JPS6159447A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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Publication number
JPS6159447A
JPS6159447A JP18213884A JP18213884A JPS6159447A JP S6159447 A JPS6159447 A JP S6159447A JP 18213884 A JP18213884 A JP 18213884A JP 18213884 A JP18213884 A JP 18213884A JP S6159447 A JPS6159447 A JP S6159447A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
base material
ester
solder resist
Prior art date
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Pending
Application number
JP18213884A
Other languages
English (en)
Inventor
Hajime Tokumitsu
徳光 始
Yuji Ikegami
池神 雄司
Kenji Osawa
健治 大沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP18213884A priority Critical patent/JPS6159447A/ja
Publication of JPS6159447A publication Critical patent/JPS6159447A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばプリント配線基板におけるソルダーレ
ジストとして使用される感光性樹脂組成物に関する。
〔従来の技術〕
従来プリント配線基板に使用されるソルダーレジストと
して、感光性樹脂組成物が使用され、写真法で形成する
ことが知られている。この感光性樹脂組成物として、例
えばアクリル酸エステル樹脂が知られている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
アクリル酸エステル樹脂は、感光性、即ち光重合性は優
れているが、耐熱性に問題があり、ソルダーレベラー(
例えば230〜260℃5秒)、リフロー炉(例えば最
高260℃10秒)、半田ディツプ(例えば260℃1
0秒)等の熱衝撃に対して銅箔パターン上の樹脂に、密
着力の低下によって、いわゆるふくれが生じるという欠
点がある。
〔問題点を解決するだめの手段〕
本発明は、上記問題点を解決するため、ノボラ7り型エ
ポキシのエポキシ基の一部をアクリレート化したハーフ
ェステルをベース材とするものである。
〔作用〕
以上の組成において、エポキシ基は耐熱性に寄与し、ア
クリル基は光重合性に寄与するので、感光性に優れ、し
かもソルダーレベラー、リフロー、半田ディツプ等の熱
衝撃に耐え得るものを得ることができる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例について説明しよう。
表−1は一実施例の組成を示すものである。
まず、ベース材としてノボラック型エポキシのエポキシ
基の一部がアクリレート化されたハーフェステル、例え
ばエポキシ基とアクリル基との存在割合が略半分ずつと
されたハーフェステル、例えばフェノールノボラックハ
ーフェステル(U1品名昭和高分子盟)が21.2重量
%使用される。また、希釈材としてトリメチロールプロ
パントリアクリレート、例えばTMPTA  (商品名
昭和高分子製)が10.6重量%、ポリエステルジアク
リレート、例えばMAND^ (商品名日本化薬層)が
14.7重量%、そしてヒドロキシエチルアクリレート
、例えハHE A(商品名大阪有機型)が18.4重量
%使用される。
また、銅箔との接着性向上のためにビスメタクリルオキ
シエチルホスフェートとメタクリルオキシエチルボスフ
ェートの混合物、例えばKAYAMERPト2(商品名
日本化薬層)が1.8重量%使用される。また、光硬化
促進剤として、Irugacure 651(商品名チ
バガイギー製)が2.4重量%使用される。また、着色
剤としてlIeliogen Green l、873
0(商品名BASF製)が0.2重量%使用される。ま
た、充填材としてファインタルクP−3(商品名日本タ
ルク製)が30.7重量%使用される。
次に、第1図を参照しながら、本例の感光製樹脂組成物
を利用したソルダーレジストの形成法について述べる。
■ まず、同図Aに示ずように組成物f1.)を順次攪
拌混合し、最終的に3本ロールで十分混練する。
■ 次に、同図Bに示すように選択的に銅箔(2)が残
された基板(3)上に組成物(1)を例えば60/rm
の厚さとなるように前面に塗布する。
■ 次に、同図Cに示すように所定の開口部を欲する位
置が暗部(4a)とされたフォトマスク(4)を所定の
空隙を持って基板(3)と対応させ、例えは空間(5)
に窒素ガスN2を充満させながら、フォトマスク(4)
より紫外線の平行エネルギー光線(6)を、例えば45
mJ/c+a照射する。
■ 次に、同図りに示すように露光された基板(3)を
界面活性剤と苛性ソーダを溶かした現像液(7)中で、
例えば1分間ブラシ(8)を用いて現像を行い、水洗、
乾燥を行う。
■ 次に、同図Eに示すように、例えば100W/cm
のメタルハライドランプ(9)が3本の下15c+nを
、ベルトコンベアα0)で6m/分のスピードで通過さ
せ紫外線硬化を行う。
■ 最後に、同図Fに示すように例えば170℃のオー
ブン(11)中で20分間加熱することによって最終硬
化を行う。
尚、両面基板の場合には反転し、■〜■を繰り返す。
このように本例のハーフェステルをベース材とした組成
物を使用してソルダーレジストを形成した基板(3)を
、230℃で3秒間のソルダーレベラーにかけ、また最
高260℃で10秒間のりフロー炉を通し、さらに26
0℃で10秒間の半田デイツプ層を通したが、「ふくれ
」や「剥がれ」は生じなかった。表−2は、その実験結
果を示したものであり、ノボラック型エポキシのエポキ
シ基の全部がアクリレート化された全エステルをベース
材とした組成物を使用してソルダーレジストを形成した
基板と比較して示したものである。
表−2 この場合、「剥がれ」はテープカット試験で行なったも
のである。
また、第2図はソルダーレジストの密着度を測定する装
置であり、(12)は熱板、(13)は銅箔(14)付
きの基板、(15)はテンションメーター、(16)は
例えばパイレックスガラス(登録商標)等よりなる紫外
線透過チップである。そして、ソルダーレジストの密着
度の測定は次のようにして行なう。
■ まず、第2図に示すように、感光性樹脂組成物(1
7)を基板(13)の銅箔(14)とチップ(16)間
に接着剤としてはさみ、第3図に示すようにチップ(1
6)を介して紫外線(18)で露光硬化させる。
■ 次に、熱板(12)の温度を段階的に変えて、第2
図の状態でチップ(16)が銅箔(14)より剪断され
る強度をテンションメーター(15)で測定する。
第4図は、このような測定により、本例のハーフェステ
ルをベース材とした組成物を使用したソルダーレジスト
と、全エステルをベース材とした組成物を使用したソル
ダーレジストの夫々の密着度の測定結果を示すものであ
る。同図において、実線aが本例の場合であり、実線す
が全エステルの場合である。この第4図からも明らかな
ように、本例の方が、高温部においても、密着力に優れ
ていることがわかる。
このように本例の感光性樹脂組成物は感光性に優れ、し
かも耐熱性に優れたものである。
尚、ベース材としては−F述実施例の他に、表−3に示
すようなエポキシ系のハーフェステルを使用することが
考えられる。
〔発明の効果〕
以」二述べたように本発明による感光性樹脂組成物によ
れば、ノボラック型エポキシのエポキシ基の一部をアク
リレート化したもので、エポキシ基は耐熱性に寄与し、
アクリル基は光重合性に寄り〜するので、感光性に優れ
、しかも耐熱性に優れたものを得ることができる。従っ
て、ソルダーレジストとして使用して好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を使用したソルダーレジスト
の形成工程を示す図、第2図はソルダーレジストの密着
度測定装置、第3図はその説明のための図、第4図は本
発明の一実施例を使用したソルダーレジスI・の密着度
の測定結果を示す図である。 (1)は感光性樹脂組成物である。 テ 滓 而 1 特開昭6l−59447(6) 1(巨; 。 昌 5     o    o    <)     o 
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Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ノボラック型エポキシのエポキシ基の一部をアクリレー
    ト化したハーフエステルをベース材とする感光性樹脂組
    成物。
JP18213884A 1984-08-31 1984-08-31 感光性樹脂組成物 Pending JPS6159447A (ja)

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JP18213884A JPS6159447A (ja) 1984-08-31 1984-08-31 感光性樹脂組成物

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JP18213884A JPS6159447A (ja) 1984-08-31 1984-08-31 感光性樹脂組成物

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JPS6159447A true JPS6159447A (ja) 1986-03-26

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ID=16113006

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JP18213884A Pending JPS6159447A (ja) 1984-08-31 1984-08-31 感光性樹脂組成物

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JP (1) JPS6159447A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6348979A (ja) * 1986-08-19 1988-03-01 Fuji Photo Film Co Ltd Crtのコントラスト調整装置
US4786579A (en) * 1986-04-28 1988-11-22 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Heat-resistant photosensitive resin composition
JPH031145A (ja) * 1989-05-29 1991-01-07 Kuraray Co Ltd 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法
US5538821A (en) * 1993-05-10 1996-07-23 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Resist ink composition and cured article prepared therefrom
US5702820A (en) * 1994-01-17 1997-12-30 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Photo-imaging resist ink and cured product thereof
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US6010823A (en) * 1996-03-13 2000-01-04 Ibiden Co., Ltd. Resist compositions for plating
US6217987B1 (en) 1996-11-20 2001-04-17 Ibiden Co. Ltd. Solder resist composition and printed circuit boards

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