JPS6166314A - マグネツトワイヤの製造方法 - Google Patents
マグネツトワイヤの製造方法Info
- Publication number
- JPS6166314A JPS6166314A JP18703284A JP18703284A JPS6166314A JP S6166314 A JPS6166314 A JP S6166314A JP 18703284 A JP18703284 A JP 18703284A JP 18703284 A JP18703284 A JP 18703284A JP S6166314 A JPS6166314 A JP S6166314A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- wire
- saturated linear
- polyester
- glycol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Insulating Materials (AREA)
- Processes Specially Adapted For Manufacturing Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は溶融押出被覆法によってマグネットワイヤを製
造する方法に関し、詳細には導電性ワイヤに対する密着
性並びKそれ自身の耐熱劣化性が優れた被覆層を有する
マグネットワイヤを製造する方法に関するものである。
造する方法に関し、詳細には導電性ワイヤに対する密着
性並びKそれ自身の耐熱劣化性が優れた被覆層を有する
マグネットワイヤを製造する方法に関するものである。
電気機器、電子通信機器、電子機器等の巻線に使用され
るマグネットワイヤの一覆としてポリエステル銅線やポ
リエステルイミド鋼線が知られている。これらのマグネ
ットワイヤはポリエステルあるいはポリエステル銅線ド
等の樹脂を溶剤に溶解し、この溶液を導電性ワイヤ上に
塗布して焼付ける方法(所謂焼付法)によって製造され
ることが多い。
るマグネットワイヤの一覆としてポリエステル銅線やポ
リエステルイミド鋼線が知られている。これらのマグネ
ットワイヤはポリエステルあるいはポリエステル銅線ド
等の樹脂を溶剤に溶解し、この溶液を導電性ワイヤ上に
塗布して焼付ける方法(所謂焼付法)によって製造され
ることが多い。
しかるに焼付法においては溶剤の揮発による火災の危険
や作業環境の悪化が避けられず、安全性及び労働衛生上
の問題があって、焼付法の実施は近年共々敬遠されつつ
ある。
や作業環境の悪化が避けられず、安全性及び労働衛生上
の問題があって、焼付法の実施は近年共々敬遠されつつ
ある。
そこで溶剤を使用しないで導電性ワイヤ上に樹脂被覆層
を形成する方法について検討が加えられておシ、例えば
結晶性の熱可塑性樹脂を溶融押出被覆する方法が提案さ
れているが、この方法によって得られたマグネットワイ
ヤは熱可塑性樹脂を使用している為耐熱性が悪く、又該
樹脂が結晶性である為ワイヤに曲げ変形が加わると被覆
層に微細な亀裂が発生し易い等の欠点があり、マグネッ
トワイヤとして要求される種々の特性を十分に満足し得
るものではなかった。
を形成する方法について検討が加えられておシ、例えば
結晶性の熱可塑性樹脂を溶融押出被覆する方法が提案さ
れているが、この方法によって得られたマグネットワイ
ヤは熱可塑性樹脂を使用している為耐熱性が悪く、又該
樹脂が結晶性である為ワイヤに曲げ変形が加わると被覆
層に微細な亀裂が発生し易い等の欠点があり、マグネッ
トワイヤとして要求される種々の特性を十分に満足し得
るものではなかった。
こうした情況の中でマグネットワイヤとしての特性値を
満足できるワイヤを、溶剤を使用しないで製造する方法
について種々研究が進められ、いくつかの改良方法(特
公昭58−10804号。
満足できるワイヤを、溶剤を使用しないで製造する方法
について種々研究が進められ、いくつかの改良方法(特
公昭58−10804号。
特公昭58−46805号、特公昭59−17486号
)が提案されている。
)が提案されている。
本発明は上記改良方法と同じ様に溶剤の揮散による環境
汚染の問題を解決することを課題とするものであシ、特
に無溶剤被覆の手法を採用しつつ、マグネットワイヤと
しての特性を十分に満足するワイヤを製造し得る方法を
提供しようとするものである。尚本発明はマグネットワ
イヤの要求特性のうち特に密着性並びに耐熱劣化性の優
れたマグネットワイヤを提供しようとするものである。
汚染の問題を解決することを課題とするものであシ、特
に無溶剤被覆の手法を採用しつつ、マグネットワイヤと
しての特性を十分に満足するワイヤを製造し得る方法を
提供しようとするものである。尚本発明はマグネットワ
イヤの要求特性のうち特に密着性並びに耐熱劣化性の優
れたマグネットワイヤを提供しようとするものである。
本発明は、飽和線状ポリエステルまたは飽和線状ポリア
ミドであってその構成中に次の一般式CI)で示される
構成単位を全エステル結合または全アミド結合100モ
ル当た。り0.01〜50モルの割合で含有する重合体
を、導電性ワイヤ上に1〜200μmの厚さで溶融押出
被覆した後活性光線を照射し、導電性ワイヤとの密着性
が良く耐熱劣化性の良好なポリエステルまたはポリアミ
ドの被(Rすm(Rt)TI (但し、R1,R2はベンゼン核への置換基を表わし1
価の有機残基であって、同じでも異ってもよい。m 、
nは置換基の数を表わし、θ〜3の数であシ、同じで
も異ってもよい。) 〔作用〕 本発明においては、飽和線状ポリエステルまたは飽和線
状ポリアミドに対し、全エステル結合または全アミド結
合100モル当た90.01〜50モルの上記一般式(
I)で示される構成単位を含有する架橋剤を加えた重合
体組成物を、導電性ワイヤ被覆用樹脂として使用する点
に最大のポイントがある。即ち前記架橋剤は光化学活性
の著しく大きな化合物であシ、これを含有する重合体組
成物を導電性ワイヤ上に溶融押出被覆した後、活性光線
を照射すると架橋反応が速やかに進行し、3次元構造か
らなる強靭な被覆層を得ることができる。
ミドであってその構成中に次の一般式CI)で示される
構成単位を全エステル結合または全アミド結合100モ
ル当た。り0.01〜50モルの割合で含有する重合体
を、導電性ワイヤ上に1〜200μmの厚さで溶融押出
被覆した後活性光線を照射し、導電性ワイヤとの密着性
が良く耐熱劣化性の良好なポリエステルまたはポリアミ
ドの被(Rすm(Rt)TI (但し、R1,R2はベンゼン核への置換基を表わし1
価の有機残基であって、同じでも異ってもよい。m 、
nは置換基の数を表わし、θ〜3の数であシ、同じで
も異ってもよい。) 〔作用〕 本発明においては、飽和線状ポリエステルまたは飽和線
状ポリアミドに対し、全エステル結合または全アミド結
合100モル当た90.01〜50モルの上記一般式(
I)で示される構成単位を含有する架橋剤を加えた重合
体組成物を、導電性ワイヤ被覆用樹脂として使用する点
に最大のポイントがある。即ち前記架橋剤は光化学活性
の著しく大きな化合物であシ、これを含有する重合体組
成物を導電性ワイヤ上に溶融押出被覆した後、活性光線
を照射すると架橋反応が速やかに進行し、3次元構造か
らなる強靭な被覆層を得ることができる。
こうして得られた被覆層はマグネットワイヤの被覆層が
備えるべき緒特性(可撓性、耐熱劣化性。
備えるべき緒特性(可撓性、耐熱劣化性。
耐軟化性、耐薬品性、絶縁破壊電圧等)の全てを満足す
るだけでなく、特に前記重合体は導電性ワイヤを構成す
る金属(CutAltAglAu等)に対して強い親和
性を示すので、導電性ワイヤと被覆層の密着性が優れ、
光架橋後の3次元構造の強靭さと相まって卓越した耐熱
劣化性を示す。尚上記重合体が金属に対して強い親和性
を示すのは、重合体中に含まれる(I)式で示される構
成単位のN原子が上記金属との錯体形成に参加し易い傾
向を有するからであると考えられる。
るだけでなく、特に前記重合体は導電性ワイヤを構成す
る金属(CutAltAglAu等)に対して強い親和
性を示すので、導電性ワイヤと被覆層の密着性が優れ、
光架橋後の3次元構造の強靭さと相まって卓越した耐熱
劣化性を示す。尚上記重合体が金属に対して強い親和性
を示すのは、重合体中に含まれる(I)式で示される構
成単位のN原子が上記金属との錯体形成に参加し易い傾
向を有するからであると考えられる。
尚本発明にシいて用いる飽和線状ポリエステルまたは飽
和線状ポリアミド中には式(I)の構成単位を、全エス
テル結合又は全アミド結合100モル当た90.01〜
50モル含む必要がある。0.01モルよシ少ないと、
光照射による架橋および/又は高分子量化が起シ難く、
一方50モルを超える必要はない。尚好ましい範囲は0
.1〜20モル、特に好ましい範囲は0.5〜10モル
である。
和線状ポリアミド中には式(I)の構成単位を、全エス
テル結合又は全アミド結合100モル当た90.01〜
50モル含む必要がある。0.01モルよシ少ないと、
光照射による架橋および/又は高分子量化が起シ難く、
一方50モルを超える必要はない。尚好ましい範囲は0
.1〜20モル、特に好ましい範囲は0.5〜10モル
である。
又導電性ワイヤ上に上記重合体を被覆するに当たっては
被覆厚さは1〜200μmとすべきであシ、被覆厚さが
1μm未満の場合には薄すぎる為に前記緒特性の一部若
しくは全部について要求レベルを達成できなくな〕、一
方被覆厚さが200μmを超えると厚すぎる為に光透過
性が悪くなシ、生産性の面から光照射時間をむやみに長
くできないという事情もあって光架橋状態が不均質とな
る。
被覆厚さは1〜200μmとすべきであシ、被覆厚さが
1μm未満の場合には薄すぎる為に前記緒特性の一部若
しくは全部について要求レベルを達成できなくな〕、一
方被覆厚さが200μmを超えると厚すぎる為に光透過
性が悪くなシ、生産性の面から光照射時間をむやみに長
くできないという事情もあって光架橋状態が不均質とな
る。
その結果被覆層の物性にばらつきが生じる。
以下本発明をさらに詳細に説明する。
まず被覆層を形成する重合体について述べると、重合体
を構成する飽和線状ポリエステルは例えば下記に示すジ
カルボン酸(又はそのエステル形成性誘導体)(C)及
びグリコール又は芳香族ジオール(又はそのエステル形
成性誘導体)(6)を従来公知の任意の方法で重合させ
、あるいはラクトン又はオキシカルボン酸(又はそのエ
ステル形成性誘導体)(E)を従来公知の任意の方法で
重合させて製造される。
を構成する飽和線状ポリエステルは例えば下記に示すジ
カルボン酸(又はそのエステル形成性誘導体)(C)及
びグリコール又は芳香族ジオール(又はそのエステル形
成性誘導体)(6)を従来公知の任意の方法で重合させ
、あるいはラクトン又はオキシカルボン酸(又はそのエ
ステル形成性誘導体)(E)を従来公知の任意の方法で
重合させて製造される。
上記(C)の例として酸の形で示すとテレフタル酸、イ
ソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフ
ェニルジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸
、(5−ナトリウムスルホ)イソフタル酸、コハク酸、
アジピン酸、セパチン酸、ドデカンジオン酸等がある他
、分子中にイミド環を含むジカルボン酸も用いられる。
ソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフ
ェニルジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸
、(5−ナトリウムスルホ)イソフタル酸、コハク酸、
アジピン酸、セパチン酸、ドデカンジオン酸等がある他
、分子中にイミド環を含むジカルボン酸も用いられる。
上記Q))の例としてグリコール又は芳香族ジオールの
形で示すとエチレングリコール、トリメチレングリコー
ル、1.2−、’ロビレングリコール、テトラメチレン
グリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオヘンチル
クリコール、1,4−シクロヘキサンジオール、1.4
−シクロヘキサンジメタツール、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール(
分子tlOρ00以下)、ポリテトラメチレングリコー
ル(分子量10.000以下)レゾルシン、ハイドロキ
ノン、2、2− ヒス−(4,4’−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンなどがある。
形で示すとエチレングリコール、トリメチレングリコー
ル、1.2−、’ロビレングリコール、テトラメチレン
グリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオヘンチル
クリコール、1,4−シクロヘキサンジオール、1.4
−シクロヘキサンジメタツール、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール(
分子tlOρ00以下)、ポリテトラメチレングリコー
ル(分子量10.000以下)レゾルシン、ハイドロキ
ノン、2、2− ヒス−(4,4’−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンなどがある。
上記(ト))の例としてβ−プロピオラクトン、ε−カ
プロラクトン、m−又はp−ヒドロキシ安息香酸、N−
ヒドロキシエチルトリメリット酸イミドなどがある。
プロラクトン、m−又はp−ヒドロキシ安息香酸、N−
ヒドロキシエチルトリメリット酸イミドなどがある。
又、本発明において用いる飽和線状ポリエステル(加工
前)は、実質的に溶融成形出来る範囲で、三官能以上の
単位、例えばグリセリン、ペンタエリスリトール、トリ
メリット酸、ピロメリット酸等の残基を含んでいてもよ
い。
前)は、実質的に溶融成形出来る範囲で、三官能以上の
単位、例えばグリセリン、ペンタエリスリトール、トリ
メリット酸、ピロメリット酸等の残基を含んでいてもよ
い。
一方飽和線状ポリエステル中に式(I)の構造単位を導
入するための単量体又はその前駆体(即ち架橋剤)とし
ては下記の化合物が用いられる。
入するための単量体又はその前駆体(即ち架橋剤)とし
ては下記の化合物が用いられる。
即ち芳香核に置換基を含むあるいは含まないベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸、又は/およびその誘導体(好ま
しくは酸無水物)囚と分子中に1ケの第1級アミノ基お
よび少くとも1ケのエステル形成性官能基を有する化合
物(B)とから製造され、一般式(■)で表される。
ノンテトラカルボン酸、又は/およびその誘導体(好ま
しくは酸無水物)囚と分子中に1ケの第1級アミノ基お
よび少くとも1ケのエステル形成性官能基を有する化合
物(B)とから製造され、一般式(■)で表される。
ここでR3,R4は炭素数1以上、通常1〜20の脂肪
族、脂環族又は芳香族の2価の残基であって、その中に
エーテル結合、エステル結合、アミド結合、イミド結合
等が含まれていてもよ(、R3とR4は同じでも異なっ
ていてもよい。x、Yは、水酸基(又は/およびそのエ
ステル)又はカルボキシル基(又は/およびそのエステ
ル、酸ハシイド等)であり、XとYは同じでも、異って
いてもよい。R2,HRはベンゼン核への置換基を表し
、1価の有機残基であり、好ましくは炭素数1以上、通
常1〜10の脂肪族、芳香族または脂環族の1価の残基
であって同じでも異なってもよい。m。
族、脂環族又は芳香族の2価の残基であって、その中に
エーテル結合、エステル結合、アミド結合、イミド結合
等が含まれていてもよ(、R3とR4は同じでも異なっ
ていてもよい。x、Yは、水酸基(又は/およびそのエ
ステル)又はカルボキシル基(又は/およびそのエステ
ル、酸ハシイド等)であり、XとYは同じでも、異って
いてもよい。R2,HRはベンゼン核への置換基を表し
、1価の有機残基であり、好ましくは炭素数1以上、通
常1〜10の脂肪族、芳香族または脂環族の1価の残基
であって同じでも異なってもよい。m。
nは置換基の数を表し各々′O〜3の数を示し、同じで
も異なってもよい。更に具体的に式(■)を説明する為
に原料(6)を具体例で示せば炭素数2〜10のアルカ
ノールアミン例えばモノエタノールアミン、プロパツー
ルアミン、ブタノールアミン等、炭素数2〜10のアミ
ノ酸例えばグリシン、β−アラニン、γ−アミノーn−
酪酸、p−アミノ安息香酸、m−アミノ安息香酸などを
挙げることが出来る。
も異なってもよい。更に具体的に式(■)を説明する為
に原料(6)を具体例で示せば炭素数2〜10のアルカ
ノールアミン例えばモノエタノールアミン、プロパツー
ルアミン、ブタノールアミン等、炭素数2〜10のアミ
ノ酸例えばグリシン、β−アラニン、γ−アミノーn−
酪酸、p−アミノ安息香酸、m−アミノ安息香酸などを
挙げることが出来る。
被覆層を形成する重合体は、上記(C)及び■)〔又は
/および(E)〕に式(111)で示される架橋剤を加
えて製造される。例えばジカルボン酸又はその低級アル
キルエステルの様なエステル形成性誘導体とアルキレン
グリコールを触媒と共に加熱し、グリコールエステルと
し、更に融点以上の高温で、高真空下に加熱して得られ
る。式(Vm)の化合物は、上記反応の任意の段階で添
加し反応させることが出来る。但し式(Vl)の化合物
がカルボキシル基を含有する場合は、ジアルキルカルボ
キシレートとアルキレングリコールのエステル交換反応
が終了した後に、添加するのが好ましいことは云うまで
もない。極限粘度が0.3を越えたポリエステルに式(
111)の化合物を添加する場合は、該樹脂の融点以上
の温度で充分加熱し、エステル交換反応(アシドリシス
、アルコーリシスを含む)を行わせた後、通常高温、高
減圧下に更に加熱し再重合する。
/および(E)〕に式(111)で示される架橋剤を加
えて製造される。例えばジカルボン酸又はその低級アル
キルエステルの様なエステル形成性誘導体とアルキレン
グリコールを触媒と共に加熱し、グリコールエステルと
し、更に融点以上の高温で、高真空下に加熱して得られ
る。式(Vm)の化合物は、上記反応の任意の段階で添
加し反応させることが出来る。但し式(Vl)の化合物
がカルボキシル基を含有する場合は、ジアルキルカルボ
キシレートとアルキレングリコールのエステル交換反応
が終了した後に、添加するのが好ましいことは云うまで
もない。極限粘度が0.3を越えたポリエステルに式(
111)の化合物を添加する場合は、該樹脂の融点以上
の温度で充分加熱し、エステル交換反応(アシドリシス
、アルコーリシスを含む)を行わせた後、通常高温、高
減圧下に更に加熱し再重合する。
又一般式(Wl)の化合物を用いる代)に、その原料で
ある前記囚、(8)の混合物又は付加化合物であるアミ
ド酸を重合工程の中で反応させることも可能である。又
、溶融重縮合後、一旦と)出した樹脂のチップおよび/
又は粉末を従来公知の方法で更に固相重合を行うことも
出来る。
ある前記囚、(8)の混合物又は付加化合物であるアミ
ド酸を重合工程の中で反応させることも可能である。又
、溶融重縮合後、一旦と)出した樹脂のチップおよび/
又は粉末を従来公知の方法で更に固相重合を行うことも
出来る。
本発明において、飽和線状ポリエステルを製造するに際
し通常金属単体あるいはその化合物(例えば酸化物、水
酸化物、カルボン酸塩、アルコラード、ハロゲン化物、
錯塩、複塩など)を触媒として使用する。エステル交換
触媒としてはCa。
し通常金属単体あるいはその化合物(例えば酸化物、水
酸化物、カルボン酸塩、アルコラード、ハロゲン化物、
錯塩、複塩など)を触媒として使用する。エステル交換
触媒としてはCa。
Sr%Ba%Zn、Mn、Pb、Tiなどのカルボン酸
塩(例えば酢酸塩、酪酸塩)、アルコラード錯塩、複塩
などが用いられるが、特に酢酸カルシウム、酢酸亜鉛、
酢酸マンガン、蓚酸チタン酸カリウムなどが好ましい。
塩(例えば酢酸塩、酪酸塩)、アルコラード錯塩、複塩
などが用いられるが、特に酢酸カルシウム、酢酸亜鉛、
酢酸マンガン、蓚酸チタン酸カリウムなどが好ましい。
重縮合触媒としては、三酸化アンチモン、二酸化ゲルマ
ニウム、二酸化鉛、蓚酸チタン酸カリウムなどを挙げる
ことが出来る。又、エーテル結合生成抑制剤として、ア
ミン(トリエチルアミン、ピリジン、モルホリンなど)
、カルボン酸アルカリ金属塩(例えばテレフタル酸カリ
ウム、酢酸ナトリウム、酢酸リチウムなど)や、安定剤
として、リン酸、亜リン酸、ホスホン酸やそのエステル
などを用いることも出来る。触媒の使用量は通常全酸成
分に対し0.001〜0.1モルチ好ましくはo、oo
s〜o、’o sモルチである。
ニウム、二酸化鉛、蓚酸チタン酸カリウムなどを挙げる
ことが出来る。又、エーテル結合生成抑制剤として、ア
ミン(トリエチルアミン、ピリジン、モルホリンなど)
、カルボン酸アルカリ金属塩(例えばテレフタル酸カリ
ウム、酢酸ナトリウム、酢酸リチウムなど)や、安定剤
として、リン酸、亜リン酸、ホスホン酸やそのエステル
などを用いることも出来る。触媒の使用量は通常全酸成
分に対し0.001〜0.1モルチ好ましくはo、oo
s〜o、’o sモルチである。
上記の様にして得られた飽和線状ポリエステルの固有粘
度はフェノール/sym−テトラクロルエタン=60/
40 (重量比)中30℃で測定し、通常0.3〜L5
dl/gである。
度はフェノール/sym−テトラクロルエタン=60/
40 (重量比)中30℃で測定し、通常0.3〜L5
dl/gである。
−芳重合体を構成する飽和線状ポリアミドは例えば下記
に示すジカルボン酸(又はそのアミド形成性誘導体)
(G)及びジアミン(又はそのアミド形成性誘導体)(
6)を従来公知の任意の方法で重合させ、あるいはラク
トン又はアミノ酸(J)を従来公知の任意の方法で重合
させて製造される。
に示すジカルボン酸(又はそのアミド形成性誘導体)
(G)及びジアミン(又はそのアミド形成性誘導体)(
6)を従来公知の任意の方法で重合させ、あるいはラク
トン又はアミノ酸(J)を従来公知の任意の方法で重合
させて製造される。
上記(G)の例として酸の形で示すとテレフタル酸、イ
ソフタル酸、7タル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフ
ェニルジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸
、(6−ナトリウムスルホ)イソフタル酸、コハク酸、
アジピン酸、七パチン酸、ドデカンジオン酸等がある他
分子中にイミド環を含むジカルボン酸も用いられる。
ソフタル酸、7タル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフ
ェニルジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸
、(6−ナトリウムスルホ)イソフタル酸、コハク酸、
アジピン酸、七パチン酸、ドデカンジオン酸等がある他
分子中にイミド環を含むジカルボン酸も用いられる。
上記(6)の例としてジアミンの形で示すとエチレンジ
アミン、プロピレンジアミン、テトラメチレンジアミン
、ヘキナメチレンジアミン、ボリエ、チレンオキサイド
ジアミン、ポリテトラメチレンオキサイドジアミン、p
(or O−or m−)キシレンジアミン、p−
(or 0−or m )フェニレンジアミン、4.
4’−ジアミノジフェニルメタン等を挙げることが出来
る。
アミン、プロピレンジアミン、テトラメチレンジアミン
、ヘキナメチレンジアミン、ボリエ、チレンオキサイド
ジアミン、ポリテトラメチレンオキサイドジアミン、p
(or O−or m−)キシレンジアミン、p−
(or 0−or m )フェニレンジアミン、4.
4’−ジアミノジフェニルメタン等を挙げることが出来
る。
上記(刀の例として、C−カグロラクタム、グリシン、
β−アラニン、r−アミノ−n−酪酸、p−アミノ安息
香酸、m−アミノ安息香酸等を挙げることか出来る。
β−アラニン、r−アミノ−n−酪酸、p−アミノ安息
香酸、m−アミノ安息香酸等を挙げることか出来る。
一方飽和線状ボリアミド中に式(I)の構造単位を導入
するための単量体又はその前駆体であるアミド酸(即ち
架橋剤)としては下記の化合物が用いられる。即ち置換
された、もしくはされないペン ゛シフエノンテ
トラカルボン酸又は/およびその誘導体(好ましくは酸
無水物)(A)と分子中に少なくとも1ケの第1級アミ
ノ基および少なくとも1ケのアミド結合形成性官能基を
有する化合物(F)とから製造され、一般式(ff)で
表される。
するための単量体又はその前駆体であるアミド酸(即ち
架橋剤)としては下記の化合物が用いられる。即ち置換
された、もしくはされないペン ゛シフエノンテ
トラカルボン酸又は/およびその誘導体(好ましくは酸
無水物)(A)と分子中に少なくとも1ケの第1級アミ
ノ基および少なくとも1ケのアミド結合形成性官能基を
有する化合物(F)とから製造され、一般式(ff)で
表される。
ここでR1,Raは炭素数1以上通常1〜20の脂肪族
、脂環族又は芳香族の2価の残基であって、その中にエ
ーテル結合、エステル結合、アミド結合、イミド結合等
が含まれていてもよ<、R8とR6は同じでも異なって
いてもよい。X’、Y’は、−級又は二級アミノ基(又
は/およびそのアミド)又はカルボキシル基(又は/お
よびそのエステル、アミド、酸ハライド等)であり、X
′とY′は同じでも、異っていてもよい。R1、R2は
ベンゼン核への置換基を表し炭素数1以上、通常1〜1
0の脂肪族、芳香族または脂環族の1価の残基であって
同じでも異なっていてもよい。m、nは置換基の数を表
し各各O〜3の数を示し、同じでも異なってもよいユ更
に具体的、に式(ff)を説明する為に原料(F)で示
せば炭素数2〜10のジアミン、例えばエチレンジアミ
ン、プロピレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミン等、炭素数2〜10のアミン酸例
えばグリシン、β−アラニン、γ−アミノーn−酪酸、
p−アミノ安息香酸1m−アミノ安息香酸などを挙げる
ことが出来る。
、脂環族又は芳香族の2価の残基であって、その中にエ
ーテル結合、エステル結合、アミド結合、イミド結合等
が含まれていてもよ<、R8とR6は同じでも異なって
いてもよい。X’、Y’は、−級又は二級アミノ基(又
は/およびそのアミド)又はカルボキシル基(又は/お
よびそのエステル、アミド、酸ハライド等)であり、X
′とY′は同じでも、異っていてもよい。R1、R2は
ベンゼン核への置換基を表し炭素数1以上、通常1〜1
0の脂肪族、芳香族または脂環族の1価の残基であって
同じでも異なっていてもよい。m、nは置換基の数を表
し各各O〜3の数を示し、同じでも異なってもよいユ更
に具体的、に式(ff)を説明する為に原料(F)で示
せば炭素数2〜10のジアミン、例えばエチレンジアミ
ン、プロピレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘ
キサメチレンジアミン等、炭素数2〜10のアミン酸例
えばグリシン、β−アラニン、γ−アミノーn−酪酸、
p−アミノ安息香酸1m−アミノ安息香酸などを挙げる
ことが出来る。
被覆層を形成する重合体は、上記(G)及び(6)〔又
は/および(J)〕に式(W)で示される架橋剤を加え
て製造される。例えばジカルボン酸とジアミンのナイロ
ン塩を合成し、これを水の共存下に、加圧下で加熱して
、低重合体とし、ついで、徐々に放圧し、重縮合を行な
い、高分子量化する。(IK)式で示される化合物は末
端に、アミノ基又は/およびカルボキシル基を含むので
、通常のアミン化合物やカルボン酸と同様の操作を行え
ばよい。ラクタムの場合は通常、水の存在下に(要すれ
ばアルカリ金属、アルカリ土類金属の存在下に)開環重
合を行わせることが出来、通常、常圧下に加熱して行う
。任意の段階で(IK)の化合物のアミン塩を添加して
、共重合化させることが出来る。
は/および(J)〕に式(W)で示される架橋剤を加え
て製造される。例えばジカルボン酸とジアミンのナイロ
ン塩を合成し、これを水の共存下に、加圧下で加熱して
、低重合体とし、ついで、徐々に放圧し、重縮合を行な
い、高分子量化する。(IK)式で示される化合物は末
端に、アミノ基又は/およびカルボキシル基を含むので
、通常のアミン化合物やカルボン酸と同様の操作を行え
ばよい。ラクタムの場合は通常、水の存在下に(要すれ
ばアルカリ金属、アルカリ土類金属の存在下に)開環重
合を行わせることが出来、通常、常圧下に加熱して行う
。任意の段階で(IK)の化合物のアミン塩を添加して
、共重合化させることが出来る。
上記の様にして得られた飽和線状ポリアミドの相対粘度
はポVアミド1重景チの濃硫酸溶液を20℃で測定して
通常2.0〜3.0である。
はポVアミド1重景チの濃硫酸溶液を20℃で測定して
通常2.0〜3.0である。
本発明に係るマグネットワイヤ製造のためのポリエステ
ルあるいはポリアミドは式(I)の構造単位を分子鎖中
に含む飽和線状ポリエステル又は、飽和線状ポリアミド
ばかシでなく、それらのポリエステルあるいはポリアミ
ドと、式(I)の構造単位を含まない(あるいは含む)
他のポリエステルあるいはポリアミドとの混合物であっ
てもよい。
ルあるいはポリアミドは式(I)の構造単位を分子鎖中
に含む飽和線状ポリエステル又は、飽和線状ポリアミド
ばかシでなく、それらのポリエステルあるいはポリアミ
ドと、式(I)の構造単位を含まない(あるいは含む)
他のポリエステルあるいはポリアミドとの混合物であっ
てもよい。
本発明のポリエステル又はポリアミドの重合体中には、
滑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、ガラス
繊維、帯素繊維、発泡剤、その他の樹脂(たとえばポリ
オレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレンなど)、ゴ
ム系ポリマー1〔ポリイソプレン、(ポリアクリロニト
リル/ブタジェン)、ポリブタジェン、ポリ(スチレン
/ブタジェン)など〕、ポリアミド樹脂(ナイロン6、
ナイロン6・6、ナイロン11、ナイロン12など)、
熱可塑性ポリエステルエラストマー(ポリエチレンテレ
7タレートーホリエチレングリコールブロツク共重合体
、ポリエチレンテレフタレート−ポリブチレングリコー
ルブロック共重合体、ポリブチレンテレフタレート−ポ
リエチレングリコールブロック共重合体、ポリブチレン
テレフタレート−ポリブチレングリコールブロック共重
合体表ど)、熱可塑性ポリウレタンニジストマー−ポリ
プロピレンオキサイドなどの熱可塑性エラストマー、ポ
リカーボネート系樹脂、ポリ有機シロキサツ、弗素系ポ
リマーなどJ、顔料、染料、難燃剤などを含むことが出
来る。
滑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、ガラス
繊維、帯素繊維、発泡剤、その他の樹脂(たとえばポリ
オレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレンなど)、ゴ
ム系ポリマー1〔ポリイソプレン、(ポリアクリロニト
リル/ブタジェン)、ポリブタジェン、ポリ(スチレン
/ブタジェン)など〕、ポリアミド樹脂(ナイロン6、
ナイロン6・6、ナイロン11、ナイロン12など)、
熱可塑性ポリエステルエラストマー(ポリエチレンテレ
7タレートーホリエチレングリコールブロツク共重合体
、ポリエチレンテレフタレート−ポリブチレングリコー
ルブロック共重合体、ポリブチレンテレフタレート−ポ
リエチレングリコールブロック共重合体、ポリブチレン
テレフタレート−ポリブチレングリコールブロック共重
合体表ど)、熱可塑性ポリウレタンニジストマー−ポリ
プロピレンオキサイドなどの熱可塑性エラストマー、ポ
リカーボネート系樹脂、ポリ有機シロキサツ、弗素系ポ
リマーなどJ、顔料、染料、難燃剤などを含むことが出
来る。
本発明において、被覆層を形成する重合体は上記の様に
構成されるが、マグネットワイヤを製造するに当たって
は導電性ワイヤ上に溶融した重合体を押出被覆し、得ら
れた被覆ワイヤに活性光線を照射して被覆層を架橋させ
る。
構成されるが、マグネットワイヤを製造するに当たって
は導電性ワイヤ上に溶融した重合体を押出被覆し、得ら
れた被覆ワイヤに活性光線を照射して被覆層を架橋させ
る。
尚光照射はそれ自体公知の方法で行うことができ、光源
として、例えば高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンラン
プ、太陽光線などを使用し、通常その波長が200mμ
〜400mμの紫外線(特に好ましくは310〜400
m、u、’が好ましいが、他の電磁波も同様に利用でき
る。本発明の光照射の条件即ち照射時間、照射雰囲気な
どについては、特に制限はない。照射時間は、製品とし
て要求される物性によ、?、0.1秒から30分の間で
適当に決めることができる。酸素雰囲気下でも、それ程
、本発明の架橋および/又は高分子量化反応は阻害され
ない。照射効率から云えば照射前の成形物のガラス転移
温度以上、融点以下の温度で実施することが好ましい。
として、例えば高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンラン
プ、太陽光線などを使用し、通常その波長が200mμ
〜400mμの紫外線(特に好ましくは310〜400
m、u、’が好ましいが、他の電磁波も同様に利用でき
る。本発明の光照射の条件即ち照射時間、照射雰囲気な
どについては、特に制限はない。照射時間は、製品とし
て要求される物性によ、?、0.1秒から30分の間で
適当に決めることができる。酸素雰囲気下でも、それ程
、本発明の架橋および/又は高分子量化反応は阻害され
ない。照射効率から云えば照射前の成形物のガラス転移
温度以上、融点以下の温度で実施することが好ましい。
照射量は通常的lO〜500W/mfi、好ましくは5
0〜300 W/m”である。
0〜300 W/m”である。
尚光照射は押出被覆工程においてオンラインで行なうの
が工程的に便利であシ、導電性ワイヤ上に重合体を溶融
押出被覆した後、該ワイヤを巻取るまでに光照射して被
覆層を架橋・硬化させ、巻取ることができる。
が工程的に便利であシ、導電性ワイヤ上に重合体を溶融
押出被覆した後、該ワイヤを巻取るまでに光照射して被
覆層を架橋・硬化させ、巻取ることができる。
実施例1〜3
エチレングリコール30.6kg(493,0モル)。
テレフタル酸4 x−okg(246,8モル)、三酸
化アンチモン18.0g(0,0617モル)、トリエ
チルアミン74.9g(0,7404モル)、トリメチ
ル7オス7エー)4.5g(0,0321モル)を反応
釜に仕込み、220〜240℃の温度において3.5
kg /ctlに加圧しながら2時間エステル化反応を
行なった。常圧に戻した後、ここへ、ビス−(N、N’
−(β−ヒドロキシエチル))ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸イミド3.036kg(7,43モル)、酸化
防止剤(チバガイギー社、アイオノツクス330)10
0g、エチレングリコール1.364kg(22,0モ
ル)を加え、10分間同温度で攪拌した後、重合釜へ移
した。次いで260℃で、12分間をかけて300 T
orrまで減圧し、更に49分間をかけて5Torrま
で減圧した後、同減圧下で260℃を保持しつつ15分
間初期重縮合反応を行なった。次いで280℃に昇温す
ると共に0.3 Torrまで減圧して50分間重縮合
反応をなったところ、融点:249℃、フェノール/1
,1,2.2−テトラクロルエタン=6/4(重量比)
の混合溶媒中で30℃において測定した極限粘度: 0
.648d//gの共重合ポリエステルが得られた。
化アンチモン18.0g(0,0617モル)、トリエ
チルアミン74.9g(0,7404モル)、トリメチ
ル7オス7エー)4.5g(0,0321モル)を反応
釜に仕込み、220〜240℃の温度において3.5
kg /ctlに加圧しながら2時間エステル化反応を
行なった。常圧に戻した後、ここへ、ビス−(N、N’
−(β−ヒドロキシエチル))ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸イミド3.036kg(7,43モル)、酸化
防止剤(チバガイギー社、アイオノツクス330)10
0g、エチレングリコール1.364kg(22,0モ
ル)を加え、10分間同温度で攪拌した後、重合釜へ移
した。次いで260℃で、12分間をかけて300 T
orrまで減圧し、更に49分間をかけて5Torrま
で減圧した後、同減圧下で260℃を保持しつつ15分
間初期重縮合反応を行なった。次いで280℃に昇温す
ると共に0.3 Torrまで減圧して50分間重縮合
反応をなったところ、融点:249℃、フェノール/1
,1,2.2−テトラクロルエタン=6/4(重量比)
の混合溶媒中で30℃において測定した極限粘度: 0
.648d//gの共重合ポリエステルが得られた。
上記共重合ポリエステルを溶融型押出機を使用して0.
5 mmφのCu線上に押出被覆し、20℃の水中で急
冷して20 It mの厚さの樹脂皮膜を有する絶縁電
線を製造した。この絶縁電線に、以下の条件で紫外線照
射を行なった。
5 mmφのCu線上に押出被覆し、20℃の水中で急
冷して20 It mの厚さの樹脂皮膜を有する絶縁電
線を製造した。この絶縁電線に、以下の条件で紫外線照
射を行なった。
照射条件
光源=7ユージヨンD−パルプを絶縁電線の両側に、平
行に1灯ずつ設置した。
行に1灯ずつ設置した。
光源から絶縁電線までの距離:103關照射中の絶縁電
線の走行速度: 1m/分、2m/分、3m/分 次いで上記絶縁電線を、夫々直径7.5 cmの丸棒に
巻き付けた状態で130℃のオーブンに入れ、16時間
をかけて結晶化処理を行なった。こうして得た各マグネ
ットワイヤの諸特性をJIS−C−3211(ポリウレ
タン銅線)に従って測定した結果を第1表に示す。
線の走行速度: 1m/分、2m/分、3m/分 次いで上記絶縁電線を、夫々直径7.5 cmの丸棒に
巻き付けた状態で130℃のオーブンに入れ、16時間
をかけて結晶化処理を行なった。こうして得た各マグネ
ットワイヤの諸特性をJIS−C−3211(ポリウレ
タン銅線)に従って測定した結果を第1表に示す。
比較例1
上記実施例において、紫外線照射および結晶化処理を行
なわなかった絶縁電線について同様に測定を行なった結
果を第1表に示す。
なわなかった絶縁電線について同様に測定を行なった結
果を第1表に示す。
実施例4
ビス(N # N’−(β−ヒドロキシエチル))ペン
シフ−ノンテトラカル謔族に代えて、ビス−(N、N’
−(i−カルボキシプロピル))ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸イミド3.659gを使用し、実施例1〜3
と同様にして共重合ポリエステル(極限粘度0.660
de/g )を得た。この共重合ポリエステルを実施例
1〜3と同様に0.5−φのCu線に被覆し、紫外線照
射並びに結晶化処理を施して得たマグネットワイヤの諸
特性を同様に測定した結果を第1表に示す。
シフ−ノンテトラカル謔族に代えて、ビス−(N、N’
−(i−カルボキシプロピル))ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸イミド3.659gを使用し、実施例1〜3
と同様にして共重合ポリエステル(極限粘度0.660
de/g )を得た。この共重合ポリエステルを実施例
1〜3と同様に0.5−φのCu線に被覆し、紫外線照
射並びに結晶化処理を施して得たマグネットワイヤの諸
特性を同様に測定した結果を第1表に示す。
”l、−fiij
第1表に示す様に、実施例1〜3のうち走行速度が遅い
もの11ど(換言すると照射時間の長いものほど)光架
橋反応が進行し、優れた耐熱劣化性が得られている。又
架橋剤の種類の異なる実施例4については実施例1に比
べるとゲル分率は低いけれども同等の優れた耐熱劣化性
が得られている。
もの11ど(換言すると照射時間の長いものほど)光架
橋反応が進行し、優れた耐熱劣化性が得られている。又
架橋剤の種類の異なる実施例4については実施例1に比
べるとゲル分率は低いけれども同等の優れた耐熱劣化性
が得られている。
更に実施例1〜4はいずれも優れた耐薬品性並びに絶縁
破壊電圧を示す。これらに対し比較例1は耐熱劣化性、
耐薬品性、絶縁破壊電圧のいずれについても満足し得る
も−のではなかった。
破壊電圧を示す。これらに対し比較例1は耐熱劣化性、
耐薬品性、絶縁破壊電圧のいずれについても満足し得る
も−のではなかった。
本発明は以上の様に構成されておシ、可撓性。
耐劣化性、耐軟化性、耐薬品性、絶縁破壊電圧等のマグ
ネットワイヤが備えるべき緒特性の全てを満足するマグ
ネットワイヤを、溶剤を使用することなしに製造するこ
とができ、公害防止に寄与することができる。
ネットワイヤが備えるべき緒特性の全てを満足するマグ
ネットワイヤを、溶剤を使用することなしに製造するこ
とができ、公害防止に寄与することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 飽和線状ポリエステルまたは飽和線状ポリアミドであつ
てその構成中に次の一般式( I )で示される構成単位
を全エステル結合または全アミド結合100モル当たり
0.01〜50モルの割合で含有する重合体を、導電性
ワイヤ上に1〜200μmの厚さで溶融押出被覆した後
活性光線を照射し、導電性ワイヤとの密着性が良く耐熱
劣化性の良好なポリエステルまたはポリアミドの被覆層
を形成することを特徴とするマグネットワイヤの製造方
法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (但し、R^1、R^2はベンゼン核への置換基を表わ
し1価の有機残基であつて、同じで異つてもよい。m、
nは置換基の数を表わし、0〜3の数であり、同じでも
、異つてもよい。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18703284A JPS6166314A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | マグネツトワイヤの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18703284A JPS6166314A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | マグネツトワイヤの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6166314A true JPS6166314A (ja) | 1986-04-05 |
JPH0425646B2 JPH0425646B2 (ja) | 1992-05-01 |
Family
ID=16198990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18703284A Granted JPS6166314A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | マグネツトワイヤの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6166314A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9637588B2 (en) | 2013-10-07 | 2017-05-02 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Copolyesterimides derived from aromatic dicarboxylic acids and aliphatic glycols and films made therefrom |
US9840590B2 (en) | 2013-06-18 | 2017-12-12 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Copolyesterimides derived from N,N′-bis-(hydroxyalkyl)-benzophenone-3,3′,4,4′-tetracarboxylic diimide and films made therefrom |
US10450411B2 (en) | 2014-06-20 | 2019-10-22 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Copolyesterimides comprising bis(2-hydroxyalkyl)-2,2′-(1,4-phenylene)bis(1,3-dioxoisoindoline-5-carboxylate) and articles made therefrom |
-
1984
- 1984-09-06 JP JP18703284A patent/JPS6166314A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9840590B2 (en) | 2013-06-18 | 2017-12-12 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Copolyesterimides derived from N,N′-bis-(hydroxyalkyl)-benzophenone-3,3′,4,4′-tetracarboxylic diimide and films made therefrom |
US10377862B2 (en) | 2013-06-18 | 2019-08-13 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Copolyesterimides derived from N,N′-bis-(hydroxyalkyl)-benzophenone-3,3′,4,4′-tetracarboxylic diimide and films made therefrom |
US9637588B2 (en) | 2013-10-07 | 2017-05-02 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Copolyesterimides derived from aromatic dicarboxylic acids and aliphatic glycols and films made therefrom |
US10450411B2 (en) | 2014-06-20 | 2019-10-22 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Copolyesterimides comprising bis(2-hydroxyalkyl)-2,2′-(1,4-phenylene)bis(1,3-dioxoisoindoline-5-carboxylate) and articles made therefrom |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0425646B2 (ja) | 1992-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS606746A (ja) | 成形組成物 | |
US3361846A (en) | Phenolic phosphate and phosphite esters as stabilizers for saturated polyester resins | |
US3975330A (en) | Imide-modified polyester resin and wire enamel containing the imide-modified polyester resin | |
AU601778B2 (en) | Polyetherimide esters | |
JPS6166314A (ja) | マグネツトワイヤの製造方法 | |
KR101644962B1 (ko) | 생분해성 폴리락티드계 지방족/방향족 코폴리에스테르 중합체 및 그 제조방법 | |
JPS6026027A (ja) | ポリエステルエラストマ−の製造法 | |
JPH0618872B2 (ja) | 改良された可撓性を示す熱可塑性ポリエーテルイミドエステルポリマーの製造方法 | |
US4108841A (en) | Thermoplastic polyesters and processes for their manufacture | |
JP2539632B2 (ja) | 末端カルボキシル基及びイミド基を含有する飽和ポリエステル | |
JPH0420526A (ja) | 芳香族ポリエステルアミドの製造法 | |
JPS62292833A (ja) | ポリエステル・ポリカ−ボネ−ト系エラストマ− | |
JP2000212266A (ja) | 難燃性ポリエステルの製造方法 | |
JPS6053056B2 (ja) | 架橋ポリエステル系樹脂成形品の製造法 | |
JPS59227927A (ja) | ポリエステルの製造法 | |
JP2006316179A (ja) | ポリエーテルエステルブロック共重合体の製造方法 | |
JPH0297524A (ja) | ポリエステルの製造方法 | |
JPS5912972A (ja) | ポリエステル系コ−テイング剤 | |
JPH083316A (ja) | 共重合ポリエステル、組成物およびそれからなるフィルム | |
JPS6152178B2 (ja) | ||
JPS6081221A (ja) | はんだ付け性を有する樹脂組成物 | |
JPS6015652B2 (ja) | ポリ(−n−エチレントリメリテ−トイミド)系樹脂の製法 | |
JPS6314741B2 (ja) | ||
JPH10195188A (ja) | ポリエステルエラストマーの製造方法 | |
JPS6011931B2 (ja) | ポリエステル系樹脂の製造方法 |