JPS6179796A - クロム電析方法 - Google Patents
クロム電析方法Info
- Publication number
- JPS6179796A JPS6179796A JP20095284A JP20095284A JPS6179796A JP S6179796 A JPS6179796 A JP S6179796A JP 20095284 A JP20095284 A JP 20095284A JP 20095284 A JP20095284 A JP 20095284A JP S6179796 A JPS6179796 A JP S6179796A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- chromium
- bath
- electrode
- sulfuric acid
- Prior art date
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- Pending
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明はクロム電析方法に関し、さらに詳しくは、クロ
ムメッキ、硬質クロムメッキおよびクロム電鋳等のクロ
ム電析方法に関する。なお、クロム電析方法の代表的な
りロムメッキについて以下説明する。
ムメッキ、硬質クロムメッキおよびクロム電鋳等のクロ
ム電析方法に関する。なお、クロム電析方法の代表的な
りロムメッキについて以下説明する。
[従来技術1
従来から、クロムメッキは、通常金属分を補給するため
に無水クロム酸を用い、これに硫酸を添加した浴を使用
していた。
に無水クロム酸を用い、これに硫酸を添加した浴を使用
していた。
しかして、この無水クロム酸と硫酸との浴を使用するク
ロムメッキ法に代り、無水クロム酵と硫酸とよりなる浴
に珪弗化物含有物質を添加して、クロムメッキを行なう
方法が開発され、この方法によれば、クロムメッキ光沢
の範囲が広く、高電流密度が使用でき、電流効率の高い
という効果を得ることができるが、不溶性陽極として、
通常、pb、pb金合金使用するが、メッキ中にこのp
b合金不溶性陽極はその消耗が極めて大きいという問題
があり、また、再近開発されrこ、耐蝕性金属、例えば
、Ti表面に白金族金属、例えば、Ptを被覆(メッキ
等によりルた不溶性電極を使用したが、メッキ中にCr
”のCr’+への酸化が起らないという問題があった。
ロムメッキ法に代り、無水クロム酵と硫酸とよりなる浴
に珪弗化物含有物質を添加して、クロムメッキを行なう
方法が開発され、この方法によれば、クロムメッキ光沢
の範囲が広く、高電流密度が使用でき、電流効率の高い
という効果を得ることができるが、不溶性陽極として、
通常、pb、pb金合金使用するが、メッキ中にこのp
b合金不溶性陽極はその消耗が極めて大きいという問題
があり、また、再近開発されrこ、耐蝕性金属、例えば
、Ti表面に白金族金属、例えば、Ptを被覆(メッキ
等によりルた不溶性電極を使用したが、メッキ中にCr
”のCr’+への酸化が起らないという問題があった。
[発明が解決しようとする問題点1
本発明は上記に説明した、弗素含有物質を添加した無水
クロム酸と硫酸とよりなる浴を使用してクロム電析を行
なう際に、メッキ中にメンキ浴を汚染したり、また、不
溶性電極自体が消耗することがなく、光沢の範囲が広い
メッキが行なうことができ、かつ、電流効率の一良好な
不溶性電険を使用するクロム電析方法を開発したのであ
る。
クロム酸と硫酸とよりなる浴を使用してクロム電析を行
なう際に、メッキ中にメンキ浴を汚染したり、また、不
溶性電極自体が消耗することがなく、光沢の範囲が広い
メッキが行なうことができ、かつ、電流効率の一良好な
不溶性電険を使用するクロム電析方法を開発したのであ
る。
[問題点を解決するための手段1
本発明に係るクロム電析方法の特徴とす゛るところは、
弗素含有物質を添加した無水りaム酸と硫酸とからなる
浴を使用し、白金族金属酸化物または白金族金属合金の
酸化物を不溶性陽極として電析を行なうことにある。
弗素含有物質を添加した無水りaム酸と硫酸とからなる
浴を使用し、白金族金属酸化物または白金族金属合金の
酸化物を不溶性陽極として電析を行なうことにある。
以下本発明に係るクロム電析方法について詳細に説明す
る(なお、上記した通り、クロムメッキを代表として説
明する6)。
る(なお、上記した通り、クロムメッキを代表として説
明する6)。
本発明に係るりaム電析方法において、弗素含有物質と
しては、弗酸、弗化ナトリウム、弗化アンモニ、ウム、
珪弗酸、珪弗化ナト1功ム、珪弗化カリ、珪弗化水素酸
或いは硼弗化物等が使用できる。そして、添加する量と
しては、0.5〜15g/lの範囲とするのがよいが、
この範囲の添加量よりもさらに少量の添加でも有効であ
る。以下の説明においでは、代表的な例として珪弗化ナ
トリウムについて行なう。
しては、弗酸、弗化ナトリウム、弗化アンモニ、ウム、
珪弗酸、珪弗化ナト1功ム、珪弗化カリ、珪弗化水素酸
或いは硼弗化物等が使用できる。そして、添加する量と
しては、0.5〜15g/lの範囲とするのがよいが、
この範囲の添加量よりもさらに少量の添加でも有効であ
る。以下の説明においでは、代表的な例として珪弗化ナ
トリウムについて行なう。
また、無水クロム酸は、100〜500g/lのように
広い範囲に15いて使用することができるが、最適な量
は250g/lであり、大体200〜400g/lの範
囲において光沢の範囲は良好で、電流効率も良好である
。
広い範囲に15いて使用することができるが、最適な量
は250g/lであり、大体200〜400g/lの範
囲において光沢の範囲は良好で、電流効率も良好である
。
さらに、硫酸は、通常無水クロム酸の1/100が標串
とされているが、硫酸は2〜3g/lの範囲がよい。
とされているが、硫酸は2〜3g/lの範囲がよい。
次に、本発明に係るクロム電析方法において使用する不
溶性電極は、白金族金属酸化物(合金を含む)、例えば
、Ire、が好適であるが、その池、白金、ロノウム、
ルテニウム等の酸化物等(またはこれらの合金の酸化物
)が使用できる(以下bo2を代表例として説明する。
溶性電極は、白金族金属酸化物(合金を含む)、例えば
、Ire、が好適であるが、その池、白金、ロノウム、
ルテニウム等の酸化物等(またはこれらの合金の酸化物
)が使用できる(以下bo2を代表例として説明する。
)。
この本発明に係るクロム電析方法に使用するIrCh不
溶性電極の製法を簡単に説明すると、耐蝕性金属(Ti
、 Zr、 Nb、 Ta、およびこれラノ合金)の板
の表面に酸化イリジウムを直接固着したり、また、上記
耐蝕性金属板表面に多孔質の白金メッキな行ない、次い
で、塩化イリノウム溶液を上記白金メッキに浸透させて
乾燥後加熱して酸化イリノウムを被覆して、不溶性1r
O1電極とするのである。
溶性電極の製法を簡単に説明すると、耐蝕性金属(Ti
、 Zr、 Nb、 Ta、およびこれラノ合金)の板
の表面に酸化イリジウムを直接固着したり、また、上記
耐蝕性金属板表面に多孔質の白金メッキな行ない、次い
で、塩化イリノウム溶液を上記白金メッキに浸透させて
乾燥後加熱して酸化イリノウムを被覆して、不溶性1r
O1電極とするのである。
しかして、この本発明に係るクロムメッキ電析方法にお
いて使用するIrO2不溶性電極について、従来のpb
、pb金合金pt被覆Ti等の不溶性電極と比較してク
ロムメッキに好適であることについて説明する。なお、
クロムメッキ浴中に3価のクロムが略一定量存在するこ
とにより、良好なりロムメッキが得られることはよく知
られている。
いて使用するIrO2不溶性電極について、従来のpb
、pb金合金pt被覆Ti等の不溶性電極と比較してク
ロムメッキに好適であることについて説明する。なお、
クロムメッキ浴中に3価のクロムが略一定量存在するこ
とにより、良好なりロムメッキが得られることはよく知
られている。
第1図は、3価のクロム濃度と時間との関係を示す図で
あり、浴組成は、Na25iFs Ig/l、H2S
O,2,5g/lであり、全電流5Anp、電流密度
陽極:25 A/dm2、陰極:12,5A/dII:
、浴 150m1、温度41〜45.5℃で測定した結
果、曲線1のIrO2電極および曲線2のpb主電極時
間が経過してら3価クロム量には変化がないが、曲線3
のPし被覆Ti電極は時間の経過と共に3価クロム量が
増加していて不安定である。
あり、浴組成は、Na25iFs Ig/l、H2S
O,2,5g/lであり、全電流5Anp、電流密度
陽極:25 A/dm2、陰極:12,5A/dII:
、浴 150m1、温度41〜45.5℃で測定した結
果、曲線1のIrO2電極および曲線2のpb主電極時
間が経過してら3価クロム量には変化がないが、曲線3
のPし被覆Ti電極は時間の経過と共に3価クロム量が
増加していて不安定である。
第2図はNa25iF=が5g/lである外は第1図ト
略同等の条件であり、その測定結果は、曲線1のIro
2電極、曲線2 のPb電極、$!4のPb−3n電極
は時間が経過してI33価クロムの濃度には殆んど変化
はないが、曲線3のPt被覆Ti電極は時間の経過と共
に3価クロムの濃度が上昇している。
略同等の条件であり、その測定結果は、曲線1のIro
2電極、曲線2 のPb電極、$!4のPb−3n電極
は時間が経過してI33価クロムの濃度には殆んど変化
はないが、曲線3のPt被覆Ti電極は時間の経過と共
に3価クロムの濃度が上昇している。
第3図はNa25IFsが15g/Iである外は第1図
と同じ条件であり、その測定結果は、曲線1のIrO2
電極および曲線2のpb主電極時間経過でも31i1[
iクロム濃度には殆んど変化がないが、曲線3のPt被
覆Ti電極は時間の経過につ八で3価りロム濃度が上昇
している。
と同じ条件であり、その測定結果は、曲線1のIrO2
電極および曲線2のpb主電極時間経過でも31i1[
iクロム濃度には殆んど変化がないが、曲線3のPt被
覆Ti電極は時間の経過につ八で3価りロム濃度が上昇
している。
この3つの例から明らかなように、本発明に係るクロム
電析方法に使用するIrO2電極は、メッキ中において
も3価りロム濃度に殆んど変化がなく、かつ、浴を汚染
することもない優れたクロム電析における不溶性電極で
ある。
電析方法に使用するIrO2電極は、メッキ中において
も3価りロム濃度に殆んど変化がなく、かつ、浴を汚染
することもない優れたクロム電析における不溶性電極で
ある。
なお、pb主電極pb合金電極も時間の経過による3価
クロムの濃度には変化がないが、上記したように、消耗
が極めて大きいことがら本発明に係るクロム電析方法に
は側底使用することはできない。
クロムの濃度には変化がないが、上記したように、消耗
が極めて大きいことがら本発明に係るクロム電析方法に
は側底使用することはできない。
また、Pt被覆Ti電極は時間の経過につれて3価りロ
ム濃度が上昇するので安定してメッキを行なうことがで
きず、本発明に係るクロム電析方法には使用することが
できないのである。
ム濃度が上昇するので安定してメッキを行なうことがで
きず、本発明に係るクロム電析方法には使用することが
できないのである。
さらに、この3つの例から、NazSiFg等の珪弗化
物含有物質の量は、不溶性Ire2電極を使用すること
と相俟って、0.5〜15g/lの範囲とするのがよい
が、さらに少量の添加でも同じような効果がある。
物含有物質の量は、不溶性Ire2電極を使用すること
と相俟って、0.5〜15g/lの範囲とするのがよい
が、さらに少量の添加でも同じような効果がある。
[実施例1
本発明に係るクロム電析方法の実施例を説明する。
実施例
以下に説明する条件によりメッキを行ない、その結果を
示す。
示す。
(1) 条件
・浴組成
Cr(6)= 124.4g/l、
Cr03=239.36/l、112so、=1.5g
/l、NazSiFi=5g/l、pH=−0,34、
液温 39〜42℃、 ・不溶性電極 IrO2、 その結果、優れた光沢のクロムメッキが得られ、電流効
率は17.52であって、無水クロム酸と硫酸のメッキ
浴(所謂、サージェント浴。)の8゜23より優れてお
り、メッキのON、OFFを繰返してもメッキを続けて
行なうことができる。メッキ厚は目的に応じて調筋する
ことが可能である。
/l、NazSiFi=5g/l、pH=−0,34、
液温 39〜42℃、 ・不溶性電極 IrO2、 その結果、優れた光沢のクロムメッキが得られ、電流効
率は17.52であって、無水クロム酸と硫酸のメッキ
浴(所謂、サージェント浴。)の8゜23より優れてお
り、メッキのON、OFFを繰返してもメッキを続けて
行なうことができる。メッキ厚は目的に応じて調筋する
ことが可能である。
(2) 条件
・浴組成
Cr(6)=133.0g/l、
Cr03=255.7g/!、H2S O4= 0 、
S [1/ I、NazSiFs=15g/I、pH
=+0.27、液温 42〜44°C1 ・不溶性電極 Ire、、 その結果、光沢の優れたクロムメッキが得られた。また
、電流効率は12.22であり、通常のサージェント浴
8.23より優れており、他は実施例1と同様である。
S [1/ I、NazSiFs=15g/I、pH
=+0.27、液温 42〜44°C1 ・不溶性電極 Ire、、 その結果、光沢の優れたクロムメッキが得られた。また
、電流効率は12.22であり、通常のサージェント浴
8.23より優れており、他は実施例1と同様である。
(3) 条件
・浴組成
Cr(6)=125.8g/l、
Cr03=241.9g/I、H2S O、= 2 、
5 g/ I、Na25iF==1、pH=−0,35
5、液温 39〜44℃、 ・不溶性電極 Ire2、 光沢の優れたクロムメッキが得られ、電流効率は13.
84で通常のサージェント浴より優れており、池は実施
例1と同じである。
5 g/ I、Na25iF==1、pH=−0,35
5、液温 39〜44℃、 ・不溶性電極 Ire2、 光沢の優れたクロムメッキが得られ、電流効率は13.
84で通常のサージェント浴より優れており、池は実施
例1と同じである。
[発明の効果]
以上詳細に説明したように、本発明に係るクロム電析方
法は上記の構成を有しているものであるから、光沢の範
囲が広く、電流効率が高いという優れた効果を有するも
のである。
法は上記の構成を有しているものであるから、光沢の範
囲が広く、電流効率が高いという優れた効果を有するも
のである。
第1図〜第3図は3価りロム濃度と時間との関係を示す
図である6
図である6
Claims (1)
- 弗素含有物質を添加した無水クロム酸と硫酸とからなる
浴を使用し、白金族金属酸化物または白金族金属合金の
酸化物を不溶性陽極として電析を行なうことを特徴とす
るクロム電析方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20095284A JPS6179796A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | クロム電析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20095284A JPS6179796A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | クロム電析方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6179796A true JPS6179796A (ja) | 1986-04-23 |
Family
ID=16433034
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20095284A Pending JPS6179796A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | クロム電析方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6179796A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011083700A1 (ja) * | 2010-01-08 | 2011-07-14 | 上村工業株式会社 | クロムめっき方法 |
KR20150140653A (ko) * | 2013-04-17 | 2015-12-16 | 아토테크더치랜드게엠베하 | 개선된 내부식성을 갖는 기능성 크롬 층 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4927017A (ja) * | 1972-07-06 | 1974-03-11 | ||
JPS5331102A (en) * | 1976-09-04 | 1978-03-24 | Saito Hideo | Record disk cleaner |
JPS543825A (en) * | 1977-06-10 | 1979-01-12 | Takara Thermistor Instr | Apparatus for claming and molding concrete block |
-
1984
- 1984-09-26 JP JP20095284A patent/JPS6179796A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JPS4927017A (ja) * | 1972-07-06 | 1974-03-11 | ||
JPS5331102A (en) * | 1976-09-04 | 1978-03-24 | Saito Hideo | Record disk cleaner |
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WO2011083700A1 (ja) * | 2010-01-08 | 2011-07-14 | 上村工業株式会社 | クロムめっき方法 |
JP2011140700A (ja) * | 2010-01-08 | 2011-07-21 | C Uyemura & Co Ltd | クロムめっき方法 |
CN102782192A (zh) * | 2010-01-08 | 2012-11-14 | 上村工业株式会社 | 镀铬方法 |
KR20150140653A (ko) * | 2013-04-17 | 2015-12-16 | 아토테크더치랜드게엠베하 | 개선된 내부식성을 갖는 기능성 크롬 층 |
US20160024674A1 (en) * | 2013-04-17 | 2016-01-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Functional chromium layer with improved corrosion resistance |
JP2016519219A (ja) * | 2013-04-17 | 2016-06-30 | アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングAtotech Deutschland GmbH | 改善した耐腐食性を有する機能性クロム層 |
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