JPS61249238A - 真空吸着台 - Google Patents
真空吸着台Info
- Publication number
- JPS61249238A JPS61249238A JP8657385A JP8657385A JPS61249238A JP S61249238 A JPS61249238 A JP S61249238A JP 8657385 A JP8657385 A JP 8657385A JP 8657385 A JP8657385 A JP 8657385A JP S61249238 A JPS61249238 A JP S61249238A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- attractively
- suction
- vacuum
- mounting hole
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体ウェハやガラスマスクなどの薄板体
を保持する真空吸着台に関するものである。
を保持する真空吸着台に関するものである。
半導体を製造する際に用いられるレジスト塗布装置、ス
ピンドライヤー、マスクアライナ−、パターン検査装置
などには、半導体ウェハーやガラスマスク等の薄板体を
真空吸着して保持する真空吸着台が使用されている。
ピンドライヤー、マスクアライナ−、パターン検査装置
などには、半導体ウェハーやガラスマスク等の薄板体を
真空吸着して保持する真空吸着台が使用されている。
第２図（２）は従来の真空吸着台の一例を示す平面図、
第２図（均は第２図（２）のＸ −Ｘ／線での断面図で
ある。図において、（１）は合板、（１ａ）は円形状の
横断面形状を有し合板（１）の一方の主面部に設けられ
た凹部、（２）は円形状の板状体からなり、一方の主面
側が凹部（１ａ）の開口端部側を覆うように合板（１）
に固着され、真空吸着する薄板体（図示せず）が上面に
載置される吸着板、（３）は１Ｈ程度の直径を有し吸着
板（２）を貫通するように複数個形成され吸着板（２）
の上面に載置された薄板体（図示せず）を真空吸着する
ための吸着孔、（４）は一方の端が合板（１）の側壁を
貫通して固着され、他方の端部が真空装置（図示せず）
に接続されるニップルである。
第２図（均は第２図（２）のＸ −Ｘ／線での断面図で
ある。図において、（１）は合板、（１ａ）は円形状の
横断面形状を有し合板（１）の一方の主面部に設けられ
た凹部、（２）は円形状の板状体からなり、一方の主面
側が凹部（１ａ）の開口端部側を覆うように合板（１）
に固着され、真空吸着する薄板体（図示せず）が上面に
載置される吸着板、（３）は１Ｈ程度の直径を有し吸着
板（２）を貫通するように複数個形成され吸着板（２）
の上面に載置された薄板体（図示せず）を真空吸着する
ための吸着孔、（４）は一方の端が合板（１）の側壁を
貫通して固着され、他方の端部が真空装置（図示せず）
に接続されるニップルである。
次に、この従来の真空吸着台の動作を第３図（５）Ｋ示
す断面図で説明する。
す断面図で説明する。
図に示すように、吸着板（２）の上面に全部の吸着孔（
３）を閉鎖することができる横断面形状を有する薄板体
（５ａ）を載置した場合は、凹部（１ａ）内をニップル
（４）を通じて真空にすることができるので、吸着板（
２）の上面に薄板体（５ａ）を真空吸着して保持するこ
とができる。
３）を閉鎖することができる横断面形状を有する薄板体
（５ａ）を載置した場合は、凹部（１ａ）内をニップル
（４）を通じて真空にすることができるので、吸着板（
２）の上面に薄板体（５ａ）を真空吸着して保持するこ
とができる。
上記第２図の従来の真空吸着台では、第３回内の様に吸
着板（２）の吸着孔（３）の全てをふさぐ様な薄板体（
５ａ）であれば、上記の様に吸着板（２）の上面に完全
に真空吸着でき保持することができる。しかし、第３図
０に示すような吸着板（２）の上面の全部の吸着孔（３
）をふさぐことができない横断面形状を有する薄板体（
５ｂ）が載置された場合には、薄板体（５ｂ）によって
ふさがれていない吸着孔（３）を通じて外気が凹部（１
ａ）内に流入し、凹部（１ａ）内を真空状態に保つこと
ができなくなるため、吸着板（２）の上面に載置された
薄板体（５ｂ）を真空吸着して保持することが不可能で
あるという問題があった。
着板（２）の吸着孔（３）の全てをふさぐ様な薄板体（
５ａ）であれば、上記の様に吸着板（２）の上面に完全
に真空吸着でき保持することができる。しかし、第３図
０に示すような吸着板（２）の上面の全部の吸着孔（３
）をふさぐことができない横断面形状を有する薄板体（
５ｂ）が載置された場合には、薄板体（５ｂ）によって
ふさがれていない吸着孔（３）を通じて外気が凹部（１
ａ）内に流入し、凹部（１ａ）内を真空状態に保つこと
ができなくなるため、吸着板（２）の上面に載置された
薄板体（５ｂ）を真空吸着して保持することが不可能で
あるという問題があった。
この発明は、上記従来の問題点を解決するためＫなされ
たもので、吸着板の吸着孔を全てふさぐことのできない
横断面形状を有する薄板体セ負空吸着して、確実に保持
できるようｋした真空吸着台を提供するものである。
たもので、吸着板の吸着孔を全てふさぐことのできない
横断面形状を有する薄板体セ負空吸着して、確実に保持
できるようｋした真空吸着台を提供するものである。
この発明による真空＠層台は、吸着孔の全てに流入する
外気によって閉鎖状態になる板状弁を設けたものである
。
外気によって閉鎖状態になる板状弁を設けたものである
。
この発明による真空吸着台を使用すれば、薄、板体の大
小にか−わらず吸着することが出来る。
小にか−わらず吸着することが出来る。
第１図はこの発明による真空吸着台の一実施例を示す断
面図である。図において（１）は合板、（１ａ）は凹部
、（２）は吸着板、（３）は吸着孔、（４）はニップル
（５ｂ）は薄板体、（６）はある角度（θ）で曲げられ
た板状弁、（７）は弁受け、（１２ａ ）は弁室、（８
）は第２の吸着孔である。
面図である。図において（１）は合板、（１ａ）は凹部
、（２）は吸着板、（３）は吸着孔、（４）はニップル
（５ｂ）は薄板体、（６）はある角度（θ）で曲げられ
た板状弁、（７）は弁受け、（１２ａ ）は弁室、（８
）は第２の吸着孔である。
この様に形成した真空吸着台を用いて薄板体（５ｂ）を
真空吸着すると、吸着板（２）の主面上に載置された薄
板体（５ｂ）によって吸着孔（３）がふさがれている場
合には、板状弁（６）を押し下げる力が作用しないので
、弁室（２ａ）と第２の吸着孔（８）は通じており、薄
板体（５ｂ）を真空吸着できる。一方、第１図（２）の
左半分に示す様に、吸着板（２）の吸着孔（３）が閉鎖
されていない場合には、吸着孔（３）を通して弁室（２
ａ）内へ流入する外気の圧力によって、来の真空吸着台
の様に合板（１）の凹部（１ａ）内の真空状態を保つこ
とが出来る。
真空吸着すると、吸着板（２）の主面上に載置された薄
板体（５ｂ）によって吸着孔（３）がふさがれている場
合には、板状弁（６）を押し下げる力が作用しないので
、弁室（２ａ）と第２の吸着孔（８）は通じており、薄
板体（５ｂ）を真空吸着できる。一方、第１図（２）の
左半分に示す様に、吸着板（２）の吸着孔（３）が閉鎖
されていない場合には、吸着孔（３）を通して弁室（２
ａ）内へ流入する外気の圧力によって、来の真空吸着台
の様に合板（１）の凹部（１ａ）内の真空状態を保つこ
とが出来る。
従って、この実施例では、吸着板（２）の上面の全部の
吸着孔（３）を閉鎖することができない横断面形状を有
する薄板体（５ｂ）が載置された場合においても、この
薄板体（５ｂ）を真空吸着して保持することができる。
吸着孔（３）を閉鎖することができない横断面形状を有
する薄板体（５ｂ）が載置された場合においても、この
薄板体（５ｂ）を真空吸着して保持することができる。
以上説明したように、この発明の真空吸着台では、薄板
体を真空吸着する吸着板の吸着孔が薄板体によってふさ
がれているとき、板状弁は開放状ＭＫなり、ふさがれて
いないときには吸着孔を通して流入する外気の圧力によ
って閉鎖状態になる板状弁を設けたので、吸着板の吸着
孔の全部をふさぐことかできない横断面形状を有する薄
板体や、そり又はうねりのある薄板体でも一部が吸着口
を閉鎖すれば、真空吸着することができる。
体を真空吸着する吸着板の吸着孔が薄板体によってふさ
がれているとき、板状弁は開放状ＭＫなり、ふさがれて
いないときには吸着孔を通して流入する外気の圧力によ
って閉鎖状態になる板状弁を設けたので、吸着板の吸着
孔の全部をふさぐことかできない横断面形状を有する薄
板体や、そり又はうねりのある薄板体でも一部が吸着口
を閉鎖すれば、真空吸着することができる。
第１図はこの発明による真空吸着台の一実施例を示す断
面図、第２図、第６図は従来の真空吸着台を示す断面図
である。 図において（１）は合板、（１ａ）は凹部、（２）は吸
着板、（３）は吸着孔、（４）は＝７プル、（５ａ）
（５ｂ）は薄板体、（６） ＃ （６ａ ）は板状弁、
（７）は弁受け、（８）は第２の吸着孔、（ｆ１２ａ）
は弁室、である。 なお、図中同一符号はそれぞれ同−又は相当部分を示す
。 代理人 弁理士 木 村 三 朗 第１図 （Ａ） 第２図
面図、第２図、第６図は従来の真空吸着台を示す断面図
である。 図において（１）は合板、（１ａ）は凹部、（２）は吸
着板、（３）は吸着孔、（４）は＝７プル、（５ａ）
（５ｂ）は薄板体、（６） ＃ （６ａ ）は板状弁、
（７）は弁受け、（８）は第２の吸着孔、（ｆ１２ａ）
は弁室、である。 なお、図中同一符号はそれぞれ同−又は相当部分を示す
。 代理人 弁理士 木 村 三 朗 第１図 （Ａ） 第２図
Claims (1)
- 薄板体を真空吸着する複数個の吸着孔が形成された吸
着板を有する真空吸着台において、上記薄板体により吸
着孔が閉鎖されているときには弁が開放状態になり、閉
鎖されていないときには閉鎖状態になる板状弁を設けた
ことを特徴とする真空吸着台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8657385A JPS61249238A (ja) | 1985-04-24 | 1985-04-24 | 真空吸着台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8657385A JPS61249238A (ja) | 1985-04-24 | 1985-04-24 | 真空吸着台 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61249238A true JPS61249238A (ja) | 1986-11-06 |
Family
ID=13890751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8657385A Pending JPS61249238A (ja) | 1985-04-24 | 1985-04-24 | 真空吸着台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61249238A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2706798A1 (en) * | 1993-06-25 | 1994-12-30 | Couval Sa | Device for positioning a workpiece and holding it in position using an air vacuum |
| KR20140050647A (ko) * | 2011-08-12 | 2014-04-29 | 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 | 웨이퍼를 고정하기 위한 고정 장치 |
| JP2014529884A (ja) * | 2011-08-12 | 2014-11-13 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | パターン化されたウェハを取り付けるための取付け装置 |
| CN104259725A (zh) * | 2014-10-28 | 2015-01-07 | 无锡汉神电气有限公司 | 平板直缝焊接真空吸盘装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5215082B2 (ja) * | 1974-01-17 | 1977-04-26 | ||
| JPS5759092B2 (ja) * | 1978-09-08 | 1982-12-13 | Fuji Heavy Ind Ltd |
-
1985
- 1985-04-24 JP JP8657385A patent/JPS61249238A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5215082B2 (ja) * | 1974-01-17 | 1977-04-26 | ||
| JPS5759092B2 (ja) * | 1978-09-08 | 1982-12-13 | Fuji Heavy Ind Ltd |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2706798A1 (en) * | 1993-06-25 | 1994-12-30 | Couval Sa | Device for positioning a workpiece and holding it in position using an air vacuum |
| KR20140050647A (ko) * | 2011-08-12 | 2014-04-29 | 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 | 웨이퍼를 고정하기 위한 고정 장치 |
| JP2014529884A (ja) * | 2011-08-12 | 2014-11-13 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | パターン化されたウェハを取り付けるための取付け装置 |
| US9378996B2 (en) | 2011-08-12 | 2016-06-28 | EV Group W. Thallner GmbH | Holding device for holding a patterned wafer |
| CN104259725A (zh) * | 2014-10-28 | 2015-01-07 | 无锡汉神电气有限公司 | 平板直缝焊接真空吸盘装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2501366B2 (ja) | 物体の保持装置 | |
| JP5092004B2 (ja) | 吸着テーブル | |
| KR20180088597A (ko) | 엔드 이펙터 | |
| KR100417571B1 (ko) | 판상재의 척 및 흡인반 | |
| JPH0372423B2 (ja) | ||
| JPH01100508A (ja) | 顕微鏡の万能型対象物保持装置 | |
| JPS61249238A (ja) | 真空吸着台 | |
| JPS6243820B2 (ja) | ||
| JP2011029388A (ja) | 真空吸着パッド、搬送アーム及び基板搬送装置 | |
| JPS5646529A (en) | Wafer chuck | |
| JPS63102848A (ja) | 真空吸着台 | |
| JP2546652B2 (ja) | チヤツクテ−ブル | |
| TWI543918B (zh) | 用來運送平板構件之輸送載具 | |
| JPH02139148A (ja) | 真空吸着テーブル | |
| JP2585298Y2 (ja) | チップボンディング装置におけるワーク吸着部 | |
| KR20090102568A (ko) | 세라믹 볼 패널 타입 에어진공척 | |
| JPH10128633A (ja) | 真空吸着装置 | |
| JPH05301137A (ja) | 真空チャック | |
| JPH05299492A (ja) | ウエハの位置決め装置 | |
| JPH0567551A (ja) | ウエハチヤツク | |
| JPH0745692A (ja) | 基板の吸着保持装置 | |
| JPH11284056A (ja) | 吸着固定装置 | |
| JPH0335990A (ja) | 真空吸着装置 | |
| KR20120045758A (ko) | 비접촉식 이송장치 | |
| JPH06260409A (ja) | 熱処理装置 |