JPS6186783A - Color liquid crystal display element - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はカラー液晶表示に関するもので、特にカラーフ
ィルターの特性向上及びカラー表示単位毎の電圧降下の
ムラを少なくしたカラー液晶表示素子に関するものであ
る。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a color liquid crystal display, and in particular to a color liquid crystal display element that improves the characteristics of a color filter and reduces unevenness in voltage drop for each color display unit. be.

［従来の技術］ 液晶ディスプレイに用いられる液晶表示パネルの中で、
多数の画素をマトリクス駆動する方式％式％ 報）は特に注目されているもので、以下この方式の概略
を説明する。[Prior art] Among the liquid crystal display panels used in liquid crystal displays,
A method of driving a large number of pixels in a matrix (% method) is attracting particular attention, and an outline of this method will be explained below.

第２図は、この方式の液晶パネルを示したちので、表示
パネルを構成する基板（ガラス、プラスチックフィルム
等）が２〜１０本／ａｒｍ程度の密度で、駆動用薄膜ト
ランジスタ（丁ＦＴ；　Ｔｈ１ｎ　Ｆ目ｍＴｒａｎｓｉ
ｓｔｏｒ）をマトリクス配置したもので構成されている
。Figure 2 shows a liquid crystal panel of this type, so the substrate (glass, plastic film, etc.) constituting the display panel has a density of about 2 to 10 thin film transistors (Th1n F) for driving. mTransi
stor) arranged in a matrix.

ＴＰＴとしてはいくつかの構造があるが、ここでは第２
図に示す様なゲート電極が基板側に形成されたスタガー
構造を例にとり述べる。There are several structures for TPT, but here we will discuss the second structure.
A staggered structure in which a gate electrode is formed on the substrate side as shown in the figure will be described as an example.

ＴＰＴは、基板７上に形成されたゲート線１ａ（行電極
）を有し、該ゲート線上に設けたゲート電極ｌ、該ゲー
ト電極上に積層された絶縁層５、前記ゲート電極上に絶
縁層を介して形成された薄膜半導体２、該薄膜半導体の
一端に接して設けたソース線３（列電極）、及び前記薄
膜半導体２の他端に接して設けたドレイン電極４（表示
単位を構成する電極）等から構成され、行電極と列電極
は透明又は金属の薄膜導電層によって形成されている。The TPT has a gate line 1a (row electrode) formed on a substrate 7, a gate electrode l provided on the gate line, an insulating layer 5 laminated on the gate electrode, and an insulating layer on the gate electrode. A thin film semiconductor 2 formed through the thin film semiconductor 2, a source line 3 (column electrode) provided in contact with one end of the thin film semiconductor, and a drain electrode 4 provided in contact with the other end of the thin film semiconductor 2 (constituting a display unit). The row electrodes and column electrodes are formed of transparent or metal thin film conductive layers.

第３図は第２図の矢印Ｂ方向から眺めた平面図であり、
マトリクス駆動回路の一部を示している。又、第４図は
第３図のＡ−Ａ　’断面に相当する基板と、対向電極基
板とで構成される表示パネルの断面図を表わしたもので
ある。第４図に於いて、７及び？ａはガラス、プラスチ
ックフィルム等の基板、４は前述のドレイン電極、８は
対向電極である。４，８等には５ｎ０２　、　Ｉｎ２　
ｏ、、　ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　０ｘｉｄｅ）
等の金属膜が用いられる。Figure 3 is a plan view viewed from the direction of arrow B in Figure 2;
A part of the matrix drive circuit is shown. Further, FIG. 4 shows a sectional view of a display panel composed of a substrate corresponding to the AA' cross section in FIG. 3 and a counter electrode substrate. In Figure 4, 7 and ? a is a substrate such as glass or a plastic film, 4 is the drain electrode described above, and 8 is a counter electrode. 5n02, In2 for 4th, 8th etc.
o,, ITO (Indium Tin Oxide)
A metal film such as the following is used.

ｌ及び３はそれぞれゲート電極及びソース線で、ＡｆＬ
、　Ａｕ、　Ａｇ、　Ｐｔ、　Ｐｄ等の金属薄膜が用い
られる。２はアモルファスシリコン、ポリシリコン、Ｃ
ｄＳ、　ＣｄＳｅ等の薄膜半導体、９は絶縁膜、ｌＯは
シール部材、１１は液晶層、１４は偏光板である。l and 3 are the gate electrode and source line, respectively, AfL
, Au, Ag, Pt, Pd, etc. are used. 2 is amorphous silicon, polysilicon, C
A thin film semiconductor such as dS or CdSe, 9 an insulating film, 1O a sealing member, 11 a liquid crystal layer, and 14 a polarizing plate.

この様な液晶表示パネルでは、動的散乱モード（ＤＳＭ
　）　、ツィステッド・ネマティック（ＴＮ）等表示モ
ードのいずれを利用するか、或いは装置を透過型又は反
射型のいずれにするかに応じて偏光板、λ／４板、反射
板等の光学検知手段を上下基板の外側に適宜設ける必要
がある。特に表示パネルの表示モードとし°て、ツィス
テッド・ネマチックモードを用いた場合には、光学検知
手段として偏光子と検光子が用いられる。In such liquid crystal display panels, dynamic scattering mode (DSM)
), twisted nematic (TN), etc., or depending on whether the device is a transmissive type or a reflective type, optical detection means such as a polarizing plate, a λ/4 plate, a reflector plate, etc. are used. It is necessary to provide it appropriately on the outside of the upper and lower substrates. Particularly when the twisted nematic mode is used as the display mode of the display panel, a polarizer and an analyzer are used as optical detection means.

次に、駆動方法を概説すれば、例えばゲート線１ａに画
像信号を、ソース線３には駆動用電圧を走査して印加す
ると（ゲート線に信号が入力されている間に限って）、
これ等の電極の交点のうちの選択された箇所で半導体の
ソース〜ドレイン間が導通して、ドレイン電極４と対向
電極８との間で電場が生じ、液晶層１１の液晶分子の配
列状態が変化、することにより表示が行なわれる。Next, to outline the driving method, for example, if an image signal is scanned and applied to the gate line 1a and a driving voltage is applied to the source line 3 (only while the signal is being input to the gate line),
At a selected point among the intersections of these electrodes, conduction occurs between the source and drain of the semiconductor, an electric field is generated between the drain electrode 4 and the counter electrode 8, and the alignment state of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 11 is changed. Display is performed by changing.

かかる装置において、カラー表示を行なう手段としては
、駆動用半導体アレイが設けられた基板か、対向する対
向電極基板上のどちらか一方にカラーフィルターを形成
する方法が一般的である。In such a device, a common method for performing color display is to form a color filter on either the substrate on which the driving semiconductor array is provided or the opposing counter electrode substrate.

次にこのような液晶パネルに用いられるカラーフィルタ
ーの必須条件について述べる。先ず、入力光による光、
熱に対する耐久性があること、又、液晶セルを製造する
プロセスの一環としてカラーフィルターの形成を行なう
ので、非晶質シリコン光導電層の特性に影響を与えない
フィルタープロセスであること、更に凹凸のある電極面
上への高精度なフィルターパターン形成が可能であるこ
と等が挙げられる。Next, we will discuss the essential conditions for color filters used in such liquid crystal panels. First, the light due to the input light,
It is durable against heat, and since color filters are formed as part of the process of manufacturing liquid crystal cells, the filter process does not affect the properties of the amorphous silicon photoconductive layer. For example, it is possible to form a highly accurate filter pattern on a certain electrode surface.

［発明が解決しようとする問題点］ 従来、カラーフィルターとしては、ゼラチン、カゼイン
、グリユーあるいはポリビニルアルコールなどの親木性
高分子物質からなる媒染層を設け、その媒染層を色素で
染色して着色層を形成する染色カラーフィルターが知ら
れている。このような染色法では使用可能な染料が多く
フィルターとして要求される分光特性への対応が比較的
容易であるが、染色工程が染料を溶解した染色浴中に浸
漬するというコントロールの難しい湿式１程を採用して
おり、また各色毎に防染用の中間層を設けるといった複
雑な工程を有するため歩留りが悪く、かつ膜厚が厚くな
るので、電極間の液晶へかかる電圧が降下するといった
欠点を有している。[Problems to be Solved by the Invention] Conventionally, color filters have been provided with a mordant layer made of a wood-loving polymer material such as gelatin, casein, grue, or polyvinyl alcohol, and colored by dyeing the mordant layer with a dye. Dyed color filters forming layers are known. With this type of dyeing method, many dyes can be used, and it is relatively easy to meet the spectral characteristics required for filters. In addition, the complicated process of creating an interlayer for resist dyeing for each color results in poor yields, and as the film becomes thicker, the voltage applied to the liquid crystal between the electrodes drops. have.

又、耐熱温度が１５０〜１６０℃程度までと、比較的低
く熱的処理を必要とする工程では使用が困難である。In addition, the heat resistance temperature is relatively low, about 150 to 160°C, making it difficult to use in processes that require thermal treatment.

又、湿式処理の染色プロセスは非晶質シリコンの特性へ
影響を及ぼすので好ましくなく、凹凸面上での高精度パ
ターン形成も困難である。In addition, a wet dyeing process is not preferable because it affects the properties of amorphous silicon, and it is also difficult to form a high-precision pattern on an uneven surface.

これに対して染料や顔料の色素薄膜を蒸着等の気相堆積
法で形成する蒸着法が知られている（特開昭５５−１４
８４０８等）。On the other hand, a vapor deposition method is known in which a thin film of dye or pigment is formed by a vapor deposition method such as vapor deposition (Japanese Unexamined Patent Publication No. 55-14
8408 etc.).

この方法は、色材を蒸着により成膜し、レジスト（防染
済）によりマスクを形成した後、色材を選択的に溶解す
る溶剤を用いてバターニングを行なうウェット・エツチ
ングあるいは、ガス状態のプラズマ・イオン等を用いて
１色材の沃化を行なうドライエツチングで色要素を形成
する工程を透明中間保ａｌｉｌｌｌ！　（フォトセンサ
や既に形成された色要素が、エツチングされないように
設けられた保護膜）を介して必要なカラーフィルターの
色要素の色数だけ、繰返すものである。ところでエツチ
ング方法の内、ウェット・エツチング法は、レジストマ
スクに影響を与えず色材のみを溶解する溶剤の選択がむ
ずかしく、又、色材の溶解を利用するため、レジストマ
スク下部の色材への侵食を防ぐのはむずかしく、微細な
形状を得ることが困難である０以上のような欠点はドラ
イエツチング法には見うけられない。This method involves forming a film of the coloring material by vapor deposition, forming a mask using resist (anti-stained), and then performing buttering using a solvent that selectively dissolves the coloring material, or wet etching using a gas state. The process of forming color elements by dry etching, which iodines one coloring material using plasma ions, etc., is a transparent intermediate process! (a protective film provided to prevent the photosensor and already formed color elements from being etched) is repeated as many times as necessary for the color elements of the color filter. By the way, in the wet etching method, it is difficult to select a solvent that dissolves only the coloring material without affecting the resist mask, and because it utilizes the dissolution of the coloring material, it is difficult to select a solvent that dissolves only the coloring material without affecting the resist mask. Dry etching does not have the disadvantages of 0 or more, where it is difficult to prevent erosion and it is difficult to obtain fine features.

しかし、ドライエツチングにより蒸着膜をバターニング
する際、蒸着膜と同時にレジストマスクも除去されるの
で、レジストマスクをかなり厚くしなければならず、し
たがってパターン精度の劣化を招くといった欠点がある
。又、電極自体や、既にバターニングされたカラーフィ
ルターの色要素を、ドライエツチングによって損傷させ
ないように透明中間保護膜を、−色の色要素形成ごとに
必要とし、この保護膜やレジストマスクが存在するため
、フィルターの透過率が減少し、フレアー光が増大する
といった欠点もある。更に色材膜自体は蒸着によるため
、耐熱性に優れるにもかかわらず、中間保護膜やレジス
トマスクが耐熱性に劣るため、カラーフィルター全体と
しての耐熱性も劣化する。However, when patterning a vapor deposited film by dry etching, the resist mask is also removed at the same time as the vapor deposited film, so the resist mask must be made considerably thick, which has the disadvantage of causing deterioration in pattern accuracy. In addition, in order to prevent damage to the electrode itself and the color elements of the color filter that have already been patterned by dry etching, a transparent intermediate protective film is required for each color element formation, and this protective film and resist mask do not exist. Therefore, there are drawbacks such as a decrease in the transmittance of the filter and an increase in flare light. Furthermore, since the coloring material film itself is deposited by vapor deposition, although it has excellent heat resistance, the intermediate protective film and resist mask have poor heat resistance, so the heat resistance of the color filter as a whole also deteriorates.

本発明は、このような従来の問題点に鑑みなされたもの
で、カラーフィルター形成法を改善することにより、フ
ィルターとして従来の緒特性を向上させると共に、カラ
ー表示単位毎の電圧降下のムラを少なくして画質を向上
させたカラー液晶表示素子の提供を目的としている。The present invention was made in view of these conventional problems, and by improving the color filter formation method, it improves the characteristics of the conventional filter and reduces the uneven voltage drop for each color display unit. The objective is to provide a color liquid crystal display element with improved image quality.

ｃ問題点を解決するための手段］ 液晶にかかる電圧が、各色素毎に異なるのは、各色素の
色材となる化合物が、各色毎に異なる為である０本発明
は、経験上寿た多くの実験データを元に、色素の膜厚及
び上下電極間の距離が最適となるように規制したもので
ある。すなわち第１図において赤、緑、青のカラーフィ
ルターのうちで最も厚い層の厚みをｄｌｌａ！ｌ最も薄
い層の厚みをｄｌｌｌｎとし、上下電極間の間隔をｄと
した場合ｄｒａａｘ≦０．１ｄ ｄａ＋ａｘ≧ｄｗｉｎ≧５１ ？ の関係を満足するよう、色素の膜厚と上下電極間の間隔
を制御することを特徴としている。c) Means for Solving the Problem] The voltage applied to the liquid crystal differs for each dye because the compound that becomes the coloring material for each dye differs for each color. Based on a large amount of experimental data, the dye film thickness and the distance between the upper and lower electrodes are regulated to be optimal. In other words, in Figure 1, the thickness of the thickest layer of the red, green, and blue color filters is dlla! lIf the thickness of the thinnest layer is dllln and the distance between the upper and lower electrodes is d, then draax≦0.1d da+ax≧dwin≧51? It is characterized by controlling the dye film thickness and the spacing between the upper and lower electrodes so as to satisfy the following relationship.

一方、色材は顔料を主成分とするものを用い、レジスト
としては、パターン形成法との関係からポジ型レジスト
を用いている。又カラ−フィルターの形成法としては、
蒸着色素層をリストオフ法によりパターン化する方法を
用いている。On the other hand, the coloring material used is one whose main component is pigment, and the resist used is a positive type resist due to the relationship with the pattern formation method. Also, as a method for forming color filters,
A method is used in which a vapor-deposited dye layer is patterned using a list-off method.

［作　用］ 色素の膜厚及び上下電極間の間隔を、各々前記した関係
式を満足するよう所定の値に制御することによって、液
晶にかかる電圧が隣り合う各色素毎に異なるのを最小限
に抑えることができる。[Function] By controlling the film thickness of the dye and the distance between the upper and lower electrodes to predetermined values so as to satisfy the above-mentioned relational expressions, differences in the voltage applied to the liquid crystal for each adjacent dye can be minimized. can be suppressed to

又、リフトオフ法によるパターン形成法は、パターニン
グの際、色材膜のエツチング処理が不要であり、フォト
センサや、既に形成された色素層がさらに侵食されるこ
とがないため、中間保護膜を必要としない、したがって
色要素は色材膜のみとなるため、同一平面上への形成が
可能で、中間保護膜やレジストマスクによる光の吸収や
反射がなく、透過光の減少は生じない、しかも耐熱性に
劣る中間保護膜やレジストマスクを使用しないので、耐
熱性の優れたカラーフィルターが得られる。In addition, the pattern formation method using the lift-off method does not require etching of the coloring material film during patterning, and does not require an intermediate protective film because the photosensor and the already formed dye layer are not further eroded. Therefore, the color element is only the color material film, so it can be formed on the same plane, there is no absorption or reflection of light by an intermediate protective film or resist mask, and there is no reduction in transmitted light, and it is heat resistant. Since no intermediate protective film or resist mask, which has poor properties, is not used, a color filter with excellent heat resistance can be obtained.

一方、色素の元となる色材は、顔料を主成分とするため
、耐光性に優れたカラーフィルターを得ることができる
。又、色材は蒸着により成膜するため、フォトセンサの
表面が凹凸となっていても、その表面に沿って平行に色
材膜が形成される。このため、分光特性の場所的バラツ
キを生じることがない、更に、リフトオフ法に好適なポ
ジ型レジストを用いたフォトリソグラフィーによるパタ
ーン加工なので、高精度なフィルター形成も容易になる
。On the other hand, since the coloring material that is the source of the dye has pigment as its main component, it is possible to obtain a color filter with excellent light resistance. Moreover, since the coloring material is formed into a film by vapor deposition, even if the surface of the photosensor is uneven, the coloring material film is formed parallel to the surface. Therefore, local variations in spectral characteristics do not occur, and since pattern processing is performed by photolithography using a positive resist suitable for the lift-off method, it is easy to form a filter with high precision.

［実施例］ 先ず、液晶パネル内における色素層並びに上下電極の構
成についてその具体例を説明する。第１図に示すように
、色素の膜厚及び上下電極基板間の間隔を、前記した関
係式により各々最適な値となるよう設定し、第５図に示
すように画素電極と対向電極を構成した。すなわち、第
５図においてドレイン電極４は、表示画像を形成する表
示単位となっており、この各ドレイン電極４に対応する
位置にカラーフィルター１３を、各々対向基板７偏に配
置することによって、一つのカラー表示単位を形成する
ことができる。[Example] First, a specific example of the structure of a dye layer and upper and lower electrodes in a liquid crystal panel will be described. As shown in Fig. 1, the film thickness of the dye and the spacing between the upper and lower electrode substrates are set to optimal values according to the above-mentioned relational expressions, and the pixel electrode and counter electrode are configured as shown in Fig. 5. did. That is, in FIG. 5, the drain electrodes 4 are display units that form a display image, and by disposing color filters 13 at positions corresponding to each drain electrode 4 on the opposite substrate 7, one image can be displayed. One color display unit can be formed.

各カラーフィルター１３の一つは、青色、緑色及び赤色
のうちの一つの色彩を有していて、隣り合うカラーフィ
ルターの色彩をそれぞれ青色、緑色及び赤色の色彩とす
ることによってフルカラーの画像表示が得られる。One of the color filters 13 has one of blue, green, and red, and by setting the adjacent color filters to blue, green, and red, a full-color image can be displayed. can get.

次に色材及びレジストの成分についてその具体例を述べ
る。１＆板への蒸着に用いられる色材は、昇華あるいは
蒸発可能な色素で、レジストマスクを溶解する線用いる
溶剤に不溶であるものが適宜用いられる。これらの条件
を満たす色素としては、アセトアセチックアニリド系、
ナフトール類のモノアゾ系、ポリサイクリック系、分散
系、油溶性系、インダスレン系、フタロシアニン系およ
びこれらの色素を組み合せたものなど種々のものが使用
可能である。Next, specific examples of coloring materials and resist components will be described. The coloring material used for vapor deposition on the 1& plate is a dye that can be sublimated or evaporated, and is insoluble in the solvent used to dissolve the resist mask. Dyes that meet these conditions include acetoacetic anilide,
Various types of naphthols such as monoazo type, polycyclic type, dispersion type, oil-soluble type, indathrene type, phthalocyanine type, and combinations of these dyes can be used.

赤色色素の特に好適なものとしては、ペリレンテトラカ
ルボン酸誘導体が好ましく、その例としては次の様なも
のが挙げられる。Particularly suitable red dyes include perylenetetracarboxylic acid derivatives, examples of which include the following.

（以下■〜■の記号で示す） ■上式においてＲ８が−Ｈであるもの ■上式においてＲ８が−ｃＨ３であるもの■上式におい
てＲ１がＱｏ　Ｃ２Ｈ３であるもの もの 但し、ペリレンテトラカルボン酸誘導体は必ずしもこれ
らに限定されるものではない。(Hereinafter, indicated by the symbols ■ to ■) ■In the above formula, R8 is -H ■In the above formula, R8 is -cH3 ■In the above formula, R1 is Qo C2H3 However, perylenetetracarboxylic acid Derivatives are not necessarily limited to these.

なお、この様なペリレンテトラカルボン酸誘導体として
市販されているもの（商品名）としては、次の様なもの
が挙げられる。Incidentally, commercially available perylenetetracarboxylic acid derivatives (trade names) include the following.

ペリンドマルーンＲ８４３４ （バイエル製）　　　　Ｃ，１，ＮＯ，７１１３０ノボ
パームレツドＢＬ （ヘキスト製）　　　　Ｃ，１，ＮＯ，？１１３７パリ
オゲンレツドＬ　３８７０ＨＤ （ハスク製）　　　　　Ｃ，１，ＮＯ，７１１４５イル
ガジンレツドＢＰＲ （チバガイギー製）　　Ｃ，１，ＮＯ，７１１２７また
、緑色色素としてはフタロシアニン系色素及びフタロシ
アニン系色素とイソインドリノン系色素の組合せ、フタ
ロシアニン系色素とアントラキノン系色素の組合せが好
適例として挙げられる。Perindo Maroon R8434 (manufactured by Bayer) C,1,NO,71130 Novopalm Red BL (manufactured by Hoechst) C,1,NO,? 1137 Paliogen Red L 3870HD (manufactured by Husk) C, 1, NO, 71145 Irgazin Red BPR (manufactured by Ciba Geigy) C, 1, NO, 71127 In addition, green pigments include phthalocyanine pigments and combinations of phthalocyanine pigments and isoindolinone pigments, A preferred example is a combination of a phthalocyanine dye and an anthraquinone dye.

先ず、フタロシアニン系色素として代表的な色素の例と
しては、メタルフリーフタロシアニン、銅フタロシアニ
ン、ベリリウムフタロシアニン、マグネシウムフタロシ
アニン、亜鉛フタロシアニン、チタニウムフタロシアニ
ン、錫フタロシアニン、鉛フタロシアニン、バナジウム
フタロシアニン、クロムフタロシアニン、モリフテンフ
タロシアニン、マンガンフタロシアニン、鉄フタロシア
ニン、コバルトフタロシアニン、ニッケルフタロシアニ
ン、パラジウムフタロシアニン、白金フタロシアニンが
挙げられる。First, typical examples of phthalocyanine dyes include metal-free phthalocyanine, copper phthalocyanine, beryllium phthalocyanine, magnesium phthalocyanine, zinc phthalocyanine, titanium phthalocyanine, tin phthalocyanine, lead phthalocyanine, vanadium phthalocyanine, chromium phthalocyanine, molyftene phthalocyanine, Examples include manganese phthalocyanine, iron phthalocyanine, cobalt phthalocyanine, nickel phthalocyanine, palladium phthalocyanine, and platinum phthalocyanine.

また、イソインドリノン系色素は、ヘテロ原子を含む芳
香族縮合多環構造を有しており、基本的には下記式のよ
うに表わすことができる。Furthermore, isoindolinone dyes have an aromatic condensed polycyclic structure containing a hetero atom, and can basically be represented by the following formula.

４．５，８．７位が塩素で置換されていないものも含め
ることができるが、耐光性、耐溶剤性の点では置換型の
方が好ましい。Although those in which the 4.5 and 8.7 positions are not substituted with chlorine may also be included, substituted types are preferred in terms of light resistance and solvent resistance.

式中Ｒの構造によって色は黄色からオレンジ、赤かっ色
と変化するが、多彩さとそのシャープな分光特性から特
に黄色色素として優れている。The color varies from yellow to orange to reddish-brown depending on the structure of R in the formula, but it is particularly excellent as a yellow pigment due to its versatility and sharp spectral characteristics.

代表的なイソインドリノン系色素の例は前記式中のＲが
次のものとしてあげられる。Examples of typical isoindolinone dyes include those in which R in the above formula is as follows.

但しイソインドリノン系色素は必ずしもこれらに限定さ
れるものではない。However, isoindolinone dyes are not necessarily limited to these.

このようなイソインドリノン系色素として市販されてい
るもの（商品名）は、 イルガジン　イエロー　２ＯＬ？、２ＧＬＴＥ　、　２
ＧＬＴＮ（チバガイギー製） リオノゲン　イエロー　３ＧＸ　　（東洋インキ製）フ
ァーストゲン　スーパー　イエロー ＧＲ，ＧＲＯ、ＧＲＯＨ（大日本インキ製）イルガジン
　イエロー　２ＲＬＴ、３ＲＬＴ、　３ＲＬＴＮ（チバ
ガイキー製） リオノゲン　イエロー　ＲＸ（東洋インキ製）リソール
　ファースト　イエロー　１８４０（ＢＡＳＦ製） カヤセット　イエロー　Ｅ−２ＲＬ　、　Ｅ−３ＲＬ　
１７Ｂ（日本化薬製） クロモフタール　オレンジ　２Ｇ （チバガイギー製） などが挙げられる。The commercially available isoindolinone pigment (trade name) is Irgazine Yellow 2OL? , 2GLTE , 2
GLTN (manufactured by Ciba Geigy) Lionogen Yellow 3GX (manufactured by Toyo Ink) First Gen Super Yellow GR, GRO, GROH (manufactured by Dainippon Ink) Irgazin Yellow 2RLT, 3RLT, 3RLTN (manufactured by Ciba Geigy) Lionogen Yellow RX (manufactured by Toyo Ink) Resol First Yellow 1840 (made by BASF) Kaya set yellow E-2RL, E-3RL
17B (manufactured by Nippon Kayaku), Cromophthal Orange 2G (manufactured by Ciba Geigy), and the like.

又、アントラキノン系色素とは、アントラキノンの誘導
体及び類似のキノンをいう０代表的なアントラキノン系
黄色色素の構造の一例を次に示す。Anthraquinone dye refers to anthraquinone derivatives and similar quinones.An example of the structure of a typical anthraquinone yellow dye is shown below.

ｕｏ 但し、アントラキノン系色素としては、必ずしもこれら
に限定されるものではない。uo However, the anthraquinone dye is not necessarily limited to these.

このようなアントラキノン系色素として市販されている
ものの一例を商品名を用いて以下に挙げる。Examples of commercially available anthraquinone dyes are listed below using trade names.

クロモフタール　イエロー　Ａ２Ｒ （チバガイギー製）　　　　Ｃ，１，ＮＯ，７０６００
ヘリオフアースト　イエロー　Ｅ３Ｒ （バイエル製） パリオゲン　イエロー　Ｆ　１５８０ （ＢＡＳＦ製）　　　　　　　　　　Ｃ，１，Ｎｏ、　
６８４２０カヤセツト　イエローＥ−Ｒ （日本化薬製）　　　　　　Ｃ，１，Ｎｏ、　６５０４
９クロモフタール　イエローＡＧＲ （チバガイギー製） パイブラスト　イエロー　Ｅ２Ｇ （バイエル製） 二ホンスレン　イエロー　ＧＣＮ （住友化学製）　　　　　’　Ｃ，１，Ｎｏ、　Ｅｌ？
３００ミケスレン　イエロー　ＧＫ （三井東圧製）　　　　　　Ｃ，１，ＮＯ，１３１７２
５インダンスレンプリンテイング　イエローＧＯＫ（ヘ
キスト製）　　　　　　Ｃ，１，ＮＯ，５ｉ３１００ア
ントラゾール　イエロー　Ｖ （ヘキスト製）　　　　　　Ｃ，１，ＮＯ，８０５３１
ミケスレン　ソリュブル　イエロー　１２Ｇ（三井東圧
製）　　　　　　Ｃ，１，Ｎｏ、　６０８０５ミケスレ
ン　イエロー　ＧＦ （三井東圧製）　　　　　　Ｃ，１，ＮＯ，８８５１０
二ホンスレン　イエロー　ＧＣＦ （住人化学製）　　　　　　Ｃ，１，ＮＯ，６５４３０
インダンスレン　イエロー　３Ｇ （バイエル酸）　　　　　　Ｃ，１，ＮＯ，８５４０５
二ホンスレン　イエロー　４ＧＬ （住人化学製） インダンスレン　イエロー　５ＧＫ （バイエル酸）　　　　　　Ｃ，１，ＮＯ，６５４１０
パランスレン　イエロー　ＰＧＡ （［３ＡＳＦ製）　　　　　　　　　Ｃ，１，Ｎｏ、　
Ｅｉ８４００チパノン　イエロー　２Ｇ （チバガイギー製） インダンスレン　イエロー　Ｆ２Ｏ−Ｃ（ヘキスト製） アントラゾール　イエロー　ＩＧＧ （ヘキスト製） インダンスレン　イエロー　５ＣＦ （ＢＡＳＦ製） ミケスレン　イエロー　３ＧＬ （三井東圧製） インダンスレン　イエロー　ＬＧＦ （ＢＡＳＦ製） 七ノライト　イエロー　ＦＲ （ＩＣＩ製） カヤセット　イエロー　Ｅ−ＡＲ （日本化薬製） また、青色色素としては、フタロシアニン系色素及びフ
タロシアニン系色素と、キナクリドン色素の組合せが好
適例として挙げられる。フタロシアニン系色素について
は前述の如くであり、キナクリドン系色素とは、次の（
１）式で示さ、れる基本骨格をもち、それから導かれる
誘導体をも含めたものを示す。Cromophthal Yellow A2R (manufactured by Ciba Geigy) C, 1, NO, 70600
Helio First Yellow E3R (manufactured by Bayer) Palogen Yellow F 1580 (manufactured by BASF) C, 1, No.
68420 Kayaset Yellow E-R (Nippon Kayaku) C, 1, No, 6504
9 Chromophthal Yellow AGR (manufactured by Ciba Geigy) Piblast Yellow E2G (manufactured by Bayer) Nihonthrene Yellow GCN (manufactured by Sumitomo Chemical) 'C, 1, No, El?
300 Mikethren Yellow GK (manufactured by Mitsui Toatsu) C, 1, NO, 13172
5 Indanthrene Printing Yellow GOK (manufactured by Hoechst) C, 1, NO, 5i3100 Anthrazole Yellow V (manufactured by Hoechst) C, 1, NO, 80531
Mikethren Soluble Yellow 12G (Mitsui Toatsu) C, 1, No, 60805 Mikethren Yellow GF (Mitsui Toatsu) C, 1, No, 88510
Nihonsuren Yellow GCF (manufactured by Juju Chemical) C, 1, NO, 65430
Indanthrene Yellow 3G (bayeric acid) C, 1, NO, 85405
Nihonthrene Yellow 4GL (manufactured by Juju Chemical) Indanthrene Yellow 5GK (Bayeric Acid) C, 1, NO, 65410
Parathrene Yellow PGA ([3ASF made) C, 1, No.
Ei8400 Tipanon Yellow 2G (manufactured by Ciba Geigy) Indanthrene Yellow F2O-C (manufactured by Hoechst) Anthrazole Yellow IGG (manufactured by Hoechst) Indanthrene Yellow 5CF (manufactured by BASF) Mikethrene Yellow 3GL (manufactured by Mitsui Toatsu) Indanthrene Yellow LGF (manufactured by BASF) Sevenanolite Yellow FR (manufactured by ICI) Kayaset Yellow E-AR (manufactured by Nippon Kayaku) Further, as the blue pigment, a phthalocyanine pigment and a combination of a phthalocyanine pigment and a quinacridone pigment are cited as suitable examples. The phthalocyanine dyes are as described above, and the quinacridone dyes are the following (
1) It has the basic skeleton shown by the formula and includes derivatives derived from it.

誘導体の例としては などがあげられる。またこれらの混合物の場合もある０
分光特性的にはいずれも優れたマゼンタの特性を有して
いる。Examples of derivatives include: There may also be mixtures of these.
In terms of spectral characteristics, both have excellent magenta characteristics.

具体的な色素としては リオノゲンマ゛ゼンタ　Ｒ （商品名：東洋インキ製） ファーストゲンスーパーマゼンタＲ，ＲＳ（商品名二大
日本インキ製） シンカシアレッドＢＲＴ、　ＹＲＴ （商品名：デュポン製） シンカシアバイオレットＢＲＴ （商品名：デュポン製） などが挙げられる。Specific pigments include Lionogen Magenta R (product name: Toyo Ink Co., Ltd.), First Gen Super Magenta R, RS (product name: Nippon Ink Co., Ltd.), Syncasia Red BRT, YRT (product name: DuPont Co., Ltd.), and Syncasia Violet. BRT (product name: manufactured by DuPont), etc. are mentioned.

一方、レジストマスクに使用されるレジストとしては、
後に溶解可能であればネガ型、ポジ型を問わない、しか
し、ネガ型では一般に輻射線の照射で架橋が進み、溶解
するには強い溶解力をもつ溶剤が必要となる。従って色
素層に損傷を与えたり、溶解させたりしやすいので好ま
しくはない。On the other hand, the resist used for resist masks is
It does not matter whether the material is negative or positive, as long as it can be dissolved later.However, in negative-type materials, crosslinking generally progresses when irradiated with radiation, and a solvent with strong dissolving power is required to dissolve the material. Therefore, it is not preferable because it tends to damage or dissolve the dye layer.

この点ポジ型レジストでは、特にレジストパターン形成
後、全面に輻射線を照射すれば可溶性になるので、ネガ
型に比べて色素を溶解しにくい溶剤を選択できるので、
リフトオフには好適である。またポジ型レジストも樹脂
成分の種類が多岐にわたっており、その塗布や現像に使
用される溶剤も様々である０色素に対してよ、り作用性
の少ない溶剤の使えるポジ型レジストを選択することが
望ましく、−例として重合単位として下記構造で示され
る含フツ素メタクリレートを主体とするポジ型レジスト
が好適例として挙げられる。このレジストは、エステル
類、芳香族類、ハロゲン化炭化水素類などの溶解能が高
い良溶媒は勿論のこと、アルコール類などの溶解能が低
い貧溶媒にも良く溶解するため、色素膜に影響の少ない
溶剤を使えるためである。In this regard, positive resists become soluble if the entire surface is irradiated with radiation after the resist pattern is formed, so it is possible to select a solvent that is less likely to dissolve the dye compared to negative resists.
Suitable for lift-off. In addition, positive resists have a wide variety of resin components, and the solvents used for coating and development also vary.It is better to select positive resists that can use solvents with less action than zero dyes. A preferred example is a positive resist whose polymerized unit is mainly composed of a fluorine-containing methacrylate having the structure shown below. This resist dissolves well not only in good solvents with high dissolving ability such as esters, aromatics, and halogenated hydrocarbons, but also in poor solvents with low dissolving ability such as alcohols, so it does not affect the dye film. This is because less solvent can be used.

このようなレジストとしては、ＦＰＭ２１０、ＦＢＭＩ
ＩＯおよびＦＢＭ１２０　（いずれも商品名でダイキン
工業製）が挙げられる。Such resists include FPM210, FBI
Examples include IO and FBM120 (both trade names manufactured by Daikin Industries).

Ｒ２−Ｃ−Ｒ１ ここで、Ｒ８およびＲ２は水素又はアルキル基、Ｒ３は
各炭素に少なくとも１個のフッ素が結合したアルキル基
である。R2-C-R1 Here, R8 and R2 are hydrogen or an alkyl group, and R3 is an alkyl group in which at least one fluorine is bonded to each carbon.

代表的な例としては次のものが挙げられる。Typical examples include:

その他レジストとしては、次のような商品名で市販され
ている各種のものを適宜用いることができる。As other resists, various types of resists commercially available under the following trade names can be used as appropriate.

ＡＺシリーズ：　　１１１．１１９Ａ、　１２０．３４
０．１３５０Ｂ。AZ series: 111.119A, 120.34
0.1350B.

１３５０Ｊ、　１３７０．１３７５．１４５０．１４５
０Ｊ、　１４７０゜１４７５、２４００．２４１５．２
４３０（以上シブレー製） Ｗａｙｃｏａｔ　ＨＰＲ−２０４，２０５，２０８，２
０７，１１８２Ｗａｙｃｏａｔ　ＭＰＲ （以上ハント製） Ｋｏｄａｋ　Ｍｉｃｒｏ　Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ　Ｒｅ５ｉ
ｓｔ　　（コダック製）Ｉｓｏｆｉｎｅ　Ｐｏ５ｉｔｉ
ｖｅ　Ｒｅ５ｉｓｔ（マイクロイメージテクノロジー酸
） ＰＣ１２９，１２９ＳＦ　　（ポリクローム製）ＯＦＰ
Ｒ？？、７８，８００ ０ＥＢＲ１０００，１０１０，１０３００ＤＯＲ１００
０，１００１，１０１０，１０１３，１０１４（以上東
京応化部〕 ＥＢＲＩ、９（東し製） ＦＭＲＥｌｏｏ、　ＥＩＯＩ　　（富士薬品工業製）Ｊ
ＳＲＰｏ５ｉｔｉｖｅ　Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ　ＰＦ
Ｒ３００３（日本合成ゴム製） Ｓｅｌｅｃｔｉｌｕｘ　Ｐ　　（メルク製）などが挙げ
られる。1350J, 1370.1375.1450.145
0J, 1470°1475, 2400.2415.2
430 (manufactured by Sibley) Waycoat HPR-204, 205, 208, 2
07,1182Waycoat MPR (manufactured by Hunt) Kodak Micro Po5itive Re5i
st (manufactured by Kodak) Isofine Po5iti
ve Re5ist (Micro Image Technology Acid) PC129, 129SF (made of polychrome) OFP
R? ? ,78,800 0EBR1000,1010,10300DOR100
0,1001,1010,1013,1014 (Tokyo Ohka Department) EBRI, 9 (manufactured by Toshi) FMREloo, EIOI (manufactured by Fuji Pharmaceutical Co., Ltd.) J
SRPo5itive Photoresist PF
R3003 (manufactured by Japan Synthetic Rubber), Selectilux P (manufactured by Merck), and the like.

ここで、リフトオフ法によるパターンの形成例を述べる
。Here, an example of pattern formation using the lift-off method will be described.

先ず、基板上の除去すべき色素層の下部に、あらかじめ
溶解可能な物質（主にレジスト）によってレジストマス
クを形成した後、このレジストマスクに蒸着色素層を設
け、しかる後レジストマスクを溶解又は剥離することに
よって、色素層を物理的に除去し、パターンを形成する
。First, a resist mask is formed in advance using a dissolvable substance (mainly resist) below the dye layer to be removed on the substrate, and then a vapor-deposited dye layer is provided on this resist mask, and then the resist mask is dissolved or peeled off. By doing so, the dye layer is physically removed to form a pattern.

次に、液晶パネルの構成及び配向材、液晶について述べ
る・ 第５図は、本発明による液晶パネルの実施例を示す斜視
図である０図において、液晶表示パネルの対向電極基板
面に、非透光性部材１２を介してスペーサ一部材が設け
られており、これらスペーサ一部材１２の厚みによって
液晶層の層厚を決めることができる。Next, the structure of the liquid crystal panel, the alignment material, and the liquid crystal will be described. FIG. 5 is a perspective view showing an embodiment of the liquid crystal panel according to the present invention. A spacer member is provided via a light member 12, and the thickness of the liquid crystal layer can be determined by the thickness of these spacer members 12.

非透光性部材１２のパターン形状は、スペーサ一部材と
同様の形状、ストライプ状、あるいはモザイク等のいず
れの形状であっても良く、少な、くとも行電極あるいは
列電極のラインに沿っていればよい、又、この非透光性
部材１２は、ＡＪＩ、Ｃｒ、　Ｎ。The pattern shape of the non-transparent member 12 may be the same shape as the spacer member, a stripe shape, or a mosaic shape, and the pattern shape may be at least along the lines of the row electrodes or column electrodes. Also, this non-transparent member 12 is made of AJI, Cr, or N.

等の金属薄膜あるいは着色性有機物のいずれによって形
成されてもよい、なお、この非透光性部材１２は、カラ
ーフィルター１３の各々の間に配置され、フルカラー表
示の際にはブラックストライプとして機能する。The non-transparent member 12 may be formed of either a metal thin film or a colored organic material, such as a metal thin film or a colored organic substance.The non-transparent member 12 is placed between each of the color filters 13, and functions as a black stripe during full-color display. .

スペーサ一部材６は、行電極１ａ（あるいは列電極３）
の上に絶縁層５を介して固着されている。The spacer member 6 is the row electrode 1a (or column electrode 3)
It is fixed on top of the insulating layer 5 with an insulating layer 5 interposed therebetween.

この様なｚ板の基板と接する表面は、絶縁物質でコート
されている。この際に用いられる絶縁物質としては、５
ｉＯ１Ｓｉ０２．　　ＭｇＦ２等の無機化合物あるいは
、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポ
リ−パラキシリレン等の有機化合物が用いられ、これら
の絶縁物質を適当な方法で被膜形成することによって絶
縁被膜が得られる。この絶縁被膜の表面は、これと界面
で接する液晶の分子軸を一方向に配列するための配向処
理が施される。一般的な方法としては、絶縁被膜の表面
をビロードや布等で一方向に擦するラビング法や、基板
面にＳｉＯやＳ　ｉ０２の被膜を形成する際に、基板に
対して斜めの角度から蒸着する斜方蒸着法等があり、こ
れらの被膜形成方法を用いることができる。The surface of such a Z plate that comes into contact with the substrate is coated with an insulating material. The insulating material used in this case is 5
iO1Si02. An inorganic compound such as MgF2 or an organic compound such as polyimide, polyamide, polyvinyl alcohol, poly-paraxylylene is used, and an insulating film can be obtained by forming a film with these insulating substances by an appropriate method. The surface of this insulating film is subjected to an alignment treatment to align the molecular axes of the liquid crystal that comes into contact with it at the interface in one direction. Common methods include the rubbing method in which the surface of the insulating film is rubbed in one direction with velvet or cloth, and the method in which the SiO or Si02 film is deposited at an angle to the substrate when forming the SiO or Si02 film on the substrate surface. There are oblique vapor deposition methods and the like, and these film forming methods can be used.

又１本発明においては、例えばＭ、　５ｃｈａｄｔとＷ
、　Ｈｅ１ｆｒｉｃｈ著“Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｈｙｓｉ
ｃｓ　Ｌｅｔｔｅｒｓ”“Ｖｏ、　１Ｂ、Ｎｏ、　４　
（１９７１，２，１５）、　Ｐ、　１２？　〜１２８の
“Ｖｏｌｔａｇｅ−Ｄｅｐｅｎｄｅｎｔ　０ｐｔｉｃａ
ｌ　Ａｃｔｉｖｉｔｙ　ｏｆ　ａＴｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅ
ｍａｔｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ“に示され
たＴＮ　（ｔｗｉｓｔｅｄ　ｎｅｍａｔｉｃ　）型の液
晶を用いることができる。この型の液晶は、無電界状態
で正の誘電異方性をもつネマチック液晶の分子が、液晶
層厚方向で捩れた構造（ヘリカル構造）を形成し、両電
極面でこの液晶の分子が平行に配列した構造を形成して
いる。一方、電界印加状態では、正の誘電異方性をもつ
ネマチック液晶が電界方向に配列し、この結果光学変調
を起す、この様な２つの配向状態によって画像表示を行
うものである。In addition, in the present invention, for example, M, 5chadt and W
, “Applied Physi” by He1frich
cs Letters""Vo, 1B, No, 4
(1971, 2, 15), P, 12? ~128 “Voltage-Dependent 0ptica
l Activity of a Twisted Ne
It is possible to use a TN (twisted nematic) type liquid crystal shown in “matic liquid crystal”.In this type of liquid crystal, molecules of nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy in the absence of an electric field are aligned in the thickness direction of the liquid crystal layer. The liquid crystal molecules form a twisted structure (helical structure), and the molecules of this liquid crystal are arranged in parallel on both electrode surfaces.On the other hand, when an electric field is applied, the nematic liquid crystal with positive dielectric anisotropy Image display is performed using these two orientation states, which are aligned in the direction of the electric field and result in optical modulation.

次に表示パネルの駆動方法の具体例を第６図に基づいて
説明する。Next, a specific example of a method for driving the display panel will be explained based on FIG. 6.

第６図は、薄膜トランジスタと液晶で構成される駆動回
路の等価回路を示したものである。その駆動法としては
、例えば行電極１ａに走査信号を順次印加すると、走査
信号が印加されたＴＰＴは導通状態となる。この時、こ
れと直交する列電極３に画像信号を与えると、この電圧
がドレイン電極４へ供給される。順次この走査信号を隣
接の行電極に移動させ、各行のＴＰＴがオンになった状
態でその行のドレイン電極群へ電圧が供給されて、行電
極を一周させた時、全画素に対し画像信号が供給される
。この列電極へ供給する電圧は、ドレイン電極群の実効
電圧を稼ぐためには各画素へ順次信号を送る点順次走査
でなく、線順次走査によって行うことが好ましい、即ち
、行オン状態の行のドレイン電極全部へ一時に信号を与
える方式である。FIG. 6 shows an equivalent circuit of a drive circuit composed of a thin film transistor and a liquid crystal. As a driving method, for example, when a scanning signal is sequentially applied to the row electrodes 1a, the TPT to which the scanning signal is applied becomes conductive. At this time, when an image signal is applied to the column electrode 3 perpendicular to this, this voltage is supplied to the drain electrode 4. This scanning signal is sequentially transferred to the adjacent row electrodes, and when the TPT of each row is turned on and a voltage is supplied to the drain electrode group of that row, and the row electrodes are made to go around once, the image signal is transmitted to all pixels. is supplied. In order to increase the effective voltage of the drain electrode group, it is preferable to apply the voltage to the column electrodes by line sequential scanning rather than dot sequential scanning, in which signals are sequentially sent to each pixel. This method applies signals to all drain electrodes at once.

この様に、行電極に信号が入力されている間に限って、
これらの電極マトリックスの交点のうち、選択された列
電極とドレイン電極の間が導通し、ドレイン電極と対向
電極８との間に電圧が印加される。この印加電圧により
液晶分子の配列状態が変化して、表示がなされる。In this way, only while signals are input to the row electrodes,
Among the intersections of these electrode matrices, a selected column electrode and the drain electrode are electrically connected, and a voltage is applied between the drain electrode and the counter electrode 8. This applied voltage changes the alignment state of liquid crystal molecules to produce a display.

なお、本発明の表示パネルでは、投影型、透過型及び反
射型のいずれの型式にしても良い。Note that the display panel of the present invention may be of a projection type, a transmission type, or a reflection type.

又、その表示モードについても、動的散乱モード（ＤＳ
Ｍ　）　、　　ライスティド・ネマチック（ＴＮ）　。In addition, the display mode is dynamic scattering mode (DS
M), Lysted Nematic (TN).

相転移型、垂直−水平配向効果型（ＨＡＰ　）　、ハイ
ブリッド・ネマチック（ＲＡＭ）等のいずれの型式が選
択されても良い。Any type such as phase change type, vertical-horizontal alignment effect type (HAP), hybrid nematic (RAM), etc. may be selected.

［応用例Ｊ 本発明のカラー液晶表示素子は、薄型化・コンパクト化
された表示パネルとして各種パネル・ディスプレー；例
えば、時計・計算機等の表示板、小型テレビ、ビデオカ
メラ用モニタ及び乙アインダ等に好適に応用出来る。[Application Example J] The color liquid crystal display element of the present invention can be used as a thinner and more compact display panel for various panels and displays; for example, display boards for watches and calculators, small televisions, monitors for video cameras, eyeliners, etc. Can be suitably applied.

［発明の効果］ 色素の膜厚及び上下電極間の距離を、各々最適な値とな
るよう制御することによって、各素毎の電圧降下のムラ
を最小限に抑えることができる。[Effects of the Invention] By controlling the dye film thickness and the distance between the upper and lower electrodes to optimal values, it is possible to minimize the uneven voltage drop of each element.

又、フィルターパターン形成の際に、顔料を色材とし、
ポジ型レジストを用いたリフトオフ法を用いることによ
って、フィルターの耐光性及び耐光性が得られると共に
、カラーフィルターとしての特性を損うことなく高精度
なパターン化が可能である。この様な２つの作用によっ
て明るくかつ画質のすぐれたカラー表示を得ることがで
きる。特に、ドレイン電極にカラーフィルターを形成し
たカラー表示の場合、各画素間が非透光性部材で仕切ら
れているので、よりシャープな画像を得ることができる
。In addition, when forming a filter pattern, pigments are used as coloring materials,
By using a lift-off method using a positive resist, it is possible to obtain light fastness and light fastness of the filter, and it is also possible to form a pattern with high precision without impairing the characteristics as a color filter. These two effects make it possible to obtain a bright color display with excellent image quality. In particular, in the case of color display in which a color filter is formed on the drain electrode, sharper images can be obtained because each pixel is partitioned by a non-transparent member.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は本発明の基本概念を示す素子断面図。 第２図は薄膜トランジスタを有する基板の斜視図、第３
図は第２図の矢印Ｂ方向から眺めた平面図、第４図は第
３図のＡ−Ａ　′断面に相当する基板と対向電極基板と
で構成される表示パネルの断面図、第５図は本発明によ
るカラー液晶表示素子の実施例を示す斜視図、第６図は
薄膜半導体と液晶で構成される駆動回路の等価回路であ
る。 ｌ：ゲート電極、ｌａ：ゲート線（行電極）、２：薄膜
半導体、３：ソース線（列電極）、４ニドレイン電極、
５：絶縁層、 ７．７ａ：基板、８：対向電極、１１：液晶層、１２：
非透光部材、 １３：カラーフィルター（色素層）。FIG. 1 is a sectional view of an element showing the basic concept of the present invention. Figure 2 is a perspective view of a substrate with thin film transistors;
The figure is a plan view viewed from the direction of arrow B in Figure 2, Figure 4 is a sectional view of a display panel consisting of a substrate and a counter electrode substrate corresponding to the AA' cross section in Figure 3, and Figure 5. 6 is a perspective view showing an embodiment of a color liquid crystal display element according to the present invention, and FIG. 6 is an equivalent circuit of a drive circuit composed of a thin film semiconductor and a liquid crystal. l: gate electrode, la: gate line (row electrode), 2: thin film semiconductor, 3: source line (column electrode), 4 Ni drain electrode,
5: Insulating layer, 7.7a: Substrate, 8: Counter electrode, 11: Liquid crystal layer, 12:
Non-transparent member, 13: Color filter (dye layer).

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）上下に配置された電極基板間に液晶を挟持してな
る液晶表示素子において、どちらか一方の電極基板の電
極上に形成された色素層からなるカラーフィルターの各
膜厚が、前記色素層の中で最も厚い層の厚みをｄ＿ｍ＿
ａ＿ｘ、最も薄い層の厚みをｄ＿ｍ＿ｉ＿ｎとし、上下
電極間の間隔をｄとした場合ｄ＿ｍ＿ａ＿ｘ≦０．１ｄ ｄ＿ｍ＿ａ＿ｘ≧ｄ＿ｍ＿ｉ＿ｎ≧ｄ＿ｍ＿ａ＿ｘ／２
の関係から成ることを特徴とするカラー液晶表示素子。(1) In a liquid crystal display element in which a liquid crystal is sandwiched between upper and lower electrode substrates, each film thickness of a color filter consisting of a dye layer formed on the electrode of one of the electrode substrates is The thickness of the thickest layer among the layers is d_m_
a_x, when the thickness of the thinnest layer is d_m_i_n and the distance between the upper and lower electrodes is d, d_m_a_x≦0.1d d_m_a_x≧d_m_i_n≧d_m_a_x/2
A color liquid crystal display element characterized by having the following relationship. （２）前記カラーフィルターの赤色色素層が、下記構造
式（ I ）及び（II）から選ばれたペリレンテトラカル
ボン酸誘導体であることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のカラー液晶表示素（ I ）▲数式、化学式、
表等があります▼ （II）▲数式、化学式、表等があります▼ ここでＲ＿１は水素、アルキル基又はアリール基である
。(2) The color liquid crystal display according to claim 1, wherein the red dye layer of the color filter is a perylenetetracarboxylic acid derivative selected from the following structural formulas (I) and (II). Elementary (I)▲mathematical formula, chemical formula,
There are tables, etc. ▼ (II) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Here, R_1 is hydrogen, an alkyl group, or an aryl group. （３）前記カラーフィルターの緑色色素層が、フタロシ
アニン系色素及びフタロシアニン系色素とイソインドリ
ノン系色素の組合せ、フタロシアニン系色素とアントラ
キノン系色素の組合せから成ることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載のカラー液晶表示素子。(3) The green dye layer of the color filter is comprised of a phthalocyanine dye, a combination of a phthalocyanine dye and an isoindolinone dye, or a combination of a phthalocyanine dye and an anthraquinone dye. A color liquid crystal display element as described in . （４）前記カラーフィルターの青色色素層が、フタロシ
アニン系色素及びフタロシアニン系色素とキナクリドン
系色素の組み合せから成ることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のカラー液晶表示素子。(4) The color liquid crystal display element according to claim 1, wherein the blue dye layer of the color filter is composed of a phthalocyanine dye and a combination of a phthalocyanine dye and a quinacridone dye. （５）前記カラーフィルターが、レジストマスクを有す
る電極基板上に色素を蒸着後、該レジストマスクを除去
して成るリフトオフ法によって形成されたパターン状色
素層である特許請求の範囲第１項記載のカラー液晶表示
素子。(5) The color filter is a patterned dye layer formed by a lift-off method in which a dye is deposited on an electrode substrate having a resist mask and then the resist mask is removed. Color liquid crystal display element. （６）前記レジストマスクが、ポジ型レジストで形成さ
れたものである特許請求の範囲第５項記載のカラー液晶
表示素子。(6) The color liquid crystal display element according to claim 5, wherein the resist mask is formed of a positive resist.