JPS6179722A - 鉄損特性の優れた高磁束密度方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents

鉄損特性の優れた高磁束密度方向性電磁鋼板の製造方法

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JPS6179722A
JPS6179722A JP59200670A JP20067084A JPS6179722A JP S6179722 A JPS6179722 A JP S6179722A JP 59200670 A JP59200670 A JP 59200670A JP 20067084 A JP20067084 A JP 20067084A JP S6179722 A JPS6179722 A JP S6179722A
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中村 元治
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広瀬 喜久司
Masashi Tanida
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は鉄損特性の優れた高磁束密度方向性電磁鋼板の
製造方法に関するものでおる。
(従来の技術) 方向性電磁鋼板は軟磁性材料として主にトランス、その
他の電気機器の鉄芯材料として使用されるもので、磁気
特性として励磁特性と鉄損特性が良好でなくてはならな
い。磁気特性の良好な材料゛を得るには (1)stzを増加させて固有抵抗を高める。
(2)  製品板厚を薄くする。
(3)銹板の二次再結晶粒径を小さくする。
(4)二次再結晶粒のGoIIg方位年精方位高精度。
等が咲けられる。
Goss万位集積度の向上は一回冷間圧延法の開発によ
シ大幅に伸び、現在では磁束密度が理論値の95%を超
えるものまで製造されるようになって来ておシ、これに
伴なって鉄損特性も大幅に向上したがこのGo8s方位
集積度の向上だけではさらに鉄損特性を改善することh
難しく、上記の固有抵抗の増大、二次再結晶粒の微細化
、および製品板厚の薄手化を図る技術が必要となって来
ている。
これらの中で、二次再結晶粒の微細化は一回冷間圧延法
のようなi&終三下率の高い材料では重要な問題でGa
55万位集積度の向上による鉄損特性の改善も結晶粒径
の増大によυ意外に鉄損特性が向上しないという難点が
おった。
こうした難点を解決するために特開昭53−13472
2号公報に記載きれるような重量のALlfr:含んだ
珪素鋼中にSnを添加する方法が提案はれた。この微量
のAlを含んだ珪素欽中にSnを添加する方法によシ二
次再結晶の微細化の目的は達成されたが、このSnによ
って表面皮膜が劣化し鉄損低減の効果が充分に得られな
いという問題点がわυ、これを解決する技術として特開
昭58−23414号公報に記載される微量のAlとS
nを含んだ珪素鋼溶鋼中にCuを添加する方法が提案さ
れ、微細な二次再結晶粒を有し、かつ優れた表面皮膜を
有する高磁束密度方向性電磁針板の製造が可能とかった
一方、昨今のエネルギコストの急激な高騰からさらに鉄
損特性の優れた高磁束密度方向性電磁鋼板の供給が必要
とされ、この要求に答えるべく製品板厚の薄手化の傾向
が強まり、従来の0.3011mから近年、板厚0.2
3 Inのものまで製造されるようになって来ている。
(発明が解決しようとする問題点) ところが上記CuとSnの複合添加された珪素鋼素材に
よシ板厚0.23 fl以下の磁気特性の優れた高磁束
密度方向性!磁鋼板を1造するには、微細な二次再結晶
粒と優れた表面皮膜を得るのにCuとSnの複合添加は
必須であるが、板厚が薄くなるにつれて方向性が低下し
て期待される鉄損特性の向上が充分に得られない場合が
あった。
不発明は上記CuとSnを複合添加した珪素鋼の問題点
を除去し、製品板厚が0.23 u以下でGosg方位
集積度が高く微細な二次再結晶粒を有しかつ優れた表面
皮膜を有する鉄損特性の優れた高磁束密度方向性を磁鋼
板の製造方法を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明の基本構成は以下の如くである。
すなわち、C:01085%以下、 Sl : 2.0
〜4.0jX 、 Mn:0.03〜0.15%、S:
0.01〜0.05%、酸可溶Al:0.01〜0.0
5%、 N : 0.005〜0.010%、 Sn 
: 0.03〜0.5%+Cu:0.02〜0.3%を
含有する珪素鋼素材を熱間圧延して中間厚みの熱延板と
し、前記熱延板に対し析出焼鈍をし、次いで最終板厚を
0.23 u以下とする冷間圧延工程と、脱炭焼鈍工程
、焼鈍分離剤塗布工程および仕上焼鈍工程を施すことか
ら成る一連の高磁束密度方向性電′fJi銀板の製造工
程において、前記焼鈍分離剤塗布工程で硼素含有量を硼
素として400ppm未満にbaしたMgOを主匠分と
する焼鈍分離剤を使用することを特徴とする特許れた高
磁束密度方向性電磁鋼板の製造方法である。
次に本発明の方法をさらに詳細に説明する。
まず、本発明を底すに至った基礎的実験事実について群
間する。
(実験1) 本発明者FiC : 0.067%, Sl : 32
3%, Mn : 0.0 7%。
S:0.03%,酸可溶Al: 0.03 % 、 N
 : 0.007%,Sn:0.1%. Cu : 0
.09 %  を含む珪素鋼素材を常法により2.0龍
の板厚に熱間圧延し、1100℃で4分間析出焼鈍を施
した後、最終板厚として0.30〜0.081℃mの範
囲で冷間圧延した。次いで、この冷延板を820℃で4
分間湿水素中で脱炭焼鈍した後、該銅板表面に従来よp
使用石れているMgOを主成分とする焼鈍分間4剤スラ
リーを乾燥後の重量で6?/Rとなるよう塗布し、仕上
焼鈍を施した.仕上焼鈍はまず乾燥窒素中600℃で5
時間、脱水のための均熱を施し、次いで20%N2+8
0%H2中、1200℃ まで20℃/Hrで昇温した
後、純水素に雰囲気を切力換えて10時間純化焼鈍を施
し、得られた製品の磁気特性を調べた。この結果を第1
図に示す。
(実験2) オた、板厚の差のみてよる鉄損特性の変化を調査するた
めに上記の方法で製造した板厚0.30+wの製品から
磁束密度がB、。で1.95 (T)、鉄損がw171
50で0.95(WAg)のものを採取して、塩酸中で
グラス皮膜を除去し、次いでリン酸−過酸化水素混液中
にて化学研磨して板厚を薄くした後、850 ℃で3分
間湿水素中で鋼板表面に5I02を生成させるために焼
鈍し、この鋼板表面にMgOを主成分とする焼鈍分離剤
を塗布・乾燥した後、グラス皮膜再生のため水素中12
000で5時間焼鈍した。この結果全第1図に(ム)で
示した。
第1図よ)、通常工程で板厚の異なる高磁束密度方向性
i磁鋼板を製造した場合、板厚0.30 mから0.2
0 tmまでは板厚が?g−はど鉄損特性は向上するが
、板厚0.20 m以下では板厚が薄すほど鉄損特性が
劣化する。また、磁束密度も板厚0.20閣を境L(板
厚が薄いほど低下し、Goss方位集積度が悪くなるこ
とを示している。
一方、板厚0.30 Kllの製品から化学研磨によっ
て板厚t[<した後、グラス皮膜を再生した場合には板
厚が59 くなるにつれて連続的に鉄損特性が向上して
いることから、二次再結晶が同様に進行した場合、すな
わち、GO811方位集積度、表面皮膜が同等ならば板
厚が薄いほど鉄損特性が良好でめシ、通常工程による板
厚0.2fl以下の製品では二次再結晶挙動が板厚0.
2011J1以上の場合と異なっていることが推足でき
る。そこで、本発明者はこの二次再結晶挙動の板厚によ
る差異の原因を解明するために、焼鈍分離剤塗布工程ま
でを上記と同一条件で実施し、仕上焼鈍の昇温途中で試
料音引き出して鋼中成分の内、インヒビターとして二次
再結晶に大きく寄与するCN)について化学分析を実施
した。
第2図(、)に鋼中のTotal N 、 第2図(b
)に鋼中にA7Nとして析出しているN (N ag 
 ALN)の温度による量的変化を示す。第2図(a)
 、 (b)より仕上焼鈍の昇温3A程において、二次
再結晶開始前の90010前後まではTotal N 
+ Nag ALNともに板厚による差は極めて小さい
が、通常、二次再結晶によるprimryGongが発
生すると考えられている950〜1050℃。
さらにGosm粒の発達する1050℃以上の温度では
板厚0.23nの場合と比べて板厚が薄いほどTOta
lN、 N Jlll AINともに減少量が大きいこ
とが判明した。よって仕上焼鈍の昇温過程で板厚が薄い
材料はどより低温で、有効な二次再結晶を進行させるた
めに必要な強力なインヒビター気米がAlN C分解に
より失なわれやすいことにより、仕上焼鈍後のGa55
方位集積度が悪くなると考えられ、このインヒビターの
分解を抑えることによ)板厚の薄い素材の磁束V度の向
上が期待できる。
本発明@は上記インヒビターとしてのAlNの分解が板
厚の薄I/1素材はどより低温で起こシやすい原因につ
いて拝細な調査を実施した結果、仕上焼鈍昇温iA程に
おりて同一の温度では板厚の薄い素材はど鋼中のCB)
量が高くなっていることがわかった。第3図は上記実験
で得た試料の1025℃における表面層から深さ方向の
CB)の分布をIMA (イオンマイクログローブアナ
ライザ〕にょシ分析したaiでらシ、縦軸のイオン強f
fは槍出成旺箇1.000倍で求めたもので鋼中の〔B
〕の濃度に相当し、横軸のス・4ツタリング時間は板厚
に対して深さ方向の距離を表わして込る。第3図よう板
厚が0.27咽よシも大きい場合にはCB)はバックグ
ラク/ト。
に近く、鋼中にほとんど拡散して込々いが、板厚が0.
23 mから明確に鋼中への拡散が確認でき、板厚が薄
−tミど〔8〕の鋼中への拡散量が増加し浸入深さも大
きくなっていることが判明した。また、この鋼中のCB
)の形態を第3図に示したと同一の試料表面を非水溶媒
中で定電位!解し、析出物をEDX (エネルイ分散型
X線マイクロアナライザ)によシ同定した結果、BNT
あることが判明した。
以上の事実より、仕上焼鈍中の昇温過程において板厚の
薄い素材はどCB)が鋼中に拡散してBNを形成しやす
ぐ、このBNは AAN (s) + 旦= Al + BN (s)の
反応によシ生成するものと考えられ、二次再結晶を有効
に進行させるためのインヒビタとしての人びの分散析出
相が減少する結果、製品のGo118方位集積度が低下
し、鉄損特性を劣化するものと考えられる。
上記の如く、高虫束密守方向性電磁鋼板の製造工程にお
いて、仕上焼鈍工程で板厚の1XA素材はど鋼中に〔B
〕が拡散して磁気特性を劣化することが判明したが、熱
間圧延工程から仕上焼鈍工程に至る各工程の内、鋼板表
面にCB)が供給される工程としては、通常、焼鈍分離
塗布工程のみである。
一般Vc燐鈍分離剤として使用されるマグネシアは公知
の如く海水から採取したMg(OH)2を、700〜1
000℃の比較的低温で焼成して製造され仮焼マグネシ
アと呼ばれるものでおる。この仮焼マグネシアはその製
造方法の特徴から不可避不純物としてNa”、 CL、
 F−、So、” l B等を含んでおり、AlNをイ
ンヒビターとしている高磁束密度電磁鋼板では、特に焼
鈍分離剤中のCB〕會有沿を規制しており、たとえば特
公昭46−42298号公報では焼鈍分離剤に硼素ある
いは硼素化合物を添加して仕上焼鈍中IC鋼板に〔B″
lを積極的に拡散させて製品の磁気特性を改善する技術
が開示されているが本発明の如く板厚が0.23+c+
以下の薄い場合には、逆に磁気特性が劣化する。したが
って、上記莢験rn実より鋼材成分としてCu、 Sn
を含む板厚0.23jJ以下の素材でFi焼鈍分離剤中
のCB)を低減することが磁気特性の向上に必須である
ことが判明し、本発明を完成した。
本発明者は、製品の磁気特性におよぼす焼鈍分離剤中の
CB)量の影響について調査した。まず実験】と同一素
材、同一条件で脱炭焼鈍工程までを施し、次いで焼鈍分
離剤として(B ) traceの細度99.9%Mg
Oスラリーに〔B〕源としてB2O3を[E)として対
MgO重蓋比で0〜11000ppの範囲で配合し、脱
炭焼鈍後の鋼板((乾燥後型iで片面当た96P/ff
1′となるよう塗布、乾燥した。次いで、実験1と同一
条件で、仕上焼鈍を施し、製品の磁気特性を創建した。
この結果を第4図に示す。第4図よシ板厚0.27 a
m以上の素材では焼鈍分離剤中のCB)含有量が減少す
るにしたがって磁束密度は若干向上はするが、製品結晶
粒径が増すために、鉄損特性の向上が得られない。−万
、板厚が0.23 Nm以下の場合は焼鈍分離剤中のC
B)含有iが減少するにしたがって、磁束密度が向上す
るとともに鉄損特性が大きく向上し、CB)含有量が4
00 ppmよシ小さい領域で、実」λ2において得ら
れた第1図の結果と同等の鉄損特性が得られることが判
明した。
よって、焼鈍分離剤中のCB)fLを400ppm未満
とすることによシはじめて、社中成分としてCu 、 
Snを含有する板厚0.23 PIF、以下の二次再結
晶が有効に進行し、微細かつGa55方位集fR度の商
い二次再結晶粒を有する鉄損特性の優れた高磁束密度方
向性1!ミ鋼板が得られ本発明の目的が連取される。
次に本発明の限定理由について説明する。
CfdQ、085%を超すと、後工程の脱炭焼鈍に長時
間を要するので好ましくない。
Slは20%未満では本発明の目的である低鉄損が得ら
れなく、−万4.0%を超すと冷延が困難とな9好まし
くない。
酸可溶Alは本匠分系の基本元素であシ、0.01〜0
05%の範囲上逸脱すると二次再結晶が不安定となる。
MnおよびSはMnSを形成させるために必要な元素で
ちり、Mnの適量は0.03〜0.15 %、好ましく
け0.05〜0.10%の範囲がよい。Sは005%を
超すと純化焼鈍時での脱硫が困難となり好ましくない。
一方、0.01%未満ではインヒビターとしてのMnS
の量が不足する。
Snは0.03〜0.5%、好ましくは0.05〜0.
20%、Cuは0.02〜0.3%、好ましくは0.0
5〜0.15%の範囲である。これは二次再結晶粒の微
細化に有効で、このfLは0.03%未満では効果が弱
く、−万0.5%を超すと、Cuとの複合添加でおるこ
ともあって圧延性および酸洗性が劣化する。−万、Cu
はグラス皮膜の形成には優れた元素で、密着性の良い皮
膜が得られるが、単独で添加すると二次再結晶粒が粗大
化するため鉄損特性が劣化する。このCt+の量は0.
02%未満ではグラス皮膜の改善に効果が少なく、−万
、0.3%を超すと磁気特性の面から好ましくない。
製品板厚はQ、23+ut以下、好ましくは0.231
Em〜0.10tKが適しておシ、0.23寓翼よシ板
厚が厚いものでは方位(Go■万位集積度)、結晶粒径
を改善後にも現行工程以上の鉄損特性の改善は困難であ
る。
焼鈍分離剤中のCB]含有ftl”t 400 ppm
未満、好1しく l−1300ppm未満が好ましく、
400pprn以上では、二次再結晶粒のQoss方位
集積度が低く板厚減少分による鉄損特性の改善が小さい
ため好ましくない。
川、上の如く、本発明の目的は製鋼工程におけるmm成
分の組成、冷延工程における板厚、および焼鈍分離剤塗
布工程におけるMgOを主成分とする焼鈍分離剤中の微
量元素を限定することによりはじめて達成されるが、上
記第1発明の方法と仕上焼鈍工程における焼鈍温度、雰
囲り条件との組合せにより、さらに優れた鉄損特性を有
する高磁束密度方向性電磁鋼板の製造が可能であること
を見出した。
すなわち、第2発明は、上記、仕上焼鈍工程において二
次再結晶を780〜1000℃の温度範囲内で、かつ、
Sn、 Cuに対して中性の雰囲気中で完了させること
を特徴とする第1発明の方法でおる。
本発明の珪素鋼成分であるSn 、 Cu tdいずれ
も二次再結晶を有効に進行させるだめのインヒビター成
分として有用であることは公知である。本発明者はこの
Sn 、 Cuの仕上焼鈍中での挙動について鋭意検討
した結果、仕上焼鈍時に5n)i鋼板内で粒界偏析し、
Cu F′i、Cux Sとして分散析出することによ
り一次再結晶粒のNormal grain grow
thを抑制(インヒビター効果)し、Snは、800〜
900℃近傍で偏析係むが最も犬きくなシ、CuえSは
CuとSの比率によるが、約900〜1000℃で析出
ノーズを有し、したがって、Sn、 CuzS偏析の析
出がえも容易な温度頭載で処理すれi−1′最も強力な
インヒビター効果が得られ、その結果、微細かつGom
s方位集yC夏の高い二次再結晶粒が得られることが判
明した。よって仕上焼鈍は780〜1000℃、好まし
くは800〜950℃が適しておシ、780℃未満では
二次再結晶の開始および二次再結晶粒の成長に長時間を
要し好ましくなく、1000℃を超えるとSnの粒界偏
析効果が消え、二次再結晶粒のGO■方位集積度が低く
力るため良好な鉄損特性が得られない。
また仕上焼鈍雰囲気は二次再結晶焼鈍の完了する780
〜1000℃の温度範囲をSn 、 Coに対して中性
雰囲気とすることが好ましく、Snあるいl′icuに
対して酸化性の場合は、鋼板表面でSr+ 、 Cuの
酸化物が形匠きれにとにより鋼中でのSnの粒界偏析、
CuxSの分散析出の量的変化のため磁気特性が劣化す
るとともにSn 、 Cuの酸化物によジグラス皮膜形
成性が悪くなり、皮膜特性の劣化が生じるため好ましく
ない。−万、仕上焼鈍雰囲気がSn + Cuに対して
還元性の場合、鋼板表面近傍でのCuxSの分解により
表面層のNormal graln growthが起
こるために、二次再結晶粒が充仔に成長することができ
ず磁気特性が劣化する。
不発明において、仕上焼鈍での昇温速度は特に限定する
ものではなく、780〜1000℃の範囲内で二次再結
晶が完了するまでは一定温度で保持してもよく、または
1000℃までに二次再結晶が完了するような速度で連
続的に昇温しでもよいが、コイル同外周での温度分布に
差が生じないよう一定温度で保持するか、またはゆっく
りと昇温するのが好ましい。Sn 、 Cuに対して中
性の雰囲気としては焼鈍中の雰囲気の酸素ポテンシャル
が変化しないN2.Ar等の不活性ガスが好ましく、焼
鈍分離剤塗布工程から脣ち込まれる水分の量によ)上記
不活性ガスに若干のH2ガスを混合してもよい。
さらに、上記発明の焼鈍分離剤塗布工程において、Mg
Oを主成分とする焼鈍分離剤に特定の物質を配合するこ
とによりさらに優れた鉄損特性とグラス皮膜特性を有す
る高磁束密度方向性電磁鋼板の製造が可能であることを
見出した。
すなわち、MgOを主成分とする焼鈍分離剤にW。
Mo + Sr + Cu + Co + Nl * 
Sbもしくはこれらを含む化合物の中から選ばれる1種
または2種以上を含有ζせることを!Ff徴とすネ第2
発明の方法でらる。
上記元素を含む物質としては、金属粉、合金粉末、酸化
物、硫化物、硫酸塩のいずれを使用してもよいが、水に
難溶性の物質の場合は焼鈍分離剤スラリー中での分散性
、仕上焼鈍時の反応性の点から325mesh/4’ス
、好ましくはMgOを主成分とする焼鈍分離剤の粒度と
同等か、それより微細なものもしくはコロイド状のもの
がよい。
(実施例〕 以下、不発明の実施例について説明する。
実施例1 重量ノ(−セントでC:0.06%、 Sl : 3.
20%、 Mn :0080%、 S : 0020≦
l酸可溶Al: 0.025%、N:0.0085%、
 Sn : 0.09%、Cu:0.11%を含有する
珪素鋼鋳片を1300℃に加熱後、熱間圧延して2,0
關の熱延板とした。この熱延板を1120℃で4分間均
熱後、酸洗し、次いで冷間圧延により0.230の板厚
とした。この冷延板を820℃で3分間、露点+50℃
の50%N+50%H2の混合ガス気流中で脱炭した。
脱炭焼鈍後の鋼板両面にMgOを主成分とし、[:B)
を対MgO重量比で200ppmK精製した焼鈍分子剤
のスラリーを塗布・乾燥して、片面当たF)6f/rr
/の付Ni′とし、コイル状に巻き取った。これを20
℃/Hrで1200℃壕でN2+H,混合ガス中で昇温
し、次いでH2ガスに切換えて20時間均熱した。
冷却後、未反応の焼鈍分離剤をブラシ水洗して除去し、
コイルよシサンプルを採取して、800℃で2時間、N
2中で歪取焼鈍した後、磁気特性を測定した。この結果
を第1表に示す。
実施例2 実施例1と同一組成、同一条件で熱間圧延工程までを施
し、也厚20龍の熱延板を製造し、この熱延板に実施例
1と同一条件で析出焼鈍を施した。
次いで冷間圧延によ、90.15flの板厚とし、脱炭
焼鈍以降の工程を全て実施例1と同一条件とした。
この結果を第1表に示す。
比較例1 重fr ノ平−セントでC: 0.06%、 Sl :
 3.20%+ Mn :0.080%、 S : 0
.020%、酸′i5′J溶Al:0.025%、N:
0.0085%を含有する珪素鋼鋳片を実施例1と同一
条件で仕上焼鈍までを施した。磁気特性測定結果を第1
表に示す。
比較例2 比較例1と同一素材を用いて実施例2と同一条件で熱延
以降の工程を施した。この結果を第1表に示す。
比較例3 実施例1と同一素材、同一条件て脱炭焼鈍までを施し、
次いでこの脱炭焼鈍後の鋼板両面に従来よシ使用されて
いるMgOを主成分とする焼鈍分離剤のスラリーを塗布
・乾燥して、6 f/rr?の付xf量としコイル状に
巻取った。焼鈍分離剤中のCB)量を分析した結果、対
MgO重量比で750 ppmであった。次いで、この
コイルを実施例1と同一条件で仕上焼鈍を施した。出仕
測定結果を第1表に示す。
第1表 実施例3 重量ノソーセントでC:0.07%、Sl:3.26%
、 Mn :0085%、S:0.023%、酸可溶A
l:0.031%、N:0.0090%、Sn:0.1
0%、Cu:0.08%を含有する珪素鋼鋳片を130
0℃に加熱後、熱間圧延して1.7鶴の熱延板とした。
この熱延板を1100℃で5分間均熱後、戯洗し、次い
で冷間圧延により0.151JEの板厚とした。この冷
延板を800℃で4分間、露点+40℃の20%H2+
80%N2混合ガス気流中で脱炭した。脱炭焼鈍後の鋼
板両面にMgOを主成分とし、CB)を対MgO重量比
でl OOppm VCn ’JAした焼鈍分離剤のス
ラリーを塗布、乾燥して片面当たシ5.5f/rr/の
付着芹とし、コ・1ル状に巻取った。これを800℃ま
でSn + Cu K対して中性のN +2%H2中で
50℃/Hrで昇温し、続いて800℃×30 Hr 
、N2 十2$H2中で均熱して二次再結晶焼鈍を施し
た。次いで、20℃/Hrで1206℃までH2ガス中
で昇温し20時間均熱した。
冷却後、未反応の焼鈍分離剤をブラシ水洗して除去し、
コイルよシサンプルを採取して800℃で2時間、N2
中で歪増焼鈍した後、磁気特性を測定した。この結果を
第2表に示す。
実施例4 実庁例3と同一素材、同一条件で焼鈍分離剤塗布工程ま
でを施し、コイル状に巻取った。次いで、これ′t−7
80℃までN2+2%H2混合ガス中50℃/Hrで昇
温し、同じくN2+2%H2CPで900℃苔で3℃/
Hr’T昇温して二次再結晶?完了忌せた後、H2ガス
に切換え1200’C寸で25℃/Hr″″C剖温し、
1200℃X 20 Hr均熱した。冷却後、未反応の
焼鈍分離剤をブラシ水洗して除去し、コイルよシサンプ
ルを採取して800℃で2時間、N2牛で歪取焼鈍した
後、磁気特性を測定した。この結果を第2表に示す。
第  2  表 実施例5 実元例3と同一素材、同一条件で脱炭焼鈍工程までr施
し、この脱炭焼鈍後の銅板表面に、CB)含有量75p
pmiC精製したMgOを主成分とする焼鈍分離ill
スラリーに第3表に示す物質を配合し、塗布、乾燥して
付着ff 6 P/−とし、コイル状に巻取った。この
コイルに実施例3と同−命件で仕上焼鈍を施した。冷却
後、未反応の焼鈍分離剤を水洗除去し、コイルよシサン
グルを採取して800℃で2時間、N2中で歪取焼鈍し
た後、磁気特性・皮膜特性を測定した。この結果を第3
表に示す。
第  3  表 *密着性:絶耐皮膜(リン酸塩+クロム酸4 g / 
m 2塗布 800℃×70秒焼付)処理後、剥離の生
じない最小曲げ 直径(繁) (発明の効果) 従来よシ、高磁束密度方向性電磁鋼板の磁気特性改善を
目的とした技術は多数提案されているが、本発明の如く
製鋼工程での溶鋼成分と冷間圧延工程での板厚および焼
鈍分離剤塗布工程でのMgOを主成分とする焼鈍分離剤
の組成とを組合せることにより、従来、得られなかった
優れた鉄損特性の高磁束!反方向性電磁鋼板の製造が可
能となったことの工朶的意義は大きく、さらに上記発明
と仕上焼鈍工程での二次再結晶焼鈍温度、雰囲気および
、焼鈍分離剤への特定物質の配合とを組合わせることに
よp磁気特性を飛躍的に向上させる如き技術は皆無であ
フ、極めて新規な技術でおる。
【図面の簡単な説明】
第1図は高磁束密度方向性!磁銅板の板厚と磁気特性の
関係を示す図、第2図(1)は高磁束密度方向性電磁鋼
板の仕上焼鈍の昇温過程における鋼中Total Nの
板厚の差による変化を示す図、第2図(b)は同じく鋼
中N as ALHの板厚の差による変化を示す図、第
3図は鋼中の〔B〕の濃度と板厚に対する深場方向の距
離との関係を示す図、第4図は焼鈍分離剤中のMFCO
の[E)量と磁気%性との関係を示す図でるる、 第1図 V、品汝4 (my)) 第2図(a) 温 度 (°C) 第2図Cb) 品 炭 (°C) スペック1ルブ時間(x fO’ 5ee)第4図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)C:0.085%以下、Si:2.0〜4.0%
    、Mn:0.03〜0.15%、S:0.01〜0.0
    5%、酸可溶Al:0.01〜0.05%、N:0.0
    05〜0.010%、Sn:0.03〜0.5%、Cu
    :0.02〜0.3%を含有する珪素鋼素材を熱間圧延
    して中間厚みの熱延板とし、前記熱延板に対し析出焼鈍
    をし、次いで最終板厚を0.23mm以下とする冷間圧
    延工程と脱炭焼鈍工程、焼鈍分離剤塗布工程および仕上
    焼鈍工程を施すことから成る一連の高磁束密度方向性電
    磁鋼板の製造工程において、前記焼鈍分離剤塗布工程で
    硼素含有量を硼素として400ppm未満に精製したM
    gOを主成分とする焼鈍分離剤を使用することを特徴と
    する鉄損特性の優れた高磁束密度方向性電磁鋼板の製造
    方法。
  2. (2)上記仕上焼鈍工程において、二次再結晶を780
    〜1000℃の温度範囲内で、かつSn、Cuに対して
    中性の雰囲気中で完了させることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の方法。
  3. (3)MgOを主成分とする焼鈍分離剤に、W、Mo、
    Br、Cu、Co、Ni、Sbもしくはこれらを含む化
    合物の中より選ばれる1種又は2種以上を含有させるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載
    の方法。
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