JPS6153344A - 耐放射線性ポリオレフイン組成物 - Google Patents

耐放射線性ポリオレフイン組成物

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JPS6153344A
JPS6153344A JP17462984A JP17462984A JPS6153344A JP S6153344 A JPS6153344 A JP S6153344A JP 17462984 A JP17462984 A JP 17462984A JP 17462984 A JP17462984 A JP 17462984A JP S6153344 A JPS6153344 A JP S6153344A
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JP
Japan
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tert
polyolefin
radiation
group
compound
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JP17462984A
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English (en)
Inventor
Motonobu Minagawa
源信 皆川
Mitsuo Akutsu
光男 阿久津
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Adeka Corp
Original Assignee
Adeka Argus Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は耐放射線性のポリオレフィン組成物に関する。
ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンは、
注射器、ピンセット、クランプ等の医療器具あるいは食
品包装材料に用いられており、これらは、殺菌を目的と
して放射線照射処理されることが多いが、ポリオレフィ
ンは放射線照射により劣化し、クランクを発生したり、
機械的強度が低下したり、あるいは変色したりする等の
問題があった。
この放射線による劣化を防止するために、フェノ・−ル
系酸化防止剤、有機含リン化合物あるいはヒンダードア
ミン系光安定剤が夫々単独で又は互いに組合せて用いる
ことが提案されているがその効果は未だ不十分であり、
さらに改善することが要望されていた。
本発明社等は、この問題について鋭意検討を重ねた結果
、特定のジアリールホスフェート金属塩をこれらの系に
併用することにより、放射線の照射によるポリオレフィ
ンの劣化が著しく防止されることを見いだした。
即ち、本発明は、ポリオレフィンに対し、(1)次の一
般式(1)又は(I[)で表されるジアリールホスフェ
ート金属塩の少なくとも一種及び(2)ヒンダードフェ
ノール系酸化防止剤、有機ホスファイト化合物又は有機
ホスホナイト化合物及びヒンダードアミン系光安定剤か
ら選ばれる少なくとも一種を添加してなる耐放射線性ポ
リオレフィン組成物を提供するものである。
(式中、R,及びR2は、各々水素原子又はアルキル基
を示し、Mは第1a族又は第Ua族金属を示し、aはM
の原子価を示し、Aはアルキリデン基を示す、) 以下に、本発明になるポリオレフィン組成物について詳
述する。
上記一般式(1)及び(If)で表される化合物におい
て、R,及びR2で表されるアルキル基としては、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
、第2ブチル、第3ブチル、イソブチル、アミル、第3
7ミル、ヘキシル、オクチル、第3オクチル等があげら
れ、Aで表されるアルキリデン基としてはメチリデン、
エチリデン、ブチリデン、インプロピリデン等があげら
れる。
Mで表される金属としては、ナトリウム、カリウム、リ
チウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム等があげ
られる。
従って、前記一般式(I)又は(II)であられされる
化合物の代表例としては、次に示す化合物があげられる
T:″u4fl。
これらの有機ホスフェート金属塩化合物のうち一般式(
1)で表される化合物がその効果が得に大きく好ましい
これらの有機ホスフェート金属塩の添加量はポリオレフ
ィン100重量部に対して、0.001〜5好ましくは
0.01〜3重量部である。
本発明で用いられるフェノール系酸化防止剤としては、
例えば、2.6−ジー第3ブチル−p−クレゾール、2
.6−ジフェニル−4−オクタデシロキシフェノール、
ステアリル−(3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート、ジステアリル−3,5−
ジー第3ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート
、チオジエチレンビス((3,5−ジー第3ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−)) 、4.4°
−チオビス(6−第3ブチル−m−クレゾール)、2−
オクチルチオ−4,6−ジ(3,5−ジー第3ブチル−
4−ヒドロキシフェノキシ)−S−)リアジン、2.2
”−メチレンビス(4−メチル−6−第3ブチルフエノ
ール) 、2.2’−メチレンビス(4−エチル−6−
第3ブチルフエノール)、ビス(3,5−ビス(4−ヒ
ドロキシ−3−第3ブチルフエニル)ブチリックアシッ
ドコグリコールエステル、4.4’−ブチリデンビス(
6−第3ブチル−m−クレゾール)、2.2°−エチリ
デンビス(4,6−ジー第3ブチルフエノール) 、2
.2°−エチリデンビス(4−第2ブチル−6−第3ブ
チルフエノール”) 、1.1.3−トリス(2−メチ
ル−4−ヒドロキシ−5−第3ブチルフエニル)ブタン
、ビス(2−第3ブチル−4−メチル−6−(2−ヒド
ロキシ−3−第3ブチル−5−メチルベンジル)フェニ
ル〕テレフタレート、1.3.5−トリス(2,6−シ
メチルー3−ヒドロキシ−4−第3ブチルベンジル)イ
ンシアヌレート、1.3.5− )リス(3,5−ジー
第3ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト、1.3.5−トリス(3,5−ジー第3ブチル−4
−ヒドロキシ1ベンジル) −2,4,6−ドリメチル
ベンゼン、1.3.5−トリス((3,5−ジー第3ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエ
チル〕イソシアヌレート、テトラキス〔メチレン−3−
(3,5−ジ第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネートコメタン等があげられる。
これらフェノール系酸化防止剤の添加量はポリオレフィ
ン100重量部に対して0.001〜3好ましくは0.
005〜1重量部である。
本発明で用いられる有機ホスファイト化合物又は有機ホ
スホナイト化合物としては、例えば、トリス(2,4−
ジー第3ブチルフエニル)ホスファイト、トリス(ノニ
ルフェニル)ホスファイト、トリス(モノ、ジ混合ノニ
ルフェニル)ホスファイト、ジステアリル・ペンタエリ
スリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジー第3ブ
チルフエニル)・ペンタエリスリトールジホスファイト
、ジ(ノニルフェニル)・ペンタエリスリトールジホス
ファイト、1,1.3−)リス(2−メチル−4−ジト
リデシロキシホスフィノキシ−5−第3ブチルフエニル
)ブタン、テトラ(トリデシル)・4,4゛−ブチリデ
ンビス(3−メチル−6=第3ブチルフエノール)ジホ
スファイト、水素化ビスフェノールA・ポリホスファイ
ト、ビス(オクチルフェニル)・ビス〔4,4”−ブチ
リデンビス(3−メチル−6−第3ブチルフエノ、−ル
)〕  ・1.6−ヘキサンジオールジホスファイト、
テトラキス(2,4−ジー第3ブチルフエニル)−4,
4’−ビフェニレンジホスホナイト等があげられる。
これらの有機ホスファイト又は有機ホスホナイト化合物
の添加量は、ポリオレフィン100重量部に対してo、
oot〜5好ましくは0.01〜3重量部である。
本発明で用いられる、ヒンダードアミン系光安定剤とし
ては、ピペリジン骨格を有するヒンダードアミンで、例
えば、2.2.6.6−テトラメチル−4−ピペリジル
ベンゾエート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2゜2.6.
6−ベンタメチルー4−ピペリジル)セバケート、ビス
(1,2,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジル
)−2−ブチル−2−(3,5−ジー第3ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)マロネート、トリス(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリア
モテート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)  −1,2,3,4−ブタンテト
ラカルボキシレート、ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)・ジ(トリデシル) −1,2
,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(1,
2,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジル)・ジ
(トリデシル) −1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキシレート、N−ヒドロキシエチル−2,2,6,6
−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン/コハク酸
ジメチル縮合物、2−第3オクチルアミノ−4,6−ジ
クロロトリアジン/1.6−ビス(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン縮合物、
1.6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジルアミノ)ヘキサン/1.2−ジブロモエタン縮
合物、2.2.4.4−テトラメチル−7−オキサ−3
,20−ジアザジスピロ(5,1,11,2)ヘンエイ
コサン−21−オン、3.9−ビス (1,1−ジメチ
ル−2−〔トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジルオキシカルボニル)ブチルカルボニルオキ
シ1エチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
(5,5)ウンデカン、3.9−ビス 〔1,I−ジメ
チル−2−トリス (1,2,2゜6.6−ベンタメチ
ルー4−ピペリジルオキシカルボニル)ブチルカルボニ
ルオキシ エチル) −2,4,8,10−テトラオキ
サスピロ(5,5)ウンデカン等があげられる。
これらのヒンダードアミン系光安定剤の添加量はポリオ
レフィン100f1部に対して0.001〜5好ましく
は0.01〜3重量部である。
本発明により耐放射線性の改善されるポリオレフィンと
しては、例えば、低密度あるいは高密度ポリエチレン、
直鎮状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテ
ン、ポリメチルペンテン、エチレン/プロピレン共重合
体、エチレン/ブテン−1共重合体、プロピレン/ブテ
ン−1共重合体及びこれらの混合物等があげられる。
本発明の組成物には、必要に応じて金属石鹸、紫外線吸
収剤、チオエーテル系酸化防止剤、充填剤、顔料、発泡
剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を含有させ
ることができる。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。し
かしながら、本発明はこれらの実施例によって限定され
るものではない。
実施例1 次の配合物を混合後、210℃の押出機によりペレット
化した。このベレットを用い、280℃で射出成形し、
40X 40X 1 mmの試験片を作成した。
この試験片をコバルト−60線源を用い、2.5メガラ
ラドのγ線を照射した。
照射前後の試験片の色差(ハンター色差ルad)を測定
した。尚、色差が1.5以下はほとんど変色が認められ
ず、 1.5〜3.0は軽微な変色を示し、3.0以上
は変色の度合が大きいことを示す。
又、照射後の試験片を135℃のオーブン中に入れ、耐
熱性を測定した。
その結果を表−1に示す。
〔配合〕
ステアリン酸カルシウム       0.1有機リン
酸金属塩         0.2表−1 実施例2 ポリフロピレフ100重量部にステアリン酸カルシウム
0.11!Iit部及び次の表−2に示した添加剤を加
え、実施例1と同様にして試験片を作成し、3.5メガ
ラツドのγ線を照射し、照射前後の色差及び125℃の
オーブン中での耐熱性を測定した。
その結果を表−2に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ポリオレフィンに対し、(1)次の一般式( I )又は
    (II)で表されるジアリールホスフェート金属塩の少な
    くとも一種及び(2)ヒンダードフェノール系酸化防止
    剤、有機ホスファイト化合物又は有機ホスホナイト化合
    物及びヒンダードアミン系光安定剤から選ばれる少なく
    とも一種を添加してなる耐放射線性ポリオレフィン組成
    物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1及びR_2は、各々水素原子又はアルキ
    ル基を示し、Mは第 I a族又は第IIa族金属を示し、
    aはMの原子価を示し、Aはアルキリデン基を示す。)
JP17462984A 1984-08-22 1984-08-22 耐放射線性ポリオレフイン組成物 Expired - Lifetime JPS6153344A (ja)

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