JPS6159447A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS6159447A JPS6159447A JP18213884A JP18213884A JPS6159447A JP S6159447 A JPS6159447 A JP S6159447A JP 18213884 A JP18213884 A JP 18213884A JP 18213884 A JP18213884 A JP 18213884A JP S6159447 A JPS6159447 A JP S6159447A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- photosensitive resin
- base material
- ester
- solder resist
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばプリント配線基板におけるソルダーレ
ジストとして使用される感光性樹脂組成物に関する。
ジストとして使用される感光性樹脂組成物に関する。
従来プリント配線基板に使用されるソルダーレジストと
して、感光性樹脂組成物が使用され、写真法で形成する
ことが知られている。この感光性樹脂組成物として、例
えばアクリル酸エステル樹脂が知られている。
して、感光性樹脂組成物が使用され、写真法で形成する
ことが知られている。この感光性樹脂組成物として、例
えばアクリル酸エステル樹脂が知られている。
アクリル酸エステル樹脂は、感光性、即ち光重合性は優
れているが、耐熱性に問題があり、ソルダーレベラー(
例えば230〜260℃5秒)、リフロー炉(例えば最
高260℃10秒)、半田ディツプ(例えば260℃1
0秒)等の熱衝撃に対して銅箔パターン上の樹脂に、密
着力の低下によって、いわゆるふくれが生じるという欠
点がある。
れているが、耐熱性に問題があり、ソルダーレベラー(
例えば230〜260℃5秒)、リフロー炉(例えば最
高260℃10秒)、半田ディツプ(例えば260℃1
0秒)等の熱衝撃に対して銅箔パターン上の樹脂に、密
着力の低下によって、いわゆるふくれが生じるという欠
点がある。
本発明は、上記問題点を解決するため、ノボラ7り型エ
ポキシのエポキシ基の一部をアクリレート化したハーフ
ェステルをベース材とするものである。
ポキシのエポキシ基の一部をアクリレート化したハーフ
ェステルをベース材とするものである。
以上の組成において、エポキシ基は耐熱性に寄与し、ア
クリル基は光重合性に寄与するので、感光性に優れ、し
かもソルダーレベラー、リフロー、半田ディツプ等の熱
衝撃に耐え得るものを得ることができる。
クリル基は光重合性に寄与するので、感光性に優れ、し
かもソルダーレベラー、リフロー、半田ディツプ等の熱
衝撃に耐え得るものを得ることができる。
以下、本発明の一実施例について説明しよう。
表−1は一実施例の組成を示すものである。
まず、ベース材としてノボラック型エポキシのエポキシ
基の一部がアクリレート化されたハーフェステル、例え
ばエポキシ基とアクリル基との存在割合が略半分ずつと
されたハーフェステル、例えばフェノールノボラックハ
ーフェステル(U1品名昭和高分子盟)が21.2重量
%使用される。また、希釈材としてトリメチロールプロ
パントリアクリレート、例えばTMPTA (商品名
昭和高分子製)が10.6重量%、ポリエステルジアク
リレート、例えばMAND^ (商品名日本化薬層)が
14.7重量%、そしてヒドロキシエチルアクリレート
、例えハHE A(商品名大阪有機型)が18.4重量
%使用される。
基の一部がアクリレート化されたハーフェステル、例え
ばエポキシ基とアクリル基との存在割合が略半分ずつと
されたハーフェステル、例えばフェノールノボラックハ
ーフェステル(U1品名昭和高分子盟)が21.2重量
%使用される。また、希釈材としてトリメチロールプロ
パントリアクリレート、例えばTMPTA (商品名
昭和高分子製)が10.6重量%、ポリエステルジアク
リレート、例えばMAND^ (商品名日本化薬層)が
14.7重量%、そしてヒドロキシエチルアクリレート
、例えハHE A(商品名大阪有機型)が18.4重量
%使用される。
また、銅箔との接着性向上のためにビスメタクリルオキ
シエチルホスフェートとメタクリルオキシエチルボスフ
ェートの混合物、例えばKAYAMERPト2(商品名
日本化薬層)が1.8重量%使用される。また、光硬化
促進剤として、Irugacure 651(商品名チ
バガイギー製)が2.4重量%使用される。また、着色
剤としてlIeliogen Green l、873
0(商品名BASF製)が0.2重量%使用される。ま
た、充填材としてファインタルクP−3(商品名日本タ
ルク製)が30.7重量%使用される。
シエチルホスフェートとメタクリルオキシエチルボスフ
ェートの混合物、例えばKAYAMERPト2(商品名
日本化薬層)が1.8重量%使用される。また、光硬化
促進剤として、Irugacure 651(商品名チ
バガイギー製)が2.4重量%使用される。また、着色
剤としてlIeliogen Green l、873
0(商品名BASF製)が0.2重量%使用される。ま
た、充填材としてファインタルクP−3(商品名日本タ
ルク製)が30.7重量%使用される。
次に、第1図を参照しながら、本例の感光製樹脂組成物
を利用したソルダーレジストの形成法について述べる。
を利用したソルダーレジストの形成法について述べる。
■ まず、同図Aに示ずように組成物f1.)を順次攪
拌混合し、最終的に3本ロールで十分混練する。
拌混合し、最終的に3本ロールで十分混練する。
■ 次に、同図Bに示すように選択的に銅箔(2)が残
された基板(3)上に組成物(1)を例えば60/rm
の厚さとなるように前面に塗布する。
された基板(3)上に組成物(1)を例えば60/rm
の厚さとなるように前面に塗布する。
■ 次に、同図Cに示すように所定の開口部を欲する位
置が暗部(4a)とされたフォトマスク(4)を所定の
空隙を持って基板(3)と対応させ、例えは空間(5)
に窒素ガスN2を充満させながら、フォトマスク(4)
より紫外線の平行エネルギー光線(6)を、例えば45
mJ/c+a照射する。
置が暗部(4a)とされたフォトマスク(4)を所定の
空隙を持って基板(3)と対応させ、例えは空間(5)
に窒素ガスN2を充満させながら、フォトマスク(4)
より紫外線の平行エネルギー光線(6)を、例えば45
mJ/c+a照射する。
■ 次に、同図りに示すように露光された基板(3)を
界面活性剤と苛性ソーダを溶かした現像液(7)中で、
例えば1分間ブラシ(8)を用いて現像を行い、水洗、
乾燥を行う。
界面活性剤と苛性ソーダを溶かした現像液(7)中で、
例えば1分間ブラシ(8)を用いて現像を行い、水洗、
乾燥を行う。
■ 次に、同図Eに示すように、例えば100W/cm
のメタルハライドランプ(9)が3本の下15c+nを
、ベルトコンベアα0)で6m/分のスピードで通過さ
せ紫外線硬化を行う。
のメタルハライドランプ(9)が3本の下15c+nを
、ベルトコンベアα0)で6m/分のスピードで通過さ
せ紫外線硬化を行う。
■ 最後に、同図Fに示すように例えば170℃のオー
ブン(11)中で20分間加熱することによって最終硬
化を行う。
ブン(11)中で20分間加熱することによって最終硬
化を行う。
尚、両面基板の場合には反転し、■〜■を繰り返す。
このように本例のハーフェステルをベース材とした組成
物を使用してソルダーレジストを形成した基板(3)を
、230℃で3秒間のソルダーレベラーにかけ、また最
高260℃で10秒間のりフロー炉を通し、さらに26
0℃で10秒間の半田デイツプ層を通したが、「ふくれ
」や「剥がれ」は生じなかった。表−2は、その実験結
果を示したものであり、ノボラック型エポキシのエポキ
シ基の全部がアクリレート化された全エステルをベース
材とした組成物を使用してソルダーレジストを形成した
基板と比較して示したものである。
物を使用してソルダーレジストを形成した基板(3)を
、230℃で3秒間のソルダーレベラーにかけ、また最
高260℃で10秒間のりフロー炉を通し、さらに26
0℃で10秒間の半田デイツプ層を通したが、「ふくれ
」や「剥がれ」は生じなかった。表−2は、その実験結
果を示したものであり、ノボラック型エポキシのエポキ
シ基の全部がアクリレート化された全エステルをベース
材とした組成物を使用してソルダーレジストを形成した
基板と比較して示したものである。
表−2
この場合、「剥がれ」はテープカット試験で行なったも
のである。
のである。
また、第2図はソルダーレジストの密着度を測定する装
置であり、(12)は熱板、(13)は銅箔(14)付
きの基板、(15)はテンションメーター、(16)は
例えばパイレックスガラス(登録商標)等よりなる紫外
線透過チップである。そして、ソルダーレジストの密着
度の測定は次のようにして行なう。
置であり、(12)は熱板、(13)は銅箔(14)付
きの基板、(15)はテンションメーター、(16)は
例えばパイレックスガラス(登録商標)等よりなる紫外
線透過チップである。そして、ソルダーレジストの密着
度の測定は次のようにして行なう。
■ まず、第2図に示すように、感光性樹脂組成物(1
7)を基板(13)の銅箔(14)とチップ(16)間
に接着剤としてはさみ、第3図に示すようにチップ(1
6)を介して紫外線(18)で露光硬化させる。
7)を基板(13)の銅箔(14)とチップ(16)間
に接着剤としてはさみ、第3図に示すようにチップ(1
6)を介して紫外線(18)で露光硬化させる。
■ 次に、熱板(12)の温度を段階的に変えて、第2
図の状態でチップ(16)が銅箔(14)より剪断され
る強度をテンションメーター(15)で測定する。
図の状態でチップ(16)が銅箔(14)より剪断され
る強度をテンションメーター(15)で測定する。
第4図は、このような測定により、本例のハーフェステ
ルをベース材とした組成物を使用したソルダーレジスト
と、全エステルをベース材とした組成物を使用したソル
ダーレジストの夫々の密着度の測定結果を示すものであ
る。同図において、実線aが本例の場合であり、実線す
が全エステルの場合である。この第4図からも明らかな
ように、本例の方が、高温部においても、密着力に優れ
ていることがわかる。
ルをベース材とした組成物を使用したソルダーレジスト
と、全エステルをベース材とした組成物を使用したソル
ダーレジストの夫々の密着度の測定結果を示すものであ
る。同図において、実線aが本例の場合であり、実線す
が全エステルの場合である。この第4図からも明らかな
ように、本例の方が、高温部においても、密着力に優れ
ていることがわかる。
このように本例の感光性樹脂組成物は感光性に優れ、し
かも耐熱性に優れたものである。
かも耐熱性に優れたものである。
尚、ベース材としては−F述実施例の他に、表−3に示
すようなエポキシ系のハーフェステルを使用することが
考えられる。
すようなエポキシ系のハーフェステルを使用することが
考えられる。
以」二述べたように本発明による感光性樹脂組成物によ
れば、ノボラック型エポキシのエポキシ基の一部をアク
リレート化したもので、エポキシ基は耐熱性に寄与し、
アクリル基は光重合性に寄り〜するので、感光性に優れ
、しかも耐熱性に優れたものを得ることができる。従っ
て、ソルダーレジストとして使用して好適である。
れば、ノボラック型エポキシのエポキシ基の一部をアク
リレート化したもので、エポキシ基は耐熱性に寄与し、
アクリル基は光重合性に寄り〜するので、感光性に優れ
、しかも耐熱性に優れたものを得ることができる。従っ
て、ソルダーレジストとして使用して好適である。
第1図は本発明の一実施例を使用したソルダーレジスト
の形成工程を示す図、第2図はソルダーレジストの密着
度測定装置、第3図はその説明のための図、第4図は本
発明の一実施例を使用したソルダーレジスI・の密着度
の測定結果を示す図である。 (1)は感光性樹脂組成物である。 テ 滓 而 1 特開昭6l−59447(6) 1(巨; 。 昌 5 o o <) o
□つ 驚 リ 〜 −
Hよτ ?5
の形成工程を示す図、第2図はソルダーレジストの密着
度測定装置、第3図はその説明のための図、第4図は本
発明の一実施例を使用したソルダーレジスI・の密着度
の測定結果を示す図である。 (1)は感光性樹脂組成物である。 テ 滓 而 1 特開昭6l−59447(6) 1(巨; 。 昌 5 o o <) o
□つ 驚 リ 〜 −
Hよτ ?5
Claims (1)
- ノボラック型エポキシのエポキシ基の一部をアクリレー
ト化したハーフエステルをベース材とする感光性樹脂組
成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18213884A JPS6159447A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18213884A JPS6159447A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6159447A true JPS6159447A (ja) | 1986-03-26 |
Family
ID=16113006
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18213884A Pending JPS6159447A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6159447A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6348979A (ja) * | 1986-08-19 | 1988-03-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Crtのコントラスト調整装置 |
US4786579A (en) * | 1986-04-28 | 1988-11-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Heat-resistant photosensitive resin composition |
JPH031145A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-07 | Kuraray Co Ltd | 感光性樹脂組成物、それを用いたパターンおよびパターン作製法 |
US5538821A (en) * | 1993-05-10 | 1996-07-23 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Resist ink composition and cured article prepared therefrom |
US5702820A (en) * | 1994-01-17 | 1997-12-30 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Photo-imaging resist ink and cured product thereof |
US5973034A (en) * | 1995-10-11 | 1999-10-26 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | (Oxide or sulfide) powder epoxy (meth) acrylate w/glass and/or metal |
US6010823A (en) * | 1996-03-13 | 2000-01-04 | Ibiden Co., Ltd. | Resist compositions for plating |
US6217987B1 (en) | 1996-11-20 | 2001-04-17 | Ibiden Co. Ltd. | Solder resist composition and printed circuit boards |
-
1984
- 1984-08-31 JP JP18213884A patent/JPS6159447A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4786579A (en) * | 1986-04-28 | 1988-11-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Heat-resistant photosensitive resin composition |
JPS6348979A (ja) * | 1986-08-19 | 1988-03-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Crtのコントラスト調整装置 |
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US6010823A (en) * | 1996-03-13 | 2000-01-04 | Ibiden Co., Ltd. | Resist compositions for plating |
US6217987B1 (en) | 1996-11-20 | 2001-04-17 | Ibiden Co. Ltd. | Solder resist composition and printed circuit boards |
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