JPS6152967A - 連続鋳造における鋳込方法 - Google Patents
連続鋳造における鋳込方法Info
- Publication number
- JPS6152967A JPS6152967A JP17471084A JP17471084A JPS6152967A JP S6152967 A JPS6152967 A JP S6152967A JP 17471084 A JP17471084 A JP 17471084A JP 17471084 A JP17471084 A JP 17471084A JP S6152967 A JPS6152967 A JP S6152967A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tundish
- molten steel
- casting
- mold
- molten
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D41/00—Casting melt-holding vessels, e.g. ladles, tundishes, cups or the like
- B22D41/12—Travelling ladles or similar containers; Cars for ladles
- B22D41/13—Ladle turrets
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、タンディツシュ内の溶鋼をタンディツシュ
の底に設けたノズルを介して鋳型内に鋳込む連続鋳造に
おける鋳込方法に関する。
の底に設けたノズルを介して鋳型内に鋳込む連続鋳造に
おける鋳込方法に関する。
連続鋳造においては、タンディツシュの底に取付けたノ
ズルを鋳型内の溶鋼中に浸漬させ、このノズルを介して
溶鋼をタンディツシュから鋳型に鋳込む。そして、凝固
殻と鋳型との潤滑を図シ、更に鋳型内溶鋼湯面の保温及
び酸化防止を図るため、鋳型内溶鋼湯面上にパウダーを
浮かべている。このパウダーは一部が溶融して溶融スラ
グとなシ、この溶融スラグは鋳型と凝固殻との間に流れ
込んで潤滑作用を呈する。
ズルを鋳型内の溶鋼中に浸漬させ、このノズルを介して
溶鋼をタンディツシュから鋳型に鋳込む。そして、凝固
殻と鋳型との潤滑を図シ、更に鋳型内溶鋼湯面の保温及
び酸化防止を図るため、鋳型内溶鋼湯面上にパウダーを
浮かべている。このパウダーは一部が溶融して溶融スラ
グとなシ、この溶融スラグは鋳型と凝固殻との間に流れ
込んで潤滑作用を呈する。
ところで、浸漬ノズルは、特に、溶鋼湯面上の溶融スラ
グが接触している部分（所謂スラグライン）が侵食され
やすい。このため、浸漬ノズルの寿命延長対策として、
浸漬ノズルの材質の改善と共に、鋳型内湯面レベル制御
技術を利用し、定期的に溶鋼湯面レベルを変更するか。
グが接触している部分（所謂スラグライン）が侵食され
やすい。このため、浸漬ノズルの寿命延長対策として、
浸漬ノズルの材質の改善と共に、鋳型内湯面レベル制御
技術を利用し、定期的に溶鋼湯面レベルを変更するか。
又は周期的なパターンで湯面レベルを変化させて、浸漬
ノズルの特定の部位のみが侵食されることを防止してい
る。
ノズルの特定の部位のみが侵食されることを防止してい
る。
しかし、溶鋼湯面レベルを変更すると、凝固殻と鋳型と
の間への溶融スラグの流れ込み機構に影響を及ぼしてし
まう。つまシ、湯面レベルを上昇させると、溶鋼湯面上
に存在している固化スラグの固まシ（スラグペア）を凝
固殻内に巻き込み、鋳型直下の凝固殻にブレークアウト
が発生しやすい。まｔ、湯面ノベルを下降させると、凝
固殻と鋳型との間の、溶融スラグの流れ込みが不安定と
なシ、溶融スラグの流入不足によシ凝固殻が鋳型に焼付
きやすく、凝固殻の焼付きが発生すると凝固殻がブレー
クアウトして溶鋼が漏洩するという重大事故につながる
。
の間への溶融スラグの流れ込み機構に影響を及ぼしてし
まう。つまシ、湯面レベルを上昇させると、溶鋼湯面上
に存在している固化スラグの固まシ（スラグペア）を凝
固殻内に巻き込み、鋳型直下の凝固殻にブレークアウト
が発生しやすい。まｔ、湯面ノベルを下降させると、凝
固殻と鋳型との間の、溶融スラグの流れ込みが不安定と
なシ、溶融スラグの流入不足によシ凝固殻が鋳型に焼付
きやすく、凝固殻の焼付きが発生すると凝固殻がブレー
クアウトして溶鋼が漏洩するという重大事故につながる
。
この発明は、溶融スラグの流入不足、凝固殻の焼付き及
びブレークアウト等の操業異常を生じさせることなく、
浸漬ノズルの寿命を延長させた連続鋳造における鋳込方
法を提供することを目的とする。
びブレークアウト等の操業異常を生じさせることなく、
浸漬ノズルの寿命を延長させた連続鋳造における鋳込方
法を提供することを目的とする。
この発明に係る連続鋳造における鋳込方法は、タンディ
ツシュ内の溶鋼をタンディツシュの底に設けたノズルを
介して鋳型内に鋳込む連続鋳造ニおける鋳込方法におい
て、タンディ、シュを昇降させることができる昇降装置
を設け、漆調鋳込期間中の適宜期間にわ之シ、タンディ
ツシュを０．５乃至３２００ｍ／分の範囲内の速度で鉛
直方向に移動させることを特徴とする。
ツシュ内の溶鋼をタンディツシュの底に設けたノズルを
介して鋳型内に鋳込む連続鋳造ニおける鋳込方法におい
て、タンディ、シュを昇降させることができる昇降装置
を設け、漆調鋳込期間中の適宜期間にわ之シ、タンディ
ツシュを０．５乃至３２００ｍ／分の範囲内の速度で鉛
直方向に移動させることを特徴とする。
以下、添付の図面を参照してこの発明の実施列について
、説明する。第１図に示すように、タンディツシュ１の
底部に浸漬ノズル２が取付けられておシ、この浸漬ノズ
ル２゛の下部には吐出ロアが設けられている。この浸漬
ノズル２は鋳型３内の溶鋼４中に浸漬されている。溶鋼
４の湯面上にはパウダーが浮かべられておシ、その一部
は溶融スラグ層５を形成している。タンディツシュ１に
は、昇降駆動装置（図示せず）が設置されておシ、一定
の速度又は任意の速度パターンでタンティッシュ１を鉛
直方向に移動させることができる。
、説明する。第１図に示すように、タンディツシュ１の
底部に浸漬ノズル２が取付けられておシ、この浸漬ノズ
ル２゛の下部には吐出ロアが設けられている。この浸漬
ノズル２は鋳型３内の溶鋼４中に浸漬されている。溶鋼
４の湯面上にはパウダーが浮かべられておシ、その一部
は溶融スラグ層５を形成している。タンディツシュ１に
は、昇降駆動装置（図示せず）が設置されておシ、一定
の速度又は任意の速度パターンでタンティッシュ１を鉛
直方向に移動させることができる。
この実施列においては、湯面レベル制御装置 ヤ（
図示せず）によシュ第２図に示すように、溶鋼の鋳込期
間中、湯面レベルが一定に保持されている。一方、タン
ディツシュ１は、昇降駆動装置により、この溶鋼の鋳込
期間中の適宜期間、５０乃至１００ｍの距離りに亘って
鉛直方向に移動させる。例えば、第２図に示すように、
浸漬ノズル２が溶鋼中に深く浸漬した状態からタンディ
ツシュ１を徐々に上昇させ、次いで一定位置に保持した
後、タンディツシュ１を徐々に下降させる。これによシ
、浸漬ノズル２の外周面がスラグラインと接触する領域
θは、第１図に示す如く、５０乃至１００＋１１１１１
の広範囲の領域になる。従って、浸漬ノズル２の外周面
の溶融スラグによる侵食は、スラグラインが浸漬ノズル
の特定の位置にある場合に比べて、広範囲ではあるが、
極めて浅く軽度のものとなる。
図示せず）によシュ第２図に示すように、溶鋼の鋳込期
間中、湯面レベルが一定に保持されている。一方、タン
ディツシュ１は、昇降駆動装置により、この溶鋼の鋳込
期間中の適宜期間、５０乃至１００ｍの距離りに亘って
鉛直方向に移動させる。例えば、第２図に示すように、
浸漬ノズル２が溶鋼中に深く浸漬した状態からタンディ
ツシュ１を徐々に上昇させ、次いで一定位置に保持した
後、タンディツシュ１を徐々に下降させる。これによシ
、浸漬ノズル２の外周面がスラグラインと接触する領域
θは、第１図に示す如く、５０乃至１００＋１１１１１
の広範囲の領域になる。従って、浸漬ノズル２の外周面
の溶融スラグによる侵食は、スラグラインが浸漬ノズル
の特定の位置にある場合に比べて、広範囲ではあるが、
極めて浅く軽度のものとなる。
タンディツシュの昇降距離は、浸漬ノズルの長さ又は溶
鋼湯面と吐出ロアとの間の距離等によシ適宜定められる
が、５０乃至１００ｍｍ程度が最適である。タンディツ
シュの移動は、上昇及び下降の双方を含む必要はなく、
鋳込期間中に亘って、上昇のみ又は下降のみであっても
よい＠タンディツシュの昇降速度は、０．５乃至３２０
０＋＋ｍ／分の範囲内に設定する。これは以下の理由に
よる。
鋼湯面と吐出ロアとの間の距離等によシ適宜定められる
が、５０乃至１００ｍｍ程度が最適である。タンディツ
シュの移動は、上昇及び下降の双方を含む必要はなく、
鋳込期間中に亘って、上昇のみ又は下降のみであっても
よい＠タンディツシュの昇降速度は、０．５乃至３２０
０＋＋ｍ／分の範囲内に設定する。これは以下の理由に
よる。
１基の鋳込鋼について溶鋼を鋳込むのに３０分乃至１時
間かかり、通常、１操業当シ４〜５ヒートの鋳込鋼を同
一のタンディツシュで連続して鋳造する。この場合に、
タンディツシュの昇降速度が０．５ ｔａ ７分よシ遅
い場合は、１回の鋳込作業において、メンディツシュを
５０乃至１００間移動させることができないからである
。
間かかり、通常、１操業当シ４〜５ヒートの鋳込鋼を同
一のタンディツシュで連続して鋳造する。この場合に、
タンディツシュの昇降速度が０．５ ｔａ ７分よシ遅
い場合は、１回の鋳込作業において、メンディツシュを
５０乃至１００間移動させることができないからである
。
一方、タンディツシュの昇降速度が３２００ａｎ／分を
超えた場合は、昇降が毎分約１′５乃至３０サイクルと
なシ、タンディツシュ及び鋳型内の溶鋼が運動して鋳片
品質上問題になると共に、タンディツシュ昇降装置の機
械的な限界があるからである。
超えた場合は、昇降が毎分約１′５乃至３０サイクルと
なシ、タンディツシュ及び鋳型内の溶鋼が運動して鋳片
品質上問題になると共に、タンディツシュ昇降装置の機
械的な限界があるからである。
このようにタンディツシュを昇降させることによシ、浸
漬ノズルとスラグラインとの相対的な位置が浸漬ノズル
の長手方向に広がり、浸漬ノズルの単位時間当シの侵食
が軽度になるので、その寿命を延長させることができる
。例えば、ノズルの耐久時間は、タンディツシユヲ昇降
させないと約５００分であるのだ対し、１時間に５０ｍ
タンディツシュを移動させると、７００分に／ｌで延長
される。一方、μ鋼の湯面レベルは一定であるから、溶
融スラグの流入が均一であると共に、スラグベアの発生
が極めて少なく、安定して高速鋳造することができる。
漬ノズルとスラグラインとの相対的な位置が浸漬ノズル
の長手方向に広がり、浸漬ノズルの単位時間当シの侵食
が軽度になるので、その寿命を延長させることができる
。例えば、ノズルの耐久時間は、タンディツシユヲ昇降
させないと約５００分であるのだ対し、１時間に５０ｍ
タンディツシュを移動させると、７００分に／ｌで延長
される。一方、μ鋼の湯面レベルは一定であるから、溶
融スラグの流入が均一であると共に、スラグベアの発生
が極めて少なく、安定して高速鋳造することができる。
なお、タンディツシュの昇降に加えて、溶鋼湯面レベル
を、０．５乃至２０閣／分の速度で移動させてもよい。
を、０．５乃至２０閣／分の速度で移動させてもよい。
湯面レベルを２０ｍ／分を超える速度で変動させると、
従来のように、凝固殻と鋳型との間への溶融スラグの流
入異常が発生する等の不都合があるため、湯面レベルを
２０訓／分の速度を超えて変動させることは好ましくな
い。
従来のように、凝固殻と鋳型との間への溶融スラグの流
入異常が発生する等の不都合があるため、湯面レベルを
２０訓／分の速度を超えて変動させることは好ましくな
い。
この発明によれば、凝固殻と鋳型との間への溶融スラグ
の流入異常、スラグベアの巻込み及びブレークアウト等
を発生させることなく、浸漬ノズルの寿命を大幅に延長
させることができる。
の流入異常、スラグベアの巻込み及びブレークアウト等
を発生させることなく、浸漬ノズルの寿命を大幅に延長
させることができる。
第１図はこの発明の実施状態を示す模式図、第２図は浸
漬ノズルの移動７？ターンを示すグラフ図である。 １：タンディツシュ ２：浸漬ノズル ３：鋳型 ４：
溶鋼 ５：溶融スラグ層 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦ち
漬ノズルの移動７？ターンを示すグラフ図である。 １：タンディツシュ ２：浸漬ノズル ３：鋳型 ４：
溶鋼 ５：溶融スラグ層 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦ち
Claims (1)
- （１）タンディッシュ内の溶鋼をタンディッシュの底に
設けたノズルを介して鋳型内に鋳込む連続鋳造における
鋳込方法において、タンディッシュを昇降させることが
できる昇降装置を設け、溶鋼鋳込期間中の適宜期間にわ
たり、タンディッシュを０．５乃至３２００ｍｍ／分の
範囲内の速度で鉛直方向に移動させることを特徴とする
連続鋳造における鋳込方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17471084A JPS6152967A (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | 連続鋳造における鋳込方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17471084A JPS6152967A (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | 連続鋳造における鋳込方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6152967A true JPS6152967A (ja) | 1986-03-15 |
Family
ID=15983296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17471084A Pending JPS6152967A (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | 連続鋳造における鋳込方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6152967A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02159708A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-06-19 | Murata Mfg Co Ltd | チップ状電子部品の製造方法 |
| EP0630709A1 (de) * | 1993-06-22 | 1994-12-28 | MANNESMANN Aktiengesellschaft | Horizontal-Stranggiessanlage |
| US6368189B1 (en) | 1999-03-03 | 2002-04-09 | Mitsubishi Materials Corporation | Apparatus and method for chemical-mechanical polishing (CMP) head having direct pneumatic wafer polishing pressure |
-
1984
- 1984-08-22 JP JP17471084A patent/JPS6152967A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02159708A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-06-19 | Murata Mfg Co Ltd | チップ状電子部品の製造方法 |
| JPH0670939B2 (ja) * | 1988-12-13 | 1994-09-07 | 株式会社村田製作所 | チップ状電子部品の製造方法 |
| EP0630709A1 (de) * | 1993-06-22 | 1994-12-28 | MANNESMANN Aktiengesellschaft | Horizontal-Stranggiessanlage |
| US6368189B1 (en) | 1999-03-03 | 2002-04-09 | Mitsubishi Materials Corporation | Apparatus and method for chemical-mechanical polishing (CMP) head having direct pneumatic wafer polishing pressure |
| US7029382B2 (en) | 1999-03-03 | 2006-04-18 | Ebara Corporation | Apparatus for chemical-mechanical polishing (CMP) head having direct pneumatic wafer polishing pressure |
| US7311586B2 (en) | 1999-03-03 | 2007-12-25 | Ebara Corporation | Apparatus and method for chemical-mechanical polishing (CMP) head having direct pneumatic wafer polishing pressure |
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