JPS61500800A - ウエハ処理機 - Google Patents

ウエハ処理機

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JPS61500800A
JPS61500800A JP60500446A JP50044685A JPS61500800A JP S61500800 A JPS61500800 A JP S61500800A JP 60500446 A JP60500446 A JP 60500446A JP 50044685 A JP50044685 A JP 50044685A JP S61500800 A JPS61500800 A JP S61500800A
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wafer processing
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    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • C23C14/566Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ウェハ処理機 発明の背景 本発明(ま一般にウェハ処理機、殊にスパッタ立覆機の如き戊圧下で作業する性 質の機械に関する。
従来技術の叙述 従来、特殊なウェハキャリヤ内に収納されたウェハがエレベータ羽根によって連 続的にスパッタ披1機の塔載ロック機構内へ持ち上げられるようなスパッタ被覆 機が提案されてきた。ウェハは該羽根によってドアの一部を−JiKする真空チ ャック上へ塔載され真空室の塔載ロック部分へ塔載される。ドアは旋回して閉じ て、チャックはウェハを保持して排気された室内の開口したレイジースーザン型 の回転部材から搬送される送検把持りリップ体内ヘウエハを並進させる。塔載ロ ックステーションに対向するレイジースーザンプレート内の開口はブランジャク ζよシ封IEされ、搭載ロック部分は荒引きポンプによって比較的低圧(・ζ至 るまで排気される。適当な正圧状態が得られると封止プランジャが開き、ウェハ と高真空ポンプと連通状態にある排気された宮の・シ埋部分へさらすっそ0後、 圧力は沈砂的低圧にまで下げら几10 トールのスノξツク王、゛こまでアルゴ ンで満たされる。レイジイスーザンが回転すると、先に塔載されたウェハとスパ ッタ作用に対向するスパッタ位置内へ前進させ、その後該ス・ξツタガン(ま先 に塔載さnたウェハとスパッタ作用にょシ被覆する。先に塔載されたウェハを破 jした後、レイジースーヂンはウェハを塔載ロック部分内へ回転させ、レイジー スーザン内の開口はその後処理室の処理部分から封止され、搭載ロック部分は大 気圧にまで高められる。この時点で真空チャックはクリップ組成体内へ並進し被 ジされたウェハ2拾い上げる。ト9ア4が開くと、羽根がチャックからウェハど 拾い上げ被覆されたウェハをウェハキャリヤの尤の位置へ戻す。レイジースーヂ 二ノは、ウェハが加熱できウェハ被覆機を去る前昼こ一連の異なる材料、てよっ てスパッタ被覆することができるように一連の相異なるステーションを備えてい る。
かかるウェハ被覆機は1982年1月19日発行の米国!寺許明細書第4,31 1,427号中に開示されている通りであるが、そこに開示されている事項はそ の全部がここに参考用に編入されている。
従来技術によるスパッタ被覆機の問題点の一つは、それが比較的複雑であるため 割高丁言頼性がないという点である。ウェハの辺縁部を保持するχカのばねクリ ップ構造がウェハ上に不本意な応力をつくシだすために機械の不当な破損と停止 時間を生じさせる虞れがある。それ故、もつと複雑でなく廉価でよ)11頭性の あるウェハ被5つを提供することが望まれる。
本発明の摘要 本発明の主たる目的は改良されたウェハ処理機、殊にウェハ被覆機の如き減圧下 で作業する機械の改良されたものを提供することである。
本発明の一考長によれば、ウェハキャリヤはウェハキャリヤ内の個々のウェハの 正確な位置を表わす直線列状の表示を備えたギヤリヤ組底体から搬送される。該 直線列状の表示と作業上関連する読取シ装置がそれぞれのウェハが正確にウェハ ニレは一夕羽根上に位置決めされたときのキャリッジの位置を読み取る。
本発明のもう一つの特長はウェハエレベータ羽根の先頭辺縁部がウェハチャック の円周と係合するための収縮する部分k IJえているためにウェハがチャック 上に載シ、ウニへ辺縁部が下方に位置するチャックの大きな面によシはぼ完全に 支えられた状態でウェハがチャック上に塔載さルることができるという点である 。
本発明のもう一つの特長はウェハ処理チャックが、排気された処理室の点検口上 に封止されるドアから搬送され絶縁体が作業上チャックとドアと関連し、チャッ クに対して該ドアを電気的に絶縁し、ドアの電位から独立な電位によってウェハ を処理することができる点である。
本発明のもう一つの特長は、ウェハ処理チャックがチャックと作業上関連する締 付手段を備え、ウェハの円周をチャック方向に締め付け、その際、ウェハが円周 部と支持されウェハに不当な応力が生ずることを避ける点である。
本発明のもう一つの特長は絶縁体手段が働きの上でクランプ構造と関連すること によってクランプ手段が処理室と独立な電位に対して調整できるようなりエバの 電位で作業できるようになっている点である。
本発明のもう一つの特長は、被覆ガンが点検ポートカバーから搬送され、支持手 段がカバーとガンと作業上関連し、カバー動する作用を支え案内し処理機の保守 を容易にするという点である。
本発明のもう一つの特長は、点検ポートと垂下被覆ガンが支持され案内されて水 平面内を運動し、更にカバーとガンが垂直回転軸のまわりに旋回し、被覆機の保 守のため接近し易くするという点である。
本発明のその他の特長と利点は添付図面と相俟って以下の本文を通読することに よって明らかとなるはずである。
゛ の テ 第1図は不発明の特長を組み込んだウェハ被覆機の概略斜視図、 第2図は2−2線によって描いた第4図の構造の一部の横断面図、 第3図は矢印方向に3−3線に沿って描いた第2図の構造の拡大図、 第4図は矢印方向に4−4線に沿って描いた第2図の構造の一部の拡大斜視図、 第5図は、矢印方向に5−5線に沿って描いた第2図の構造の一部分の拡大図、 第6図は本発明のウェハ被覆機のウェハニレに一夕羽根組底体部分の側面図、 第7図は7−7線によって描かれた第1図の構造の一部の拡大断面図、 第8図は第1図の被覆機の真空室の塔載ロック部分と蒸着部分の長手方向断面図 、 第9図は本発明の蒸着室の一部の長手方向破断面図、第1O図は被覆機の点検と 保守のために垂下スパッタガンが動き出た状態の点検カバーを描いた本発明の被 覆機の一部の斜視図。
望ましい実施例の説明 第4図には本発明の特長を組み込んだスパッタ被覆illが示されている。殊に 、該被覆機はフランジのついたカバー13によって一端側を閉じた円筒形処理室 部分12を備えており、。
該カバー13は処理室12内部でスパッタ被覆ガンを支え搬送する。処理室」2 の他端は中央部を開口した端部閉錯壁」4によって閉じられる。
中央開口はゲート弁組成体15によって閉じられ、処理室の処理部分を処理機の 搭載ロック部分から遮断する。
軸方向に並進するドア16はゲート弁15のどの他端部を締め切る。ターボ分子 真空ポンプ17が処理室12の頂部に座し、導管18i介してその内部と連通す る。
ドア16下方に該ドア16と隣接してウェハキャリッジ体19が配置され名。被 覆機11によシ処理されるウェハ21は標準的なりエバキャリヤ22内に搬送さ れクエハキャリッジ組成体23内の凹所内へ挿入されるが、該キャリッジ組放体 23はエレベータ羽根24に対して軸方向に並進し、該羽根24はウェハキャリ ヤ22の底部を経て上方へ通過し、頂部へ出て、それぞれのウェハを持ち上げ塔 載ロックドア16の内側から搬送されるウェハチャックに隣接して位置決めする エレベータ羽根24に対して軸方向に並進する。ウェハキャリヤ)23は一対の 水平案内棒25上をモータにより駆動さnるねじ26により摺動し、ウェハのそ れぞれを羽根24上で連続的に前進させウェハ処理機11の間を往復運搬する。
今度は第2図についてみるとウェハキャリッジ組底体19の詳細が示されている 。ウェハキャリッジ体19は床からウェハ処理機11を支えるフレーム構造へ端 蔀を固定された一対の案内口ノビ25上を軸方向に並進するキャリッジ部材27 を備えている。
駆動ねじ26のねじ山はキャリツ′)27と一致し、案内ロッド25上でキャリ ッジ27を駆動させる。該駆動ねじ26は従来は矩形凹所28を有するウェハ収 容部分を備え、従来のウェハキャリヤ22のほぼ矩形の下方フレーム部分を収納 する。典型的な実施例では、ウェハキャリヤ22a5“ウェハについてはPA7 2−50M型であるか4“ウェハについてはPA72−40M型でいずれもフル オロウェーブ(Fluorowa″le)社から市販され、入手できるものであ る。ウェハキャリヤ22は外側に曲がった側壁部分29を備えており、該側壁部 分29はその内部に形成されてシリコンウェハ32を軸方向に整合し軸方向に間 隔配電した状態に収納し保持するためのウェハ収納スロット列31を備えている 。典型的な例ではウェハの中心と中心を結ぶ軸方向間隔は0.18フイントでウ ェハの厚さは0.026インチである。
標準的なウェハキャリヤ22の場合、個々のウェハ保持スロット31はほぼ0. 060インチの軸方向範囲を有している。個々のウェハ32をそれぞれのスロッ ト31内で正確に位置決めしウェハ間の軸方向間隔が正確に決定されその結果、 個々のウェハが厚さ0.250インチのエレベータ羽根24上に垂直に整合する ように正確に配置できるようにすることが望ましい。それぞれのスロット31内 に個々のウェハ32を正確に配置するために一対のウニへ割出し羽根33がキャ リッジ部材27から搬送され、その底部でウェハキャリヤ22.の内側壁に隣接 して延びる。
割出し羽根32のそれぞれの上家34は第3図の参照番号35で示し之ようにほ ぼのこ歯状に切られ、それぞれのウニ/・32の底縁部と係合しウェハキャリヤ 22内でわずかにウェハ32を持ち上げる。羽根33内ののこ歯状のピッチはそ れぞれのウェハ32の所望の軸方向間隔を正確に決定するように作られる。
個々のウェハ32は図示されていないが従来のローラ並行整合手段によって、時 計の6時の位置に大きな整合平坦部36と予め整合する。
ウェハキャリッジ構造27は第4図に示され次長手方向に向いた薄いフランジ部 分37を備えてめる。長手方向フランジ37の外縁部は参照番号38部分を横断 方向にスロットを寥たれ、スロット38によシ形成されたフランジの光学的に透 明な部分によって形成されるウニへ割出し表示列を形成する。
スロット38は割出し羽根33の鋸歯伏の辺縁部内の鋸歯の間隔もしくはピッチ に等しいピッチ、すなわち間隔を備えている。光学読取り装置39がスロットの ついたフランジ37をまたぎ、被覆機11をフロアから支えるフレームに固定し て取り付けられる。ウェハキャリッジ体27が光学的に透明な通路が光学読取り 装置39の光学伝送部分41と光学収納部分42の間に得られるような位置に並 進したとき、電気回路が完成し該回路は出力信号を発生させウェハキャリッジ2 7の並進を停止させそれぞれのウェハはエレベータ羽根24と正確に垂直(で整 合した位置に連続的に前進する。
今度は第2図、第5図、第6図および第7図についてウェハ塔載機構をよシ詳H に説明する。殊に、ウェハエレベータ羽根24はそれぞれのウェハ32の底縁部 と係合する上部先頭縁部43をそなえている。先頭の辺縁部分43はウェハ32 のヘリが面取りした面44とエレベータ羽根24の収納自在部分46の内側壁4 5との間に把持させる面取りした部分44を備えている。エレベータ羽根の側部 ヘリは参照番号46部分を面取シし、支持ブラケット52を介してフレーム構造 51から心棒49上に搬送されたロー248の溝47内に羽根のヘリを整合させ るようにする。ローラ48は羽根24の垂直運動を案内する。
頒ハオリガ コーポレー/ヨンオブエルンハースト、イリノイズ(Origa  C0rporation of Elmhurst、工11inois)から市 販されているフレーム5工に固定して取り付けられたロッドレスエア7リングに よって垂直に動かされる。羽根24は、シリング53の軸方向にステンレス鋼バ ンドによって密封されたスロット内を通過する連結部材54によってシリンダ5 3内のピストンに取り付けられる。典型的な実施例では、ロッドレスンリンダ5 3は、羽524に対して14インチの垂直揚程?与える、 羽根24が上昇すると、羽根はウェハ32の下方へIJ k拾い上げ、被覆機の 搭載ロック端へ固定して取りつけられ該搭載ロック端から搬送される案内レール 56内に設けられた案内スロット内へ該ウェハを上部方向へ搬送する。
エレベータ羽根24は、ウェハがウェハチャック57のウェハを収容し保持する 大きなi58に載るように位置決めされるス源と流体連通するように連結された 埋伏のV溝59を備えている。ウェハ32が近接したときに■溝内へ流れ込むガ スはベルヌーイ効果2惹き起こしウェハ32をチャック57の大きな面58方向 へ吸引させる。羽根24の伸縮自在部分46がチャック57の下方円周と係合す ると該伸縮部分46は引っ込み、ウェハ32がチャック57に対して完全に支持 された構造内へ移動することが可能になる、即ち、ウェハの領域はウェハの円周 がチャック57の外周部に対してほぼ0.020インチだけへこんだ状態でチャ ックの大きな面58の領域と完全に同一空間にあるようになる。羽根24がその 最上領域に上昇し、ウェハがチャックに対して適当て位置決めされる。■溝59 へのガスの積極的な流れは適切なバルブによう終結し、真空状態がV溝上へ引き 入れられウェハ32全チヤツク57の大きな面58へ保持するようになる。羽根 24はその後ウェハ争ヤリヤ金経て第2図に示すようなその最低の行程範囲にま で撤退する。
ウェハ32を真空チャック57から取シ外すことが望ましい場合にはエレベータ 羽根24は第7図に示すようなその最上方行程範囲まで引き上げられ、■溝59 が加圧されガスが流れ、羽根24が下方に撤退し、ウェハ(ま重力により第5図 に示したような保持位置内へ城下する。ウェハ32を有する羽根は案内スロット 55を経てウェハキャリヤ22のそ几ぞれのスロット31内へ下方撤退する。
今度は第7図と第8図についてみるとウェハチャックの働きがもつと詳細に示さ れている。殊にチャック57は円形のトゝア構造から搬送され該構造は今度はロ ン1463i介して作動プレート62から搬送される。
ウェハチャック57 ii )’アロ1内の中央口を経て、ロット64とチャッ ク57と軸方向に並進させるためのエア作動シリンダ65内へはいる軸方向並進 ロッド64上に搬送される。被作動ロッド64はOリング6Q−経てドア61に 真空封止され、ビア61に対するロッド64の正確な軸方向並進運動がロン)# 64正に乗りドア61から搬送される直線伏ボールベアリング体67によって得 られる。ドア61と垂下ウェハチャック57は駆動ロッド69を介して作動プレ ート62上で作業するエアシリンダ68によって軸方向に並進させられる。作動 プレート62は作動プレート62から搬送されロンドア1.72上にそれぞれ乗 る直線伏ボールベアリング体73.74を介して一対の案内ロン)’71,72 上に案内される。案内ロッド71.72は蒸着室12の塔載ロック端へ固定して 取付けられたプレート75から搬送される。、案内ロッド71,72の外側1は 安定プレート76により共に連結される。
ゲート弁15のフラ/ジ付きの開ロア9上には、環状の装着プレート78が封止 さnそこにOリング81によシ封止される。
該装着板78は参照番号82部分で中央部に座ぐりされ、ドア61を装着プレー ト78に対して封上するためにビア61により搬送されたOリング83を収容す るための座を提供する。
ウェハ締付リング85はウェハチャック57と同心円状に配置されその内部に同 心円状にチャック57の円周辺縁部を収容する端ぐりを参照番号86の箇所にそ なえている。1ぐり゛ご頁域86はウェハ32の外周と係合し、チャックが排気 さ之した室内で動くことができる場合のように保持溝59を介して付与された真 空状態が欠如しでいる場合にウェハをチャック57に締め付ける内側唇部分を慮 えている。締付はリング85は装着プレー+78(ハ)のボア内に挿入さnた直 ぞ実状ボールベアリング体88を通過する軸方向に向い士11数のステンレス鋼 ロッド87上に搬送される。ばね89はロッド87に曳;i4して同軸伏に取り 付けられロッド87の端部内へねじこまれたねじ91によってロッドに捕獲さr −る。ばね89はウェハチャック57の位置方向へ締め付はリング85をばね温 時さする働きを行う。円筒形キャップ92はロッド87上に気密に封止され装着 プレートから搬送さ几ばね89と摺動ロッド87を収納する。
締め付はリング85は完全に撤退した位置て装着プレート78の遣ぐシ頌j或9 3内に嵌合する。
ウェハチャック57はチャックの外側部分95が処理室とドア61の電位から独 立な電位で作業できるように、カップ形の絶縁材96を怪て外側の;1状部分9 5から隔った内側の環状部分94?清えている。独立の電位?チャック部分95 に印加する目的で導電ロッド97は軸方向ボア98′に経てチャック部分95か ら軸方向に向いた気密密封円筒形キャップ部分99内へ軸方向に垂下する。キャ ップ99は参照番号101部分を横断方向に誹たれ、絶縁体カップ102がボア 101上に封正さnる。
導電ロン)’103が絶縁体本体102 ’?iliて延び、ロッド97上て乗 シ、ロッド、従って室内のボアその他の構造に印加された電位から独立した外側 チャック部分へバイアス電位を印加するための導電ブラフ104をその内側端部 に有している。
1980年8月26日付米国特許EX細書第4,219.:397号に開示され ているような従来設計によるマグネトロンス・ξツタガン1θ5iはここにその 全部を参考用として編入しているが、チャックと軸方向に整合してドア61のそ 1からゲート弁15の対向側に処理室12内に配置されている。
スパッタガン105はガン105から飛ばされる材料からなる埋伏4逐部材I0 6をそなえている。陰極10.6は地電位に対して−Vcのような電位で作業す る。ディスク形の陽極107は環状の陰極106の中央に位置し、地電位に対し てモ■aの電位で作業する。絶碌徂成体108.109はガラス球からそれぞれ 陽極107七陰極106を支える。ステンレス鋼から成るは;・丁カップ形のス パッタ遮H電極110はスパッタガン105の上に載るように配りされ地電位で 活動する。スパッタ遮蔽は外i、i+1に曲がった唇部分111テ備え、スパッ タガンの従来のカップ伏υ大地遮蔽電1の前面から;投送される。典型的な実施 列では、スパッタ遮蔽材110はステンレス】2;!でカップ形の遮蔽部材11 1)の沃】内:こ中心開口113を備えている。スパッタ7jジオI士Oは複数 のねじ114ヲ介してガン遮蔽材112から搬送さ)Lるっゲート弁15はヴイ トンゴン千ノドま封材を備えた10046−PE、i oss型の弱き従来の設 計によるものでZ−Sボルト(直流)ソレノイドによって操作される。ゲート弁 はボールグー、コロラド(Bッ+、:1der 、 COl、〕rado)の1 (PS社から市販され入手できる。ゲート弁15(・ま処理室の塔載ロンク位’ tl17と排気可能な処理室12のウェハ処理部分118との「ぶのゴス連通を 可能(でするのど部分116を備えている。可動ゲート〒部材119は弁体から 搭載ロック部分117を遮断する。
操作中にゲート弁15が閉じるとドア61が開放位置に後退し、手下チャック5 7はエアシリンダ65rこより完全に後退した位置に後退する。処理されるウェ ハ32は先に述べたようVてエレベータ羽根24(cよりチャック57S)ウェ ハを収容する大きな百58上へ塔載され、埋伏溝59上に引きΔれられた真空を 介してそこに保持される。その後、ドア61はエア7リンダ68の作用によって 閉じられ、0リング?装着プレート78の凹んだ坐部分82と封止係合させ、か くして処理室のドア部分を封止する。ビアが封止された後、チャックは処理室の 塔載ロック部分117上へ僅かに前進し、締付はリング85をウェハ32の円周 辺縁部と係合させウェハをチャック57に・3待させる。
チャック57が締付はリング85と締付は関係に時ち米らせられると、放射方向 に向いたばね負荷のかかったボールイアリングがチャック57の外周辺綴部で参 照番号122部で締付はリング85の内周辺縁部と係合し電気接触する。このた め仝1付はリング、チャック、およびウェハがプラン104?介して印加された バイアス電位−’172と司じ1位で作業するという効果が保証される。締付は リング85は゛l&D案内ロッド87の端部を包囲するよう・・て配置された絶 縁ワンヤ123を介して室箋と案内ロン−87から電気的に絶縁される。
ウェハ32う;チャック57に締め付けられた状態で叢械的荒引きポンプは基或 ロック室117内へ連結され搭載ロック室117を減圧に至るまで排気する。適 当な減圧状態が室117Cフ塔載ロツタ部分内に実現されると、ゲート弁f5が 作動しゲート弁部材119がのど部分116から撤退し、排気管18を介して室 と連通するターボ分子ポンプ17を介して先に相づ高い真空まで排気されfc呈 のウェハ処理部分118と連通するようにのどを開く。
はぼ2.3秒以内にウェハ処理室118と、連通する塔載ロック部分117は5 X10−61−−ルの比較的低圧にまで排気される。ターボ分子ポンプ117は 」械的真空ポンプによりバックアップされる。その後処理室118はアルゴンの ような適当なス・ミッタガスによってほぼ10−3トールのスパンタ圧にまで満 たされる。
ゲート弁部材119がダート弁15内で撤退した後、ウエノ・チャック57はエ ア/リング65とロッド64によってスパッタ遮蔽材110の中央部を開口した 。室壁125に密接に間隔配置された位置まで前進する。典型的な実施例ではウ ニ/S32から端壁125へ至る軸方向間隔はほぼ0.100インチである。
更にウェハ32の領域は、スノξツタ遮蔽材110内の中央開口113の断面と ほぼ同一空間内にあり、スパッタガン105から飛ばされた材料がすべてウニノ ー締付はリング85のさらされた部分もしくはスパッタ遮蔽材110の内表面上 の何れかによって収集される。ス・ぞツタ方式においてはイオン化するプラズマ 放電が排気された室内で点火さ几る。
プラズマ放電の電位は地電位で作業しプラズマにさらされる構造の部分がスパッ タ作用を経験することができるように地面に対して僅かに正となっている。スパ ッタ遮蔽材110を・備えまたウェハが遮蔽110内の中央開口113をほぼ閉 め切るように配置されfC構成の場合、材料のウエノ)上、への再度のスパッタ 作用はほぼ制御される、すなわち、遮蔽材110の内部から再びスノξツタされ た材料はウェハ32上へ飛ばされることができる。このことは弁体15その他の 部品を含む室の他の部分から再び飛ばされた材料によつ°Cウニ・・上で飛ばさ れた材料が汚染する作用を回避させる。
ウェハ32が所望の厚さにスパッタ被1された後、プラズマは消え、ウェハとチ ャックはエアシリンダ65と7ヤフト64を介して室の塔載ロック領域117内 へ撤退する。その後、ゲート弁15は室のウェハ処理部分118内の高度の真空 状態を維持するために閉じられ、真空状態は溝59を経てチャック57上へ引か れる。塔載ロック室は大気圧まで弛緩し、ドア61が開いて前に述べ次ようにウ ニ/・エレベータ羽根24上ヘウエノSkおろす。典型的な作業順序ではウエノ 1は室内へ塔載できス/ξツタ被覆され2分経ってウェハキャリャ29へ回帰す る。
今度は第9図についてみると真空室12のクエ/%処理部分118が示されてい る。殊に円筒形室12く参照番号13部分で外側にフランジをつけ、点検ポート 126を供し、該ポート126を経てスパッタガン105が室12内に軸方向に 挿入される。
点検ポート126はフラン:)13に対して空密性を与えるためのOす/グを担 う中央部が凹んだ点検カバー127によって閉じられ密封される。スパッタガン 105は凹角のカバープレート127の内側端部から搬送される。中空の埋伏冷 却フィンガ128が点検カバー127の凹角部分を包囲する室12の内側に配置 され、冷却フィンガ128の環伏の内部と図示されていないが液体二トロゲンの 如き液体クーラント源との間の流体連通を与える液体導管129を介してカバー 127の外側にフランジのついた部分から搬送される。導管129はカバープレ ート127内の軸方向ボア131?通過しitの封止ラシャ132t−介してカ バー127に気密に封止される。0リング封止材133,134が設けられてワ シャ132を導管129に対して、またラシャ131カツz−127に対してそ れぞれ封LIニー1″る。作業中、冷却フィンガ128は液体窒素を満比され、 フィンガ128の外壁の温度を液体窒素温度に近い温度に近すけ、水蒸気や他の 凝縮物をその上に凝縮させることによってそれらを室のウェハ処理部分118内 の雰囲気から取除く。
今度は第10図についてみると、その垂下冷却フィンガ128とスパッタガン1 05を・1えた点検カバー127は直角ブラケット136ヲ経てスライドブロッ ク135から搬送される。ブラケット136の脚部137はスライドブロック1 35に対して旋回自在にピンで止められ、ピン13’l−通過する直立軸138 のまわシに回転する。スライドブロック135は水平面伏に配置されそれぞれが 円筒形室12と埋伏フランジ13の回転軸に平行な一対のステンレス引裂の案内 ロッド141上に摺動し案内される。案内ロッド141の対向する端部は支持ブ ロック142によってフレームに取9つけられる。ウェハ:4覆盪llの保守と 清掃はウェハ処理室を大気圧に壕で弛緩させ、点検カバープレート127を案内 ロット1141によって室12からすべり去らせることによって容易にされる。
その後、垂下ガンを有するカバープレートは軸138のまわシに回転することが でき陰裡を取シ替え部品、殊にスパッタ遮蔽材110と冷却フィンガ128を掃 除するためにスパッタガン105へ接近することが容易になる。同様にして今度 は第8図についてみると点検カバー127が開くと、締め付はリング85に容易 に接近することができる。締め付はリング、殊にスパッタガン方向に面するその 部分は飛ばされた材料によシ相当被覆されるため、締め付はす/グ85の被覆さ れた部分を掃除のために取シ除くことが望ましい。このことは締め付けりング8 5の内側ステンレス鋼部分をリング85の残余部分から取り外すことによって実 現できる。ねじ144t−取シ除くと掃除と交替のためにリングを取シ外すこと が可能になる。
本発明のスパッタ被覆機11の利点は 1、!!械の動作時間が相当改善されるように保守を容易にする、2、故障しに <<、そのため動作時間が改善されそれに付随して製作費が少なくなるように機 械が相当単純化されたという点である。
Fig−5 Fig−6 Fig−8 国際調査報告 1″l−″″opal吻11+allo*r″PCτ/US8i、1021o4 ニ

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.頂部と底部が開放し、ウエハを保持するための側壁内にスロットを備えたウ エハキャリヤ内のウエハがウエハ処理ステーションに対してウエハキャリヤ間を 往復搬送される形式のウエハ処理機において、底部からウエハを横断方向に通過 しウエハと係合しウエハ処理ステーションに対して該ウエハを搬送するウエハ拾 い上げ羽根手段と、ウエハキャリヤを該拾い上げ羽根手段に対して連続的に動か しウエハ処理ステーションに対してそれぞれのウエハを連続的に動かすようにし たウエハキャリヤ搬送手段と、該ウエハキャリヤ搬送手段と作業上関連し該ウエ ハ拾い上げ羽根手段に対して該ウエハキャリヤの位置を割り出しウエハキャリヤ 内の該ウエハ位置を示す直線状の放射エネルギー表示列を備えた割出し手段と、 該直線状の放射エネルギー表示列と作業上関連し、該放射エネルギー表示のそれ ぞれ一つが該読取り手段に対して位置合わせ状態になったときに出力を与え、そ の際、該ウエハ拾い上げ羽根手段の位置に対するウエハキャリヤ内のウエハ位置 が使用中に判定されることになる放射エネルギー読取り手段とからなることを特 徴とする上記ウエハ処理機。
  2. 2.該直線状の放射エネルギー表示列が該ウエハキャリヤ搬送手段の一列の放射 エネルギー透過部分と、該放射エネルギー透過部分の一方側の放射エネルギー源 と該放射エネルギー透過部分の他方側に配置された放射エネルギー受器を備えた 該放射エネルギー光学読取り手段とを備え、該受け器が該ウエハキャリヤ搬送手 段の該放射エネルギー透過部分を通過する放射エネルギーに反応することを特徴 とする請求の範囲第1項に記載のウエハ処理機。
  3. 3.頂部と底部で開き、ウエハを保持する側壁上にスロットを備えたウエハキャ リヤ内のウエハがウエハ処理ステーションに対してウエハキャリヤ間を往復搬送 される形式のウエハ処理機において、底部からウエハキャリヤを横断方向に通過 しウエハと係合し該ウエハをウエハ処理ステーションに対して搬送するウエハ拾 い上げ羽根手段と、先頭辺縁構造を有する羽根構造をそなえそれぞれのウエハの 底縁部と係合し該ウエハをウエハキャリヤのそれぞれの保持スロットから持ち上 げる該ウエハ拾い上げ羽根手段と、ウエハを該ウエハ拾い上げ羽根手段から拾い 上げるための大きな拾い上げ面部分を備えたウエハチャック手段を備えたウエハ 処理ステーションと、該ウエハチャックと係合するや該先頭辺縁構造の残余部分 に対して後退するための伸縮自在部分を備え、該羽根構造の残りの非収縮部分が 該チャック手段のウエハ拾い上げ面上に載って通過することを可能にし、その際 、ウエハが該チャック手段上に位置し、ウエハの辺縁部が該チャック手段の下に 位置する大きな拾い上げ面によってほぼ完全に支えられることになるような該羽 根構造の該先頭辺縁構造とから成ることを特徴とする上記ウエハ処理機。
  4. 4.減圧下にある排気可能なウエハ処理室内でウエハが処理され該室がそれの壁 内にウエハ点検ポートを備えている形式のウエハ処理機において、ウエハ処理室 のウエハ点検ポートを閉じ封止するためのドア手段と、該ドア手段により搬送さ れそれと共に運動し、該室内で作業しウエハを処理するために所定位置に保持す るウエハチヤツク手段と、該チヤツクとドア手段と作業上関連しあい該ドア手段 を該チヤツク手段に対して電気的に絶縁するための電気絶縁手段と、作業上該チ ヤツク手段と関連し合い、該ドア手段に対して該チヤツク手段とウエハに電位を 印加し、その際該ウエハが該ドア手段の電位とは独立な電位で処理されることが できるような電位印加手段とから構成されることを特徴とする上記ウエハ処理機 。
  5. 5.ウエハが減圧下にある排気可能なウエハ処理室内で処理され、該室がそれの 壁内にウエハ点検ポートを備えた形式のウエハ処理機において、ウエハ処理室の ウエハ点検ポートを閉じ密閉するためのドア手段と、該ドア手段により搬送され それと共に運動しウエハを所定位置内に保持し処理するために室内で作業するウ エハチヤツク手段と、該ウエハチヤツク手段と作業上関連し該ウエハの円周を該 チヤツク手段に対して締め付けて減圧下にある排気された室内で該チヤツク手段 上にウエハを保持するウエハ締付け手段とから成ることを特徴とする上記ウエハ 処理機。
  6. 6.該ウエハ締付け手段が該ウエハ締付け手段から蒸着物を掃除することを容易 にするために締付けられたウエハからそむいた着脱自在の面部分を備えているこ とを特徴とする請求の範囲第5項に記載のウエハ処理機。
  7. 7.該ウエハ締付け手段が該締付け手段を室壁から支持する支持手段を、作業上 該締付け手段と関連し室壁を該締付け手段から絶縁し該締付け手段が室壁の電位 とは独立なウエハに印加された電位で作業するようにする電気絶縁体とを備えて いることを特徴とする請求の範囲第5項に記載のウエハ処理機。
  8. 8.ウエハが減圧下にある排気可能なウエハ処理室内で被覆される形式のウエハ 処理機において、室壁内に点検ポートを備えた該ウエハ処理室と、該点検ポート を閉じ密封するためのカバー手段と、該カバー手段から搬送され室内へ延び材料 を室内で被覆さるべき工作物上へ突出させるガン手段と、該カバー手段と作業上 関連し、該カバーと垂下ガン手段の重量を支え、ほぼ水平面内に位置する通路に 沿つて該カバーと垂下ガンが室から運動し去る作用を案内し、その際室の内部と 該カバーならびに垂下ガン手段への接近が保守のために容易にされるような支持 手段とからなることを特徴とする上記ウエハ処理機。
  9. 9.該カバー手段から搬送され該室内へ延び、周囲以下の温度で作業し水蒸気そ の他の凝縮物を活動中にその上に凝縮させる冷却フインガ手段と、該カバー手段 と連通し冷却液を室内の該冷却フインガ手段に供給する流体導管とを備えること を特徴とする請求の範囲第8項に記載のウエハ処理機。
  10. 10.該支持手段が該カバー手段と垂下ガン手段をほぼ垂直方向に延びる回転軸 のまわりに旋回させるための手段を備えることを特徴とする請求の範囲第8項に 記載のウエハ処理機。
  11. 11.該支持手段が水平面状に延びるトラツク手段と、該トラツク手段上を運動 し該カバー手段を支持して該カバー手段を室から動き去らせウエハ処理機の保守 のための接近を容易にするキヤリツジ手段とを備えることを特徴とする請求の範 囲第8項に記載のウエハ処理機。
  12. 12.該カバー手段を該キヤリツジ手段に対してほぼ垂直方向に延びる回転軸の まわりに旋回させるための旋回手段を備えることを特徴とする請求の範囲第11 項に記載のウエハ処理機。
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