JPS6172783A - カルボキシアミジン誘導体及び除草剤 - Google Patents
カルボキシアミジン誘導体及び除草剤Info
- Publication number
- JPS6172783A JPS6172783A JP19369284A JP19369284A JPS6172783A JP S6172783 A JPS6172783 A JP S6172783A JP 19369284 A JP19369284 A JP 19369284A JP 19369284 A JP19369284 A JP 19369284A JP S6172783 A JPS6172783 A JP S6172783A
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- JP
- Japan
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は新規なカルボキシアミジン誘導体及びその除草
剤としての使用に関する。
剤としての使用に関する。
(従来の技術・発明が解決しようとする問題点)農園芸
作物の栽培ζ;あたり多大の労力を必要としてきた雑草
防除(=多くの除草剤が使用されるよう(−なってきた
。しかし、作物に薬害を生じたり、環境二残留し汚染し
たりすることから効果が確実で完全に使用できる薬剤の
開発が待たれている。
作物の栽培ζ;あたり多大の労力を必要としてきた雑草
防除(=多くの除草剤が使用されるよう(−なってきた
。しかし、作物に薬害を生じたり、環境二残留し汚染し
たりすることから効果が確実で完全に使用できる薬剤の
開発が待たれている。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、カルボキシアミジン誘導体(二階目し、
鋭意研究を重ねたところ 一般式 (式中、鵬はハロゲン原子ニトロ基もしくは低級アルキ
ル基でモノ、ジもしくはトリ置換されていてもよいイミ
ダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリルもしくはベンズイ
ミダシリル基を、(但し、Xはハロゲン原子、低級アル
キル基又は低級アルコキシ基を、Yは低級アルキル基又
は低級アルコキシ基を示す。)で表されるピリミジノ基
又はトリアジノ基を、 馬はオルト位がハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキクカルボニル基、低級アルキルスルホニルオキク
基、フェノキ7基もしくは置換フェノキシ基で置換され
たフェニル基、フェノキシ基もしくはベンジル基を示す
か又は低級アルキル基で置換されたピ之シリ〃基を示す
。) で表される化合物、及びその金を塩を雑草の発芽前の土
壌表面に、または発芽後の生育期:二軸:の藁葉部(二
散布した時(:極めて低薬量で雑草を枯殺する作用を有
し、しかも幾つかの化合物はそれぞれ小麦、イネ、大豆
、畑中の雑草を選択的1:防除でさる活性を有している
ことを見い出し、更(:生物学的及び物理学的研究を重
ね、本発明を完成した。
鋭意研究を重ねたところ 一般式 (式中、鵬はハロゲン原子ニトロ基もしくは低級アルキ
ル基でモノ、ジもしくはトリ置換されていてもよいイミ
ダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリルもしくはベンズイ
ミダシリル基を、(但し、Xはハロゲン原子、低級アル
キル基又は低級アルコキシ基を、Yは低級アルキル基又
は低級アルコキシ基を示す。)で表されるピリミジノ基
又はトリアジノ基を、 馬はオルト位がハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキクカルボニル基、低級アルキルスルホニルオキク
基、フェノキ7基もしくは置換フェノキシ基で置換され
たフェニル基、フェノキシ基もしくはベンジル基を示す
か又は低級アルキル基で置換されたピ之シリ〃基を示す
。) で表される化合物、及びその金を塩を雑草の発芽前の土
壌表面に、または発芽後の生育期:二軸:の藁葉部(二
散布した時(:極めて低薬量で雑草を枯殺する作用を有
し、しかも幾つかの化合物はそれぞれ小麦、イネ、大豆
、畑中の雑草を選択的1:防除でさる活性を有している
ことを見い出し、更(:生物学的及び物理学的研究を重
ね、本発明を完成した。
本発明化合物は新規化合物であり、例えば下記反応式(
=従って製造することができる。
=従って製造することができる。
(I[)
(I)
(II) (1)
(式中、へ、馬及び攬は前記と同じ意味を示す。)本発
明化合物は下記に示す二種の互変異性偽造を有しており
、更(二各々はE及びZA性体を含んでいる。本発明は
いずれの異性体をも含むものである。
明化合物は下記に示す二種の互変異性偽造を有しており
、更(二各々はE及びZA性体を含んでいる。本発明は
いずれの異性体をも含むものである。
(実施例)
次::本発明化合物を実施例を挙げて更(:洋芝に説明
する。
する。
実施例1゜
N−(4,6−シメチルピリミジンー2−イル)−N’
−(2−メトキシカルボニルベンゼンスルホ二/L/)
−1−イミダゾールカルボキシアミジンの合成(化合物
番号33): N−(4,6−シメチルピリミジンー2−イル)アミノ
カルボニル−2−メトキシカルボニルペンスルホンアミ
ドo、sy、トリフェニルホスフィン0.86i乾燥ア
セトニトリル30WLlの温合物に四塩化炭素2.1
/を室温で添加しさらに1時r8J撹拌した後イミダゾ
ール0.45 Fを室温で添加した。このものを室温で
1晩撹拌した後溶媒を減圧で蒸発させた。得られた混合
物を塩化メチレン20LIに溶解したものを03N水酸
化ナトリウム水溶液20m1で抽出した。その抽出液を
氷酢酸で中和したところ油状物質が生成した。それを塩
化メチレン204で抽出したものを水洗しさら2二硫酸
マグネシウムで乾燥した後溶媒を減圧で蒸発させた。生
成した結晶をジエチルエーテルで洗浄しセして次1:乾
燥すること二より融点165−167°Cを有するN−
(4,6−シメチルビリミジンー2−イル)−N’−(
2−メトキシカルボニルベンゼンスルホニル)−1−イ
ミダゾールカルボキシアミジンの無色結晶0.3 gを
得た。
−(2−メトキシカルボニルベンゼンスルホ二/L/)
−1−イミダゾールカルボキシアミジンの合成(化合物
番号33): N−(4,6−シメチルピリミジンー2−イル)アミノ
カルボニル−2−メトキシカルボニルペンスルホンアミ
ドo、sy、トリフェニルホスフィン0.86i乾燥ア
セトニトリル30WLlの温合物に四塩化炭素2.1
/を室温で添加しさらに1時r8J撹拌した後イミダゾ
ール0.45 Fを室温で添加した。このものを室温で
1晩撹拌した後溶媒を減圧で蒸発させた。得られた混合
物を塩化メチレン20LIに溶解したものを03N水酸
化ナトリウム水溶液20m1で抽出した。その抽出液を
氷酢酸で中和したところ油状物質が生成した。それを塩
化メチレン204で抽出したものを水洗しさら2二硫酸
マグネシウムで乾燥した後溶媒を減圧で蒸発させた。生
成した結晶をジエチルエーテルで洗浄しセして次1:乾
燥すること二より融点165−167°Cを有するN−
(4,6−シメチルビリミジンー2−イル)−N’−(
2−メトキシカルボニルベンゼンスルホニル)−1−イ
ミダゾールカルボキシアミジンの無色結晶0.3 gを
得た。
実施例2゜
N−(4−メチル−6−メドキシピリミジンー2−イI
V) −N’−(2−クロロベンゼンスルホニル)−1
−(1,3,5−トリアゾール)カルボキシアミジンの
合成(化合物番号15): N−(4−メチル−6−メドキクビリミジンー2−イル
)アミノカルボニル−2−クロロベンゼンスルホンアミ
ド2DIi、ト+)フェニA/ ホ2 フィン11、乾
燥アセトニトリル50jLJ?の混合物(2四塩化炭素
43!!を室温で添加しさら(二1時間撹拌した後1、
3.5− トリアゾール051とトリエチルアミン0.
7Iを室温で6児した。これを室温で1晩撹拌した後溶
媒を減圧下で蒸発させた。得られた混合物(=水および
塩化メチレンを加えた後残った不溶結晶を濾過し次(=
その結晶を乾燥すること(二より融点184−188℃
を有するN−(4−メチル−6−メドキシビリミジンー
2−イ/I/)−N’−(2−クロロベンゼンスルホニ
ル)−1−(1,3,5−1−リアゾール)カルボキシ
アミジンの無色結晶0.7 J’を得た。
V) −N’−(2−クロロベンゼンスルホニル)−1
−(1,3,5−トリアゾール)カルボキシアミジンの
合成(化合物番号15): N−(4−メチル−6−メドキクビリミジンー2−イル
)アミノカルボニル−2−クロロベンゼンスルホンアミ
ド2DIi、ト+)フェニA/ ホ2 フィン11、乾
燥アセトニトリル50jLJ?の混合物(2四塩化炭素
43!!を室温で添加しさら(二1時間撹拌した後1、
3.5− トリアゾール051とトリエチルアミン0.
7Iを室温で6児した。これを室温で1晩撹拌した後溶
媒を減圧下で蒸発させた。得られた混合物(=水および
塩化メチレンを加えた後残った不溶結晶を濾過し次(=
その結晶を乾燥すること(二より融点184−188℃
を有するN−(4−メチル−6−メドキシビリミジンー
2−イ/I/)−N’−(2−クロロベンゼンスルホニ
ル)−1−(1,3,5−1−リアゾール)カルボキシ
アミジンの無色結晶0.7 J’を得た。
実施例3゜
N−(4,6−シメチルピリミジンー2−イル)−N’
−(2−メトキシカルボニルベンゼンスルホニル)−1
−イミダゾールカルボキシアミジンのナトリウム塩の合
成(化合物曾号56):メチルアルコール20dとN−
(4,6−シメチルビリミジンー2−イル)−N’−(
2−メトキシカルボニルベンゼンスルホニA/) −1
−イミダゾールカルボをシアミジン0.75gの混合物
二ナトリウムメトキシド0.09 Fを含むメタノール
溶液5ゴを0℃で滴下した。室温でI分間撹拌した後不
溶物をP別した。P液の溶媒を減圧で蒸発させて得た油
状物質をジエチルエーテルを加えて結晶させそれをジエ
チルエーテルで洗浄しさら::乾燥すること二より分解
点152−155℃を有するN−(4,6−ジメテルビ
リミジンー2−イル)−N’−(2−メトキシカルボニ
ルベンゼンスルホニA/)−1−イミダゾールカルボキ
シアミジンのナトリウム塩の無色結晶ospを得た。
−(2−メトキシカルボニルベンゼンスルホニル)−1
−イミダゾールカルボキシアミジンのナトリウム塩の合
成(化合物曾号56):メチルアルコール20dとN−
(4,6−シメチルビリミジンー2−イル)−N’−(
2−メトキシカルボニルベンゼンスルホニA/) −1
−イミダゾールカルボをシアミジン0.75gの混合物
二ナトリウムメトキシド0.09 Fを含むメタノール
溶液5ゴを0℃で滴下した。室温でI分間撹拌した後不
溶物をP別した。P液の溶媒を減圧で蒸発させて得た油
状物質をジエチルエーテルを加えて結晶させそれをジエ
チルエーテルで洗浄しさら::乾燥すること二より分解
点152−155℃を有するN−(4,6−ジメテルビ
リミジンー2−イル)−N’−(2−メトキシカルボニ
ルベンゼンスルホニA/)−1−イミダゾールカルボキ
シアミジンのナトリウム塩の無色結晶ospを得た。
同様の方法二より製造した本発明化合物の代表例を第1
表に示す。
表に示す。
(問題点を解決するための手段−除草剤)本発明除草剤
は、前記一般式(I)で示される化合物を有効成分とし
て含有することにより成る。
は、前記一般式(I)で示される化合物を有効成分とし
て含有することにより成る。
有効成分は一般;二適当な量を担体と混合して水和剤、
乳剤、フロアブル剤等の形(二製剤して使用される。固
体担体としてはメルク、ベントナイト、ホワイトカーボ
ン、クレイ、クインウ土等が挙げられ、液体担体として
は、水、アルコール、ベンゼン、キシレン、ケロシン、
鉱油、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホ
ルムアミド′等が用いられる。これらの製剤において均
一なかつ安定な形態をとるために必要ならば界面活性剤
を添加することもできる。
乳剤、フロアブル剤等の形(二製剤して使用される。固
体担体としてはメルク、ベントナイト、ホワイトカーボ
ン、クレイ、クインウ土等が挙げられ、液体担体として
は、水、アルコール、ベンゼン、キシレン、ケロシン、
鉱油、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホ
ルムアミド′等が用いられる。これらの製剤において均
一なかつ安定な形態をとるために必要ならば界面活性剤
を添加することもできる。
本発明除草剤(=おける有効成分濃度は前述した製剤の
形により種々の濃度ζ:変化するものであるが、例えば
、水和剤(:おいては5〜70%、好ましくは10〜5
0%、乳剤:;おいては5〜40%、好ましくは10〜
30%の濃度が用いられる。
形により種々の濃度ζ:変化するものであるが、例えば
、水和剤(:おいては5〜70%、好ましくは10〜5
0%、乳剤:;おいては5〜40%、好ましくは10〜
30%の濃度が用いられる。
この様にして得られた水和剤、乳剤は水で所定のV度(
:希釈して懸濁液あるいは乳濁液として、雑草の発芽後
に草葉散布処理される。又水田においては、粒剤はその
まま処理される。実際に本発明除草剤を適用する(:あ
たっては10アール肖り有効成分0.1 F以上の適当
量が施用される。
:希釈して懸濁液あるいは乳濁液として、雑草の発芽後
に草葉散布処理される。又水田においては、粒剤はその
まま処理される。実際に本発明除草剤を適用する(:あ
たっては10アール肖り有効成分0.1 F以上の適当
量が施用される。
また本発明除草剤は公知の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、
除草剤、植物生長調整剤等と混合して使用することもで
きる。特に除草剤と混合使用することにより、使用薬量
を減少させまた省力化をもたらすのみならず、両系剤の
相乗作用;二よる一層高い効果も期待できる。本発明除
草剤と混合使用する(二ふされしい薬剤としては、例え
ば2−(1−アリルオキシアミノプチリデン)−5,5
−ジメチル−4−メトキシカルボニル−シクロヘキサン
−1,3−ジオンのナトリウム塩(フサガード)、2−
(N−エトキシブチリミドイル)−5−(2−エチルチ
オプロビル)−3−ヒドロキシ−2−シクロへ呼センー
1−オン等の7クロヘキサンジオン系除草剤、イロキサ
ン、アロペックス、フジレード等のフェノキシフェノキ
シアルカンカルボン酸系除草剤、ピリジルオキシフェノ
キシプロピオン酸系除草剤等があげられる。さらにサタ
ーン、モリネート剤等のカーバメイト系除算剤、MO8
1i1等のジフェニルエーテル系等もあげられる。
除草剤、植物生長調整剤等と混合して使用することもで
きる。特に除草剤と混合使用することにより、使用薬量
を減少させまた省力化をもたらすのみならず、両系剤の
相乗作用;二よる一層高い効果も期待できる。本発明除
草剤と混合使用する(二ふされしい薬剤としては、例え
ば2−(1−アリルオキシアミノプチリデン)−5,5
−ジメチル−4−メトキシカルボニル−シクロヘキサン
−1,3−ジオンのナトリウム塩(フサガード)、2−
(N−エトキシブチリミドイル)−5−(2−エチルチ
オプロビル)−3−ヒドロキシ−2−シクロへ呼センー
1−オン等の7クロヘキサンジオン系除草剤、イロキサ
ン、アロペックス、フジレード等のフェノキシフェノキ
シアルカンカルボン酸系除草剤、ピリジルオキシフェノ
キシプロピオン酸系除草剤等があげられる。さらにサタ
ーン、モリネート剤等のカーバメイト系除算剤、MO8
1i1等のジフェニルエーテル系等もあげられる。
(集流例−除草剤)
次(=本発明除草剤ζ:間する実施例を若干示すが有効
成分の割合、添加物の種類及び添加割合は本実施例にの
み限定されることなく広い範囲で変更可能である。
成分の割合、添加物の種類及び添加割合は本実施例にの
み限定されることなく広い範囲で変更可能である。
!I!施例4.水和剤
化合物A63 20部タ ル
り 1
0 部クイツウ± 10部ホワイ
トカーボン 50部ポリオキクエチレン
アルキルアリール エーテルスルホネート 10部
以上を均一(=混合、微細(=粉砕して、有効成分20
%の水和剤を得た。
り 1
0 部クイツウ± 10部ホワイ
トカーボン 50部ポリオキクエチレン
アルキルアリール エーテルスルホネート 10部
以上を均一(=混合、微細(=粉砕して、有効成分20
%の水和剤を得た。
実施例5.乳 剤
化合物A633 20部キシレン
55部 ジメチルホルムアミド 15部ポリオキ
シエチレンフェニルエーテル 10部以上を混合、
溶解して有効成分20%の乳剤を得た。
55部 ジメチルホルムアミド 15部ポリオキ
シエチレンフェニルエーテル 10部以上を混合、
溶解して有効成分20%の乳剤を得た。
実施例69粒 剤
化合物141部
ベントナイト 10部メ ル
り 85
部ポリオキシエチレンアルキルアリルサル7エイト
4部以上を均
一::混合粉砕し、造粒機(二て径0.5〜1、Om
+=造粒して有効成分1%の粒剤を得た。
り 85
部ポリオキシエチレンアルキルアリルサル7エイト
4部以上を均
一::混合粉砕し、造粒機(二て径0.5〜1、Om
+=造粒して有効成分1%の粒剤を得た。
(発明の効果)
次二本発明除算剤の効果に関する試験例を示す。
試験例1.土壌処理試験
2507mボットに土壌を充填し、表層二メヒシバ、イ
ネ、アカザ、イヌビニの種子を播き、種子が見えない程
度に覆土した。直ち(=各供試化合物の乳剤を水で希釈
してV@整した所定濃度の薬液を1007/10a(有
効成分50#/10a)の割合で小型噴霧器で土壌表面
に散布処理し、温室内で生育させた。
ネ、アカザ、イヌビニの種子を播き、種子が見えない程
度に覆土した。直ち(=各供試化合物の乳剤を水で希釈
してV@整した所定濃度の薬液を1007/10a(有
効成分50#/10a)の割合で小型噴霧器で土壌表面
に散布処理し、温室内で生育させた。
土壌異面を適度の水分状態にするために、毎日土壌表面
が湿る程度ζ=如雨露で散水した。薬剤散布後3週間目
に各雑軍の生育状況を調査した。雑軍の生育状況を下記
の基準::従って0〜10の11段階で表わした。
が湿る程度ζ=如雨露で散水した。薬剤散布後3週間目
に各雑軍の生育状況を調査した。雑軍の生育状況を下記
の基準::従って0〜10の11段階で表わした。
又、1.3.5.7.9の表示は各々0〜2.2〜4.
4〜6.6〜8.8〜10の中間の値を示す。
4〜6.6〜8.8〜10の中間の値を示す。
結果を第2表(二示す。
第2表
試験例2.茎葉処理試験
100α2ボツト二土壌を充填し、表i+:メヒシバ、
エンバク、アカザ、イヌビエの種子を播き、温案内で生
育させた。各雑草が2〜8cIL程度の草丈(=生育し
た時点で各供試化合物の乳剤を水で希釈して調整した所
定濃度の薬液を100 J/10a (有効成分25j
’/10a )の割合で小型噴露器で雑草の茎葉部1:
散布した。3週間後の雑草の生育状況を調秀し、その結
果を第3表に示した。
エンバク、アカザ、イヌビエの種子を播き、温案内で生
育させた。各雑草が2〜8cIL程度の草丈(=生育し
た時点で各供試化合物の乳剤を水で希釈して調整した所
定濃度の薬液を100 J/10a (有効成分25j
’/10a )の割合で小型噴露器で雑草の茎葉部1:
散布した。3週間後の雑草の生育状況を調秀し、その結
果を第3表に示した。
調査基準は、試験例1に順じた。
第 3 表
※ Diuron : 3− (3、4−dichlo
rphenyl ) 1 、 l −dimethyl
urea
rphenyl ) 1 、 l −dimethyl
urea
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、R_1はハロゲン原子ニトロ基もしくは低級ア
ルキル基でモノ、ジもしくはトリ置換されていてもよい
イミダゾリル、イミダゾリニル、ピラゾリル、トリアゾ
リル又はベンズイミダゾリル基を、 R_2は式▲数式、化学式、表等があります▼又は式▲
数式、化学式、表等があります▼ (但し、Xはハロゲン原子、低級アルキル基又は低級ア
ルコキシ基を、Yは低級アルキル基又は低級アルコキシ
基を示す。)で表されるピリミジノ基又はトリアジノ基
を、 R_3はオルト位がハロゲン原子、低級アルキル基、低
級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニルオ
キシ基、フェノキシ基もしくは置換フェノキシ基で置換
されたフェニル基、フェノキシ基もしくはベンジル基を
示すか又は低級アルキル基で置換されたピラゾリル基を
示す。} で表される化合物及びその金属塩。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、R_1はハロゲン原子ニトロ基もしくは低級ア
ルキル基でモノ、ジもしくはトリ置換されていてもよい
イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリルもしくはベン
ズイミダゾリル基を、 R_2は式▲数式、化学式、表等があります▼又は式▲
数式、化学式、表等があります▼ (但し、Xはハロゲン原子、低級アルキル基又は低級ア
ルコキシ基を、Yは低級アルキル基又は低級アルコキシ
基を示す。)で表されるピリミジノ基又はトリアジノ基
を、 R_3はオルト位がハロゲン原子、低級アルキル基、低
級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスルホニルオ
キシ基、フェノキシ基もしくは置換フェノキシ基で置換
されたフェニル基、フェノキシ基もしくはベンジル基を
示すか又は低級アルキル基で置換されたピラゾリル基を
示す。} で表される化合物又はその金属塩を有効成分として含有
することを特徴とする除草剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19369284A JPS6172783A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | カルボキシアミジン誘導体及び除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19369284A JPS6172783A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | カルボキシアミジン誘導体及び除草剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6172783A true JPS6172783A (ja) | 1986-04-14 |
Family
ID=16312190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19369284A Pending JPS6172783A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | カルボキシアミジン誘導体及び除草剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6172783A (ja) |
-
1984
- 1984-09-14 JP JP19369284A patent/JPS6172783A/ja active Pending
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