JPS61266560A - 薄目付溶融メツキ法 - Google Patents
薄目付溶融メツキ法Info
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- JPS61266560A JPS61266560A JP10839185A JP10839185A JPS61266560A JP S61266560 A JPS61266560 A JP S61266560A JP 10839185 A JP10839185 A JP 10839185A JP 10839185 A JP10839185 A JP 10839185A JP S61266560 A JPS61266560 A JP S61266560A
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- strip
- electromagnetic force
- hot dipping
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、鋼ストリップの連続溶融メッキ法において、
溶融メッキ金属を通過して浮上する鋼ストリップに付着
する溶融メッキの付着量を少なくする薄目付溶融メッキ
法に関するものである。
溶融メッキ金属を通過して浮上する鋼ストリップに付着
する溶融メッキの付着量を少なくする薄目付溶融メッキ
法に関するものである。
（従来技術）
一般に、鋼ス） ＩＪツブの溶融メッキ法におけるメッ
キ金属目付量の制御は、主としてガスワイピング法で行
なわれている。この方法は、溶融メッキ金属浴を連続的
に通過して浮上する鋼ストリップに付着した溶融状態の
メッキ金属に空気、窒素ガス、水蒸気などの高温、高圧
の気体を吹き付けて、余剰のメッキを払拭し、所定のメ
ッキ目付量に制御するものである。しかし、この方法で
メッキ金属の薄目付化あるいは鋼ストリップの高速メッ
キ化を行なわんとすると、かなりの高圧ガスを吹き付け
るため、ガスの作業環境を悪化し、溶融メッキ金属のス
プラシュを増して得られたメッキ鋼板の外観性を著しく
悪化する問題があった。
キ金属目付量の制御は、主としてガスワイピング法で行
なわれている。この方法は、溶融メッキ金属浴を連続的
に通過して浮上する鋼ストリップに付着した溶融状態の
メッキ金属に空気、窒素ガス、水蒸気などの高温、高圧
の気体を吹き付けて、余剰のメッキを払拭し、所定のメ
ッキ目付量に制御するものである。しかし、この方法で
メッキ金属の薄目付化あるいは鋼ストリップの高速メッ
キ化を行なわんとすると、かなりの高圧ガスを吹き付け
るため、ガスの作業環境を悪化し、溶融メッキ金属のス
プラシュを増して得られたメッキ鋼板の外観性を著しく
悪化する問題があった。
これらの問題点を解決する方法として、例えば、特公昭
５８−２３４６４号公報のように溶融メッキ金属浴から
浮上した鋼ストリップ及び浮上箇所近傍の浴表面に移動
磁界を付加し、鋼ストリップの表面及び鋼ストリップの
浮上箇所近傍の浴表面に浴って、溶融メッキ層のドラッ
グアウトを防止する向きに電磁力を誘発させながら、該
電磁力が作用する範囲外の上方に位置したノズルから加
熱気体を吹付けて、メッキ厚の最終仕上げ的制御と均一
化を行なう方法がある。
５８−２３４６４号公報のように溶融メッキ金属浴から
浮上した鋼ストリップ及び浮上箇所近傍の浴表面に移動
磁界を付加し、鋼ストリップの表面及び鋼ストリップの
浮上箇所近傍の浴表面に浴って、溶融メッキ層のドラッ
グアウトを防止する向きに電磁力を誘発させながら、該
電磁力が作用する範囲外の上方に位置したノズルから加
熱気体を吹付けて、メッキ厚の最終仕上げ的制御と均一
化を行なう方法がある。
この方法は、輻射気体の乱流を小さくするためノズルを
移動磁界装置とはなし電磁力の作用する範囲に設置して
いるが、ドラッグアウト金属の多い高速通板メッキの場
合あるいは極薄目付メッキの場合は、鋼ストリツプ表面
の溶融メッキ金属の一部を掻き取る必要があシ、ガスワ
イピング位置で電磁力が働いてないため電磁力でのワイ
ピング効果が十分発揮できない欠点があった。
移動磁界装置とはなし電磁力の作用する範囲に設置して
いるが、ドラッグアウト金属の多い高速通板メッキの場
合あるいは極薄目付メッキの場合は、鋼ストリツプ表面
の溶融メッキ金属の一部を掻き取る必要があシ、ガスワ
イピング位置で電磁力が働いてないため電磁力でのワイ
ピング効果が十分発揮できない欠点があった。
（問題点を解決するだめの手段）
本発明は、上記した従来の問題点を解決したもので、亜
鉛、錫、アルミニウムあるいはこれらの合金など各種金
属の溶融メッキ法において、所要の溶融メッキ金属目付
量に制御できる薄目付溶融メッキ法を提供するものであ
る。
鉛、錫、アルミニウムあるいはこれらの合金など各種金
属の溶融メッキ法において、所要の溶融メッキ金属目付
量に制御できる薄目付溶融メッキ法を提供するものであ
る。
その要旨は溶融メッキ金属浴中を通過して浮上する鋼ス
トリップに付着した溶融メッキ金属を挾んで移動磁界装
置を配置して付着溶融メッキ金属に誘導電流を誘起し、
磁界と電流の相互作用でドラッグアウト溶融金属を抑制
する方向に電磁力を作用させ、さらに該電磁力が作用す
る範囲の溶融メッキ金属に気体を吹き付けて余剰の溶融
メッキ金属を払拭する薄目付溶融メッキ法である。
トリップに付着した溶融メッキ金属を挾んで移動磁界装
置を配置して付着溶融メッキ金属に誘導電流を誘起し、
磁界と電流の相互作用でドラッグアウト溶融金属を抑制
する方向に電磁力を作用させ、さらに該電磁力が作用す
る範囲の溶融メッキ金属に気体を吹き付けて余剰の溶融
メッキ金属を払拭する薄目付溶融メッキ法である。
（作用）
以下、本発明について図面を参照しながら詳細に説明す
る。
る。
第１図は溶融メッキ装置の鋼ストリツプ出側を示す。図
において１は連続的に走行する鋼ストリップである。２
は溶融メッキ金属浴で、亜鉛、錫、アルミニウムちるい
はこれらの合金などのメッキ金属を溶解している。３は
デフレクタ−ロールで、溶融メッキ金属浴２内に設けら
れている。すなわち鋼ストリップ１は、溶融メッキ金属
浴２中のデフレクタ−ロール３を周回して浮上するよう
に設けられている。
において１は連続的に走行する鋼ストリップである。２
は溶融メッキ金属浴で、亜鉛、錫、アルミニウムちるい
はこれらの合金などのメッキ金属を溶解している。３は
デフレクタ−ロールで、溶融メッキ金属浴２内に設けら
れている。すなわち鋼ストリップ１は、溶融メッキ金属
浴２中のデフレクタ−ロール３を周回して浮上するよう
に設けられている。
４．４′は移動磁界装置である。５，５′は移動磁界発
生用コイルである。６は気体噴射ノズルで移動磁界発生
装置により誘起される電磁力の作用する範囲の溶融メッ
キ金属に吹き付ける位置に設けられ、空気、窒素、水蒸
気などの高圧気体を噴射する。
生用コイルである。６は気体噴射ノズルで移動磁界発生
装置により誘起される電磁力の作用する範囲の溶融メッ
キ金属に吹き付ける位置に設けられ、空気、窒素、水蒸
気などの高圧気体を噴射する。
本発明は上記説明した第１図において、溶融メッキ金属
浴２中を通過して浮上する鋼ストリップ１に付着した溶
融メッキ金属７を挾んで設置した移動磁界装置４．４’
（移動磁界発生用コイル５゜５′）に多相交流を通電し
、４（５）と４′（５′）方向の磁界を鋼ストリップの
長手方向下向きに移動させ、移動磁昆により溶融メッキ
金属７に誘導電流を誘起し、磁界と電流との相互作用で
溶融金属浴２面側に誘起される電磁力でメッキ金属の薄
目付化を計り、さらに電磁力が作用する範囲内で気体を
吹付けて溶融メッキ金属を払拭しようとするものである
。第２図および第３図は、電磁力の作用する範囲内外で
気体払拭した場合の溶融メッキ金属層厚み変化を説明し
たものである。
浴２中を通過して浮上する鋼ストリップ１に付着した溶
融メッキ金属７を挾んで設置した移動磁界装置４．４’
（移動磁界発生用コイル５゜５′）に多相交流を通電し
、４（５）と４′（５′）方向の磁界を鋼ストリップの
長手方向下向きに移動させ、移動磁昆により溶融メッキ
金属７に誘導電流を誘起し、磁界と電流との相互作用で
溶融金属浴２面側に誘起される電磁力でメッキ金属の薄
目付化を計り、さらに電磁力が作用する範囲内で気体を
吹付けて溶融メッキ金属を払拭しようとするものである
。第２図および第３図は、電磁力の作用する範囲内外で
気体払拭した場合の溶融メッキ金属層厚み変化を説明し
たものである。
第２図は電磁力の作用する範囲外でガスワイピングを行
なった場合である。溶融金属に下向きに働く体積力とし
て重力ρｇ （Ｎ／ｒｒ？）に電磁力Ｆ（Ｎ／−）を
付加して溶融金属の膜厚を薄くしているが、ガスワイピ
ング位置では電磁力Ｆが働いていないため、電磁力Ｆ付
加の効果が小さい。
なった場合である。溶融金属に下向きに働く体積力とし
て重力ρｇ （Ｎ／ｒｒ？）に電磁力Ｆ（Ｎ／−）を
付加して溶融金属の膜厚を薄くしているが、ガスワイピ
ング位置では電磁力Ｆが働いていないため、電磁力Ｆ付
加の効果が小さい。
参考文献（Ｍｅｔａｌｌｕｒａｇｉｃａｌ Ｔｒａｎｓ
ａｃｔｉｏｎ Ｂ。
ａｃｔｉｏｎ Ｂ。
Ｖｏｌｕｍｅ ７Ｂ、 Ｄｅｃｅｍｂｅｒ １９７６、
Ｐａｇｅ ６０７〜６１Ｂ）によれば重力場での溶融
金属の膜厚δ（ｍｍ）は下向きの体積力である溶融亜鉛
の重力ρｇ（Ｎ／ｉ）と次の関係にあると説明されてい
る。
Ｐａｇｅ ６０７〜６１Ｂ）によれば重力場での溶融
金属の膜厚δ（ｍｍ）は下向きの体積力である溶融亜鉛
の重力ρｇ（Ｎ／ｉ）と次の関係にあると説明されてい
る。
δ＝ｘｙ’フ〒１んｆバ・・・ （１）Ｋ：定数
μ：溶融亜鉛の粘性係数
ＬＳニラインスピード
ρｇ：溶融亜鉛の重力
したがって電磁力の作用する範囲外で気体払拭を行なっ
た場合、気体払拭位置直下の溶融金属には、下向きの体
積力として重力ρｇ （Ｎ／ｍ’ ） Ｌか働いていな
いので、ストリップの通板速度ＬＳ（ｍ／ｍｉｎ ）と
溶融亜鉛の粘性係数μ（ＫＰ／ｍ−８）とにより決まる
ため、せん断力と重力のつりあいで膜厚δが（１）式に
よって定まり、電磁力の効果を十分発揮できない。
た場合、気体払拭位置直下の溶融金属には、下向きの体
積力として重力ρｇ （Ｎ／ｍ’ ） Ｌか働いていな
いので、ストリップの通板速度ＬＳ（ｍ／ｍｉｎ ）と
溶融亜鉛の粘性係数μ（ＫＰ／ｍ−８）とにより決まる
ため、せん断力と重力のつりあいで膜厚δが（１）式に
よって定まり、電磁力の効果を十分発揮できない。
第３図は電磁力の作用する範囲内で気体払拭を行なった
場合で、気体払拭位置直下の溶融金属には、下向きの体
積力として重力ρｇ（Ｎ／ｍ’）の他に電磁力Ｆ（Ｎ／
ｍ’）が働くので膜厚δ′（龍）が次のようになり、 δ’＝５／ｒコ ・・・（２） 電磁力の作用によシス体払拭位置直下の溶融金属の膜厚
が薄くなり、溶融金属付着量の薄目付制御を可能となる
。
場合で、気体払拭位置直下の溶融金属には、下向きの体
積力として重力ρｇ（Ｎ／ｍ’）の他に電磁力Ｆ（Ｎ／
ｍ’）が働くので膜厚δ′（龍）が次のようになり、 δ’＝５／ｒコ ・・・（２） 電磁力の作用によシス体払拭位置直下の溶融金属の膜厚
が薄くなり、溶融金属付着量の薄目付制御を可能となる
。
（実施例）
鋼ストリップに付着したメッキ溶融金属に電磁力を働か
すための第１図に示す移動磁界を用いるタイプの溶融金
属付着量制御装置を溶融亜鉛連続メツキラインに設置し
て行なった。
すための第１図に示す移動磁界を用いるタイプの溶融金
属付着量制御装置を溶融亜鉛連続メツキラインに設置し
て行なった。
移動磁界装置をメッキ金属浴内金通過して上昇する鋼ス
トリップを挾んで対向して設置し、移動磁界を発生させ
、溶融金属に誘起される二次電流との相互作用で溶融金
属のドラッグアウトを抑制するように電磁力を発生させ
ている。
トリップを挾んで対向して設置し、移動磁界を発生させ
、溶融金属に誘起される二次電流との相互作用で溶融金
属のドラッグアウトを抑制するように電磁力を発生させ
ている。
移動磁界発生装置の対向する面の高さは２００鞄、幅は
ストリップより広くストリップから５０Ｍ離して磁束密
度はＢ ＝ Ｏ，ｌ ５ Ｗｂ／ｍ’で周波数ｆ＝ １
，５００ Ｈｚ の移動磁界を発生さした。
ストリップより広くストリップから５０Ｍ離して磁束密
度はＢ ＝ Ｏ，ｌ ５ Ｗｂ／ｍ’で周波数ｆ＝ １
，５００ Ｈｚ の移動磁界を発生さした。
ガスワイピングノズル６はストリップ１に付着した溶融
状態のメッキ金属７に電磁力の作用する範囲内でガス噴
射できるように移動磁界装置の直上にガスワイピングノ
ズルとストリップとの距離を２０ｕ離して設置し、１．
２ Ｋｐ／ｉの高圧ガスを下向き５°の角度貫射させた
。
状態のメッキ金属７に電磁力の作用する範囲内でガス噴
射できるように移動磁界装置の直上にガスワイピングノ
ズルとストリップとの距離を２０ｕ離して設置し、１．
２ Ｋｐ／ｉの高圧ガスを下向き５°の角度貫射させた
。
ストリップの通板速度が９０ ｍ／＋ｍｉｎ、でメッキ
した結果、従来法のガスワイピングでは、付着量が７１
ｒ／ｍ″片面であるが、電磁力の作用する範囲内でガス
ワイピングを行なった場合は５２秒背片面となった。
した結果、従来法のガスワイピングでは、付着量が７１
ｒ／ｍ″片面であるが、電磁力の作用する範囲内でガス
ワイピングを行なった場合は５２秒背片面となった。
この場合も電磁力の作用する範囲外でガスワイピングを
行なうと、付着量制御の効果は小さく、付着量は６７ｙ
／ｒｄ 片面であった。
行なうと、付着量制御の効果は小さく、付着量は６７ｙ
／ｒｄ 片面であった。
（発明の効果）
したがらて、気体払拭単独法と同一の付着量を得るには
ガスワイピングノズルの噴射条件を低速低圧力にできる
特徴がある。また溶融金属の付着量を薄くしようとした
場合、高圧ガスを吹付けても吹拭金、礪からスプラッシ
ュが発生せず、溶融金属付着量の極薄目付化及び通板の
速度の高速化が可能である。
ガスワイピングノズルの噴射条件を低速低圧力にできる
特徴がある。また溶融金属の付着量を薄くしようとした
場合、高圧ガスを吹付けても吹拭金、礪からスプラッシ
ュが発生せず、溶融金属付着量の極薄目付化及び通板の
速度の高速化が可能である。
第１図は本発明の一実施例を示し、第２図は電磁力の作
用する範囲外で気体払拭した場合の溶融メッキ金属層厚
み変化を示す。第３図は電磁力の作用する範囲内で気体
払拭した場合の溶融メッキ金属層厚み変化を比較序して
示す。 ４．４′・・・移動磁界装置 ５．５′・・・移動磁界発生用コイル ６ ・・・気体噴射ノズル ７ ・・・溶融メッキ金属層 ８ ・・・イグジットロール 第３図 手続補正書 （１） １、事件の表示 昭和６０年特許願第１０８３９１号 ２、発明の名称
（３）薄目付溶融メッキ法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （４
）住 所 東京都千代田区大手町２丁目６番３号名称
（６６５）新日本製鐵株式会社 代表者 武 １） 豊 ４、代 理 人 〒１０５電（５０３）４８７７６補正
の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄明細書第３頁
第１行において、 ［この方法は輻射気体の・・・・・］とあるを、「この
方法は噴射体の・・・・・」に訂正する。 明細書第３頁第３行において、 「範囲に・・・・・」とあるを、 「範囲外に・・・・」に訂正する。 明細書第６頁第６行において、 ［δ＝にシ２７Ｊ）丁・−（１ン」とあるを、「δ＝に
ンμ×Ｌｓ／Ｊｐｇ・・・（１）」に訂正する。 明細書第７頁第５行において、 「δ・＝／７石］／／２西５・・・（２）」とあるを、
「δ・＝に／アコ］／・′アｇ−）−Ｆ ・・・（・
）」と訂正する。
用する範囲外で気体払拭した場合の溶融メッキ金属層厚
み変化を示す。第３図は電磁力の作用する範囲内で気体
払拭した場合の溶融メッキ金属層厚み変化を比較序して
示す。 ４．４′・・・移動磁界装置 ５．５′・・・移動磁界発生用コイル ６ ・・・気体噴射ノズル ７ ・・・溶融メッキ金属層 ８ ・・・イグジットロール 第３図 手続補正書 （１） １、事件の表示 昭和６０年特許願第１０８３９１号 ２、発明の名称
（３）薄目付溶融メッキ法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （４
）住 所 東京都千代田区大手町２丁目６番３号名称
（６６５）新日本製鐵株式会社 代表者 武 １） 豊 ４、代 理 人 〒１０５電（５０３）４８７７６補正
の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄明細書第３頁
第１行において、 ［この方法は輻射気体の・・・・・］とあるを、「この
方法は噴射体の・・・・・」に訂正する。 明細書第３頁第３行において、 「範囲に・・・・・」とあるを、 「範囲外に・・・・」に訂正する。 明細書第６頁第６行において、 ［δ＝にシ２７Ｊ）丁・−（１ン」とあるを、「δ＝に
ンμ×Ｌｓ／Ｊｐｇ・・・（１）」に訂正する。 明細書第７頁第５行において、 「δ・＝／７石］／／２西５・・・（２）」とあるを、
「δ・＝に／アコ］／・′アｇ−）−Ｆ ・・・（・
）」と訂正する。
Claims (1)
- 溶融メッキ金属浴中を通過して浮上する鋼ストリップに
付着した溶融メッキ金属に移動磁界を付加して該メッキ
浴面側へ電磁力を作用させ、さらに該電磁力が作用する
範囲の溶融メッキ金属に気体を吹き付けて余剰の溶融メ
ッキ金属を払拭することを特徴とする薄目付溶融メッキ
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10839185A JPS61266560A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 薄目付溶融メツキ法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10839185A JPS61266560A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 薄目付溶融メツキ法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61266560A true JPS61266560A (ja) | 1986-11-26 |
Family
ID=14483571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10839185A Pending JPS61266560A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 薄目付溶融メツキ法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61266560A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5384166A (en) * | 1991-06-25 | 1995-01-24 | Nkk Corporation | Method for controlling coating weight on a hot-dipped steel strip |
| WO2000077272A1 (en) * | 1999-06-11 | 2000-12-21 | Abb Ab | A method and a device for applying a coating onto an elongated object |
| JP2009500520A (ja) * | 2005-06-30 | 2009-01-08 | アーベーベー・アーベー | 厚さをコントロールするためのデバイス及び方法 |
| JP2010242140A (ja) * | 2009-04-02 | 2010-10-28 | Jfe Steel Corp | 溶融金属めっき設備 |
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| US8079323B2 (en) | 2004-04-13 | 2011-12-20 | Mitsubishi-Hitachi Metals Machinery, Inc. | Liquid wiping apparatus |
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Citations (1)
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| JPS5823464A (ja) * | 1981-08-04 | 1983-02-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
-
1985
- 1985-05-22 JP JP10839185A patent/JPS61266560A/ja active Pending
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