JPS6128905A - Production of optical circuit - Google Patents
Production of optical circuitInfo
- Publication number
- JPS6128905A JPS6128905A JP15065484A JP15065484A JPS6128905A JP S6128905 A JPS6128905 A JP S6128905A JP 15065484 A JP15065484 A JP 15065484A JP 15065484 A JP15065484 A JP 15065484A JP S6128905 A JPS6128905 A JP S6128905A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- medium
- forming
- metal alcoholate
- alcoholate solution
- base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明はレーザガラス、磁気光学ガラスを含むガラス光
導波路によって構成された、パターン化された光回路の
製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of the Invention] The present invention relates to a method of manufacturing a patterned optical circuit constituted by a glass optical waveguide including laser glass and magneto-optic glass.
従来、光回路としてはガラス、半導体、誘電性結晶、高
分子等様々の材料を用いたものが提案されている。この
うち、高分子を用いた光回路には長ヨ、ヨ頼性ッ□題ヵ
、あおよ考え、ゎ7いお。 Iガラス、
半導体、誘電材料を用いた光回路は、現在のところいず
れもレジストとドライエンチング工程を用いた微細加工
技術によって製造されているが、製造装置が高価でプロ
セスの制御が難しいという問題がある。Conventionally, optical circuits using various materials such as glass, semiconductors, dielectric crystals, and polymers have been proposed. Of these, optical circuits using polymers are long and reliable. I glass,
Optical circuits using semiconductors and dielectric materials are currently manufactured using microfabrication technology using resist and dry etching processes, but there are problems in that manufacturing equipment is expensive and process control is difficult.
特にガラス光回路の場合、材料固有の光導波損失が少な
く、光ファイバへの信頼性の高い融着接続が可能である
という長所を有する反面、従来のレジストを用いた微細
加工法による作製法においては、たとえばドライエツチ
ング工程において高度に制御した条件で多モード光導波
路を作製するには数十時間を必要とするという欠点があ
り、このため量産性に劣るという問題があった。In particular, glass optical circuits have the advantage of having low optical waveguide loss inherent to the material and being able to be highly reliable fusion spliced to optical fibers. However, this method has a disadvantage in that it takes several tens of hours to fabricate a multimode optical waveguide under highly controlled conditions in a dry etching process, which results in poor mass productivity.
このような光回路については、近年ゾルゲル法と成形技
術を組み合わせた簡便な製造方法が提案されている(特
願昭58−142578号)が、微細パターンからなる
光回路を作製する場合、高精度の型が必要になり、型が
高価になること、成形品へ型を高精度で位置合わせする
ために、型の位置決め用に高価な制御系を必要とするな
どの問題があった。Regarding such optical circuits, a simple manufacturing method combining the sol-gel method and molding technology has been proposed in recent years (Japanese Patent Application No. 142578/1983), but when manufacturing optical circuits consisting of fine patterns, high precision is required. There were problems such as the need for a mold, which made the mold expensive, and the need for an expensive control system for positioning the mold in order to align the mold with the molded product with high precision.
本発明は上述の点に鑑みなされたものであり、量産性が
よく、かつ高精度の型および型の位置決め用の制御系の
不要な、したがって安価に、かつ容易にガラス光回路を
製造しえる方法を提伊゛夕ることを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned points, and is suitable for mass production and does not require a high-precision mold or a control system for positioning the mold, and therefore can easily manufacture a glass optical circuit at low cost. The purpose is to propose a method.
したがって本発明による光回路の製造方法は、+a)
光エネルギを加えることにより可逆的に凹凸を形成す
る媒体に基部形成用金属アルコレート溶液を接触させる
工程、
(b) 前記媒体に所望パターン形状に光エネルギを
照射し、この媒体に前記基部形成用金属アルコレート溶
液方向に前記パターン形状に凸部を形成させる工程、
(C1前記基部形成用金属アルコレート溶液をゲル化す
る工程、
Td) 前記媒体に光エネルギを照射し、この媒体に
形成された凸部を消失させ、ゲル層に空隙を形成する工
程、
fe) この空隙に光導波路形成用金属アルコレート
溶液を流し込み、ゲル化したのち乾燥加熱する工程、
を含むことを特徴とするものである。Therefore, the method for manufacturing an optical circuit according to the present invention includes +a)
(b) irradiating the medium with light energy in a desired pattern shape to bring the base forming metal alcoholate solution into contact with a medium that reversibly forms irregularities by applying light energy; a step of forming convex portions in the pattern shape in the direction of the metal alcoholate solution, (C1 step of gelling the base forming metal alkolate solution, Td) irradiating the medium with light energy to form convex portions on the medium; a step of eliminating the convex portion and forming a void in the gel layer; fe) a step of pouring a metal alcoholate solution for forming an optical waveguide into the void, gelling it, and then drying and heating it. .
本発明によれば、安価にかつ量産性よく光回路を製造で
きるという利点がある。According to the present invention, there is an advantage that optical circuits can be manufactured at low cost and with good mass productivity.
本発明を更に詳しく説明する。 The present invention will be explained in more detail.
本発明による光回路の製造方法は、前述のように、〔a
l、山)、(C1、(d)、(81工程を含むものであ
る。As described above, the method for manufacturing an optical circuit according to the present invention includes [a
1, mountain), (C1, (d), (81 steps).
以下、各工程に別けて本発明を説明する。Hereinafter, the present invention will be explained separately for each step.
(a) 光エネルギを加えることにより可逆的に凹凸
を形成する媒体に基部形成用金属アルコレート溶液を接
触させる工程。(a) A step of bringing the base-forming metal alcoholate solution into contact with a medium that reversibly forms irregularities by applying light energy.
本発明において用いられる媒体は基本的に限、定される
ものではなく、光エネルギにより可逆的に凹凸を形成す
るものであればいかなるものでもよい。たとえば、下記
に一般式Iとして示すスピロピラン誘導体を含む真空蒸
着膜であることができる。このようなスピロピラン誘導
体を含む真空蒸着膜は膜厚を100%以上変化させるこ
とができ、本発明による方法において好ましい媒体とな
る。The medium used in the present invention is not fundamentally limited, and any medium may be used as long as it can reversibly form unevenness by light energy. For example, it can be a vacuum-deposited film containing a spiropyran derivative shown as general formula I below. A vacuum-deposited film containing such a spiropyran derivative can vary in film thickness by more than 100%, and is a preferred medium in the method according to the invention.
さらに、この媒体と接触される基部形成用金属アルコレ
ート溶液は、少なくとも一種以上の金属アルコレート、
水および有機溶媒を主成分とするものである。このよう
な金属アルコレートとして−はたとえば、テトラメトキ
シシラン、テトラメトキシシランなどを主として用いる
ことができる。Furthermore, the metal alcoholate solution for base formation that is contacted with this medium contains at least one metal alcoholate,
The main components are water and an organic solvent. As such a metal alcoholate, for example, tetramethoxysilane, tetramethoxysilane, etc. can be mainly used.
しかしながら、本発明においてはこれに限定されるもの
ではなく、ゲル化するものであれば基本的いかなるもの
でもよい。However, the present invention is not limited to this, and basically any material may be used as long as it gels.
コノ金属アルコレートを溶解するための有機溶媒として
は、メタノール、エタノール、イソプロパツールなどの
アルコール系溶媒を用いることができるが、これに限定
されるものでないことは明らかである。As the organic solvent for dissolving the conometal alcoholate, alcoholic solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol can be used, but it is clear that the organic solvent is not limited thereto.
さらにこのような金属アルコレート溶液に、金属アルコ
レート加水分解用の触媒として、酸あるいは塩基を添加
することができ、また屈折率や膨張率を制御するために
Ti、 Ge、 Zrなどの金属アルコレートを融加し
てもよい。すなわち、前記金属アルコレート溶液には副
成分として種々の添加物を添加することができることは
明らかである。Furthermore, an acid or a base can be added to such a metal alcoholate solution as a catalyst for metal alcoholate hydrolysis, and a metal alcoholate such as Ti, Ge, or Zr can be added to the metal alcoholate solution to control the refractive index or expansion coefficient. Rates may be combined. That is, it is clear that various additives can be added to the metal alcoholate solution as subcomponents.
(以下余白)
成上
H3
(前記式中、nは正の整数、R1、RR、R3は水素原
子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜6のアル
コキシカルボニル基、ニトロ基、ハロゲンを示す。)
(b) 前記媒体に所望パターン形状に光エネルギを
照射し、この媒体に前記基部形成用金属アルコレート溶
液方向に前記パターン形状に凸部を形成させる工程。(Space below) Narukami H3 (In the above formula, n is a positive integer, R1, RR, R3 are hydrogen atoms, alkoxy groups having 1 to 5 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 6 carbon atoms, nitro group, halogen ) (b) A step of irradiating the medium with light energy in a desired pattern shape to form convex portions in the pattern shape in the direction of the base forming metal alcoholate solution.
前述のように基部形成用金属アルコレート溶液に媒体を
接触させた状態で、この媒体に所望パターンを形成した
マスクを通して光エネルギを照射し、媒体に凸部を形成
させる。このような光エネルギとしては、たとえば紫外
線が用いられる。As described above, while the medium is in contact with the metal alcoholate solution for forming the base, light energy is irradiated onto the medium through a mask having a desired pattern formed thereon to form convex portions on the medium. As such light energy, for example, ultraviolet rays are used.
このように媒体に凸部を形成せしめることにより、前記
凸部は所望パターン状に金属アルコレート溶液中に突出
することになる。By forming the convex portions on the medium in this manner, the convex portions protrude into the metal alcoholate solution in a desired pattern.
(C1前記基部形成用金属アルコレート溶液をゲル化し
、基部を形成する工程。(C1 Step of gelatinizing the metal alcoholate solution for base formation to form a base.
このように金属アルコレート溶液をゲル化することによ
り、前記媒体に形成した凸部に対応する凹部を有する基
部(ゲル層ンが形成される。By gelatinizing the metal alcoholate solution in this manner, a base (gel layer) is formed that has recesses corresponding to the projections formed in the medium.
+d> 前記媒体に光エネルギを照射し、この媒体に
形成された凸部を消失させ、ゲル層(基部)に空隙を形
成する工程。+d> A step of irradiating the medium with light energy to eliminate the convex portions formed on the medium and form voids in the gel layer (base).
前述のように金属アルコレート溶液をゲル化したのち、
媒体に形成された凸部を光エネルギを照射するごとによ
り平坦化する。これによって、ゲルには前記凹部に空隙
を生じることになる。After gelling the metal alcoholate solution as described above,
The protrusions formed on the medium are flattened each time they are irradiated with light energy. This creates voids in the gel in the recesses.
このような光エネルギとしては、たとえば可視光線を挙
げることができる。Examples of such light energy include visible light.
tel この空隙に光導波路形成用゛金属アルコレー
ト溶液を流し込み、ゲル化したのち乾燥加熱する工程。tel A step in which a metal alcoholate solution for forming an optical waveguide is poured into this gap, gelled, and then dried and heated.
このような空隙に光導波路形成用金属アルコレート溶液
を流し込むわけであるが、このような光導波路用金属ア
ルコレートは、本発明において基本的に限定されるもの
ではない。前述の基部形成用金属アルコレートよりも、
ガラス化後高屈折率化可能な金属アルコレート溶液であ
ればいがなるものでもよい。たとえば前述のゲル化用金
属アル ′1コレート溶液のときに例示
した金属アルコレートおよび有機溶媒と同様な金属アル
コレート、有機溶媒を用い、これにGe、 AI、Ti
などの金属アルコレートを混合させた溶液であることが
できる。Although the metal alcoholate solution for forming an optical waveguide is poured into such a gap, the metal alcoholate for forming an optical waveguide is not fundamentally limited in the present invention. Rather than the metal alcoholate for base formation mentioned above,
Any metal alcoholate solution that can be made to have a high refractive index after vitrification may be used. For example, using the same metal alcoholate and organic solvent as those exemplified in the case of the above-mentioned gelling metal alcoholate solution, Ge, AI, Ti
The solution can be a mixture of metal alcoholates such as.
このような金属アルコレート溶液に磁気光学効果を与え
る物質、たとえば■族、V族あるいはランタン系列の元
素(たとえば、鉛、ビスマス、アンチモン、セリウム)
などを添加したり、レーザ発光物質、たとえばネオジウ
ムなどを加えることによって、ファラデー回転ガラスや
レーザガラスの導波路を形成することも可能である。Substances that impart magneto-optical effects to such metal alcoholate solutions, such as elements of group I, group V, or lanthanum series (e.g., lead, bismuth, antimony, cerium)
It is also possible to form a waveguide of Faraday rotation glass or laser glass by adding a laser emitting substance such as neodymium or the like.
このように光導波路形成用金属アルコレート溶液を流し
込んだのちゲル化し、その後全体を乾燥し、加熱焼結し
て所望パターンの光回路を得るものである。After pouring the metal alcoholate solution for forming an optical waveguide in this way, it is gelled, and then the whole is dried and heated and sintered to obtain an optical circuit with a desired pattern.
次ぎに本発明による光回路の製造方法を第1図を参照し
て、さらに具体的に説明する。Next, the method for manufacturing an optical circuit according to the present invention will be explained in more detail with reference to FIG.
第1図は本発明の詳細な説明するための説明図であるが
、この第1図より明らかなように、本発明の光回路の製
造方法ぽ、石英基板1上に媒体2を積層し、この媒体2
に基部形成用金属アルコレート溶液3を接触せしめる(
第1図(a))。FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining the present invention in detail, and as is clear from FIG. 1, the optical circuit manufacturing method of the present invention includes laminating a medium 2 on a quartz substrate 1; This medium 2
Contact with metal alcoholate solution 3 for base formation (
Figure 1(a)).
次ぎに、マスク4を介し導波路パターン状に紫外線5を
照射し、媒体2が部分的に***した部分20(凸部)を
形成せしめる(第1図中))。Next, ultraviolet rays 5 are irradiated in a waveguide pattern through a mask 4 to form partially raised portions 20 (convex portions) in the medium 2 (see FIG. 1).
次いで金属アルコレート溶液3をゲル化し、ゲル8とす
るとともに、媒体2に可視光6を照射することにより、
前記媒体2の凸部20を平坦化し、ゲル8に空隙80を
形成させる(第1図(C))。Next, the metal alcoholate solution 3 is gelled to form a gel 8, and the medium 2 is irradiated with visible light 6.
The convex portions 20 of the medium 2 are flattened to form voids 80 in the gel 8 (FIG. 1(C)).
このように形成した空隙80に導波路形成用金属アルコ
レート溶液7を流し込み(第1図(d))、この溶液7
をゲル化後、ゲル全体を乾燥し、加熱焼結して所望の導
波路パターンを有する光回路を製造するものである。A metal alcoholate solution 7 for waveguide formation is poured into the void 80 thus formed (FIG. 1(d)), and this solution 7
After gelling, the entire gel is dried and heated and sintered to produce an optical circuit having a desired waveguide pattern.
以下、本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.
実施例1
6′−ニトロ−1−へブチル−3゛、3−ジメチルスピ
ロ〔インドリン−2,2“−ベンゾピラン〕を石英基板
状に5μm真空蒸着して可逆体積変化をする媒体とした
。Example 1 6'-nitro-1-hebutyl-3',3-dimethylspiro[indoline-2,2'-benzopyran] was vacuum-deposited to a thickness of 5 μm on a quartz substrate to provide a medium with reversible volume change.
金属アルコレート溶液としてはテトラメトキシシラン、
水、メタノールをモル比で1 :4 :4になるよ
うに混合した溶液を用いた。Tetramethoxysilane as a metal alcoholate solution,
A solution containing water and methanol mixed at a molar ratio of 1:4:4 was used.
紫外線は長高圧水銀灯を用いて照射し、分岐パターン状
にマスクを通して前記スピロピラン膜(媒体)に照射し
たところ、照射部分は照射前の270%膜厚が増加して
いた。前記基部形成用金属アルコレート溶液をゲル化し
たのち、キセノンランプにより可視光を照射して前記隆
起を消滅させ、これによって生じたゲルの空隙部分にテ
トラブトキンゲルマニウム、テトラメトキシシラン、水
およびメチルアルコールをモル比で0.2 :0.8
:4:3となるように調整した光導波路形成用金属
アルコレート溶液を流し込み、この金属アルコレート溶
液がゲル化したのち、ゲル全体を乾燥させ、さらに10
00℃まで加熱焼結して、第2図fa)に示すようにガ
ラス基板9上に分岐光導波路10を作製した。When ultraviolet rays were irradiated using a long high-pressure mercury lamp and irradiated onto the spiropyran film (medium) through a mask in a branched pattern, the thickness of the irradiated area had increased by 270% from before irradiation. After gelatinizing the metal alcoholate solution for forming the base, visible light is irradiated with a xenon lamp to eliminate the protuberances, and tetrabutquine germanium, tetramethoxysilane, water and methyl are added to the voids of the gel. Alcohol molar ratio 0.2:0.8
: A metal alcoholate solution for forming an optical waveguide adjusted to have a ratio of 4:3 is poured in, and after this metal alcoholate solution turns into a gel, the entire gel is dried, and further 10
By heating and sintering to 00° C., a branched optical waveguide 10 was fabricated on a glass substrate 9 as shown in FIG. 2 fa).
実施例2
実施例1と同様に6”−ニトロ−1−ヘプチル−3゛、
3−ジメチルスピロ〔インドリン−2,2′ −ベンゾ
ピラン〕の真空蒸着膜を可逆的に体積変化する媒体とし
て、テトラエトキシシラン、水、エチルアルコールおよ
び塩酸をモル比で、1 :2.5 :30 : 0
.03となるように調整した基部形成用金属アルコレー
ト溶液を上記媒体に接触させ、超高圧水銀灯を用いてマ
スクを介し直接導波路上に前記蒸着膜に紫外線照射を行
った。Example 2 Same as Example 1, 6″-nitro-1-heptyl-3″,
A vacuum-deposited film of 3-dimethylspiro[indoline-2,2'-benzopyran] was used as a medium for reversibly changing volume, and tetraethoxysilane, water, ethyl alcohol, and hydrochloric acid were mixed in a molar ratio of 1:2.5:30. : 0
.. 03 was brought into contact with the above medium, and the deposited film was irradiated with ultraviolet rays directly onto the waveguide through a mask using an ultra-high pressure mercury lamp.
照射部分が170%膜厚増加している間に前記金属アル
コレート溶液をゲル化させ、可視光を前記蒸着膜に照射
し、***パターンを消滅させた。While the film thickness of the irradiated portion increased by 170%, the metal alcoholate solution was gelled, and the deposited film was irradiated with visible light to eliminate the raised pattern.
この***パターンの消滅によりゲル部分に生じた空隙に
前述の基部形成用金属アルコレート溶液のテトラブトキ
シシランの10モル%をテトラブトキシゲルマニウムに
置換し、さらに少量のトリブトキシセリウムを添加した
光導波路形成用金属ア″′″″−ト溶液を流2込みゲ″
化さt t、−(7)ち・ゲ iル全体
を充分乾燥させ、引続き950℃まで加熱処理し、第2
図中)に示すようなガラス基板9上に高さ8μmのファ
ラデー回転ガラス導波路11を得た。An optical waveguide was formed by replacing 10 mol% of the tetrabutoxysilane in the metal alcoholate solution for forming the base with tetrabutoxygermanium and adding a small amount of tributoxycerium into the voids created in the gel part due to the disappearance of this raised pattern. Pour the metal solution into the gate.
The entire gel was thoroughly dried, then heated to 950°C, and the second
A Faraday rotary glass waveguide 11 having a height of 8 μm was obtained on a glass substrate 9 as shown in (in the figure).
このベルデ定数を測定したところ、−0,09分10e
−cm (6328人)であった。When this Verdet constant was measured, it was found that -0.09 min 10e
-cm (6328 people).
実施例3
実施例1と同様に6°−ニトロ−1−ヘプチル−3“、
3−ジメチルスピロ〔インドリン−2,2゛ −ベンゾ
ピラン〕を石英基板上に5μm真空蒸着して媒体とし、
これにテトラメトキシシラン、水、メタノールをモル比
で、1 :5 :5となるように調整した基部形成
用金属アルコレート溶液を上記媒体に接触させ、超高圧
水銀灯を用いて紫外線を10μmライン幅、50μmピ
ンチで帯状に照射し、照射部を***させた。この状態で
前記金属アルコレート溶液をゲル化させ、その後可視光
を前記媒体(蒸着11ii)に照射し、前記凸部を消滅
させた。Example 3 Same as Example 1, 6°-nitro-1-heptyl-3'',
3-dimethylspiro [indoline-2,2゛-benzopyran] was vacuum-deposited to a thickness of 5 μm on a quartz substrate as a medium.
A base-forming metal alcoholate solution prepared by adjusting the molar ratio of tetramethoxysilane, water, and methanol to 1:5:5 was brought into contact with the above medium, and an ultra-high pressure mercury lamp was used to irradiate ultraviolet rays with a line width of 10 μm. , irradiation was performed in a band shape with a 50 μm pinch, and the irradiated area was raised. In this state, the metal alcoholate solution was gelled, and then the medium (deposition 11ii) was irradiated with visible light to eliminate the convex portions.
次ぎにテトラメトキシシラン、トリブトキシアルミニウ
ム、トリプトキシネオジウム、水およびメタノールをモ
ル比で0.9 :o、t :0.014 :6
:6.5になるように光導波路形成用金属アルコレー
ト溶液を前記凸部の消滅で形成した空隙に流し込んだ。Next, tetramethoxysilane, tributoxyaluminum, triptoxyneodymium, water and methanol were added in a molar ratio of 0.9:o, t:0.014:6.
: 6.5, a metal alcoholate solution for forming an optical waveguide was poured into the gap formed by the disappearance of the convex portion.
ゲル化後、充分乾燥させ、1000℃まで加熱し、ネオ
ジウムを含む部分の端面を鏡面研磨したのち、ミラー1
2を付着させ、第2図(C1に示すようにガラス基板9
上に導波型ガラスレーザアレイ13を得た。After gelation, it is thoroughly dried, heated to 1000°C, and the end face of the neodymium-containing part is polished to a mirror finish.
2 and attach the glass substrate 9 as shown in FIG. 2 (C1).
A waveguide glass laser array 13 was obtained on top.
実施例4
6゛−ニトロ−1−オクチル3,3゛−ジメチルスピロ
〔インドリン−2,2゛−ベンゾピラン〕を石英基板上
に8μm真空蒸着し、これにテトラエトキシシラン、水
、メタノールをモル比で1 :4 :4になるよう
に混合した基部形成用金属アルコレート溶液を接触させ
、紫外線を分岐パターン上に照射し、照射部分を170
%膜厚増加させ、前記金属アルコレ−Hg液をゲル化さ
せた。その後、可視光を分岐パターンの一部に照射し、
パターンの一部を消滅させ、生じた空隙に前記基部形成
用金属アルコレート溶液のテトラメトキシシランの10
モル%をテトラブトキシゲルマニウムに置換し、さらに
少量のトリブトキシセリウムを添加した導波路形成用金
属アルコレート溶液を流し込み、ゲル化した。Example 4 6゛-nitro-1-octyl 3,3゛-dimethylspiro [indoline-2,2゛-benzopyran] was vacuum-deposited to a thickness of 8 μm on a quartz substrate, and tetraethoxysilane, water, and methanol were added to it in molar ratios. A base-forming metal alcoholate solution mixed at a ratio of 1:4:4 is brought into contact with the branch pattern, and ultraviolet rays are irradiated onto the branch pattern, leaving the irradiated area at 170°C.
% film thickness was increased, and the metal alcohol-Hg solution was gelled. After that, visible light is irradiated to a part of the branch pattern,
Part of the pattern is eliminated, and the resulting void is filled with 10% of tetramethoxysilane in the base forming metal alcoholate solution.
A metal alcoholate solution for forming a waveguide, in which the mole percent was replaced with tetrabutoxygermanium and a small amount of tributoxycerium was added, was poured into the solution to form a gel.
その後、残存する分岐パターンに可視光を照射し、パタ
ーンを消滅させた空隙に前記基部形成用金属アルコレー
ト溶液のテトラメトキシシランの10モル%をテトラブ
トキシゲルマニウムに置換した第2の導波路形成用金属
アルコレート溶液を流し込み、ゲル化した。Thereafter, the remaining branch pattern was irradiated with visible light, and 10 mol% of the tetramethoxysilane in the metal alcoholate solution for base formation was replaced with tetrabutoxygermanium in the void where the pattern disappeared. A metal alcoholate solution was poured into the solution to form a gel.
次ぎに全体を充分乾燥させたのち、950℃まで加熱す
ることにより第2図Td)に示すようなファラデー回転
ガラス導波路11と分岐光導波路10が一体となった光
回路をガラス基板9上に作製した。Next, after thoroughly drying the whole, by heating it to 950°C, an optical circuit in which the Faraday rotating glass waveguide 11 and the branching optical waveguide 10 are integrated as shown in FIG. 2 Td) is formed on the glass substrate 9. Created.
以上説明したように、本発明による光回路の製造方法に
よれば、単なる光導波路のみならず、電気光学効果やレ
ーザ発振という特徴を有する導波路構造を純度の高い物
質から簡単な装置で容易に製造することができるという
大きな利点がある。As explained above, according to the method for manufacturing an optical circuit according to the present invention, not only a simple optical waveguide but also a waveguide structure having features such as electro-optic effect and laser oscillation can be easily manufactured using a simple device from a highly pure material. It has the great advantage of being easily manufacturable.
さらに、1つの型よりマスクを変化させるだけで容易に
種々の形状の導波路を作製でき、従来微細な型を作製す
る経済的な手法がなかったのに対し、多種の光導波路を
量産性よく作製できるという利点も有する。Furthermore, waveguides of various shapes can be easily produced by simply changing the mask from a single mold, and while there was previously no economical method for manufacturing fine molds, it is now possible to mass-produce a wide variety of optical waveguides. It also has the advantage of being easily fabricated.
第1図は本発明による光回路の製造方法を説明するため
の説明図、第2図は本発明による方法によって製造され
た光回路の概略図である。
2 ・・・媒体、20・・・凸部、3 ・・・基部形成
用金属アルコレート溶液、7 ・・・導波路形成用金属
アルコレート溶液、8 ・・・ゲル、80・・・空隙。
出願人代理人 雨 宮 正 季
1(A)
(D)
手続補正書(帥
昭和59$11月26日
1、11牛の転
昭和59年特許願第150654号
2、発明の名称
住 所 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号氏 名
(名称) (422) 日本電信電話公社4、代理
人
〒102靭03−264−3566
5、補正の対象
6、内容
(1) 明細書中、第10頁の式を下記のように訂正
する。
「
式I
C’F13
(前記式中、nは正の整数、R1、R2、R3は水素原
子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜6のアル
コキシカルボニル基、ニトロ基、ハロゲンを示す。)」FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a method of manufacturing an optical circuit according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram of an optical circuit manufactured by the method according to the present invention. 2...Medium, 20...Convex portion, 3...Metal alcoholate solution for base formation, 7...Metal alcoholate solution for waveguide formation, 8...Gel, 80...Gap. Applicant's agent Masaki Amemiya
1(A) (D) Procedural amendment (Showa 59$ November 26th 1, 11 Cow's conversion 1982 Patent Application No. 150654 2 Name of invention Address 1-1-6 Uchisaiwai-cho, Chiyoda-ku, Tokyo Name Name (422) Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation 4, Agent Address: 102 Utsubo 03-264-3566 5, Subject of amendment 6, Contents (1) The formula on page 10 of the specification has been changed as follows: Correct. "Formula I C'F13 (In the above formula, n is a positive integer, R1, R2, R3 are hydrogen atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, a nitro group. , indicating halogen).
Claims (4)
凸を形成する媒体に基部形成用金属アルコレート溶液を
接触させる工程、 (b)前記媒体に所望パターン形状に光エネルギを照射
し、この媒体に前記基部形成用金属アルコレート溶液方
向に前記パターン形状に凸部を形成させる工程、 (c)前記基部形成用金属アルコレート溶液をゲル化し
、基部を形成する工程、 (d)前記媒体に光エネルギを照射し、この媒体に形成
された凸部を消失させ、基部に空隙を形成する工程、 (e)この空隙に光導波路形成用金属アルコレート溶液
を流し込み、ゲル化したのち乾燥加熱する工程、 を含むことを特徴とする光回路の製造方法。(1) (a) A step of bringing a metal alcoholate solution for base formation into contact with a medium that reversibly forms irregularities by applying light energy; (b) irradiating the medium with light energy in a desired pattern shape; a step of forming convex portions in the pattern shape in the direction of the base forming metal alcoholate solution in the medium; (c) a step of gelling the base forming metal alcoholate solution to form a base; (d) a step of forming a base in the medium. A step of irradiating light energy to eliminate the convex portions formed in the medium and forming a void at the base; (e) pouring a metal alcoholate solution for forming an optical waveguide into the void, gelling it, and then drying and heating it; A method for manufacturing an optical circuit, comprising the steps of:
構成成分の少なくとも一つに用いることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の光回路の製造方法。 ¥式 I ¥ ▲数式、化学式、表等があります▼ (前記式中、nは正の整数、R_1、R_2、R_3は
水素原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜6
のアルコキシカルボニル基、ニトロ基、ハロゲンを示す
。)(2) The method for manufacturing an optical circuit according to claim 1, wherein the medium uses a compound represented by the following general formula I as at least one of its constituent components. ¥Formula I ¥ ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the above formula, n is a positive integer, R_1, R_2, R_3 are hydrogen atoms, alkoxy groups with 1 to 5 carbon atoms, and 2 to 6 carbon atoms.
represents an alkoxycarbonyl group, a nitro group, and a halogen. )
、V族またはランタン系列の元素を含む物質を添加した
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項および第2項に
記載の光回路の製造方法。(3) The optical circuit according to claims 1 and 2, characterized in that a substance containing a group IV, group V, or lanthanum series element is added to the metal alcoholate solution for forming an optical waveguide. manufacturing method.
ザ発光性物質を添加したことを特徴とする特許請求の範
囲第1項〜第3項記載の光回路の製造方法。(4) The method for manufacturing an optical circuit according to any one of claims 1 to 3, characterized in that a laser-emitting substance is added to the metal alcoholate solution for forming an optical waveguide.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15065484A JPS6128905A (en) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | Production of optical circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15065484A JPS6128905A (en) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | Production of optical circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6128905A true JPS6128905A (en) | 1986-02-08 |
Family
ID=15501567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15065484A Pending JPS6128905A (en) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | Production of optical circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6128905A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0258994A2 (en) * | 1986-07-26 | 1988-03-09 | Fujitsu Limited | Process for the production of optical elements |
US5192228A (en) * | 1991-09-16 | 1993-03-09 | Amp Inc. | Shielded surface mount electrical connector with integral barbed board lock |
US5419713A (en) * | 1993-12-06 | 1995-05-30 | Berg Electronics | Electrical connector with self-retained boardlock |
US5827089A (en) * | 1995-05-09 | 1998-10-27 | The Whitaker Corporation | Board lock for electrical connector |
-
1984
- 1984-07-20 JP JP15065484A patent/JPS6128905A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0258994A2 (en) * | 1986-07-26 | 1988-03-09 | Fujitsu Limited | Process for the production of optical elements |
US5192228A (en) * | 1991-09-16 | 1993-03-09 | Amp Inc. | Shielded surface mount electrical connector with integral barbed board lock |
US5419713A (en) * | 1993-12-06 | 1995-05-30 | Berg Electronics | Electrical connector with self-retained boardlock |
US5827089A (en) * | 1995-05-09 | 1998-10-27 | The Whitaker Corporation | Board lock for electrical connector |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6802188B1 (en) | Method of making photosensitive monolithic glass apparatus | |
JP4460163B2 (en) | High-efficiency monolithic glass light-shaping diffuser and manufacturing method thereof | |
US20060042322A1 (en) | Integrated optic devices and processes for the fabrication of integrated optic devices | |
JPS6128905A (en) | Production of optical circuit | |
JP5130671B2 (en) | Organic polymer composition, optical waveguide, and method of manufacturing optical waveguide | |
CN110308572B (en) | M-Z type polymer thermo-optic switch with inverted triangular waveguide structure and preparation method thereof | |
JPH02244104A (en) | Glass optical wave guide | |
JPS6021215A (en) | Manufacture of fine pattern | |
EP0774675A1 (en) | Production method of diffraction grating | |
JPH06263453A (en) | Production of optical transmission path | |
JPH0327002A (en) | Production of optical waveguide | |
JPH09325201A (en) | High molecular optical material, optical waveguide using the material and its production | |
JP3031066B2 (en) | Method for manufacturing oxide film and method for manufacturing optical waveguide | |
JPH09255782A (en) | Photocuring inorganic/organic hybrid material and three-dimensional cptical waveguide made therefrom | |
JPS6080807A (en) | Optical circuit and its production | |
JPS6077476A (en) | Waveguide laser and manufacture thereof | |
JPS63100406A (en) | Production of optical circuit element | |
JPS61178428A (en) | Production of optical glass | |
JPH05155636A (en) | Method for forming quartz glass waveguide | |
JPS60232509A (en) | Manufacture of optical element | |
JP2007171803A (en) | Manufacturing method of glass component and manufacturing method of liquid crystal display | |
JPS60119501A (en) | Production of optical element | |
JPS6081031A (en) | Manufacture of optical element | |
JPH03107805A (en) | Production of optical waveguide | |
JPS60232528A (en) | Manufacture of faraday rotation glass |