JPS6174118A - Magnetic head - Google Patents
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- JPS6174118A JPS6174118A JP19487584A JP19487584A JPS6174118A JP S6174118 A JPS6174118 A JP S6174118A JP 19487584 A JP19487584 A JP 19487584A JP 19487584 A JP19487584 A JP 19487584A JP S6174118 A JPS6174118 A JP S6174118A
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- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
- G11B5/1878—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドに係り、特に磁気ギャップと対向す
る方の側面が磁気ギャップ面に対して１頃科してなるコ
ア基体部と、そのコア基体部の磁気ギャップと対向する
方の側面に被着された高飽和磁束密度を有する磁性材料
よりなる磁性薄膜とを備えるコア半体を有する磁気ヘッ
ドに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magnetic head, and in particular to a core base portion whose side surface facing a magnetic gap is oriented around the magnetic gap surface; The present invention relates to a magnetic head having a core half including a magnetic thin film made of a magnetic material having a high saturation magnetic flux density and coated on the side surface of the core base portion facing the magnetic gap.
磁気記録の高密度化にともない、磁気記録媒体の保磁力
が高められ、この磁気記録媒体に記録可能な磁気ヘッド
として、少なくとも磁気ギャップと対向する部分を高飽
和磁束密度を有する磁性材料で構成した磁気ヘッドの開
発が進められている。With the increase in the density of magnetic recording, the coercive force of magnetic recording media has been increased, and a magnetic head that can record on this magnetic recording medium is made of a magnetic material with a high saturation magnetic flux density, at least in the portion facing the magnetic gap. Development of magnetic heads is progressing.
本発明者らもこの種の磁気ヘッドについて種々検討して
結果、先に、磁気ギャップと対向する方の側面が磁気ギ
ヤ７プ面に対して傾斜しているコア基体部と、そのコア
基体部の磁気ギャップと対向する方の側面に被着された
高飽和磁束密度を有する磁性材料よりなる磁性ＮＨとを
備えたコア半体を用いた磁気へラドを提案した（特開昭
５８−１５５５１３号参照）。The present inventors also conducted various studies on this type of magnetic head, and as a result, first, a core base portion whose side surface facing the magnetic gap is inclined with respect to the magnetic gear 7 surface, and a core base portion thereof. proposed a magnetic helad using a core half having a magnetic gap and a magnetic NH made of a magnetic material with a high saturation magnetic flux density coated on the opposing side surface (Japanese Patent Laid-Open No. 58-155513). reference).
第７図および′ｇ４８図はこの提案された磁気ヘッドの
一部平面図および一部断面図、第９図ないし第１５図は
この磁気へラドの製造工程を示す説明間である。FIGS. 7 and 48 are a partial plan view and a partial sectional view of the proposed magnetic head, and FIGS. 9 to 15 are explanations showing the manufacturing process of this magnetic head.
この磁気ヘッドは、第１コア半体１と、第２コア半体２
と、第１コア半体１に巻装された励磁コイル３とから主
に構成されている。第１コア半体ｌならびに第２コア半
体２は、フェライトなどからなり磁気ギャップと対向す
る側面のほぼ中央に山形の突出部４を有するコア基体５
と、そのコア基体５の前記側面に被着された高飽和磁束
密度を有する磁性１＃６とから構成されている。第７図
に示すように第１コア半体１例の突出部４と磁性薄膜６
ならびに第２コア半体２例の突出部４と磁性薄膜６とは
、接合部近傍の形状が磁気ギャップを介してほぼ左右対
称になっている。This magnetic head includes a first core half 1 and a second core half 2.
and an excitation coil 3 wound around the first core half 1. The first core half l and the second core half 2 are made of a core base 5 made of ferrite or the like and having a chevron-shaped protrusion 4 approximately at the center of the side surface facing the magnetic gap.
and a magnetic layer 1#6 having a high saturation magnetic flux density, which is adhered to the side surface of the core base 5. As shown in FIG. 7, the protrusion 4 and magnetic thin film 6 of one example of the first core half
In addition, the shapes of the protrusion 4 and the magnetic thin film 6 of the two second core halves near the joint are substantially symmetrical with respect to the left and right sides of the magnetic gap.
次にこの磁気ヘッドのおおまかな製造工程について説明
する。第９図に示すようにコア基体５を構成するフェラ
イトブロック７の片面に、接近して一対の溝８．８を平
行に設け、この溝８の間に尖った先端部（頂部）を有す
る突条９が形成される０次にこの導８や突条９を形成し
た側の表面に１着やスパッタリングなどの薄膜製造技術
をもって高飽和磁束密度で透磁率の高い磁性材料よりな
る磁性薄膜６を一様に形成する（ｔｊｒ、１０図参照）
。Next, the general manufacturing process of this magnetic head will be explained. As shown in FIG. 9, a pair of parallel grooves 8.8 are provided close to each other on one side of the ferrite block 7 constituting the core base 5, and a protrusion having a pointed tip (top) is provided between the grooves 8. The magnetic thin film 6 made of a magnetic material with high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability is formed on the surface of the side where the stripes 9 are formed using a thin film manufacturing technique such as coating or sputtering. Form uniformly (tjr, see Figure 10)
.
ついで第１１図に示すように磁性薄膜６の上にガラスな
どの非磁性体からなる）１強層８を比較的厚めに設け、
しかるのち同図に一実鎖線で示す位置まで研磨する。こ
の状態を示すのが第１２図および第１３図、突条９の尖
端部上にある磁性薄膜６の一部がフラットに研磨されて
平坦部１１が形成される。Next, as shown in FIG. 11, a relatively thick strong layer 8 made of a non-magnetic material such as glass is provided on the magnetic thin film 6.
Afterwards, it is polished to the position shown by the solid chain line in the figure. This state is shown in FIGS. 12 and 13, where a portion of the magnetic thin film 6 on the tip of the protrusion 9 is polished flat to form a flat portion 11.
このように形成されたブロックのうち一部は、第１４図
に示すように突条９と直交する方向にコイル溝１２が所
定の深さ切削によって形成される。In some of the blocks thus formed, coil grooves 12 are formed by cutting to a predetermined depth in a direction perpendicular to the protrusions 9, as shown in FIG.
ついでこのコイル溝１２を形成したブロックとコイル溝
１２を形成していないブロック（第１３図参照）とを、
第１５図に示す如く補強層１０が互いに対向するように
してガラスボンディングによって一体に接合する。そし
て同図に記した一点鎖線に沿ってスライスすることによ
り、磁気へラドを組立てる。Next, the block in which the coil groove 12 was formed and the block in which the coil groove 12 was not formed (see FIG. 13) were
As shown in FIG. 15, the reinforcing layers 10 are bonded together by glass bonding so as to face each other. Then, assemble the magnetic helad by slicing it along the dashed line shown in the figure.
この従来提案された磁気ヘッドは、主にＶＴＲ用などの
ようにトランク幅が１０ｐｍａ度の狭いトラック幅を有
する磁気ヘッドを考慮したものである。このように狭い
トランク幅を有する磁気ヘッドを遣るため、第７図に示
すコア基体５の突出部４あ頂角θｌは４５度〜９０度程
度の比較的小さい角度に設計されている。このように突
出部４の頂角θ１を鋭角にすると、磁性薄膜６の尖端部
を研磨するときに、研磨化が多少ばらついてもトラック
幅に相当する平坦部１１（第１２図参照）の幅寸法のば
らつきが小さく抑えられ、常に狭いトラック幅を有する
磁気ヘッドが得られる。This conventionally proposed magnetic head is designed mainly for magnetic heads having a narrow track width with a trunk width of about 10 pma, such as those for VTRs. In order to use a magnetic head having such a narrow trunk width, the apex angle .theta.l of the protrusion 4 of the core base 5 shown in FIG. 7 is designed to be a relatively small angle of about 45 degrees to 90 degrees. If the apex angle θ1 of the protruding portion 4 is made acute in this way, when polishing the tip of the magnetic thin film 6, even if the polishing varies slightly, the width of the flat portion 11 (see FIG. 12) corresponding to the track width can be increased. Variations in dimensions are suppressed to a small extent, and a magnetic head that always has a narrow track width can be obtained.
ところがこの磁気ヘッドを、例えば磁気ディスク用記録
再生装置などのようにトラック幅が４０〜２００μｍ程
度の広いもめに適用する場合には、次のような問題点が
ある。However, when this magnetic head is applied to a device with a wide track width of about 40 to 200 μm, such as a magnetic disk recording/reproducing device, the following problems arise.
すなわち、トランク幅を広くするためには、それに相当
する磁性１ｍ膜６の平坦部１１０幅を広（する必要があ
り、そのためには磁性ＴＲ１２６を厚く付けなければな
らない、ところで、前述のようにコア基体５の突出部４
の頂角θ１が鋭角になっていると、磁性薄膜６を厚く付
けるのに時間がかかり過ぎて生産性が悪く、コスト高に
なる。一方、磁性ｉａ６を薄いままにすると、所望の記
録トラック幅が得られなり。 ゛ ’−’ｇ−纏４シ
釦ツ
またこの提案された磁気ヘッドの場合、）ニライトブロ
ック７上に磁性薄゛膜６を被着したのち、その上からコ
イル溝１２を形成するため、第８図に示すようにコイル
溝１２を設けた個所の磁性薄Ｍ６はコア基体５から排除
されている。従って励磁コイル３への通電によって生じ
るＨ′Ｊ磁磁束は、常にコア基体５ （フェライト製）
を通ってから磁性ＮＭ６に厚かれるため、コア半体とし
ての透ケ効率が思い、さらに、切削などの４１！！械加
工によってフィル溝１２を形成する際、切削外力によっ
て磁性薄膜６がコア基体５から剥がれてしまうことがあ
り、生産性が低（歩留りが悪い。That is, in order to widen the trunk width, it is necessary to widen the corresponding width of the flat part 110 of the magnetic 1m film 6, and for that purpose, the magnetic TR 126 must be thickly attached.By the way, as mentioned above, the core Projection part 4 of base body 5
If the apex angle θ1 is acute, it will take too much time to thickly apply the magnetic thin film 6, resulting in poor productivity and high costs. On the other hand, if the magnetic IA6 is left thin, the desired recording track width cannot be obtained. In the case of this proposed magnetic head, after the magnetic thin film 6 is deposited on the nirite block 7, the coil groove 12 is formed from above. As shown in FIG. 8, the magnetic thin layer M6 at the location where the coil groove 12 is provided is excluded from the core base body 5. Therefore, the H'J magnetic flux generated by energizing the excitation coil 3 is always applied to the core base 5 (made of ferrite).
After passing through the core, it is thickened with magnetic NM6, which improves the penetration efficiency of the core half, and also allows for cutting, etc. ! When forming the fill groove 12 by machining, the magnetic thin film 6 may be peeled off from the core base 5 due to external cutting force, resulting in low productivity (poor yield).
またこの提案された磁気へラドの発明の明細書中には、
第７図に示すように磁性ＴＮ ｖ６のｌＩ！厚Ｔが、ト
ラック幅に相当する磁性薄膜６の先端子ｌ」部の幅の１
７２以下に規制することが記載されている、このように
すると、磁性薄膜６の膜ＦＪＴが実質的にきわめて薄い
ものとなり、そのために磁気ギャップ部（先端平坦部の
近傍）が磁気的に飽和するより先に、磁性薄膜６の磁気
ギャップ部より離れた部分が磁気的に飽和してしまい、
高飽和磁束密度を有する磁性薄膜６を用いた特長が十分
に発揮されない。Also, in the specification of the proposed magnetic herad invention,
As shown in FIG. 7, lI! of magnetic TN v6! The thickness T is 1 of the width of the tip l'' portion of the magnetic thin film 6, which corresponds to the track width.
72 or less. In this way, the film FJT of the magnetic thin film 6 becomes substantially extremely thin, and as a result, the magnetic gap portion (near the flat end portion) becomes magnetically saturated. The part of the magnetic thin film 6 away from the magnetic gap becomes magnetically saturated earlier,
The advantages of using the magnetic thin film 6 having a high saturation magnetic flux density are not fully exhibited.
さらに、例えばＶＴＲ用としてトランク幅を１０μｍと
した場合、磁性薄膜６の膜厚は５μｍ以下に規制される
ことになり、このように磁性薄膜６が極めて薄いと、一
様な膜を形成することがむつかしく、欠陥のある磁性薄
ｗＡ６が形成された場合には、前述の磁気飽和の原因と
なる。Furthermore, if the trunk width is set to 10 μm for a VTR, for example, the thickness of the magnetic thin film 6 is restricted to 5 μm or less, and if the magnetic thin film 6 is extremely thin like this, it is difficult to form a uniform film. If the magnetic thin wA6 is difficult to form and has defects, it will cause the aforementioned magnetic saturation.
本発明の目的は、前述した従来技術の欠点を解消し、優
れた磁気特性を有する磁気ヘッドを提供するにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the prior art described above and to provide a magnetic head having excellent magnetic properties.
この目的を達成するため、本発明は、磁気ギャップを介
して２つのコア半体を接合してなる磁気ヘッドで、その
コア半体が、磁気ギャップと対向する方の面に磁気ギャ
ップ面に対して傾斜した両側面をもつ突出部を形成した
コア基体と、そのコア基体の磁気ギャップと対向する方
の側面に被着された高飽和磁束密度を有する磁性材料よ
りなる磁性薄膜とを備えるものにおいて、前記コア基体
に設けられた突出部の両側面に鎖交する角度が９０度を
超えていることを特徴とするものである。To achieve this object, the present invention provides a magnetic head in which two core halves are joined via a magnetic gap, and the core half has a surface facing the magnetic gap. A core substrate having a protruding portion with both side surfaces inclined at an angle, and a magnetic thin film made of a magnetic material having a high saturation magnetic flux density and deposited on the side surface of the core substrate facing the magnetic gap. , the protrusion provided on the core base body is characterized in that the angle at which the protrusion intersects both side surfaces exceeds 90 degrees.
次に本発明の実施例について図とともに説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第１図は第１実施例に係る複合磁気へラドの平面図、第
２図は第１図イーイ線上の断面図である。FIG. 1 is a plan view of a composite magnetic helad according to the first embodiment, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line E-II in FIG.
この複合磁気ヘッドは磁気ディスク記録再生装置に用い
られるもので、記録再生へラド２１と、消去へラド２２
と、両磁気ヘッド間の磁気的な影響を阻止するための非
磁性体２３とから主に構成されている。磁気記録媒体（
磁気ディスク）の走行方向の上流側に記録再生へラド２
１が、その下流側に消去ヘッド２２が配置されるように
、これら一体物がヘッド保持体（図示せず）に取り付け
られる。This composite magnetic head is used in a magnetic disk recording/reproducing device, and includes a recording/reproducing head 21 and an erasing head 22.
and a non-magnetic material 23 for preventing magnetic influence between both magnetic heads. Magnetic recording media (
Rad2 for recording and reproducing on the upstream side of the running direction of the magnetic disk (magnetic disk)
1 is attached to a head holder (not shown) so that the erasing head 22 is disposed downstream thereof.
記録再生ヘッド２１は、第１コア半体２４と、それと対
向する第２コア半体２５と、第１コア半体２４に設けた
コイル溝２６に巻装される励磁コイル２７とから主に構
成されている。２８はガラスなどの非磁性体からなる補
強層で、第１コア半体２４と第２コア半体２５の接合部
近傍に設けられている。The recording/reproducing head 21 mainly includes a first core half 24 , a second core half 25 facing the first core half 24 , and an excitation coil 27 wound around a coil groove 26 provided in the first core half 24 . has been done. A reinforcing layer 28 is made of a non-magnetic material such as glass, and is provided near the joint between the first core half 24 and the second core half 25.
第１コア半体２４は、磁気ギャップ３５と対向する側面
のほぼ中央に山形の突出部２９を有する第１コア基体３
０と、前記側面に被着された第１磁性薄ｆｆ１３１とか
ら構成されている。The first core half 24 has a first core base 3 having a chevron-shaped protrusion 29 approximately at the center of the side surface facing the magnetic gap 35.
0 and a first magnetic thin film ff131 adhered to the side surface.
前記第１コア基体３０には、例えばマンガン−亜鉛フェ
ライトやニッケルー亜鉛フェライトのような高透磁率を
有するフェライトが用いられる。For the first core base 30, a ferrite having high magnetic permeability, such as manganese-zinc ferrite or nickel-zinc ferrite, is used.
一方、前記第１磁性薄１１ｉ３１には、高飽和磁束密度
ならびに高透磁率を有する結晶質合金や非晶質合金が用
いられる。この結晶質合金としては鉄−アルミニウム−
ケイ素合金、鉄−ケイ素系合金ならびに鉄−ニッケル系
合金などがある。また非晶質合金としては、鉄、ニッケ
ル、コバルトのグループから選択された１種以上の元素
と、リン、炭素、ホウ素、ケイ素のグループから選択さ
れた１種以上の元素とからなる合金、またはこれを主成
分として、アルミニウム、ゲルマニウム、ベリリウム、
スズ、モリブデン、インジニウム。タングステン、チタ
ン、マンガン、クロム、ジルコニウム、ハフニウム、ニ
オブなどの元素を添加した合金、あるいはコバルト、ジ
ルコニウムを主成分として、前述の添加元素を含んだ合
金などがある。On the other hand, for the first magnetic thin film 11i31, a crystalline alloy or an amorphous alloy having high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability is used. This crystalline alloy is iron-aluminum-
Examples include silicon alloys, iron-silicon alloys, and iron-nickel alloys. The amorphous alloy is an alloy consisting of one or more elements selected from the group of iron, nickel, and cobalt and one or more elements selected from the group of phosphorus, carbon, boron, and silicon; With this as the main component, aluminum, germanium, beryllium,
Tin, molybdenum, ingenium. There are alloys to which elements such as tungsten, titanium, manganese, chromium, zirconium, hafnium, and niobium are added, and alloys containing cobalt and zirconium as main components and the above-mentioned additional elements.
第２コア半体２５も第１コア半体２４と同様に、磁気ギ
ャップ３５と対向する側面のほぼ中央に山形の突出部３
２を有する高透磁率のフェライトからなる第２コア基体
３３と、それの前記側面に凍着された高飽和磁束密度と
高透磁率を有する金属磁性材よりなる第２ｍ性薄膜３４
とから構成されている。第１図に示すように第１コア半
体２４側の突出部２９ならびに第１磁性薄Ｈ３１と、第
２コア半体２５例の突出部３２ならびに第２磁性薄膜３
４とは、接合部近傍の形状が磁気ギャップ３５を介して
ほぼ左右対称になっている。この磁気ギャップ３５は、
約１００〜１４０ｐｍ程度の長さを有している。Similarly to the first core half 24, the second core half 25 also has a chevron-shaped protrusion 3 approximately in the center of the side surface facing the magnetic gap 35.
a second core base 33 made of ferrite with a high magnetic permeability and a second m thin film 34 made of a metallic magnetic material with a high saturation magnetic flux density and a high magnetic permeability frozen to the side surface of the second core base 33;
It is composed of. As shown in FIG. 1, the protrusion 29 and the first magnetic thin film H31 on the side of the first core half 24, the protrusion 32 of the second core half 25, and the second magnetic thin film 3
4, the shape in the vicinity of the joint portion is approximately symmetrical with respect to the magnetic gap 35. This magnetic gap 35 is
It has a length of about 100 to 140 pm.
一方、消去ヘッド２２は、第１コア半体３６と、それと
対向する第２コア半体３７と、ｔｊ！Ｊ２コア半体３７
に設けたコイル溝３８に巻装される励磁コイル３９とか
ら主に構成されている。４０はガラスなどの非磁性材か
らなる補＠層で、第１コア半体３６と第２コア半体３７
の接合部近傍に設けられている。On the other hand, the erasing head 22 includes a first core half 36, a second core half 37 opposing it, and tj! J2 core half 37
The excitation coil 39 is wound around a coil groove 38 provided in the excitation coil 39. Reference numeral 40 denotes a supplementary layer made of a non-magnetic material such as glass, which includes a first core half 36 and a second core half 37.
It is provided near the joint of the
第１コア半体３６は、磁気ギャップ４１と対向する側面
に所定の間隔をおいて２つの山形の突出部４２を有する
高透磁率のフェライトからなる第１コア基体４３と、そ
れの前記側面に被着された高飽和磁束密度と高透磁率を
有する金属磁性材よりなる第１ｍ性ＥｉｌＷ！Ｘ４４と
から構成されている。The first core half 36 includes a first core base 43 made of ferrite with high magnetic permeability and having two chevron-shaped protrusions 42 at a predetermined interval on the side facing the magnetic gap 41; The first m-type EilW is made of a deposited metallic magnetic material with high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability. It is composed of X44.
！２２コア半３７も第１コア半体３６と同様に、磁気ギ
ャップ４１と対向する側面に所定の間隔をおいて２つの
山形の突出部４２を有する高透磁率のフェライトからな
る第２コア基体４６と、それの前記側面に被着された高
飽和磁束密度と高透磁率を有する金属磁性材よりなる第
２ｍ性薄膜４７とから構成されている。従って第１図に
示すように、第１コア半体３６側の突出部４２ならびに
第１磁性ＴＲ膜４４と、第２コア半体３７側の突出部４
５ならびに第２磁性薄膜４７とは、接合部近傍の形状が
磁気ギャップ３５を介してほぼ左右対称になっている。! Similar to the first core half 36, the 22 core half 37 also has a second core base 46 made of high magnetic permeability ferrite and having two chevron-shaped protrusions 42 at a predetermined interval on the side facing the magnetic gap 41. and a second m-th thin film 47 made of a metallic magnetic material having high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability, which is adhered to the side surface thereof. Therefore, as shown in FIG. 1, the protrusion 42 and the first magnetic TR film 44 on the first core half 36 side, and the protrusion 4 on the second core half 37 side.
5 and the second magnetic thin film 47 are substantially symmetrical in shape near the junction with the magnetic gap 35 interposed therebetween.
記録再生ヘッド２１の磁気ギャップ３５と消去ヘッド２
２の２つの磁気ギャップ４１とは第１図に示すような位
置関係になっており、記録再生ヘッド２１によって磁気
記録媒体に記録トラックが形成され、その直後に消去へ
ラド２２によって前記記録トラックの両端が一部消去さ
れてトランク幅の規制がなされる。Magnetic gap 35 of recording/reproducing head 21 and erasing head 2
The two magnetic gaps 41 of No. 2 have a positional relationship as shown in FIG. Parts of both ends are erased to regulate the trunk width.
第１図に示す如く第１コア基体３０における突部２９の
両方の傾斜側面が交差する角度、すなわち頂角θ２は、
９０度を超え１５０度までの範囲に規制されている。こ
の頂角θ２が９０度以下、すなわち鋭角であると、蒸着
やスパッタリングなどで突部２９の両側傾斜面に磁性薄
膜３１を被着する際に、磁性薄膜３１を形成する原料タ
ーゲットに対する突部２９の両側傾斜面の傾斜角が大き
過ぎる。そのため厚い磁性薄膜３１ （磁性薄膜の厚み
の関係は後で説明する）を形成する場合に時間がかかり
過ぎて、生産性が悪い、また、頂角θ２が鋭角であると
、切削によって突部２９を形成する際にそれの尖端部に
欠けなどが生じ易くなり、歩留りが悪い、一方、頂角θ
２が１５０度を超えて大きくなると、突部２９の先端部
近くが平面状に近づき、その先端部近傍が擬似的な磁気
ギヤ。As shown in FIG. 1, the angle at which both inclined side surfaces of the protrusion 29 in the first core base 30 intersect, that is, the apex angle θ2 is:
It is regulated to a range of over 90 degrees and up to 150 degrees. If the apex angle θ2 is 90 degrees or less, that is, an acute angle, when the magnetic thin film 31 is deposited on both inclined surfaces of the protrusion 29 by vapor deposition or sputtering, the protrusion 29 will be attached to the raw material target for forming the magnetic thin film 31. The angle of inclination of both sides of the slope is too large. Therefore, it takes too much time to form the thick magnetic thin film 31 (the relationship between the thicknesses of the magnetic thin film will be explained later), resulting in poor productivity.Furthermore, if the apex angle θ2 is acute, the protrusion 29 will be removed by cutting. When forming the apex angle θ, chipping is likely to occur at the tip, resulting in poor yield.
2 becomes larger than 150 degrees, the vicinity of the tip of the protrusion 29 approaches a flat shape, and the vicinity of the tip becomes a pseudo magnetic gear.
ブを構成することになり特性上好ましくない、従って突
部２９の尖、端部に欠けがなく、所定の厚さを有する磁
性薄ＷＡ３１を生産性よく形成し、しがも突部２９の先
端部近傍に擬似ギャップが形成されないようにするには
、突部２９の頂角θ２を約９０度を超え１５０度までの
範囲に規制する必要がある。Therefore, the tips and ends of the protrusions 29 are not chipped, and the magnetic thin WA 31 having a predetermined thickness is formed with high productivity. In order to prevent a pseudo gap from being formed near the protrusion 29, it is necessary to restrict the apex angle θ2 of the protrusion 29 to a range of more than about 90 degrees to 150 degrees.
この突部における頂角の規制は、記録再生ヘッド２１の
第１コア半体２４だけでなく、それの第２コア半体２５
ならびに消去ヘッド２２の第１コア半体３６、第２コア
半体３７においても同様に適用されることである。The apex angle of this protrusion is restricted not only to the first core half 24 of the recording/reproducing head 21 but also to its second core half 25.
The same applies to the first core half 36 and second core half 37 of the erasing head 22.
第２図に示すように記録再生ヘッド２１の第１コア半体
２４ならびに消去ヘッド２２の第２コア半体３７にはそ
れぞれコイル１２６．３８が形成される訳であるが、前
述の従来Ｉｇされた磁気ヘッドの場合と順序が異なる。As shown in FIG. 2, coils 126 and 38 are formed in the first core half 24 of the recording/reproducing head 21 and the second core half 37 of the erasing head 22, respectively. The order is different from that of a magnetic head.
すなわち磁性′ｙｉ膜３１゜４７を被着する前にコア基
体３０．４６に磁性薄ｇ！３１．４７の膜厚を見込んで
コイル溝２６１８を形成し、しかるのちに磁性薄膜３１
．４７を被着する。そのため、同図に示す如く磁性１Ｎ
ＩＩＱ３１゜４７はコイル溝２６．３８によって途中で
分断されることなく、上部から下部に向けて連続して形
成されている。That is, before depositing the magnetic 'yi film 31.47, a magnetic thin g! The coil groove 2618 is formed with a film thickness of 31.47 mm, and then the magnetic thin film 31 is formed.
．． 47 is applied. Therefore, as shown in the same figure, the magnetic 1N
The IIQ31°47 is not cut off in the middle by the coil grooves 26, 38, but is formed continuously from the top to the bottom.
第３図は記録再生へラド２１における磁気ギャップ３５
近傍の平面説明図、第４図は第３図ローロ線上で切断し
た断面説明図である。FIG. 3 shows the magnetic gap 35 in the recording/reproducing radar 21.
4 is an explanatory plan view of the vicinity, and is an explanatory cross-sectional view taken along the Rolo line in FIG. 3.
第１コア半体２４における磁気ギャップ対向面以外の磁
路で、第１コア基体３０に流れる磁束の方向に対してほ
ぼ垂直な断面積とその第１コア基体３０の飽和磁束密度
の積と、第１磁性薄膜３１に流れる磁束の方向に対して
ほぼ垂直な断面積とその第１磁性薄膜３１の飽和磁束密
度の積との総和が最も小さくなるのは、大体第３図およ
び！４図において太線で示すＡ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｈの位置
である。The product of the cross-sectional area substantially perpendicular to the direction of the magnetic flux flowing in the first core base 30 in the magnetic path other than the surface facing the magnetic gap in the first core half 24 and the saturation magnetic flux density of the first core base 30; The area where the sum of the product of the cross-sectional area substantially perpendicular to the direction of the magnetic flux flowing through the first magnetic thin film 31 and the saturation magnetic flux density of the first magnetic thin film 31 is the smallest is approximately shown in FIGS. These are the positions of A, B, C, D, and H indicated by thick lines in Figure 4.
すなわち、磁気ギャップ３５の一端から第１コア基体３
０における突出部２９の一方の傾斜側面に対して垂直に
引いた太線Ａ、、気ギャップ３５の！ｔｈ端から突出部
２９の他方の（頃斜側面に対して垂直に引いた太線Ｂ、
前前記綿線の一端と太ｖＡＢの一端を結ぶ太線Ｃ１太純
Ｃの位置から磁気ヘッド面に対して垂直に降ろした大ｋ
ＩＡＤ、その太線りの一端から傾斜面４日側の第１磁性
薄膜３１に向けて垂直に降ろした太線Ｅで示される位置
である。That is, from one end of the magnetic gap 35 to the first core base 3
A thick line A drawn perpendicularly to one inclined side surface of the protrusion 29 at 0, the air gap 35! From the th end to the other side of the protrusion 29 (thick line B drawn perpendicular to the oblique side surface,
A thick line C1 connecting one end of the cotton wire and one end of the thick vAB is drawn down perpendicularly to the magnetic head surface from the position of the thick line C1.
This is the position indicated by a thick line E drawn vertically from one end of the IAD toward the first magnetic thin film 31 on the fourth side of the inclined surface.
本発明者らは、この第１コア基体３０の表面に被着され
る磁性薄膜３１の特性が十分に発揮できる磁性ｇＩ膜３
１の厚さについて種々検討した結果、後述のような関係
式を満足するように構成すれば、高飽和磁束密度を有す
る磁性薄膜３１を用いた効果が十分に発揮できることを
見出した。The present inventors have developed a magnetic gI film 3 that can fully exhibit the characteristics of the magnetic thin film 31 deposited on the surface of the first core substrate 30.
As a result of various studies regarding the thickness of the magnetic thin film 31, it has been found that the effect of using the magnetic thin film 31 having a high saturation magnetic flux density can be sufficiently exhibited if the magnetic thin film 31 is configured to satisfy the relational expression as described below.
すなわち第３図および第４図に示す太線Ａに沿うて切断
した個所の断面積をＳｔ、大１１に沿って切断した個所
の断面積をＳｔ、太１５１Ｅに沿って切断した個所の断
面積をＳ３．太ＭＣならびに太線りに沿って切断した個
所の断面積をｓａ、Ｔａ性１膜３１の磁気ギャップ対向
面積をＳｓ、第１コア基体３０の飽和磁束密度を８１１
＋磁性薄膜３１の飽和磁束密度をＢ□と定義した場合、
（ＳＩ＋Ｓ１”Ｓ３ン Ｂ１１”Ｓｌ・ Ｂｓ＋ ２
： Ｓ Ｇ−Ｂｓｗ−・−−−一−−・−・・・−・・
−・・・・−・・＋１１となるように、第１コア基体３
０ならびに第１磁性ｇ１Ｍ３１を構成する。That is, the cross-sectional area of the place cut along the thick line A shown in FIGS. 3 and 4 is St, the cross-sectional area of the place cut along the large line 11 is St, and the cross-sectional area of the place cut along the thick line 151E is S3. The cross-sectional area of the part cut along the thick MC and thick lines is sa, the magnetic gap facing area of the Ta-based 1 film 31 is Ss, and the saturation magnetic flux density of the first core substrate 30 is 811.
+If the saturation magnetic flux density of the magnetic thin film 31 is defined as B□,
(SI+S1"S3 B11"Sl・Bs+ 2
: S G-Bsw-・----1--・-・・・・・
−・・・・・・・+11, the first core base 3
0 and the first magnetic g1M31.
このように磁性ｆｆ１１５１３１の各部に流れる磁束の
方向に対してほぼ垂直な断面積とその磁性薄膜３１の飽
［ｆ束回度の積と、コア基体３０に流れる磁束の方向に
対してほぼ垂直な断面積とそのコア基体３０の飽和磁束
密度の積との総和値が最も小さくなる位置においても、
その総和値が磁性薄膜３１の磁気ギャップ対向面積とそ
の磁性薄膜３１の飽和磁束密度との積取上になるように
、コア基体３０ならびに磁性薄膜３１を構成すれば、従
来提案されたように磁気ギャップ部近傍よりも先に、磁
性薄膜の磁気ギャップから離れた個所が磁気的に飽和し
てしまうようなことがなく、高飽和磁束密度を有する磁
性薄膜３１を用いた効果が十分に発揮でき、優れた磁気
特性が得られる。In this way, the product of the cross-sectional area almost perpendicular to the direction of the magnetic flux flowing in each part of the magnetic ff115131, the saturation [f flux rotation of the magnetic thin film 31, and the almost perpendicular to the direction of the magnetic flux flowing in the core base 30] Even at the position where the sum of the product of the cross-sectional area and the saturation magnetic flux density of the core base 30 is the smallest,
If the core base 30 and the magnetic thin film 31 are configured so that the total value is the product of the magnetic gap facing area of the magnetic thin film 31 and the saturation magnetic flux density of the magnetic thin film 31, the magnetic The effect of using the magnetic thin film 31 having a high saturation magnetic flux density can be fully exhibited without causing the magnetic thin film at a portion away from the magnetic gap to become magnetically saturated before the vicinity of the gap portion. Excellent magnetic properties can be obtained.
第５図および第６図は第２実施例を説明するための図で
ある。この実施例は磁気ギャップ３５の長さ、換言すれ
ば記録トランク幅を長くするのに好適で、第１コア基体
３０の突出部２９ならびに第２コア基体３３の突出部３
２が２つ以上並設されており、その上に第１磁性薄膜３
１ならびに第２磁性薄膜３４が被着されている。FIG. 5 and FIG. 6 are diagrams for explaining the second embodiment. This embodiment is suitable for increasing the length of the magnetic gap 35, in other words, the recording trunk width.
2 are arranged in parallel, and a first magnetic thin film 3 is placed thereon.
1 and a second magnetic thin film 34 are deposited.
この実施例の場合も第１コア半体２４における磁気ギャ
ップ対向面以外の磁路モ、第１コア基体３０に流れる磁
束の方向に対してほぼ垂直な断面積とその第１コア半体
３０の飽和磁束密度の積と、第１磁性ｙＩＷｆ４３１に
流れる磁束の方向に対してほぼ垂直な断面積とその第１
磁性薄膜３１の飽和磁束密度の積との総和が最も小さく
なるのは、第５図および第６図で太ｍＡ、Ｂ、Ｃ，Ｄで
示した位置である。In this embodiment as well, the magnetic path other than the surface facing the magnetic gap in the first core half body 24, the cross-sectional area substantially perpendicular to the direction of the magnetic flux flowing in the first core base body 30, and the cross-sectional area of the first core half body 30. The product of the saturation magnetic flux density, the cross-sectional area almost perpendicular to the direction of the magnetic flux flowing through the first magnetic yIWf431, and the first
The sum total with the product of the saturation magnetic flux density of the magnetic thin film 31 is the smallest at the positions indicated by thick mA, B, C, and D in FIGS. 5 and 6.
同図に示す太線Ａに沿って切断した個所の断面積をＳｒ
、太ｗＡＢに沿って切断した個所の断面積をＳｔ、太線
已に沿って切断した個所の断面積をＳｓ、太線Ｃに沿っ
て切断した突出部２９の断面積をＳｓ、Ｓｖ、太線Ｃに
沿って切断した磁性薄膜３１の断面積をＳ＆＋ 磁性薄
膜３１の磁気ギャップ対向面積をＳ、、コア基体３０の
飽和磁束密度を１３ｓ＋、磁性ｆｉ膜３１の飽和磁束密
度をＢＳ！と定義した場合、
（Ｓ＋＋Ｓ＊＋３．＋５ａ）Ｂ＊ｘ＋（Ｓ、＋５ｑ）Ｂ
ｔ＋≧Ｓ６・Ｂ１１ ・−・・−・・−・−・
・・・・・・−・・−＋２１となるように、第１コア基
体３０ならびに第１磁性薄膜３１を構成する。The cross-sectional area of the point cut along the thick line A shown in the figure is Sr
, the cross-sectional area of the part cut along the thick wAB is St, the cross-sectional area of the part cut along the thick line is Ss, the cross-sectional area of the protrusion 29 cut along the thick line C is Ss, Sv, the thick line C The cross-sectional area of the magnetic thin film 31 cut along is S&+, the area of the magnetic thin film 31 facing the magnetic gap is S, the saturation magnetic flux density of the core base 30 is 13s+, and the saturation magnetic flux density of the magnetic fi film 31 is BS! If defined as (S++S*+3.+5a)B*x+(S,+5q)B
t+≧S6・B11 ・−・・−・・−・−・
The first core base 30 and the first magnetic thin film 31 are configured so that the magnetic flux is -...-+21.
前述の１１式あるいは（２）式の条件を満足する磁気ヘ
ッドを造るためには、前述のようにコア基体における突
出部の頂角θ２を９０度を０え１５０度までの範囲に規
制すれば、容易に作成することができる。In order to manufacture a magnetic head that satisfies the conditions of formula 11 or formula (2) above, the apex angle θ2 of the protrusion on the core base must be controlled within the range from 90 degrees to 150 degrees, as described above. , can be easily created.
前記実施例では、マンガン−亜鉛フェライトなどの磁性
体からなるコア基体上に磁性ｒｓＷ＆を形成した場合に
ついて説明したが、コア基体が非磁性フェライトあるい
はセラミックなどの非磁性体からなり、その表面に磁性
ｒ！！Ｉ膜を形成する磁気ヘッドについても本発明は適
用可能であり、この場合は前記（１）式、（２）式にお
けるＢ１１は零になる。In the above embodiment, a case was explained in which magnetic rsW& was formed on a core substrate made of a magnetic material such as manganese-zinc ferrite. r! ! The present invention is also applicable to a magnetic head in which an I film is formed, and in this case, B11 in the above equations (1) and (2) becomes zero.
また前記実施例では、コア基体における突出部の両側面
、磁気ギャップ対向面ならびに溝側面にわたって磁性薄
膜を形成したが、本発明はこれに限定されるものではな
く、例えばコア基体の磁気ギャップ対向面と溝側面だけ
に磁性薄膜を形成することもできる。Further, in the above embodiments, the magnetic thin film was formed on both sides of the protrusion in the core base, on the surface facing the magnetic gap, and on the side surfaces of the groove, but the present invention is not limited thereto. It is also possible to form a magnetic thin film only on the side surfaces of the groove.
さらに前記実施例では記録再生へラドの第１コア半体に
ついて説明したが、本発明は他のコア半体についても適
用できることは説明するまでもない。Further, in the above embodiments, the first core half of the recording/reproducing disk was explained, but it goes without saying that the present invention can be applied to other core halves as well.
前述のようにコア基体上に被着される磁性薄膜の厚さを
ある程度厚くして前記ｆｌ１式あるいは（２）式の条件
を満足するようにすれば、高飽和磁束密度を存する磁性
ｇＩＨの特性が十分に発揮されるが、磁性薄膜を余り厚
くしすぎると渦電流の発生に基づく磁気…失があり、さ
らに生産性の点からも好ましくない。As mentioned above, if the thickness of the magnetic thin film deposited on the core substrate is increased to a certain extent to satisfy the conditions of the fl1 formula or formula (2), the characteristics of magnetic gIH that has a high saturation magnetic flux density can be improved. However, if the magnetic thin film is made too thick, there will be a loss of magnetism due to the generation of eddy currents, which is also undesirable from the viewpoint of productivity.
コア基体の突出部におけろ両側面の鎖交する角度（頂角
θ２）を種々変えた場合の、磁性ｙｔ膜が有効に働くた
めに必要な膜厚との関係を調べ、その結果を第１６図に
示す、この図から明らかなように、突出部における両側
面の鎖交する角度（頂角θ２）と磁性′ｉＩＩ膜が有効
に働くために必要な膜厚との間には相関関係があり、突
出部の頂角θ２が９０度より小さいとけ性情膜を厚く形
成する必要があるが、突出部の頂角θ２が９０度を超え
ると磁性薄膜の膜厚が薄くてもその機能が十分に発揮で
き、同じ高飽和磁束密度を有する磁性材料を用いた場合
でも磁束を通す量を大きくすることができる。We investigated the relationship between the interlinking angle (apex angle θ2) of both side surfaces of the protruding portion of the core base body and the film thickness required for the magnetic YT film to work effectively, and the results were summarized as follows. As shown in Figure 16, as is clear from this figure, there is a correlation between the interlinking angle (apex angle θ2) of both side surfaces of the protrusion and the film thickness required for the magnetic 'iII film to work effectively. Therefore, it is necessary to form a thick magnetic film with an apex angle θ2 of the protrusion less than 90 degrees, but if the apex angle θ2 of the protrusion exceeds 90 degrees, its function will be impaired even if the magnetic thin film is thin. Even when magnetic materials having the same high saturation magnetic flux density are used, the amount of magnetic flux passing through can be increased.
本発明は前述のように突出部の頂角θ２の角度を規制す
ることにより、磁性薄膜の機能を十分に発揮し、かつそ
の膜厚を可及的に薄くできる。そのため渦電流の発生に
基づく磁気損失を抑えて、高周波特性の良い磁気ヘッド
を提供することができる。In the present invention, by regulating the apex angle θ2 of the protrusion as described above, the function of the magnetic thin film can be fully exhibited and the film thickness can be made as thin as possible. Therefore, magnetic loss due to the generation of eddy currents can be suppressed, and a magnetic head with good high frequency characteristics can be provided.
なお、本発明は磁気ギャップの長さが約３０μｍ以上の
磁気ヘッドに特に好適である。Note that the present invention is particularly suitable for a magnetic head with a magnetic gap length of about 30 μm or more.
第１図は第１実施例に係る複合磁気ヘッドの平面図、第
２図は第５図ハーバ線上の断面図、第３図はこの複合磁
気ヘッドの記録再生へラドにおける磁気ギャップ近傍の
平面説明図、第４図は第５図ハーバ線上の断面説明図、
第５図は第２実施例に係る磁気ヘッドの磁気ギャップ近
傍の平面説明図、第６図は第５図ハーバ線上の断面説明
図、第７図および第８図は従来提案された磁気ヘッドの
一部平面図および一部断面図、第９図、第１Ｏ図。
第１１図、第１２図、第１３図、第１４図および第１５
図はその磁気ヘッドの製造工程を示す説明図、第１６図
はコア基体の突出部における頂角と磁性１ｍの必要膜厚
との関係を示す特性図である。
２１・・・・記録再生ヘッド、２２・・・・消去ヘッド
、２４．３６・・・・第１コア半体、２５．３７・・・
・第２コア半体、２９．３２．４２・・・・突出部、３
０゜４３・・・・第１コア基体、３１．４４・・・・第
１磁性’ｆ！ＩＭ、３３．４６・・・・第２コア基体、
３４．４７・・・・第２磁性ＴＲ膜、３５．４１・・・
・磁気ギャップ。
第１図
２Ｉ 言こ４嚢４生へ・／１−
２２．３肖云へンＦ。
２４ノ３６．纂 １ ］了＋ｇ
ｚ５，５り゛第２コ了手ネト
ｚｑ、多２ｒ４２ｐ４り：交出卸
３θ、４３．第１コ了基ネト
３５．４／ ’／ζ並３１へ′Ｔ７フ・第３図
第５図
第９図
Ｑ
第１０図
？
第１／図
第１２図
第１３図
第１４図
第１５図
？
第１６図
１２０ ９０ ＳＯ
山度（崖）FIG. 1 is a plan view of the composite magnetic head according to the first embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view along the Haber line in FIG. 5, and FIG. 3 is a plan view of the vicinity of the magnetic gap in the recording/reproducing head of this composite magnetic head. Figure 4 is an explanatory cross-sectional view on the harbor line in Figure 5,
FIG. 5 is an explanatory plan view of the vicinity of the magnetic gap of the magnetic head according to the second embodiment, FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view along the harbor line of FIG. 5, and FIGS. A partial plan view and a partial sectional view, FIG. 9, and FIG. 1O. Figures 11, 12, 13, 14 and 15
The figure is an explanatory view showing the manufacturing process of the magnetic head, and FIG. 16 is a characteristic diagram showing the relationship between the apex angle of the protrusion of the core base and the required magnetic film thickness of 1 m. 21...recording/reproducing head, 22...erasing head, 24.36...first core half, 25.37...
・Second core half, 29.32.42...Protrusion, 3
0°43...first core base, 31.44...first magnetic 'f! IM, 33.46...second core base,
34.47... Second magnetic TR film, 35.41...
・Magnetic gap. Figure 1 2I Words 4 bags 4 students/1- 22.3 Xiao Yun Hen F. 24 no 36.纂 1 ] Finish + g z 5, 5 ri゛ 2nd ko finish hand zq, multi 2 r 42 p 4 ri: exchange wholesale 3 θ, 43. 1st corroboration base net 35.4/'/ζ average 31'T7fu・Figure 3Figure 5Figure 9QFigure 10? 1/Figure 12 Figure 13 Figure 14 Figure 15? Figure 16 120 90 SO Sando (cliff)
Claims (1)
気ヘッドで、そのコア半体が、磁気ギャップと対向する
方の面に磁気ギャップ面に対して傾斜した両側面をもつ
突出部を形成したコア基体と、そのコア基体の磁気ギャ
ップと対向する方の側面に被着された高飽和磁束密度を
有する磁性材料よりなる磁性薄膜とを備えるものにおい
て、前記コア基体に設けられた突出部の両側面の鎖交す
る角度が９０度を超えていることを特徴とする磁気ヘッ
ド。A magnetic head consisting of two core halves joined through a magnetic gap, where the core halves form a protrusion on the surface facing the magnetic gap that has both side surfaces tilted with respect to the magnetic gap plane. and a magnetic thin film made of a magnetic material having a high saturation magnetic flux density and coated on the side surface of the core base opposite to the magnetic gap, in which the protrusion provided on the core base is A magnetic head characterized in that the interlinking angle of both side surfaces exceeds 90 degrees.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19487584A JPS6174118A (en) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | Magnetic head |
| EP85111724A EP0179269B1 (en) | 1984-09-19 | 1985-09-17 | Magnetic head |
| DE8585111724T DE3584607D1 (en) | 1984-09-19 | 1985-09-17 | MAGNETIC HEAD. |
| US06/777,744 US4701819A (en) | 1984-09-19 | 1985-09-19 | Magnetic head to effect high density magnetic recording |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19487584A JPS6174118A (en) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | Magnetic head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6174118A true JPS6174118A (en) | 1986-04-16 |
Family
ID=16331761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19487584A Pending JPS6174118A (en) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | Magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6174118A (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59207415A (en) * | 1983-05-11 | 1984-11-24 | Hitachi Ltd | Compound magnetic head and its preparation |
-
1984
- 1984-09-19 JP JP19487584A patent/JPS6174118A/en active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59207415A (en) * | 1983-05-11 | 1984-11-24 | Hitachi Ltd | Compound magnetic head and its preparation |
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