいて他方は基
準ビーム中において設置される。
基準溶液は基準キュヘット中に、また未知溶液はサンプ
ルキュヘット中に収容される。この態様において溶液透
過べこの差が記録される。
ルキュヘット中に収容される。この態様において溶液透
過べこの差が記録される。
デュアルビーム方式においては比較法、減ｑ法またはそ
の他の技法か用いられるため、さらに゛暗浦正”と称す
る別の技１ｔｉかしばしばデュアルビーム測定機構の両
ビームに対して適用される。ビーム切換機の各服イクル
中には検出器か先を（：ｙ入れない時間か存在する。こ
の“暗°°信号はす〉フルビーム及び基準ビームの両方
から差し引かれ、したかって電子回路において散光」ミ
た：よ・・ソシク゛ラウントチＩ（放射等の影Ｊｆ力除
去される。性的・＼。
の他の技法か用いられるため、さらに゛暗浦正”と称す
る別の技１ｔｉかしばしばデュアルビーム測定機構の両
ビームに対して適用される。ビーム切換機の各服イクル
中には検出器か先を（：ｙ入れない時間か存在する。こ
の“暗°°信号はす〉フルビーム及び基準ビームの両方
から差し引かれ、したかって電子回路において散光」ミ
た：よ・・ソシク゛ラウントチＩ（放射等の影Ｊｆ力除
去される。性的・＼。
フグラウンドとは検出器かＧｄｉ化鉛（，１）出器なと
の、ようｆｊ：＋６熱１．ｉｂｌ＋である場６に問題と
ｔｆｆるちのである。
の、ようｆｊ：＋６熱１．ｉｂｌ＋である場６に問題と
ｔｆｆるちのである。
、＆定性、精ｊ身及び確度の優れたｊ１１１定を行うこ
七は単に実験室的工程にのみ冴求されるｔ）のではない
。先″？：＋ｌ１ｌｌ定は工業プロセスの監視及び制御
のためのプロセス測定技術に、ｂいて一般に用いられて
いる。このような測定は織物、祇、印刷材料、プラスチ
ック及び石油化学製品において共通するものである。
七は単に実験室的工程にのみ冴求されるｔ）のではない
。先″？：＋ｌ１ｌｌ定は工業プロセスの監視及び制御
のためのプロセス測定技術に、ｂいて一般に用いられて
いる。このような測定は織物、祇、印刷材料、プラスチ
ック及び石油化学製品において共通するものである。
このような先竿測定はしばしば非接触、非破壊性および
リアルタイムモートにおいて実行しなければならｔｉい
。このような要求はプラスチ・ツクの、１！続ウエブの
製造において顕著に生ずるものである。ずなわち、この
ウェブの製造中において厚みまたは色彩なとのような種
々のプラスチック特性を監視することが要求される。典
型的にはプラスチックは２−ｓｒｔ、７秒（５，０８−
１２，７ｃｍ／け）において移動する。ロールからサン
プルを取り出してそれを実験室に写し、分光光度計で測
定するためには多大の時間消費を必要とする。
リアルタイムモートにおいて実行しなければならｔｉい
。このような要求はプラスチ・ツクの、１！続ウエブの
製造において顕著に生ずるものである。ずなわち、この
ウェブの製造中において厚みまたは色彩なとのような種
々のプラスチック特性を監視することが要求される。典
型的にはプラスチックは２−ｓｒｔ、７秒（５，０８−
１２，７ｃｍ／け）において移動する。ロールからサン
プルを取り出してそれを実験室に写し、分光光度計で測
定するためには多大の時間消費を必要とする。
したがって、サンプル透過率は工程中において測定し、
そのための時間消費を減少して品質を改善することか有
益である。しめ化ながら、基準ビームを発生すへり一般
的に受：ｙ入れられた方法は、サンプルサイズか（モめ
て大きいプラスチック押出し成１（Ｂ物なとのような工
程には適用できない。４゛なわち、それらの分野におい
ては、基準ビームを使用できるような実用的な測定機（
１４は存在しなかったと言える。サンプルは分光光度計
の半分と、サンプルの一方の側における光源及び他方の
側における検出器を効果的に１！断するものである。光
源から検出器にサンフルを通らないで達する別の光路は
存在しない。この問題に対する１つの解法は分光光度計
を゛オフライン”的に移動し、これによってサンプルを
それ以上ザンブル先路中に置かないことである。サンプ
ル光路はここで基準光路として用いることができる。こ
の解法は取り扱いか面倒であり、分光光度計の度々の移
動を要求する。また、分光光度計かオフラインのときは
測定値に誤差を含み易い。さらに、分光光度計の幾つか
の変動要因は、この解法を適用するには速すぎる速度で
生ずるものである。
そのための時間消費を減少して品質を改善することか有
益である。しめ化ながら、基準ビームを発生すへり一般
的に受：ｙ入れられた方法は、サンプルサイズか（モめ
て大きいプラスチック押出し成１（Ｂ物なとのような工
程には適用できない。４゛なわち、それらの分野におい
ては、基準ビームを使用できるような実用的な測定機（
１４は存在しなかったと言える。サンプルは分光光度計
の半分と、サンプルの一方の側における光源及び他方の
側における検出器を効果的に１！断するものである。光
源から検出器にサンフルを通らないで達する別の光路は
存在しない。この問題に対する１つの解法は分光光度計
を゛オフライン”的に移動し、これによってサンプルを
それ以上ザンブル先路中に置かないことである。サンプ
ル光路はここで基準光路として用いることができる。こ
の解法は取り扱いか面倒であり、分光光度計の度々の移
動を要求する。また、分光光度計かオフラインのときは
測定値に誤差を含み易い。さらに、分光光度計の幾つか
の変動要因は、この解法を適用するには速すぎる速度で
生ずるものである。
デュアルビーム方式は透過、ＴＸ１１１１１定に限定さ
れるものではない。１９７８年６月２７日付口シャーイ
ー、カールソン（こ与えられた＋Ｍｏ１ｓｔｕｒｅ 八
ｎａ１５°ｚｉｎｇ Ｍｅｔｈｏｄ ＆ Ａｐｐａｒａ
ｔｕｓ−（水分分析法及び装置）と題する米国特許第４
．０９７，７４３号は水分測定に対して適用されたデュ
アルビーム測定機１ｉ、ｌを記述している。この測定機
（１４は水分量を測定するため、サンプルに対し赤外線
スペクトルの反射率測定を行うデュアルビーム比較技（
ホｉを適用するらのである。２つの光路は光源から２つ
のセパレートミラーにより引き出される。これらの光路
：よ回転フィルタ円盤；こ導かれる。この円盤は基準ビ
ーム及びサンプルビームを形成するために交互に光路中
に露出する２ １１６１のフィルタをかんでいる。
れるものではない。１９７８年６月２７日付口シャーイ
ー、カールソン（こ与えられた＋Ｍｏ１ｓｔｕｒｅ 八
ｎａ１５°ｚｉｎｇ Ｍｅｔｈｏｄ ＆ Ａｐｐａｒａ
ｔｕｓ−（水分分析法及び装置）と題する米国特許第４
．０９７，７４３号は水分測定に対して適用されたデュ
アルビーム測定機１ｉ、ｌを記述している。この測定機
（１４は水分量を測定するため、サンプルに対し赤外線
スペクトルの反射率測定を行うデュアルビーム比較技（
ホｉを適用するらのである。２つの光路は光源から２つ
のセパレートミラーにより引き出される。これらの光路
：よ回転フィルタ円盤；こ導かれる。この円盤は基準ビ
ーム及びサンプルビームを形成するために交互に光路中
に露出する２ １１６１のフィルタをかんでいる。
フィルタを通ったサンプルビームは次にサンプル上に入
射する。サンプルから反射した光は検出器に導かれる。
射する。サンプルから反射した光は検出器に導かれる。
同一の検出器はフィルタを通過した基準信号をも交互に
受は入れるしのである。これらの信号はその比率を計Ｉ
χされ、３水分力計算されろ。この、１１１定桟）１４
は号・ンブ几光路及び括べ（光路を形成する先ビームか
ランプの２つの異なった領域から取り出されるという不
利益を有する。これは２光路においてランプまたはフィ
ラメント移Φ）１に対する不均一な感応性を形成するも
のである。
受は入れるしのである。これらの信号はその比率を計Ｉ
χされ、３水分力計算されろ。この、１１１定桟）１４
は号・ンブ几光路及び括べ（光路を形成する先ビームか
ランプの２つの異なった領域から取り出されるという不
利益を有する。これは２光路においてランプまたはフィ
ラメント移Φ）１に対する不均一な感応性を形成するも
のである。
さらに、２個の分離したミラーが２光路を生成するため
に用いられる。これはまた両光路における相違を除去す
るものである。
に用いられる。これはまた両光路における相違を除去す
るものである。
発明の要約
本発明によれば、透過率分光光度計中に基悲ビームを導
入し、サンフルの背後においてミラーを配置することに
よりサンプルを透過した光ビームか再びこれを透過する
ようにしたものである。光はサンプルの光ｆＩＩＩＩＩ
Ｉに達し、検出器に入射する。
入し、サンフルの背後においてミラーを配置することに
よりサンプルを透過した光ビームか再びこれを透過する
ようにしたものである。光はサンプルの光ｆＩＩＩＩＩ
Ｉに達し、検出器に入射する。
光源及び検出器はサンプルによっては分ばＥされていな
いので基準光路が容易に形成される。さらに、サンプル
を２回通過した光の二重１１はサンフルの透過率変化に
対する分光光度計の感度を倍加するものである。
いので基準光路が容易に形成される。さらに、サンプル
を２回通過した光の二重１１はサンフルの透過率変化に
対する分光光度計の感度を倍加するものである。
したかって、この発明の１つの目的は、安定で正確、か
つ再現性のあるサンプル透過率のオンラインプロセフｉ
１！Ｉｔ定を形成することである。
つ再現性のあるサンプル透過率のオンラインプロセフｉ
１！Ｉｔ定を形成することである。
この発明の別の目的は、括準ビームの導入により測定機
（ｊｌを安定（ピした高感度な光′Ｙ透過率の測“定に
関するＩ幾１７．ｓを提（ｌすることである。
（ｊｌを安定（ピした高感度な光′Ｙ透過率の測“定に
関するＩ幾１７．ｓを提（ｌすることである。
実施例の説明
第１図は典型的な実験室型デュアルビーム分光光１ｙ３
１のブロック線図を示している。光源〈１）はスペクト
ル測定に必要な輻射エネルギーを発生ずるものである。
１のブロック線図を示している。光源〈１）はスペクト
ル測定に必要な輻射エネルギーを発生ずるものである。
光源は所望に応じたスペクトル範囲をカバーするための
種々の形式のランプを含んでいる。正水素ランプなとの
ような光、ｒＡ（１）はそれか既知の特定波長において
大量のエネルギーを放射することに留意し、計器の内部
波長較正のためにも用いられる。システム中の妥当な光
字素子は先を不連続波長に分離する計器部分に導く。計
器中のこの部分は、いわゆるモノクロメータ（２）であ
る。モノクロメータ（２）は常套的に入口及び出口スリ
ットを有し、光を不連続的な波長に分数させるための格
子（群）やプリズムまたはそれらの組合せを含んでいる
。モノクロメータはまた光学フィルタの円盤かり（１４
成ずろことｔ）できる。分離された波長はモノクロメー
タ（２）を出てビーム切換器またはヂョッパ桟（１絋３
）に入射する。このビーム切換器は１ｌｌｌｌ定光路（
４）及びぬべに光路（５）を生成するととらに、全エネ
ルギーか遮断されてその間の検出器暗電流の読みを電子
回路においてゼロとするための期間を常套的に発生する
しのである。
種々の形式のランプを含んでいる。正水素ランプなとの
ような光、ｒＡ（１）はそれか既知の特定波長において
大量のエネルギーを放射することに留意し、計器の内部
波長較正のためにも用いられる。システム中の妥当な光
字素子は先を不連続波長に分離する計器部分に導く。計
器中のこの部分は、いわゆるモノクロメータ（２）であ
る。モノクロメータ（２）は常套的に入口及び出口スリ
ットを有し、光を不連続的な波長に分数させるための格
子（群）やプリズムまたはそれらの組合せを含んでいる
。モノクロメータはまた光学フィルタの円盤かり（１４
成ずろことｔ）できる。分離された波長はモノクロメー
タ（２）を出てビーム切換器またはヂョッパ桟（１絋３
）に入射する。このビーム切換器は１ｌｌｌｌ定光路（
４）及びぬべに光路（５）を生成するととらに、全エネ
ルギーか遮断されてその間の検出器暗電流の読みを電子
回路においてゼロとするための期間を常套的に発生する
しのである。
ビーム切換器（３）はビームをサンプル隔室（６）に導
いて測定光路（４）を形成するための鏡面部を備えた回
転ディスク（図示せず）より形成することかできる。こ
のディスクはさらにビームがサンプル隔室〈６）に入射
して基準光路（５）を形成するこ、とを許容する開口を
含んでいる。ディスクはさらにエネルギーを完全に遮断
して暗電流、］１１定時間を提供する不透明部分を有す
る。
いて測定光路（４）を形成するための鏡面部を備えた回
転ディスク（図示せず）より形成することかできる。こ
のディスクはさらにビームがサンプル隔室〈６）に入射
して基準光路（５）を形成するこ、とを許容する開口を
含んでいる。ディスクはさらにエネルギーを完全に遮断
して暗電流、］１１定時間を提供する不透明部分を有す
る。
サンプル隔室（６）は使用者かサンプルや透過セルなど
を２光路のいずれか一方または両方に配置して測定を実
行するに十分な大きさをもっている。
を２光路のいずれか一方または両方に配置して測定を実
行するに十分な大きさをもっている。
測定ビーム（４）及び基準ビーム（５）はサンプル隔室
（６）を出ると、対応する妥当な光学素子に入射し、そ
こから検出器〈７）へ交互に入射して電気信号に変換さ
れ、電子回路（８）により処理されるようになっている
。この典型的な＋ｒｌ成は比較的小さいサンプル隔室を
用いるものであり、光源（１１と検出器（７）が互いに
サンプルの両側に位置し、したがって大量の、もしくは
オンライン処理におけるサンプルの測定を行うには不都
合なものである。
（６）を出ると、対応する妥当な光学素子に入射し、そ
こから検出器〈７）へ交互に入射して電気信号に変換さ
れ、電子回路（８）により処理されるようになっている
。この典型的な＋ｒｌ成は比較的小さいサンプル隔室を
用いるものであり、光源（１１と検出器（７）が互いに
サンプルの両側に位置し、したがって大量の、もしくは
オンライン処理におけるサンプルの測定を行うには不都
合なものである。
第２図はこれらの問題を克服して安定なデュアルビーム
測定を実施するための測定機ＩＭの好ましい実施例を示
すものである。第２図に示された光字桟；１４は移動中
のウェブに対するオンライン、非接触、非破壊性デュア
ルビーム透過率測定を実施するために用いることかでき
る装置の可能な一実施例である。光源（９）は測定機（
１４において要求される全スペクトル範囲にわたって光
放射を生ずる。
測定を実施するための測定機ＩＭの好ましい実施例を示
すものである。第２図に示された光字桟；１４は移動中
のウェブに対するオンライン、非接触、非破壊性デュア
ルビーム透過率測定を実施するために用いることかでき
る装置の可能な一実施例である。光源（９）は測定機（
１４において要求される全スペクトル範囲にわたって光
放射を生ずる。
可視光線＜Ｏ，４〜０７ミクロン）及び近赤外（０゜７
〜２．７ミクロン）を適用する場合には、光源（９）と
してタングステン−フィラメントランプが好ましく用い
られる。安定化電源（１０）は光ｉ）−、＋４９ ）か
ら安定な先出力を発生ｕしめる定電流源となるものであ
る。集束レンズ（１団よ光源（９）ｌ）１ら放射された
先を集束し、回転フィルタ円ｆｆ１（１３）に設置され
た光学フィルタ（Ｉ２）に導いてこれを通過さゼるらの
である。フィルタ（１２）は透過率測定を行うべき波長
帯を分離るために用いられる。フィルタ（１２）は通例
に従って多層干渉フィルタからなり、狭帯域の波長（例
えば、０．０１ ミクロン未満）を分離することかでき
る。
〜２．７ミクロン）を適用する場合には、光源（９）と
してタングステン−フィラメントランプが好ましく用い
られる。安定化電源（１０）は光ｉ）−、＋４９ ）か
ら安定な先出力を発生ｕしめる定電流源となるものであ
る。集束レンズ（１団よ光源（９）ｌ）１ら放射された
先を集束し、回転フィルタ円ｆｆ１（１３）に設置され
た光学フィルタ（Ｉ２）に導いてこれを通過さゼるらの
である。フィルタ（１２）は透過率測定を行うべき波長
帯を分離るために用いられる。フィルタ（１２）は通例
に従って多層干渉フィルタからなり、狭帯域の波長（例
えば、０．０１ ミクロン未満）を分離することかでき
る。
フィルタ円盤（１３）は多数の波長においで透過；；二
測定を実行するために多数のフィルタを含んでいる。す
でに述べた通り、狭帯域の波長を分離慢るためには他の
ＩＩｌ、ｂの方法も用いられる。例えば、この波長分離
には可動プリズムや可動格子または傾動干渉フィルタを
Ｉｌ捗することかてきる。さらに、別の方法としては１
９７．１年１０月に発行されたＡｐｏｌ ｉｅｄ Ｐｈ
ｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ、 Ｖｏｌ、 ２５ 、
Ｎｏ、７にわいてアイ、シー、チャンか発表した論文°
“Ｎｏｎｃｏｌ １ｉｎｅａｒ Ａｃｏｕｓｔｏ−ｏ
ｐｔｉｃ Ｆｉｌｔｅｒ ｗｉｔｈ Ｌａｒｇａ
ＡｎＲｕ１３ｒＡｐｅｒｔｕｒｅ”（大角度量［Ｉを何
する非共通軸音響−光字フィルタ）において記述された
ようｆ−音（Ｑ−先竿整合フィルタを用いることである
。フィルタ円盤（１３）はモータ（１４）により一定速
度で回転駆動され、各フィルタ（１２）か集束レンズ（
１１）を通過した光ビーム（１５）中に移動すると、そ
れは各／／特定された狭帯域の波長においてのみ先ビー
ムを通過させるれのである。各フィルタ（１２）を通過
する光強度はそのフィルタかビーム（１５）中に入って
いくとき増大し、それがビーム七整合したときｈｋ大と
なり、さらにビームの外Ｗすに移動していくときに減少
する。フィルタ円盤（１３）上におけるフィルタ（１２
）間の間隔（１Ｇ）はビーム（１５）の直径より大きい
ため、フィルタ円盤（１３）を通過する光はフィルタ〈
１２）間において完全に消滅する。これは光学信号かフ
ィルタ（１２）間においてほぼゼロとなることを利用し
、種々の電子回路手段により出ノ１中の一１イアスに関
するゼロ補正を行うことを許容するものである。
測定を実行するために多数のフィルタを含んでいる。す
でに述べた通り、狭帯域の波長を分離慢るためには他の
ＩＩｌ、ｂの方法も用いられる。例えば、この波長分離
には可動プリズムや可動格子または傾動干渉フィルタを
Ｉｌ捗することかてきる。さらに、別の方法としては１
９７．１年１０月に発行されたＡｐｏｌ ｉｅｄ Ｐｈ
ｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ、 Ｖｏｌ、 ２５ 、
Ｎｏ、７にわいてアイ、シー、チャンか発表した論文°
“Ｎｏｎｃｏｌ １ｉｎｅａｒ Ａｃｏｕｓｔｏ−ｏ
ｐｔｉｃ Ｆｉｌｔｅｒ ｗｉｔｈ Ｌａｒｇａ
ＡｎＲｕ１３ｒＡｐｅｒｔｕｒｅ”（大角度量［Ｉを何
する非共通軸音響−光字フィルタ）において記述された
ようｆ−音（Ｑ−先竿整合フィルタを用いることである
。フィルタ円盤（１３）はモータ（１４）により一定速
度で回転駆動され、各フィルタ（１２）か集束レンズ（
１１）を通過した光ビーム（１５）中に移動すると、そ
れは各／／特定された狭帯域の波長においてのみ先ビー
ムを通過させるれのである。各フィルタ（１２）を通過
する光強度はそのフィルタかビーム（１５）中に入って
いくとき増大し、それがビーム七整合したときｈｋ大と
なり、さらにビームの外Ｗすに移動していくときに減少
する。フィルタ円盤（１３）上におけるフィルタ（１２
）間の間隔（１Ｇ）はビーム（１５）の直径より大きい
ため、フィルタ円盤（１３）を通過する光はフィルタ〈
１２）間において完全に消滅する。これは光学信号かフ
ィルタ（１２）間においてほぼゼロとなることを利用し
、種々の電子回路手段により出ノ１中の一１イアスに関
するゼロ補正を行うことを許容するものである。
先はフィルタ（１２）を通るとビームスプリッタ（２４
）に入射する。ビームスプリッタ（２４）は基準光路及
び測定光路を形成するものである。ビームスプリッタは
フィルタ円＝ｔ＋３）または分ｉｉシＪ装置と、レンズ
（１７）との間に存在する。レンズ（１７）！よ特定ビ
ームをサンプル（１８）に導くものである。ビームスプ
リ、り（２４〉はその表面からの反射光カルンズ（２５
）に導かれて暴挙光路を形成するような角度に傾けられ
たガラスまたは他の同様な物質の片からなっている。こ
の型のビームスプリッタはなる・＼くならよ１定ヒ一ム
強度の、１〜３０？、ｉか基バー光路に導かれるように
被覆処理されている。
）に入射する。ビームスプリッタ（２４）は基準光路及
び測定光路を形成するものである。ビームスプリッタは
フィルタ円＝ｔ＋３）または分ｉｉシＪ装置と、レンズ
（１７）との間に存在する。レンズ（１７）！よ特定ビ
ームをサンプル（１８）に導くものである。ビームスプ
リ、り（２４〉はその表面からの反射光カルンズ（２５
）に導かれて暴挙光路を形成するような角度に傾けられ
たガラスまたは他の同様な物質の片からなっている。こ
の型のビームスプリッタはなる・＼くならよ１定ヒ一ム
強度の、１〜３０？、ｉか基バー光路に導かれるように
被覆処理されている。
２光路を形成するための別の方法は口外岐先ファイ・＜
７１−プル（図示せず）に光を入射させることであ
る。当然ながら、ファイバーの一方のラインは測定光路
を形成し、他方のラインは基準光路を形成する。例えば
、二色性測定などの、ように偏光か要求される場合には
、ビームスプリッタ（２４）は偏光素子により形成する
ことかできる。サンプルを通過した後のザンブルビーム
中にはｌ＝１加的な偏光Ｘ；子を配置して偏光分析器と
して作用させることができる。測定ビームかビームスプ
リッタ（２４）を通過する七、それはレンズ（１７）か
ら集束されてサンプル（１８）上に入射する。このビー
ムはサンプル（１８）を透過してますバッキングミラー
（２３）に入射する。このミラーはビームを反射して第
２の光路を形成するための所定角度においてサンプル（
１８）を再び透過させるものである。この二重光路はサ
ンプルの光路長を大きくして感度を改善するものである
。ここで、ビームはレンズ（２２）に集束されて検出器
（１９）に導かれる。ビームスプリッタ（２１）により
形成された基準ビームはレンズ（２５）によって検出器
（Ｉ９）に導かれる。シャッタ６ＨＭ（２６）はレンズ
（２２）、 （２５）と検出３＜ １９）との間に配置
される。シャッタＩ冷１！ｌ＋（２６）は基準ビームま
たは測定ヒーｌ、を交互に１・１き出器（１９）から遮
１１Ｊｉ シ、他方のビームだけが検出器（１９）に入
射する、ようにしたものである。検出器〈１９）はシリ
コン、ゲルマニラｊ１．６シ：１ヒ１１）、セレンｉ：
）、インンウムアンーｆ−モン、水′Ｘ１ｉノ１トミウ
ムテルルなどを含む懇光装５“１、フ寸トマルチブライ
ヤまたは熱電物＋ｆｉからなる光検出器よりＩＨ６成さ
れる。検出２Ｈ（１９）からの信号はシステ１、電子回
路（２０）により処理されてコンビュ、−タ（２１）に
入力され、その物質に関するパラメータｈ耐蒔算される
。この配置はまた実験室梨のオフラインｉｔ！１定願構
としてら用いるこ七かできる。測定し−ム及び基準ビー
ムのこのような１１１１成はデュアルビーム？ｌｌｉ
ＩｔＴ技１ｔｉを計器中に容易に組み込むようにしたも
のである。
７１−プル（図示せず）に光を入射させることであ
る。当然ながら、ファイバーの一方のラインは測定光路
を形成し、他方のラインは基準光路を形成する。例えば
、二色性測定などの、ように偏光か要求される場合には
、ビームスプリッタ（２４）は偏光素子により形成する
ことかできる。サンプルを通過した後のザンブルビーム
中にはｌ＝１加的な偏光Ｘ；子を配置して偏光分析器と
して作用させることができる。測定ビームかビームスプ
リッタ（２４）を通過する七、それはレンズ（１７）か
ら集束されてサンプル（１８）上に入射する。このビー
ムはサンプル（１８）を透過してますバッキングミラー
（２３）に入射する。このミラーはビームを反射して第
２の光路を形成するための所定角度においてサンプル（
１８）を再び透過させるものである。この二重光路はサ
ンプルの光路長を大きくして感度を改善するものである
。ここで、ビームはレンズ（２２）に集束されて検出器
（１９）に導かれる。ビームスプリッタ（２１）により
形成された基準ビームはレンズ（２５）によって検出器
（Ｉ９）に導かれる。シャッタ６ＨＭ（２６）はレンズ
（２２）、 （２５）と検出３＜ １９）との間に配置
される。シャッタＩ冷１！ｌ＋（２６）は基準ビームま
たは測定ヒーｌ、を交互に１・１き出器（１９）から遮
１１Ｊｉ シ、他方のビームだけが検出器（１９）に入
射する、ようにしたものである。検出器〈１９）はシリ
コン、ゲルマニラｊ１．６シ：１ヒ１１）、セレンｉ：
）、インンウムアンーｆ−モン、水′Ｘ１ｉノ１トミウ
ムテルルなどを含む懇光装５“１、フ寸トマルチブライ
ヤまたは熱電物＋ｆｉからなる光検出器よりＩＨ６成さ
れる。検出２Ｈ（１９）からの信号はシステ１、電子回
路（２０）により処理されてコンビュ、−タ（２１）に
入力され、その物質に関するパラメータｈ耐蒔算される
。この配置はまた実験室梨のオフラインｉｔ！１定願構
としてら用いるこ七かできる。測定し−ム及び基準ビー
ムのこのような１１１１成はデュアルビーム？ｌｌｉ
ＩｔＴ技１ｔｉを計器中に容易に組み込むようにしたも
のである。
フィルタ円盤（１３）またはモノクロメータは選択的に
シャッタｌ１９ｔｆｌＩ（２Ｇ）及び検出器（１９）の
間に配置する、ことかできる。この（ｊ４成においで、
サンプＪ（光路及び基準光路には広帯域の先か導かれ、
波長は検出器（１９）の直前において分ニー戚される。
シャッタｌ１９ｔｆｌＩ（２Ｇ）及び検出器（１９）の
間に配置する、ことかできる。この（ｊ４成においで、
サンプＪ（光路及び基準光路には広帯域の先か導かれ、
波長は検出器（１９）の直前において分ニー戚される。
しかしながら、この構成は幾つかの理由に、よりそれは
と好ましいｔ）のではない。すなわち、ンｉｉ １に広
帯ｊ・（＝＋ｑｏ、ｔす・ンフル（１８）ｉ？＝ハヒ−
Ｊ−１７，−）’ ＩＩ 、７９（２’ｌ）もしくはバ
ッキングミラー（２３）なとの、上うなンステ１、要、
！？のむ丁ましくない１川ｊ：ハをらたらすからで５′
）る。加熱されたサンプＪ【または光字素子、上り発し
た温度放射は所望の測定値に干渉する。に５２に、サン
プ“ルビーム及び基準ビームか異ｔｉった角１％ｉこお
いて検出器（１９）に入射するという事実に括ついて、
フィルタ円１（１３）またはモノクロメータの設計が複
雑になるからである。これらのビームの双方は異へった
角度においてフィルタ円盤（１３）またはモノクロメー
タを通過し、したかって２ビ一ム間にスペクトル差を生
しることになるからである。
と好ましいｔ）のではない。すなわち、ンｉｉ １に広
帯ｊ・（＝＋ｑｏ、ｔす・ンフル（１８）ｉ？＝ハヒ−
Ｊ−１７，−）’ ＩＩ 、７９（２’ｌ）もしくはバ
ッキングミラー（２３）なとの、上うなンステ１、要、
！？のむ丁ましくない１川ｊ：ハをらたらすからで５′
）る。加熱されたサンプＪ【または光字素子、上り発し
た温度放射は所望の測定値に干渉する。に５２に、サン
プ“ルビーム及び基準ビームか異ｔｉった角１％ｉこお
いて検出器（１９）に入射するという事実に括ついて、
フィルタ円１（１３）またはモノクロメータの設計が複
雑になるからである。これらのビームの双方は異へった
角度においてフィルタ円盤（１３）またはモノクロメー
タを通過し、したかって２ビ一ム間にスペクトル差を生
しることになるからである。
以上本発明について好ましい実施例を記載したか、本発
明の具体化においてはこれ以外にも種ノ！の変形例が存
在することは明らかである。
明の具体化においてはこれ以外にも種ノ！の変形例が存
在することは明らかである。
４ 図面のｉＩ？ｉｊｔ＋−な説明
第１ｔａは典型的な実験室型デュアルビームシｉ光光度
計のブロック線図、 第２図は本発明の好ましい実施例を示す尼′−ｆ−計配
置図である。
計のブロック線図、 第２図は本発明の好ましい実施例を示す尼′−ｆ−計配
置図である。
Claims (47)
- （１）単色光ビームを発生する段階と、 前記単色光ビームをサンプルビーム及び基準ビームに分
割する段階と、 前記サンプルビームを前記サンプルに導いてこれを透過
させる段階と、 前記サンプルを透過したサンプルビームを折り返し前記
サンプルに導いて再透過させる段階と、 前記再透過したサンプルビームを光検出器に導く段階と
、 前記基準ビームを前記光検出器に導く段階と、前記基準
ビームを遮断してサンプル測定値を取り出す段階と、 前記サンプルビームを遮断して基準測定値を取り出す段
階、及び、 前記サンプル測定値と前記基準測定値との比を計算して
サンプル透過率の測定値を得る段階を含むことを特徴と
するサンプルの光透過率測定方法。 - （２）広帯域ビームを発生する段階と、 前記広帯域ビームをサンプルビーム及び基準ビームに分
割する段階と、 前記サンプルビームを前記サンプルに導いてこれを透過
させる段階と、 前記サンプルを透過したサンプルビームを折り返し前記
サンプルに導いて再びこれを透過させる段階と、 前記再透過したサンプルビームをモノクロメータに導い
て単色光サンプルビームを発生する段階と、 前記単色光サンプルビームを光検出器に導く段階と、 前記基準ビームをモノクロメータに導いてこれを通過さ
せ、単色光基準ビームを生成する段階と、 前記単色光基準ビームを遮断してサンプル測定値を取り
出す段階と、 前記単色光サンプルビームを遮断して基準測定値を取り
出す段階、及び、 前記サンプル測定値と前記基準測定値との比を計算する
ことによりサンプル透過率の測定値を得る段階 を含むことを特徴とするサンプルの光透過率測定方法。 - （３）前記単色光ビームが広帯域光源からの光をモノク
ロメータに通すことにより生成されることを特徴とする
特許請求の範囲第（１）項記載の方法。 - （４）前記モノクロメータが干渉フィルタを含む回転円
盤からなることを特徴とする特許請求の範囲第（２）項
記載の方法。 - （５）前記モノクロメータが干渉フィルタを含む回転円
盤からなることを特徴とする特許請求の範囲第（３）項
記載の方法。 - （６）前記単色光ビームの前記分割がビームスプリッタ
により行われることを特徴とする特許請求の範囲第（１
）項記載の方法。 - （７）前記単色光ビームの前記分割がビームスプリッタ
により行われることを特徴とする特許請求の範囲第（２
）項記載の方法。 - （８）前記方法がさらに、 前記サンプルビーム及び前記基準ビームが前記光検出器
に達することを同時に遮断する段階と、 前記光検出器の出力を記録する段階、及び、前記サンプ
ル測定値及び前記基準測定値から前記記録出力を減する
段階 を含むことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載
の方法。 - （９）前記方法がさらに、 前記サンプルビーム及び前記基準ビームが前記光検出器
に達することを同時に遮断する段階と、 前記光検出器の出力を記録する段階、及び、前記サンプ
ル測定値及び前記基準測定値から前記記録出力を減ずる
段階 を含むことを特徴とする特許請求の範囲第（２）項記載
の方法。 - （１０）単色光の光源と、 前記単色光をサンプルビーム及び基準ビームに分割する
ための手段と、 前記サンプルビームをサンプルに導いてこれを透過させ
るための手段と、 前記サンプルビームを透過した光を折り返しそのサンプ
ルに導いて再透過させるための手段と、 前記再透過したサンプルビームを光検出器に導くための
手段と、 前記基準ビームを前記光検出器に導く手段と、前記基準
ビームを遮断してサンプル測定値を取り出すための手段
と、 前記サンプルビームを遮断して基準測定値を取り出すた
めの手段、及び、 前記サンプル測定値と前記基準測定値との比を計算する
ことによりサンプル透過率の測定値を得るための手段 を含むことを特徴とするサンプルの光透過率測定装置。 - （１１）広帯域光の光源と、 前記広帯域光をサンプルビーム及び基準ビームに分割す
るための手段と、 前記サンプルビームをサンプルに導いてこれを透過させ
るための手段と、 前記サンプルを透過したサンプルビームを折り返しその
サンプルに導いてこれを再透過させるための手段と、 前記再透過したサンプルビームをモノクロメータに導い
てこれを透過させることにより単色光サンプルビームを
生成するための手段と、前記単色光サンプルビームを光
検出器に導くための手段と、 前記基準ビームをモノクロメータに導いてこれを透過さ
せることにより単色光基準ビームを生成するための手段
と、 前記単色光基準ビームを前記光検出器に導くための手段
と、 前記単色光基準ビームを遮断してサンプル測定値を取り
出すための手段と、 前記単色光サンプルビームを遮断して基準測定値を取り
出すための手段、及び、 前記サンプル測定値と前記基準測定値との比を計算して
サンプル透過率測定値を取り出すための手段 を備えたことを特徴とするサンプルの光透過率測定装置
。 - （１２）前記単色光の光源が広帯域光の光源及びモノク
ロメータを含むことを特徴とする特許請求の範囲第（１
０）項記載の装置。 - （１３）前記モノクロメータが干渉フィルタの回転円盤
からなることを特徴とする特許請求の範囲第（１１）項
記載の装置。 - （１４）前記モノクロメータが干渉フィルタの回転円盤
からなることを特徴とする特許請求の範囲第（１２）項
記載の装置。 - （１５）前記分割手段がビームスプリッタからなること
を特徴とする特許請求の範囲第（１０）項記載の装置。 - （１６）前記分割手段がビームスプリッタからなること
を特徴とする特許請求の範囲第（１１）項記載の装置。 - （１７）前記装置がさらに前記サンプルビーム及び前記
基準ビームを前記光検出器に到達しないよう同時に遮断
するための手段と、 前記光検出器の出力を記録するための手段、及び、 前記記録出力を前記サンプル測定値及び前記基準測定値
から減ずるための手段 を備えたことを特徴とする特許請求の範囲第（１０）項
記載の装置。 - （１８）前記装置がさらに前記サンプルビーム及び前記
基準ビームを前記光検出器に到達しないよう同時に遮断
するための手段と、 前記光検出器の出力を記録するための手段、及び、 前記記録出力を前記サンプル測定値及び前記基準測定値
から減ずるための手段 を備えたことを特徴とする特許請求の範囲第（１１）項
記載の装置。 - （１９）前記ビームスプリッタが偏光用ビームスプリッ
タであることを特徴とする特許請求の範囲第（１５）項
記載の装置。 - （２０）前記装置がさらに光ビーム中に配置された偏光
子を含むことを特徴とする特許請求の範囲第（１０）項
記載の装置。 - （２１）前記装置がさらに光ビーム中に配置された偏光
子を含むことを特徴とする特許請求の範囲第（１１）項
記載の装置。 - （２２）前記装置がさらに前記サンプル及び前記光検出
器間におけるサンプルビーム中に配置された偏光子を含
むことを特徴とする特許請求の範囲第（１０）項記載の
装置。 - （２３）前記装置がさらに前記サンプル及び前記光検出
器間におけるサンプルビーム中に配置された偏光子を含
むことを特徴とする特許請求の範囲第（１１）項記載の
装置。 - （２４）前記装置がさらに、 前記先ビーム中に配置された偏光子及び、 前記サンプル及び前記光検出器間におけるサンプルビー
ム中に配置された偏光分析器を含むことを特徴とする特
許請求の範囲第（１０）項記載の装置。 - （２５）前記装置がさらに、 前記光ビーム中に配置された偏光子及び、 前記サンプル及び前記光検出器間におけるサンプルビー
ム中に配置された偏光分析器を含むことを特徴とする特
許請求の範囲第（１１）項記載の装置。 - （２６）前記光源がタングステンランプであり、前記光
検出器が硫化鉛セルであることを特徴とする特許請求の
範囲第（１０）項記載の装置。 - （２７）前記光源がタングステンランプであり、前記光
検出器が硫化鉛セルであることを特徴とする特許請求の
範囲第（１１）項記載の装置。 - （２８）前記測定値の比を計算する手段がコンピュータ
からなることを特徴とする特許請求の範囲第（１０）項
記載の装置。 - （２９）前記測定値の比を計算する手段がコンピュータ
からなることを特徴とする特許請求の範囲第（１１）項
記載の装置。 - （３０）広帯域光を発生するためのタングステンランプ
と、 前記広帯域光を回転可能なフィルタ円盤に導くための第
１の光学系と、 前記広帯域光から狭帯域波長を分離するために前記フィ
ルタ円盤に取り付けられた１または２以上の干渉フィル
タと、 前記狭帯域波長をサンプルビーム及び基準ビームに分割
するためのビームスプリッタと、前記サンプルビームを
サンプルに導いてこれを透過させるための第２の光学系
と、 前記サンプルを透過したビームを折り返しそのサンプル
に導いてこれを再透過させるためのミラーと、 前記再透過したサンプルビームを光検出器に導くための
第３の光学系と、 前記基準ビームを前記光検出器に導くための第４の光学
系と、 前記基準ビーム及び前記サンプルビームを交互に遮断す
るためのシャッタ機構と、 前記光検出器の出力を電気信号に変換するための電子回
路、及び、 前記電気信号を解析してサンプル透過率を計算するため
のコンピュータ を備えたことを特徴とするサンプルの光透過率測定装置
。 - （３１）前記干渉フィルタ間における前記フィルタ円盤
の部分が前記サンプルビーム及び前記基準ビームを遮断
して前記光検出器に光ビームが達しないようにするもの
であり、その間前記光検出器の出力を測定し、これによ
って散光、熱輻射及び電気的バイアスによる誤差要因を
補償するようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第
（３０）項記載の装置。 - （３２）前記光検出器が硫化鉛セルであることを特徴と
する特許請求の範囲第（３０）または（３１）項に記載
の装置。 - （３３）前記装置がさらに前記広帯域ビーム中に配置さ
れた偏光子と、前記サンプルと前記光検出器との間にお
ける前記サンプルビーム中に配置された偏光分析器を含
むことを特徴とする特許請求の範囲第（３０）項記載の
装置。 - （３４）前記ビームスプリッタが偏光ビームスプリッタ
であることを特徴とする特許請求の範囲第（３０）また
は（３１）項に記載の装置。 - （３５）前記ビームスプリッタが偏光ビームスプリッタ
であることを特徴とする特許請求の範囲第（３２）項記
載の装置。 - （３６）光ビームを発生するための光源と、前記光源か
らの光ビームを基準ビーム及びサンプルビームに分割す
るための手段と、 前記サンプルビームをサンプルに導いて透過させ、さら
に折り返してサンプルの背面からこれを再透過させるた
めの手段と、 前記サンプルビーム及び基準ビームに応答してこれらの
ビーム強度を電気出力に変換するための光検出手段、及
び、 前記光検出手段の電気出力に応答して前記サンプルビー
ムと前記基準ビームとの比較を行うための処理手段 を備えたことを特徴とするサンプルの光透過率測定装置
。 - （３７）前記装置がさらに前記基準ビーム及びサンプル
ビームを単色光ビームに変換するための手段を含むこと
を特徴とする特許請求の範囲第（３６）項記載の装置。 - （３８）前記単色光変換手段が前記光源と前記サンプル
との間に配置されたことを特徴とする特許請求の範囲第
（３７）項記載の装置。 - （３９）前記単色光変換手段が前記光検出手段の前方に
配置されたことを特徴とする特許請求の範囲第（３７）
項記載の装置。 - （４０）前記装置がさらに前記サンプルビーム及び基準
ビームを前記光検出手段に対して交互に遮断するための
シャッタ手段を含むことを特徴とする特許請求の範囲第
（３８）または（３９）項に記載の装置。 - （４１）前記単色光変換手段が複数のフィルタを有する
回転円盤を含み、前記複数のフィルタがビームより広い
幅の不透明領域を介して互いに分離されていることを特
徴とする特許請求の範囲第（４０）項記載の装置。 - （４２）前記装置がさらに前記サンプルビーム及び基準
ビームを偏光するための手段を含むことを特徴とする特
許請求の範囲第（４１）項記載の装置。 - （４３）前記サンプルビームを前記サンプルの背後から
折り返すための手段が、サンプルにおける前記光源とは
反対の側に配置されるミラーからなることを特徴とする
特許請求の範囲第（４２）項記載の装置。 - （４４）前記処理手段がコンピュータからなることを特
徴とする特許請求の範囲第（４３）項記載の装置。 - （４５）光ビームを発生する段階と、 前記光ビームを基準ビーム及びサンプルビームに分割す
る段階と、 前記サンプルビームをサンプルに導いてこれを透過させ
るとともに、サンプルの背後から折り返しそのサンプル
に導いて再透過させる段階と、 前記サンプルビーム及び前記基準ビームを電気信号に変
換する段階、及び、 前記電気信号を処理して前記サンプルビーム及び基準ビ
ームを比較する段階 を含むことを特徴とするサンプルの光透過率測定方法。 - （４６）前記方法がさらにサンプルビーム及び基準ビー
ムを単色光発生手段に導いてこれを通過させる段階を含
むことを特徴とする特許請求の範囲第（４５）項記載の
方法。 - （４７）前記方法がさらにサンプルビーム及び基準ビー
ムを偏光する段階を含むことを特徴とする特許請求の範
囲第（４６）項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US65420984A | 1984-09-24 | 1984-09-24 | |
| US654209 | 1984-09-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6189543A true JPS6189543A (ja) | 1986-05-07 |
Family
ID=24623905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21203485A Pending JPS6189543A (ja) | 1984-09-24 | 1985-09-24 | デユアルビームスペクトル透過率の測定方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0176826A3 (ja) |
| JP (1) | JPS6189543A (ja) |
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| JP2004507727A (ja) * | 2000-08-18 | 2004-03-11 | サーマ−ウェーブ・インコーポレイテッド | 偏光を削減する小スポット分光測定器具 |
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1985
- 1985-09-11 EP EP85111475A patent/EP0176826A3/en not_active Withdrawn
- 1985-09-24 JP JP21203485A patent/JPS6189543A/ja active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0176826A3 (en) | 1987-09-02 |
| EP0176826A2 (en) | 1986-04-09 |
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