JPS6392921A - Color liquid crystal element - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、表示要素の単位をつくる複数個の電極を備え
た一対の基板間で生しる電気光学的変化によって表示を
行なう液晶素子に関し、特にカラーフィルターを基板内
面に設けたカラー液晶素子に関し、更に詳しくは、カラ
ーフィルターと透明電極層との２層の組合せの代わりに
、導電性カラーフィルターの１層を設けることにより高
品質のカラー液晶素子を簡便な工程で能率よく提供する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a liquid crystal element that performs display by electro-optical changes occurring between a pair of substrates each having a plurality of electrodes forming a unit of display element. In particular, regarding a color liquid crystal element in which a color filter is provided on the inner surface of a substrate, more specifically, high quality color can be achieved by providing one layer of a conductive color filter instead of a combination of two layers of a color filter and a transparent electrode layer. A liquid crystal element can be efficiently provided through a simple process.
（従来の技術）
従来、前述のような液晶素子としては、上下基板で直行
した透明電極が形成された２枚の基板間に、電気光学的
変調材料としてＴＮ （ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａ−ｔ
ｉｃ）液晶や強誘電性液晶等を挟持してなる構造の時分
割駆動型液晶素子（通称、単純マトリクス方式という）
あるいは各々の表示画素毎に薄膜トランジスター（通称
ＴＰＴ ）等のスイッチング素子を設けた構造のアクテ
ィブマトリクス駆動型液晶素子（通称、アクティブマト
リクス方式という）が用いられている。(Prior Art) Conventionally, as a liquid crystal element as described above, TN (twisted nema-t
ic) A time-division drive type liquid crystal element (commonly known as a simple matrix type) that has a structure in which liquid crystal, ferroelectric liquid crystal, etc. are sandwiched between them.
Alternatively, an active matrix drive type liquid crystal element (commonly referred to as active matrix type) is used, which has a structure in which a switching element such as a thin film transistor (commonly referred to as TPT) is provided for each display pixel.
この様なパネル構成において、カラー表示をする為には
、液晶素子面に赤、緑、青色の色彩を存する透過型のカ
ラーフィルターを配置することが必要である。この場合
、カラー表示素子を斜めから見たときの視差を極力減ら
すために、カラーフィルターを液晶素子内部に配置する
ように専ら構成されている。In such a panel configuration, in order to perform color display, it is necessary to arrange a transmissive color filter that has red, green, and blue colors on the liquid crystal element surface. In this case, in order to reduce parallax as much as possible when the color display element is viewed obliquely, the color filter is exclusively disposed inside the liquid crystal element.
この様なカラーフィルター内設タイプのカラー液晶素子
は、通常、以下に述べる２つの方法により形成される。Such color filter built-in type color liquid crystal elements are usually formed by the following two methods.
すなわち、第１の方法としては、第１図（ａ）に示す様
に透明電極パターン１２を形成した基板上に該電極パタ
ーンとアライメントしたカラーフィルターパターン１３
を形成し、必要に応じて保護層１４を形成した後、配向
膜１５を積層し、該配向膜をラビング処理し、対向基板
と貼り合わせ、基板間の間隙に液晶を注入することによ
りカラー液晶素子を得ることができる。That is, as a first method, as shown in FIG. 1(a), a color filter pattern 13 aligned with the electrode pattern is placed on a substrate on which a transparent electrode pattern 12 is formed.
After forming a protective layer 14 as necessary, an alignment film 15 is laminated, the alignment film is rubbed, bonded to a counter substrate, and liquid crystal is injected into the gap between the substrates to form a color liquid crystal. element can be obtained.
また第２の方法としては、第１図（ｂ）に示す様に基板
ｌｌ上にカラーフィルター１３を形成し、必要に応じ保
護層１４を形成した後、ＩＴＱ （ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉ
ｎ−Ｏｘｉｄｅ）等の透明電極層１２をスパッタや蒸着
により形成し、該透明電極層上にフォトレジストパター
ンを設けた後、エツチングにより透明電極のパターン１
２をカラーフィルターパターン１３にアライメントして
形成する。次いでフォトレジストパターンを除去し、更
に配向膜１５を積層し、ラビング処理をした後、対向基
板と貼り合わせ、基板間の間隙に液晶を注入することに
よりカラー液晶素子を得ることができる。As a second method, a color filter 13 is formed on the substrate 11 as shown in FIG.
After forming a transparent electrode layer 12 such as n-Oxide by sputtering or vapor deposition, and providing a photoresist pattern on the transparent electrode layer, the transparent electrode pattern 1 is formed by etching.
2 is aligned and formed with the color filter pattern 13. Next, the photoresist pattern is removed, an alignment film 15 is further laminated, a rubbing treatment is performed, and then a counter substrate is bonded, and liquid crystal is injected into the gap between the substrates, thereby obtaining a color liquid crystal element.
（発明が解決しようとしている問題点）上記の如きカラ
ー液晶素子の構成においては、等しいパターンをもつ透
明電極とカラーフィルターとをその形成時にアライメン
ト精度良く形成しなければならないという工程上および
粒度上の問題がある。(Problem to be Solved by the Invention) In the configuration of the color liquid crystal element as described above, the transparent electrodes and color filters having the same pattern must be formed with high alignment accuracy during formation, which is a problem due to the process and particle size. There's a problem.
更にカラーフィルター上に透明電極を形成する方法では
、透明電極膜の蒸着やスパッタ時の加熱によるカラーフ
ィルターのダメージや透明電極膜のエツチング時におけ
るエッチャントによるカラーフィルターのダメージ等の
問題が生じている。本発明は、以上の様な問題点に鑑み
て提案されたもので、予めカラーフィルタ一層に導電性
を持たせることにより、第２図に示す如〈従来の透明電
極パターンとカラーフィルターパターンの２層構成を１
層構成にし、簡便な製造プロセスにより、歩留り良く、
低コストで高品質のカラー液晶素子を提供することを目
的とする。Furthermore, in the method of forming a transparent electrode on a color filter, there are problems such as damage to the color filter due to heating during vapor deposition or sputtering of the transparent electrode film, and damage to the color filter due to etchant during etching of the transparent electrode film. The present invention was proposed in view of the above-mentioned problems, and by imparting conductivity to the color filter layer in advance, it is possible to combine the conventional transparent electrode pattern and color filter pattern as shown in FIG. Layer configuration 1
With a layered structure and a simple manufacturing process, the yield is high.
The purpose is to provide a low-cost, high-quality color liquid crystal element.
上記目的は以下の本発明により達成された。The above objects have been achieved by the present invention as described below.
（問題点を解決するための手段）
すなわち、本発明は、一対の基板間に液晶を挟持し、こ
れらの基板のうちのいずれか一方の基板の内側にパター
ン状導電性カラーフィルターを配置して成るカラー液晶
素子である。(Means for Solving the Problems) That is, the present invention sandwiches a liquid crystal between a pair of substrates, and arranges a patterned conductive color filter inside one of these substrates. It is a color liquid crystal element consisting of
次に本発明を更に詳しく説明する。Next, the present invention will be explained in more detail.
本発明で使用し、主として本発明を特徴づける導電性カ
ラーフィルターは、あらかじめ透明性の導電性材料を混
合分散することのできる樹脂を使用し、これを任意の方
法、例えば、染色法、電着法、印刷法等により、所望の
色相、例えば、赤色、Ｉｊ色、青色等に着色してパター
ン化することによって得られ、特に好ましい方法は感光
性の樹脂を導電性化および着色化して、これをフォトリ
ソ工程を利用してパターン化する方法である。これらの
中で時に取り扱いやすさの銭点からは、あらかじめ着色
材料と導電性材料とを混合した樹脂液を用いる感光性の
着色樹脂による方法および印刷法が望ましい。The conductive color filter used in the present invention and which mainly characterizes the present invention uses a resin in which a transparent conductive material can be mixed and dispersed in advance, and is coated by any method such as dyeing, electrodeposition, etc. It can be obtained by coloring and patterning a desired hue, for example, red, Ij color, blue, etc., by a method, a printing method, etc., and a particularly preferred method is to make a photosensitive resin conductive and colored. This is a method of patterning using a photolithography process. Among these, from the viewpoint of ease of handling, a method using a photosensitive colored resin and a printing method using a resin liquid in which a colored material and a conductive material are mixed in advance are desirable.
本発明のカラーフィルター中に包含させる導電性材料と
しては、Ｓｎ、 Ｉｎ、 Ｎｉ、 Ｔｉ等の遷移金属酸
化物およびこれらに原子価の異なる酸化物を固溶させた
ものが好ましく、例えば、ＳｎＯ□−５ｂ２０ｉ系等が
ある。これらの導電性材料は、光透過性を妨げることが
無い様に可視光波長（４００〜７００ｎｍ ）より粒径
を細かくしたもの、すなわち、０．４μｍ以下、好まし
くは、０．２μｍ以下の粒径にしたものを用いる。該導
電性材料は、それ自体あるいは予め樹脂中に分散させた
塗料タイプとして、カラーフィルタ一層を形成する樹脂
中に３０〜７０重量％程度、好ましくは５０〜６０重量
％の割合で均一に分散させておく。The conductive material included in the color filter of the present invention is preferably a transition metal oxide such as Sn, In, Ni, or Ti, or a solid solution of a transition metal oxide such as Sn, In, Ni, or Ti, and a solid solution of oxides having different valences therein. -5b20i series etc. These conductive materials have particle sizes finer than visible light wavelengths (400 to 700 nm) so as not to impede optical transparency, that is, particle sizes of 0.4 μm or less, preferably 0.2 μm or less. Use the one that has been prepared. The conductive material is uniformly dispersed in the resin forming one layer of the color filter at a ratio of about 30 to 70% by weight, preferably 50 to 60% by weight, either by itself or as a paint type previously dispersed in the resin. I'll keep it.
本発明のカラーフィルタ一層を構成する樹脂材料として
は、ゼラチン、カゼイン、グリユー、ポリビニルアルコ
ール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイ
ミド、ポリパラキシリレン、ポリエステル、ポリカーボ
ネート、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース樹
脂、メラミン樹脂、エリア樹脂、アクリル樹脂、エポキ
シ樹脂および感光性ポリイミドフォトレジスト、感光性
ポリアミドフォトレジスト、環化ゴム系フォトレジスト
、フェノールノボラック系フォトレジストあるいは電子
線フォトレジスト［（メタ）アクリレート（モノマー、
オリゴマー、プレポリマー）、エポキシ化−１，４−ポ
リブタジェン等］等から好ましく選択することができる
。Examples of the resin materials constituting the single layer of the color filter of the present invention include gelatin, casein, green, polyvinyl alcohol, polyimide, polyamideimide, polyesterimide, polyparaxylylene, polyester, polycarbonate, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride, and polyvinyl acetate. , polyamide, polystyrene, cellulose resin, melamine resin, area resin, acrylic resin, epoxy resin and photosensitive polyimide photoresist, photosensitive polyamide photoresist, cyclized rubber photoresist, phenol novolak photoresist or electron beam photoresist [ (meth)acrylate (monomer,
(oligomer, prepolymer), epoxidized-1,4-polybutadiene, etc.].
尚、本発明で特に有用な感光性樹脂としては、以下の様
なものが挙げられる。The photosensitive resins particularly useful in the present invention include the following.
すなわち、２００℃以下にて硬化膜の得られるもの、例
えば、１５０”ＣＸ３０分程度０熱で硬化膜を形成でき
る、例えば、感光性基をその分子内に持つ芳香族系のポ
リアミド樹脂およびポリイミド樹脂で、特に、可視光波
長域（４００〜７００止）で特定の光吸収特性を持たな
いもの（光透過率で９０％程度以上のもの）が好ましい
。このような観点からは、特に芳香族系のポリアミド樹
脂または芳香族系のポリイミド樹脂が好ましい。That is, those that can form a cured film at 200°C or lower, such as aromatic polyamide resins and polyimide resins that can form a cured film at 0 heat for about 30 minutes at 150" CX, which have photosensitive groups in their molecules. In particular, those that do not have specific light absorption characteristics (light transmittance of about 90% or more) in the visible light wavelength range (400 to 700 stops) are preferable.From this point of view, aromatic Polyamide resins or aromatic polyimide resins are preferred.
また、感光性基としては、以下に示す様な感光性の炭化
水素不飽和基を存するものであればよく、例えば、
（１）安息香酸エステル類
（式中Ｒ１は（１：ＨＸ−１１；Ｙ−ＣＯＯ−Ｚ−、Ｘ
は−■または−Ｃ６Ｈ５、Ｙは−１１または−ＣＨ３，
２は−またはエチル基またはグリシジル基を示す。）
（２）ベンジルアクリレート類
（式中Ｙは一■または−ＣＨ３を示す。）（３）ジフェ
ニルエーテル類
（式中Ｒ２はＧＨＸ−ＣＹ−ＣＯＮＨ−１ｃＨ２−ｃｙ
−ｃｏｏ−＜ＣＩ＋２） ２−０（：０−マタはＣＩ＋
２−（：Ｙ−ＣＯＯ−（：Ｈ２−を１ヶ以上含むもの、
Ｘ、Ｙは前記と同意義を示す。）
（４）カルコン類およびその他化合物鎖（式中８３は＝
１１、アルキル基またはアルコキシ基を示す。ン
等が挙げられる。Further, the photosensitive group may be one having a photosensitive hydrocarbon unsaturated group as shown below, for example, (1) benzoic acid esters (in the formula, R1 is (1:HX-11; Y-COO-Z-,X
is -■ or -C6H5, Y is -11 or -CH3,
2 represents - or an ethyl group or a glycidyl group. ) (2) Benzyl acrylates (in the formula, Y represents 1 or -CH3) (3) diphenyl ethers (in the formula, R2 is GHX-CY-CONH-1cH2-cy
-coo-<CI+2) 2-0(:0-Mata is CI+
2-(:Y-COO-(:H2-),
X and Y have the same meanings as above. ) (4) Chalcone and other compound chains (in the formula, 83 is =
11, represents an alkyl group or an alkoxy group. Examples include:
これ等の基を分子内に持つ芳香族系のポリアミド樹脂お
よびポリイミド樹脂の具体インＪを示すと、リソコート
ＰＡ−１０００（γ部興産■製）、リソコートＰＩ−
４００（宇部興産■製）等が挙げられる。Specific examples of aromatic polyamide resins and polyimide resins having these groups in the molecule include Lisocoat PA-1000 (manufactured by γ-bu Kosan), Lisocoat PI-
400 (manufactured by Ube Industries, Ltd.).
一般にフォトリソ工程で用いられる感光性樹脂は、その
化学構造によって差はあるものの、機械的特性をはじめ
耐熱性、耐光性、耐溶剤性等の耐久性に優れたものは少
ない。これに対し、上記ポリアミド樹脂やポリイミド樹
脂等の感光性ポリアミノ系樹脂は、化学構造的にもこれ
らの耐久性に優れた樹脂系であり、これらを用いて形成
したカラーフィルターの耐久性も非常に良好なものとな
る。Generally, photosensitive resins used in photolithography processes vary depending on their chemical structure, but there are few that have excellent durability such as mechanical properties, heat resistance, light resistance, and solvent resistance. On the other hand, photosensitive polyamino resins such as the polyamide resins and polyimide resins mentioned above have excellent durability in terms of chemical structure, and the color filters formed using them are also extremely durable. It will be good.
本発明のカラー液晶素子のカラーフィルタ一層に用いら
れる色素材料としては、アゾ系、アントラキノン系、フ
タロシアニン系、キナクリドン系、インイントリノン系
、ジオキサジン系、ペリレン系、ペリノン系、チオイン
ジゴ系、ピロコリン系、フルオルビン系、キノフタロン
系等の染顔料が挙げられる。The dye materials used in the color filter layer of the color liquid crystal device of the present invention include azo, anthraquinone, phthalocyanine, quinacridone, inintrinon, dioxazine, perylene, perinone, thioindigo, pyrocholine, Examples include fluorobin-based dyes and pigments such as quinophthalone-based dyes and pigments.
これらの色素材料は、所望とする分光特性に従い、１０
〜５０重量％程度の割合で樹脂中に配合する。These dye materials can be used in accordance with the desired spectral properties.
It is blended into the resin at a ratio of about 50% by weight.
導電性を有するカラーフィルタ一層の層厚は、通常、０
．５〜５μｍ程度、好ましくは１〜２μｍ程度が望まし
い。The thickness of a single layer of a conductive color filter is usually 0.
．． The thickness is preferably about 5 to 5 μm, preferably about 1 to 2 μm.
尚、本発明のカラー液晶素子に使用するカラーフィルタ
ーは、それ自体充分な耐久性を有する良好な材料で構成
されているが、特に、より各種の環境条件から、カラー
フィルタ一層を保護するためには、カラーフィルタ一層
表面に、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリ
カーボネート、シリコン樹脂系等の有機樹脂やＳｉ３Ｎ
４、Ｓｉｎ、、５ｉＯ１ＡＪ１２０３、Ｔａ２Ｏ３等の
無機膜をスピンナーコート、ロールコート等の塗布法で
、あるいは蒸着法によって、保護層として設けることが
できる。更に、上記保護層を形成した後、材料によって
は、該保護層に配向処理を施すことにより、新たに配向
膜を用いなくとも液晶素子を形成することが可能となる
。The color filter used in the color liquid crystal element of the present invention is itself made of a good material with sufficient durability, but in particular, in order to further protect the color filter from various environmental conditions, The surface of the color filter is made of organic resin such as polyamide, polyimide, polyurethane, polycarbonate, silicone resin, or Si3N.
An inorganic film such as 4, Sin, 5iO1AJ1203, Ta2O3, etc. can be provided as a protective layer by a coating method such as spinner coating or roll coating, or by a vapor deposition method. Further, after forming the protective layer, depending on the material, by subjecting the protective layer to alignment treatment, it becomes possible to form a liquid crystal element without using a new alignment film.
この保護層の層厚は、一般的には、０．２〜２０μｍ、
好ましくは０．５〜５μｍの範囲に設定される。The thickness of this protective layer is generally 0.2 to 20 μm,
Preferably it is set in the range of 0.5 to 5 μm.
本発明に用いられる配向膜の材料としては、例えば、ポ
リビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミドイミド、
ポリエステル、ポリカーボネートポリビニルアセタール
、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリ
スチレン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユリャ樹脂
、アクリル樹脂等の樹脂類、あるいは感光性ポリイミド
、感光性ポリアミド、環化ゴム系フォトレジスト、フェ
ノールノボラック系フォトレジストあるいは電子線フォ
トレジスト［（メタ）クリレート（モノマー、オリゴマ
ー）エポキシ化−１，４−ポリブタジェン等）１等から
選択して形成することができる。Examples of materials for the alignment film used in the present invention include polyvinyl alcohol, polyimide, polyamideimide,
Resins such as polyester, polycarbonate polyvinyl acetal, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyamide, polystyrene, cellulose resin, melamine resin, Yuria resin, acrylic resin, or photosensitive polyimide, photosensitive polyamide, cyclized rubber photoresist, It can be formed by selecting from phenol novolak photoresist or electron beam photoresist ((meth)acrylate (monomer, oligomer) epoxidized-1,4-polybutadiene, etc.).
本発明で用いる液晶材料としては、一般的なＴＮ型液晶
のほか、特に適したものは双安定性を有する液晶であっ
て、強誘電性を有するものであり、具体的にはカイラル
スメクテイックＣ相（ＳｍＣ”相）、Ｈ相（Ｓｍｌｌ’
）、Ｉ相（ＳａＩ”相）、Ｊ相（ＳｍＪ”相）、に相（
ＳｍＫ”相）、Ｇ相（ＳｍＧ”相）またはＦ相（ＳｍＦ
”相）の液晶を用いることができこの強誘電性液晶につ
いては、′ル・ジュールナル・ド・フィジーク・ルチー
ルじＬＥ ＪＯＵＲＮＡＬＤＥ ＰＨＹＳＩＱＵＥ Ｌ
ＥＴＴＥＲ５″ ） １９７５年、 ３６（Ｌ−６９
）号、「フェロエレクトリック・リキッド・クリスタル
スＪ （’Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ １ｉｑｕｉｄ
（：ｒｙｓｔａｌＳ」）： “アプライド・フィジ
ックス・レターズ（Ａｐｐｌｉｅｄ ｐｈｙｓｉｃｓ
Ｌｅｔｔｅｒｓ ” ） １９８０年、３６（１１）号
、［サブミクロ・セカンド・バイスティプル・エレクト
ロオブチック・スイッチング・イン・リキッド・クリス
タル（’Ｓｕｂ＋＋１ｃｒｏ ５ｅｃｏｎｄ Ｂ１５ｔ
ａｂｌｅ Ｅｌｅｃｔｒｏｏｐｔｉｃ Ｓｗｉｔｃｈｉ
ｎｇ ｉｎ ＬｉｑｕｊｄＣｒｙｓｔａｌｓ」） ；
“固体物理”１９８１年、１旦（１４１）号、「液晶」
等に記載されており、本発明においては、これらに開示
された強誘電性液晶を使用することができる。As the liquid crystal material used in the present invention, in addition to the general TN type liquid crystal, particularly suitable liquid crystals are bistable liquid crystals and have ferroelectric properties, and specifically, chiral smectic liquid crystals. C phase (SmC” phase), H phase (Smll'
), I phase (SaI” phase), J phase (SmJ” phase), Ni phase (
SmK” phase), G phase (SmG” phase) or F phase (SmF
For this ferroelectric liquid crystal, it is possible to use a liquid crystal with a ``phase)''.
ETTER5'') 1975, 36 (L-69
) issue, 'Ferroelectric Liquid Crystals J ('Ferroelectric 1iquid
(:rystalS”): “Applied physics letters
Letters”) 1980, No. 36(11), [Submicro Second Bistiple Electroobtic Switching in Liquid Crystal ('Sub++1cro 5econd B15t
able Electrooptic Switch
ng in LiqujdCrystals”);
“Solid State Physics” 1981, No. 1 (141), “Liquid Crystal”
The ferroelectric liquid crystal disclosed in these documents can be used in the present invention.
強誘電性液晶化合物の具体例としては、デシロキシベン
ジリデン−Ｐ′−アミノ−２−メチルブチルシンナメー
ト（ＤＯＢＡＭＢＣ） 、ヘキシルオキシベンジリデン
−ｐ′−アミノ−２−クロロプロピルシンナメート（）
ＩＯＢＡＣＰＣ） 、４−ｏ −（２−メチル）−ブチ
ルレゾルシリダン−４′−オクチルアニリン（ＭＢＲＡ
８ ）等が挙げられる。Specific examples of ferroelectric liquid crystal compounds include desiloxybenzylidene-p'-amino-2-methylbutylcinnamate (DOBAMBC) and hexyloxybenzylidene-p'-amino-2-chloropropylcinnamate ().
IOBACPC), 4-o-(2-methyl)-butylresol silidane-4'-octylaniline (MBRA
8) etc.
これらの材料を用いて素子を構成する場合、液晶化合物
がカイラルスメクティック相となるような温度状態に保
持する為、必要に応じて素子をヒーターが埋め込まれた
ブロック等により支持することができる。When constructing an element using these materials, the element can be supported by a block or the like in which a heater is embedded, if necessary, in order to maintain the temperature at which the liquid crystal compound becomes a chiral smectic phase.
以下、図面を参照しつつ、本発明を主として特徴づける
代表的なカラーフィルターの形成方法を説明する。Hereinafter, a typical method of forming a color filter that mainly characterizes the present invention will be described with reference to the drawings.
第３図は本発明のカラーフィルター基板の形成方法を説
明する工程図である。まず、第３図（ａ）に示すごとく
、予め導電性材料および所望の分光特性を有する着色材
料が所定量配合されたポリアミノ系樹脂液（ＮＭＰ溶ｔ
＆）等の樹脂液を用い、第１色目の導電性着色樹脂膜３
２を所定の基板３１上に、スピンナー等の任意の塗布方
法を用い、所定の膜厚になるように塗布形成し、適当な
温度条件下でプリベークを行なう。次いで、第３図（ｂ
）に示すごとく、感光性樹脂の感度を有する光（例えば
、高圧水銀灯等からの紫外線）で、形成しようとするパ
ターンに対応した所定のパターン形状を有するフォトマ
スク３３を介して導電性着色樹脂膜を露光し、パターン
部の光硬化を行なう。FIG. 3 is a process diagram illustrating a method for forming a color filter substrate of the present invention. First, as shown in FIG. 3(a), a polyamino resin solution (NMP solution) containing a predetermined amount of a conductive material and a coloring material having desired spectral characteristics
&), etc., to form the first color conductive colored resin film 3.
2 is coated onto a predetermined substrate 31 using an arbitrary coating method such as a spinner so as to have a predetermined film thickness, and prebaked under appropriate temperature conditions. Next, Figure 3 (b
), a conductive colored resin film is coated with light to which the photosensitive resin is sensitive (for example, ultraviolet rays from a high-pressure mercury lamp, etc.) through a photomask 33 having a predetermined pattern shape corresponding to the pattern to be formed. is exposed to light to photocure the pattern area.
そして第３図（Ｃ）に示すごとく、光硬化部分３２ａを
有した導電性着色樹脂膜３２を、未露光部分のみを溶解
する溶剤（例えば、Ｎ−メチル−２−ビロリドン系溶剤
等を主成分とするもの）にて超音波等により現像した後
、リンス処理（例えば、１．１．１−トリクロロエタン
等）を行なう。次いで、ポストベーク処理を行ない、第
３図（ｄ）に示すごとき本発明のパターン状導電性着色
樹脂膜３４を得ることができる。Then, as shown in FIG. 3(C), the conductive colored resin film 32 having the photocured portion 32a is coated with a solvent (for example, N-methyl-2-pyrolidone-based solvent as a main component) that dissolves only the unexposed portion. After development using ultrasonic waves or the like, a rinsing treatment (for example, 1.1.1-trichloroethane, etc.) is performed. Next, a post-baking process is performed to obtain a patterned conductive colored resin film 34 of the present invention as shown in FIG. 3(d).
更に必要に応じて、すなわち用いられるカラーフィルタ
ーの色の数に応じて、第３図（ａ）から第３図（ｄ）ま
での工程を、各色に対応した着色材料および導電性材料
を分散させた導電性着色樹脂液をそれぞれ用いて繰り返
して行ない、例えば、第３図（ｅ）に示した様な異なる
色のパターン状導電性着色樹脂膜３４．３５および３６
の３色からなるカラーフィルターを形成することができ
る。Furthermore, if necessary, that is, depending on the number of colors of the color filter used, the steps from FIG. For example, patterned conductive colored resin films 34, 35 and 36 of different colors as shown in FIG.
A color filter consisting of three colors can be formed.
また、本発明で使用するカラーフィルターは、第３図（
ｆ）に示すようにフィルター上部に、先に挙げたような
材料から形成した保護層３７を有しているものであフて
もよい。更に該保護層３７上に配向膜を積層し、第２図
に示す様なカラー液晶素子のカラーフィルター基板を形
成することができる。In addition, the color filter used in the present invention is shown in Figure 3 (
As shown in f), a protective layer 37 formed from the above-mentioned materials may be provided on the top of the filter. Furthermore, an alignment film can be laminated on the protective layer 37 to form a color filter substrate of a color liquid crystal element as shown in FIG.
（実施例）
以下に本発明の実施例を示す。尚、文中％とあるのは重
量基準である。(Example) Examples of the present invention are shown below. Note that % in the text is based on weight.
実施例１
ガラス基板上に、所望の分光特性を得ることのできる導
電性青色着色樹脂材（へりオゲン ブルー（Ｈｅｌｉｏ
ｇｅｎ Ｂｌｕｅ ） Ｌ７０８０ （商品名、ＢＡ
ＳＦ社製、Ｃ，１，Ｎｏ、７４１６０）をＰＡ−１００
０Ｇ （商品名、宇部興産社製、ポリマー分ｌＯ％、溶
剤＝Ｎ−メチルー２−ピロリドン）に顔料：ポリマー＝
に２の重量比で配合して分散させて作成した感光性の着
色樹脂材と、導電性塗料シントロンＣ−４４５１（商品
名、神東塗料社製）とを着色樹脂材：導電性塗料＝１：
ｌの重量比で配合して調製〕をスピンナー塗布法により
、１．０μｍの膜厚に塗布した。次に該着色樹脂層に７
０℃、３０分間のブリベータを行なった後、形成しよう
とするパターン形状に対応したパターンマスクを介して
高圧水銀灯にて露光した。露光終了後、該導電性着色樹
脂膜の未露光部のみを溶解する専用現像液（Ｎ−メチル
−２−ピロリドンを主成分とする現像液）にて超音波を
使用して現像し、専用リンス液（１，１，１−トリクロ
ロエタンを主成分とするリンス液）で処理した後、１５
０℃、３０分間のポストベークを行ない、パターン形状
を存した導電性着色樹脂膜を形成した。Example 1 A conductive blue colored resin material (Heliogen Blue) capable of obtaining desired spectral characteristics was placed on a glass substrate.
gen Blue) L7080 (Product name, BA
PA-100 (manufactured by SF, C, 1, No. 74160)
0G (trade name, manufactured by Ube Industries, Ltd., polymer content 10%, solvent = N-methyl-2-pyrrolidone), pigment: polymer =
Colored resin material: Conductive paint=1 :
[prepared by blending in a weight ratio of 1] was coated to a film thickness of 1.0 μm using a spinner coating method. Next, apply 7 to the colored resin layer.
After performing blebbing at 0° C. for 30 minutes, exposure was performed using a high-pressure mercury lamp through a pattern mask corresponding to the pattern shape to be formed. After exposure, the conductive colored resin film is developed using ultrasonic waves in a special developer that dissolves only the unexposed areas (a developer whose main component is N-methyl-2-pyrrolidone), and then rinsed with a special rinse. After treatment with a rinsing liquid (rinsing liquid whose main component is 1,1,1-trichloroethane), 15
Post-baking was performed at 0° C. for 30 minutes to form a conductive colored resin film with a patterned shape.
続いて、青色着色パターンの形成されたガラス基板上に
、第２色目として導電性緑色着色樹脂材〔リオノール
グリーン（Ｌｉｏｎｏｌ Ｇｒｅｅｎ） ６ＹＫ（商品
名、東洋インキ社製、（：、１．尚、 ７４２６５ ）
をＰＡ−１０００Ｇ （商品名、宇部興産社製、ポリマ
ー分１０％、溶剤＝Ｎ−メチルー２−ピロリドン）に顔
料：ポリマー＝１：２の重量比で配合して分散させて作
成した感光性の着色樹脂材と、導電性塗料シントロン（
ニー４４５１ （商品名、神東塗料社製）とを着色樹脂
材：導電性塗料＝１：１の重量比で配合して調製〕を用
いる以外は、上記と同様にして、導電性緑色着色パター
ンをガラス基板上の所定の位置に形成した。Next, a conductive green colored resin material [Lionol] was applied as a second color onto the glass substrate on which the blue colored pattern was formed.
Green (Lionol Green) 6YK (Product name, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., (:, 1., 74265)
A photosensitive material prepared by blending and dispersing PA-1000G (trade name, manufactured by Ube Industries, Ltd., polymer content 10%, solvent = N-methyl-2-pyrrolidone) at a weight ratio of pigment:polymer = 1:2. Colored resin material and conductive paint Cintron (
Conductive green colored pattern was prepared in the same manner as above except that Nee 4451 (trade name, manufactured by Shinto Paint Co., Ltd.) was used] (prepared by blending colored resin material: conductive paint = 1:1 weight ratio). was formed at a predetermined position on a glass substrate.
更に、この様にして青色および緑色パターンが形成され
ているガラス基板上に、第３色目として、導電性赤色着
色樹脂材〔イルガジン レッド（Ｉｒｇａｚｉｎ Ｒｅ
ｄ ） ＢＰＴ （商品名、チハカイキー（Ｃ１ｂａ
−Ｇｅ ｉｇｙ）社製、Ｃ，１，Ｎｏ、７１１２７）を
ＰＡ−１０００Ｇ（商品名、宇部興産社製、ポリマー分
ｌＯ％、溶剤＝Ｎ−メチル−２−ピロリドン）に顔料：
ポリマー−１＝２の重量比で配合して分散させて作成し
た感光性の着色樹脂材と、導電性塗料シントロンＣ−４
４５１（商品名、神東塗料社製）とを着色樹脂材：導電
性塗料＝１：１のｆｆｌ量比で配合して調製）を用いる
以外は、上記と同様にして、導電性赤色着色パターンを
ガラス基板上の所定の位置に形成し、Ｒ（赤）、Ｇ（緑
）、Ｂ（青）の３色ストライプの導電性着色パターンを
得た。Furthermore, a conductive red colored resin material [Irgazin Red (Irgazin Red) was applied as a third color onto the glass substrate on which the blue and green patterns were formed in this way.
d) BPT (Product name: Chihakaiki (C1ba)
- Geigy) Co., Ltd., C, 1, No. 71127)) to PA-1000G (trade name, Ube Industries Co., Ltd., polymer content 10%, solvent = N-methyl-2-pyrrolidone) and pigment:
A photosensitive colored resin material prepared by blending and dispersing the polymer at a weight ratio of 1=2, and the conductive paint Syntron C-4.
A conductive red colored pattern was prepared in the same manner as above, except that 451 (trade name, manufactured by Shinto Paint Co., Ltd.) was used (prepared by blending colored resin material: conductive paint at an ffl ratio of 1:1). was formed at a predetermined position on a glass substrate to obtain a conductive colored pattern of three color stripes of R (red), G (green), and B (blue).
この様にして得られた導電性カラーフィルターパターン
上に保護層および平坦化層として透明樹脂材（ＰＡ−１
０００（： （商品名、宇部興産社製、ポリマー分＝１
０％、溶剤二Ｎ−メチルー２−ピロリドン））をスピン
ナー塗布法により約０．５μｍ厚の膜厚にて形成した。A transparent resin material (PA-1
000(: (Product name, manufactured by Ube Industries, polymer content = 1
0%, solvent (2N-methyl-2-pyrrolidone)) was formed to a film thickness of about 0.5 μm by spinner coating.
次に該保護層および平坦化層上に配向膜として、ポリイ
ミド形成溶液（日立化成工ｚ ｒｐＩｑｌ）を３０００
ｒｐｍで回転するスピンナーで塗布し、１５０℃で３０
分間加熱を行って２０００人のポリイミド被膜を形成し
た。しかる後、このポリイミド被膜表面をラビング処理
した。Next, 3000 ml of polyimide forming solution (Hitachi Chemical Z rpIql) was applied as an alignment film on the protective layer and the planarization layer.
Applied with a spinner rotating at rpm, 30 min at 150°C.
Heating was performed for 2,000 minutes to form a 2,000-layer polyimide film. Thereafter, the surface of this polyimide film was subjected to a rubbing treatment.
このようにして形成したカラーフィルター基板と、対向
する基板を貼り合せてセル組し、強誘電性液晶を注入、
封口して本発明のカラー液晶素子を得た。The color filter substrate thus formed and the opposing substrate are bonded together to form a cell, and ferroelectric liquid crystal is injected.
The container was sealed to obtain a color liquid crystal device of the present invention.
得られたカラー液晶素子は、良好な機能を存するもので
あった。The obtained color liquid crystal element had good functionality.
実施例２
薄膜トランジスターを用いた本発明のカラー液晶素子を
以下の様に形成した。Example 2 A color liquid crystal device of the present invention using thin film transistors was formed as follows.
まず薄膜トランジスター基板を第４図に示す様に順次形
成した。すなわち、第４図（ａ）に示すように、ガラス
基板（商品名＋ ７０５９、コーニング社製）４１上に
１０００人の層厚の１７０画素電極４２をフォトリソ工
程により所望のパターンに成形した後、この面に更にＡ
ＩＬを１０００人の層厚に真空蒸着し、この蒸着層をフ
ォトリソ工程により所望の形状にパターンニングして第
４図（ｂ）に示すようなゲート電極４３を形成した。First, thin film transistor substrates were sequentially formed as shown in FIG. That is, as shown in FIG. 4(a), after forming 170 pixel electrodes 42 with a thickness of 1000 layers into a desired pattern on a glass substrate (product name + 7059, manufactured by Corning Inc.) 41 by a photolithography process, Further A on this side
IL was vacuum deposited to a thickness of 1,000 layers, and this deposited layer was patterned into a desired shape by a photolithography process to form a gate electrode 43 as shown in FIG. 4(b).
続いて、感光性ポリイミド樹脂（商品名：セミコファイ
ン、東し社製）を前記電極の設けられた基板４１面上に
塗布し絶縁層４５を形成し、パターン露光および現像処
理によってドレイン電極４９と画素電極４２とのコンタ
クト部を構成するスルーホール４４を第４図（ｃ）に示
すように形成した。Subsequently, a photosensitive polyimide resin (trade name: Semico Fine, manufactured by Toshisha Co., Ltd.) is coated on the surface of the substrate 41 on which the electrodes are provided to form an insulating layer 45, and a drain electrode 49 is formed by pattern exposure and development. A through hole 44 constituting a contact portion with the pixel electrode 42 was formed as shown in FIG. 4(c).
ここで、基板４１を堆積槽内の所定の位置にセットし、
堆積槽内に１１２で希釈されたＳｉＨ４を導入し、真空
中でグロー放電法により、前記電極４２．４３および絶
縁層４５の設けられた基板４１全面に２０００人の層厚
のａ−Ｓ ｉからなる光導電層（イントリンシック層）
４６を堆積させた後、この光導電層４６上に引続き同様
な操作によって、１０００人の層厚のｎ＋層４７を第４
図（ｄ）に示したように積層した。この基板４１を堆積
槽から取り出し、前記ｎ３層４７および光導電層４６の
それぞれを、この順にドライエツチング法により所望の
形状に第４図（ｅ）に示したようにパターンニングした
。Here, the substrate 41 is set at a predetermined position in the deposition tank,
SiH4 diluted with 112 is introduced into the deposition tank, and a-Si with a thickness of 2,000 layers is applied to the entire surface of the substrate 41 on which the electrodes 42 and 43 and the insulating layer 45 are provided by a glow discharge method in a vacuum. photoconductive layer (intrinsic layer)
46, a fourth n+ layer 47 having a thickness of 1000 layers is deposited on this photoconductive layer 46 by the same operation.
They were laminated as shown in Figure (d). This substrate 41 was taken out from the deposition bath, and the N3 layer 47 and the photoconductive layer 46 were each patterned into a desired shape by dry etching in this order as shown in FIG. 4(e).
次に、このようにして光導電層４６およびｎ”層４７が
設けられている基板面に、Ａ２を１０００人の層厚で真
空蒸着した後、このＡ２蒸着層をフォトリソ工程により
所望の形状にパターンニングして、第４図（ｆ）に示す
ようなソース電極４８およびトレイン電極４９を形成し
た。Next, on the substrate surface on which the photoconductive layer 46 and the n'' layer 47 are provided, A2 is vacuum deposited to a thickness of 1,000 layers, and then this A2 deposited layer is shaped into a desired shape by a photolithography process. Patterning was performed to form a source electrode 48 and a train electrode 49 as shown in FIG. 4(f).
最後に：ｊｊＪ４図（ｇ）に示したように基板上の全面
に透明絶縁層５０ａとしてネガレジスト（例、東京応化
ｙ４ｏｏｕＲ）を形成し、更にその全面上にポリイミド
樹脂を、１２００人厚に塗布し、２５０℃、１時間の加
熱硬化を行ってポリイミド樹脂層５０ｂを形成し、しか
る後に、該ポリイミド樹脂層５０ｂの表面をラビング処
理して液晶を配向させる配向機能を付与させた。Finally: As shown in Figure (g) of jjJ4, a negative resist (e.g., Tokyo Ohka Y4OOR) is formed on the entire surface of the substrate as a transparent insulating layer 50a, and polyimide resin is further applied to a thickness of 1200 mm on the entire surface. The polyimide resin layer 50b was then heat-cured at 250° C. for 1 hour, and then the surface of the polyimide resin layer 50b was rubbed to provide an alignment function for aligning the liquid crystal.
この様にして配向機能を付与したポリイミド樹脂層から
成る電極基板（第４図（ｈ））を形成した。In this way, an electrode substrate (FIG. 4(h)) consisting of a polyimide resin layer imparted with an orientation function was formed.
次に、対向電極基板としてカラーフィルター基板を以下
の様に形成した。Next, a color filter substrate was formed as a counter electrode substrate in the following manner.
すなわち、ガラス基板（商品名： ７０５９、コーニン
グ社製）上に所望の分光特性を得ることのできる導電性
青色着色樹脂材（へりオゲン ブルー（Ｈｅｌｉｏｇｅ
ｎ Ｂｌｕｅ ） １７０８０ （商品名、ＢＡＳＦ
社製、Ｃ，ｌ、Ｎｏ、７４１６０）を導電性塗料シント
ロンＣ−４４５１（商品名、神東塗料社製、バインダー
：アクリルメラミン樹脂、固形分：４０！ｋ）に顔料：
バインダー＝１＝２のｆｆｉＭｔ比で配合して分散させ
て作成した導電性の着色樹脂材〕をオフセット印刷法に
より、１．０μｍのｋＭでストライブパターンを印刷し
、１５０℃で３０分間のヘークを行ない。That is, a conductive blue colored resin material (Heliogen Blue) capable of obtaining desired spectral characteristics was placed on a glass substrate (trade name: 7059, manufactured by Corning Inc.).
n Blue) 17080 (Product name, BASF
Co., Ltd., C, L, No. 74160) to the conductive paint Cintron C-4451 (trade name, Shinto Paint Co., Ltd., binder: acrylic melamine resin, solid content: 40!k) and pigment:
A conductive colored resin material prepared by blending and dispersing the binder at an ffiMt ratio of 1 = 2] was printed with a stripe pattern at a km of 1.0 μm using an offset printing method, and then dried at 150°C for 30 minutes. Do this.
第１色目の導電性青色着色パターンを形成した。A first color conductive blue colored pattern was formed.
続いて、青色着色パターンの形成されたガラス基板上に
、第２色目として導電性赤色着色樹脂材（リオノール
グリーン（Ｌｉｏｎｏｌ Ｇｒｅｅｎ） ６Ｙに（商品
名、東洋インキ社製、Ｃ，１，Ｎｏ、７４２６５）を導
電性塗料シントロンＣ−４４５１（商品名、神東塗料社
製、バインダー：アクリルメラミン樹脂、固形分：４０
％）に顔料：バインダー＝１＝２の重量比で配合して分
散させて作成した導電性の着色樹脂材〕を用いる以外は
、上記と同様にして、導電性緑色着色パターンを基板上
の所定の位置に形成した。Next, a conductive red colored resin material (Lionol) was applied as a second color onto the glass substrate on which the blue colored pattern was formed.
Green (Lionol Green) 6Y (trade name, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., C, 1, No. 74265) was added to the conductive paint Syntron C-4451 (trade name, manufactured by Shinto Toyo Co., Ltd., binder: acrylic melamine resin, solid content :40
A conductive green colored pattern was formed on the substrate in the same manner as above, except that a conductive colored resin material prepared by blending and dispersing the pigment and binder in a weight ratio of 1=2 (%) and pigment:binder=1=2 was used. It was formed at the position of
更に、この様にして青色および緑色パターンの形成され
ている基板上に、第３色目として、導電性赤色着色樹脂
材（イルガジン レッド（Ｉｒｇａ−ｚｉｎ Ｒｅｄ）
ＢＰＴ （商品名、チバガイギ−（（：ｉｂａ Ｇｅｉ
−ｇｙ ）社製、Ｃ，１，Ｎｏｊｌ１２７）を導電性塗
料シントロンＣ−４４５１（商品名、神東塗料社製、バ
インダー：アクリルメラミン樹脂、固形分：４０％）に
顔料：バインダー−工：２の重量比で配合して分散させ
て作成した導電性の着色樹脂材〕を用いる以外は、上記
と同様にして導電性赤色着色パターンを基板上の所定の
位置に形成し、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色ス
トライブの導電性着色パターンを得た。Furthermore, a conductive red colored resin material (Irga-zin Red) was applied as a third color onto the substrate on which the blue and green patterns were formed in this way.
BPT (Product name, Ciba GeiGi)
-gy) Co., Ltd., C, 1, Nojl127) was added to the conductive paint Syntron C-4451 (trade name, Shinto Toyo Co., Ltd., binder: acrylic melamine resin, solid content: 40%), pigment: binder: 2 A conductive colored resin material prepared by blending and dispersing in a weight ratio of R (red), A conductive colored pattern of three color stripes of G (green) and B (blue) was obtained.
この様にして得られた導電性カラーフィルターパターン
上の全面に、ポリイミド樹脂を１２００人厚に塗布し、
２５０℃、１時間の加熱硬化を行なってポリイミド樹脂
層を形成した後、該樹脂層の表面をラビング処理により
配向機能を付与して、カラーフィルター基板を形成した
。Polyimide resin was applied to the entire surface of the conductive color filter pattern obtained in this way to a thickness of 1200 mm.
After forming a polyimide resin layer by heat curing at 250° C. for 1 hour, the surface of the resin layer was given an orientation function by rubbing treatment to form a color filter substrate.
そして、この基板と先に形成した薄膜トランジスターを
有する基板とを対向させ、貼り合わせた後、その間隙に
ＴＮ型液晶を注入、封口して本発明のカラー液晶素子を
得た。After this substrate and the substrate having the previously formed thin film transistor were placed facing each other and bonded together, TN type liquid crystal was injected into the gap and sealed to obtain a color liquid crystal element of the present invention.
得られたカラー液晶素子は、良好な機能を有するもので
あった。The obtained color liquid crystal element had good functionality.
実施例３
３色カラーフィルターを、対向電極基板上に設ける代わ
りに薄膜トランジスター基板上に設けた。すなわち、ガ
ラス基板上に形成する画素電極パターンの代わりに、モ
ザイク状の導電性カラーフィルターパターンを形成する
以外は、実施例２と同様にして、第５図に示す様な導電
性カラーフィルターを有する薄膜トランジスター基板を
形成した。この様にして得られた基板と対向電極基板と
を対向させ、貼り合わせ、その間隙にＴＮ型液晶を注入
および封口して本発明のカラー液晶素子を得た。Example 3 A three-color filter was provided on a thin film transistor substrate instead of on a counter electrode substrate. That is, a conductive color filter as shown in FIG. 5 was prepared in the same manner as in Example 2, except that a mosaic conductive color filter pattern was formed in place of the pixel electrode pattern formed on the glass substrate. A thin film transistor substrate was formed. The substrate thus obtained and the counter electrode substrate were placed facing each other and bonded together, and a TN type liquid crystal was injected into the gap and sealed to obtain a color liquid crystal element of the present invention.
得られたカラー液晶素子は、良好な機能を有するもので
あった。The obtained color liquid crystal element had good functionality.
（効 果）
以上説明したように、本発明によれば、カラーフィルタ
一層自体に導電性を持たせることにより、電極の機能と
カラーフィルターの機能とを合わせ持ち、従来、透明電
極パターンと該パターンにアライメントしたカラーフィ
ルターパターンとの２層構成をとっているものを１層構
成とすることができ、これにより、簡便な製造プロセス
にて歩留り良く、低コストで高品質のカラー液晶素子を
提供することができる。(Effects) As explained above, according to the present invention, by imparting conductivity to one layer of the color filter itself, it has both the function of an electrode and the function of a color filter. What used to be a two-layer structure with a color filter pattern that is aligned can be made into a single-layer structure, thereby providing a high-quality color liquid crystal element at low cost and with a high yield through a simple manufacturing process. be able to.
また、本発明によれば、高性能の樹脂材料、着色材料、
導電性材料を用いていることから、信頼性の高いカラー
液晶素子が提供される。更に、樹脂中の着色材料の種類
や濃度とカラーフィルタ一層の厚みをコントロールする
ことで容易に所望の分光特性をもつカラー液晶素子を設
計することが可能である。Further, according to the present invention, high-performance resin materials, colored materials,
Since a conductive material is used, a highly reliable color liquid crystal element is provided. Furthermore, by controlling the type and concentration of the coloring material in the resin and the thickness of the color filter layer, it is possible to easily design a color liquid crystal element with desired spectral characteristics.
第１図（ａ） 、 （ｂ）は、従来のカラー液晶素子に
用いられるカラーフィルター基板の概略断面図、第２図
は、本発明によるカラーフィルター基板の概略断面図、
第３図（ａ）〜（ｆ）は、本発明によるカラーフィルタ
ー基板の形成方法を説明するための工程図、第４図（ａ
）〜（ｈ）は、薄膜トランジスターを用いたカラー液晶
素子における薄膜トランジスター基板の形成方法を説明
するための工程図、第５図は、本発明の実施例３に示す
カラーフィルターを有する薄膜トランジスター基板の斜
親図である。
１１．２１．３１．４１． ５−−−一基板１２．４２
−−−透明電極（画素電極）１３−・・−力ラーフィル
ター
１４．２３．３７一−保護層
１５．２４．５０ｂ−一配向膜
２２．３４．３５．３６．５４ａ、５４ｂ、 ５４ｃ、
５４ｄ−ｍ−導電性カラーフィルター
３２．３２ａ−一導電性着色樹脂膜
３３−・・−フォトマスク
４３．５１ａ、 ５１ｂ、 ５１ｃ、 ５１ｄ−−ゲー
ト電極４４−・−スルーホール
４５．５１ａ、 ５５−一絶縁層
４ Ｂ −−−−光導電層
４７−−−−ｎ”層
４８．５３ａ、５３ｂ−一ソース電極
４９−−−ドレイン電極
５１ａａ、 ５１ａｂ−−ゲート線
５２ａ、５２ｂ、 ５２ｃ、５２ｄ−一薄膜トランシス
ター第７０Ｌ図
第Ｔｏ図
第２図
第３図1(a) and (b) are schematic sectional views of a color filter substrate used in a conventional color liquid crystal element, and FIG. 2 is a schematic sectional view of a color filter substrate according to the present invention.
3(a) to 3(f) are process diagrams for explaining the method of forming a color filter substrate according to the present invention, and FIG. 4(a)
) to (h) are process diagrams for explaining the method for forming a thin film transistor substrate in a color liquid crystal element using thin film transistors, and FIG. FIG. 11.21.31.41. 5---One board 12.42
--- Transparent electrode (pixel electrode) 13 --- Color filter 14.23.37 --- Protective layer 15.24.50b --- Alignment film 22.34.35.36.54a, 54b, 54c,
54d-m-Conductive color filter 32.32a--Conductive colored resin film 33--Photomask 43.51a, 51b, 51c, 51d--Gate electrode 44--Through hole 45.51a, 55- One insulating layer 4B---Photoconductive layer 47---N'' layer 48.53a, 53b---One source electrode 49---Drain electrode 51aa, 51ab---Gate line 52a, 52b, 52c, 52d--- Thin film transistor Figure 70L Figure To Figure 2 Figure 3
Claims (2)
ちのいずれか一方の基板の内側にパターン状導電性カラ
ーフィルターを配置して成るカラー液晶素子。(1) A color liquid crystal element in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, and a patterned conductive color filter is arranged inside one of these substrates.
芳香族系のポリアミド樹脂または芳香族系のポリイミド
樹脂膜中に着色材料および導電性材料を分散してなる導
電性着色樹脂からフォトリソ工程により形成される特許
請求の範囲第１項記載のカラー液晶素子。(2) The color filter is produced by a photolithography process using a conductive colored resin in which a colored material and a conductive material are dispersed in an aromatic polyamide resin having a photosensitive group in the molecule or an aromatic polyimide resin film. A color liquid crystal device according to claim 1, formed by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61237125A JPS6392921A (en) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | Color liquid crystal element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61237125A JPS6392921A (en) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | Color liquid crystal element |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6392921A true JPS6392921A (en) | 1988-04-23 |
Family
ID=17010780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61237125A Pending JPS6392921A (en) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | Color liquid crystal element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6392921A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980028933A (en) * | 1996-10-24 | 1998-07-15 | 손욱 | Liquid crystal display element |
| US6704075B2 (en) * | 2000-02-14 | 2004-03-09 | Seiko Epson Corporation | Color filter substrate, method of fabricating color filter substrate, liquid crystal device, method of fabricating liquid crystal device, and electronic apparatus |
| FR2887641A1 (en) * | 2005-06-28 | 2006-12-29 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Chromatic filter substrate for e.g. liquid crystal display, has red, green and blue chromatic filters, provided on openings of black surround, comprising red, green and blue resins, respectively and transparent conducting materials |
| JP2007264582A (en) * | 2005-11-21 | 2007-10-11 | Bridgestone Corp | Panel for information display |
-
1986
- 1986-10-07 JP JP61237125A patent/JPS6392921A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980028933A (en) * | 1996-10-24 | 1998-07-15 | 손욱 | Liquid crystal display element |
| US6704075B2 (en) * | 2000-02-14 | 2004-03-09 | Seiko Epson Corporation | Color filter substrate, method of fabricating color filter substrate, liquid crystal device, method of fabricating liquid crystal device, and electronic apparatus |
| FR2887641A1 (en) * | 2005-06-28 | 2006-12-29 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Chromatic filter substrate for e.g. liquid crystal display, has red, green and blue chromatic filters, provided on openings of black surround, comprising red, green and blue resins, respectively and transparent conducting materials |
| JP2007264582A (en) * | 2005-11-21 | 2007-10-11 | Bridgestone Corp | Panel for information display |
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