JPS61238792A - 置換ポリシリレン化合物 - Google Patents
置換ポリシリレン化合物Info
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- JPS61238792A JPS61238792A JP8093085A JP8093085A JPS61238792A JP S61238792 A JPS61238792 A JP S61238792A JP 8093085 A JP8093085 A JP 8093085A JP 8093085 A JP8093085 A JP 8093085A JP S61238792 A JPS61238792 A JP S61238792A
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- Japan
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- reaction
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- diphenylphosphino
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は置換ポリシリレン化合物に関する。
詳しくは本発明はジアリールホスフィノアリール基がケ
イ素原子上に置換した構造を有する新規なポリシロキサ
ン化合物、シクロポリシロキサン化合物又はポリシルア
ルキレン化合物に関するものである。
イ素原子上に置換した構造を有する新規なポリシロキサ
ン化合物、シクロポリシロキサン化合物又はポリシルア
ルキレン化合物に関するものである。
錯体触媒を用いる工業的に重要な反応としてオキソ反応
、水素化反応、酸化反応、低重合反応、ヒドロシリル化
反応等が知られている。これらの反応においては用いる
触媒の金属成分も重要な役割を示すが、それと共に使用
される配位子も触媒作用に重大な影響を及ぼす。即ち、
配位子により反応の活性及び選択性が大きく変化するこ
とは良く知られている。ことに、水素化反応およびオキ
ソ反応においては選択性が大きな問題であり、その向上
のための配位子の設計および合成が盛んに行なわれてい
る。
、水素化反応、酸化反応、低重合反応、ヒドロシリル化
反応等が知られている。これらの反応においては用いる
触媒の金属成分も重要な役割を示すが、それと共に使用
される配位子も触媒作用に重大な影響を及ぼす。即ち、
配位子により反応の活性及び選択性が大きく変化するこ
とは良く知られている。ことに、水素化反応およびオキ
ソ反応においては選択性が大きな問題であり、その向上
のための配位子の設計および合成が盛んに行なわれてい
る。
錯体触媒反応に使用される代表的な配位子の一群として
檻々のホスフィン化合物が知られており、これまでにも
トリプルキルホスフィンやトリアリールホスフィンのよ
うな単純なモノホスフィ７類のほかに、分子中に複数の
配位リン原子を有するポリホスフィ／類、或いはリン原
子以外の異種原子を有する置換ホスフィン類などの種々
のホスフィン化合物が提案されている。
檻々のホスフィン化合物が知られており、これまでにも
トリプルキルホスフィンやトリアリールホスフィンのよ
うな単純なモノホスフィ７類のほかに、分子中に複数の
配位リン原子を有するポリホスフィ／類、或いはリン原
子以外の異種原子を有する置換ホスフィン類などの種々
のホスフィン化合物が提案されている。
上記異種原子を有する置換ホスフィンとしてケイ素原子
を含有するホスフィ／化合物が知られている。例えば特
開昭≠２−ｊ２／り弘号公の反覆単位よシ本質上成る非
線状の重合体ホスフィンを開示している。該重合体ホス
フィンを製造するための原料モノマーとしては３官能性
のトリアルコキシシラン化合物が用いられてい。
を含有するホスフィ／化合物が知られている。例えば特
開昭≠２−ｊ２／り弘号公の反覆単位よシ本質上成る非
線状の重合体ホスフィンを開示している。該重合体ホス
フィンを製造するための原料モノマーとしては３官能性
のトリアルコキシシラン化合物が用いられてい。
る。上記公報は上記重合体ホスフィンを錯体触媒の不均
一化のための配位子として、或いは生成物と錯体触媒と
を分離するための配位子として使用することを開示して
いる。
一化のための配位子として、或いは生成物と錯体触媒と
を分離するための配位子として使用することを開示して
いる。
上記の通り錯体触媒反応に配位子として使用するホスフ
ィ／化合物が種々提案されているが、その有効性は反応
或いは反応物の種類にも依存し、あらゆる反応及び反応
物に有効な配位子は知られていない。従って反応及び反
応物の種類によって更に有効な配位子を開発することが
強く望まれている。
ィ／化合物が種々提案されているが、その有効性は反応
或いは反応物の種類にも依存し、あらゆる反応及び反応
物に有効な配位子は知られていない。従って反応及び反
応物の種類によって更に有効な配位子を開発することが
強く望まれている。
本発明者らは、均−辰錯体触媒反応、特に水素化反応に
おいて選択性を向上、維持するのに有効な新規配位子の
検討を鋭意性なってきたとコロ、ジアリールホスフィノ
基がフェニレン基を介してケイ素原子に置換した構造を
有する特定の化合物が有効であることを見出して本発明
に到達した。
おいて選択性を向上、維持するのに有効な新規配位子の
検討を鋭意性なってきたとコロ、ジアリールホスフィノ
基がフェニレン基を介してケイ素原子に置換した構造を
有する特定の化合物が有効であることを見出して本発明
に到達した。
即ち本発明の目的は新規な置換ポリシリレノ化合物を提
供することにるり、その要旨は、一般式（Ｉ）： （式中、ｎは０−２０の整数を示す。Ｒ１は置換基を有
していてもよいアリール基を示し、相互に異なっていて
もよい。Ｒ２は置換基を有していてもよいアルキル基又
はアリール基を示し、相互に異なっていてもよい。） で表わされる化合物、 一般式（Ｉｆ） ： （式中、ｍは３〜ｉｏの整数を示し Ｒ１及びＲ２はそ
れぞれ前記と同様のものを示す。）で表わされる化合物
、及び 一般式（■）： （式中、１は／−／Ｑの整数を示し、Ｒ１及びＲ２はそ
れぞれ前記と同様のものを示す。）で表わされる化合物
、 からなる群から選ばれた置換ポリシリレン化合物、に存
する。
供することにるり、その要旨は、一般式（Ｉ）： （式中、ｎは０−２０の整数を示す。Ｒ１は置換基を有
していてもよいアリール基を示し、相互に異なっていて
もよい。Ｒ２は置換基を有していてもよいアルキル基又
はアリール基を示し、相互に異なっていてもよい。） で表わされる化合物、 一般式（Ｉｆ） ： （式中、ｍは３〜ｉｏの整数を示し Ｒ１及びＲ２はそ
れぞれ前記と同様のものを示す。）で表わされる化合物
、及び 一般式（■）： （式中、１は／−／Ｑの整数を示し、Ｒ１及びＲ２はそ
れぞれ前記と同様のものを示す。）で表わされる化合物
、 からなる群から選ばれた置換ポリシリレン化合物、に存
する。
以下、本発明につき詳細に説明する。
本発明の置換ポリシリレン化合物は、ジアリールホスフ
ィノアリール基がケイ素原子上に置換し九構造、詳しく
は一般式（■〕： （式中 Ｒ１及びＲ２はそれぞれ前記と同様のものを示
す。） で表わされる置換シリレノ基を有する化合物である。
ィノアリール基がケイ素原子上に置換し九構造、詳しく
は一般式（■〕： （式中 Ｒ１及びＲ２はそれぞれ前記と同様のものを示
す。） で表わされる置換シリレノ基を有する化合物である。
前記一般式（１１〜（■）（従って一般式（■））にお
いて基Ｒ１は置換基を有していてもよいアリール基を表
わし、具体例としてはフェニル基、ナ７ｆ１１’ｔｓｓ
ト’）ル基、グーフルオロフェニル基、４’ −（
トＩＪ ７ ｎ、オロメチル）フェニル基、ｔｉ−−（
トリメチルシリル〕フェニル基、≠−７ミノフエニル基
等が挙げられる。上記各一般式中のジアリールホスフィ
ノアリール基はこれらのアリール基を組合せることによ
って形成され、具体例としては１）−（ジフェニルホス
フィノ）フェニル基ｓ ｒｎ−Ｃ’）−ｙエニルホスフ
（／）７エ二ル基、０−（ジフェニルホスフィ／）７ｘ
二”ｔｓｓ ｐ （シナ７チルホスフイノ）フェニ
ルＩＩｓ ｐ Ｃビス（弘−メチルフェニル〕ホス
フィノ〕フェニル基ｓｐ Ｃビス（弘−トリメチイノ
〕フェニル基ｓ ｐ （ビス（弘−フルオロフェニ
ル）ホスフィノコフェニル基、ｐ （ビス（弘−アミ
ノフェニル）ホスフィノコフェニル基等が挙げられる。
いて基Ｒ１は置換基を有していてもよいアリール基を表
わし、具体例としてはフェニル基、ナ７ｆ１１’ｔｓｓ
ト’）ル基、グーフルオロフェニル基、４’ −（
トＩＪ ７ ｎ、オロメチル）フェニル基、ｔｉ−−（
トリメチルシリル〕フェニル基、≠−７ミノフエニル基
等が挙げられる。上記各一般式中のジアリールホスフィ
ノアリール基はこれらのアリール基を組合せることによ
って形成され、具体例としては１）−（ジフェニルホス
フィノ）フェニル基ｓ ｒｎ−Ｃ’）−ｙエニルホスフ
（／）７エ二ル基、０−（ジフェニルホスフィ／）７ｘ
二”ｔｓｓ ｐ （シナ７チルホスフイノ）フェニ
ルＩＩｓ ｐ Ｃビス（弘−メチルフェニル〕ホス
フィノ〕フェニル基ｓｐ Ｃビス（弘−トリメチイノ
〕フェニル基ｓ ｐ （ビス（弘−フルオロフェニ
ル）ホスフィノコフェニル基、ｐ （ビス（弘−アミ
ノフェニル）ホスフィノコフェニル基等が挙げられる。
また前記一般式（Ｉ）〜（ｌＩ［）において基Ｒ２は置
換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基を表
わす。該アルキル基としては通常、炭素数が／−１０，
好ましくはｔ−弘のアルキル基が挙げられ、具体例とし
てはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙
げられる。また該アリール基としては基Ｒ１につき前記
したのと同様のアリール基が挙げられる。
換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基を表
わす。該アルキル基としては通常、炭素数が／−１０，
好ましくはｔ−弘のアルキル基が挙げられ、具体例とし
てはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙
げられる。また該アリール基としては基Ｒ１につき前記
したのと同様のアリール基が挙げられる。
次に一般式（１１、（Ｉｔ）及び（ＩＩＩ）の化合物の
各々についてより詳細に説明する。
各々についてより詳細に説明する。
一般式（Ｉ）のポリシロキサ／化合物において、ｎは０
，２０の整数であるが、好ましくはＯ〜よの整数でろる
。該ポリシロキサン化合物の具体例としては一般式（■
）： で表わされる化合物が挙げられる。
，２０の整数であるが、好ましくはＯ〜よの整数でろる
。該ポリシロキサン化合物の具体例としては一般式（■
）： で表わされる化合物が挙げられる。
まず上記一般式（■においてｎ ＝ Ｑの場合の化合物
は、例えば、Ｏ，Ｋａｂｏｒｎ、 ”Ｏｒｇａｎｏ日１
Ｑｃｏｎ００ｍｐＯｕｎｄ８″ ＋ Ｂｕｔｔｅｒ
ｗｏｒｔｈ日 ５ｃｉｅｎｔｉｆｉｃＰｕｂｌｉｃａｔ
ｉｏｎｓ （Ｌｏｎｄｏｎ）、 ｐ２２１ｒ（／９１ｒ
Ｏ）に記載された一般的なアルコキシシランの加水分解
方法に従い、例えば次式によって合成することができる
。〔但し、ｐ （ジフェニルホスフィノ）フェニル基
ｔ（ｄｐ）と略記することとし、以下同様とする。〕 （ａｐ） （ｄｐ） （ｄｐ）該反
応に際して酸又は塩基を存在させると反応は加速される
。生成物の取り出しは蒸留その他の常法（（よることが
できるが、通常、反応後に溶媒を留去するのみでもかな
りの純度の生成物を取得することができる。
は、例えば、Ｏ，Ｋａｂｏｒｎ、 ”Ｏｒｇａｎｏ日１
Ｑｃｏｎ００ｍｐＯｕｎｄ８″ ＋ Ｂｕｔｔｅｒ
ｗｏｒｔｈ日 ５ｃｉｅｎｔｉｆｉｃＰｕｂｌｉｃａｔ
ｉｏｎｓ （Ｌｏｎｄｏｎ）、 ｐ２２１ｒ（／９１ｒ
Ｏ）に記載された一般的なアルコキシシランの加水分解
方法に従い、例えば次式によって合成することができる
。〔但し、ｐ （ジフェニルホスフィノ）フェニル基
ｔ（ｄｐ）と略記することとし、以下同様とする。〕 （ａｐ） （ｄｐ） （ｄｐ）該反
応に際して酸又は塩基を存在させると反応は加速される
。生成物の取り出しは蒸留その他の常法（（よることが
できるが、通常、反応後に溶媒を留去するのみでもかな
りの純度の生成物を取得することができる。
なお上記加水分解反応の原料であるアルコ吃２シランは
例えば、ｃ、 Ｆｉａ’ｂＯｒｎ 、前掲書、ｐｇσ〜
３３に記載されたグＩＪ 、＝ヤール試薬又はアルキル
リチウムを用いる一般的なＳｌ−０結合の生成反応に従
い、例えば次式によって合成することができる。（式中
、Ｘは］・ロゲン原子を表わす。） ＯＣ，ａｌｌ ａａ３− Ｓｉ −ＱＣ，Ｈ。
例えば、ｃ、 Ｆｉａ’ｂＯｒｎ 、前掲書、ｐｇσ〜
３３に記載されたグＩＪ 、＝ヤール試薬又はアルキル
リチウムを用いる一般的なＳｌ−０結合の生成反応に従
い、例えば次式によって合成することができる。（式中
、Ｘは］・ロゲン原子を表わす。） ＯＣ，ａｌｌ ａａ３− Ｓｉ −ＱＣ，Ｈ。
（ｄｐ）
上式の反応においてジアルキルジアルコキシシランをジ
フェニルホスフィノフェニルハライドと等モル量又は過
剰に用いればケイ素原子にジフェニルホスフィノフェニ
ル基が１個置換した目的化合物が収率よ〈得られる。こ
の際、生成物の分離は蒸留等の常法によることができる
。
フェニルホスフィノフェニルハライドと等モル量又は過
剰に用いればケイ素原子にジフェニルホスフィノフェニ
ル基が１個置換した目的化合物が収率よ〈得られる。こ
の際、生成物の分離は蒸留等の常法によることができる
。
次に前記一般式（Ｖ）においてｎ≧ｌの場合の化合物は
、例えば（！、 Ｋａｂｏｒｎ 、前掲書、ｐ１０〜Ｊ
ＪＫ記載されたグリニヤール試薬又ハアルキルリチウム
を用いる一般的な５ｉ−０結合の生成反応に従い１例え
ば次式によって合成することができる。（式中、Ｘはハ
ロゲン原子を表わす。〕 Ｘ ０Ｈ３Ｘ 上式の反応において原料のモル比に特に制限はないが、
両者をほぼ化学量論量、即ちジフェニルホスフィノフェ
ニルハライド２モルに対してジハロゲノポリシロキサ／
約１モルの割合で用いるのが好ましい。試薬としてアル
キルリチウムを用いる場合には特に−７０〜−ｉｏ℃程
度の低温で反応を行なうのが好ましい。生成物の取り出
しは常法に従い、例えば加水分解、抽出に続いて蒸留又
は再結晶をすることによって行なうことができる。
、例えば（！、 Ｋａｂｏｒｎ 、前掲書、ｐ１０〜Ｊ
ＪＫ記載されたグリニヤール試薬又ハアルキルリチウム
を用いる一般的な５ｉ−０結合の生成反応に従い１例え
ば次式によって合成することができる。（式中、Ｘはハ
ロゲン原子を表わす。〕 Ｘ ０Ｈ３Ｘ 上式の反応において原料のモル比に特に制限はないが、
両者をほぼ化学量論量、即ちジフェニルホスフィノフェ
ニルハライド２モルに対してジハロゲノポリシロキサ／
約１モルの割合で用いるのが好ましい。試薬としてアル
キルリチウムを用いる場合には特に−７０〜−ｉｏ℃程
度の低温で反応を行なうのが好ましい。生成物の取り出
しは常法に従い、例えば加水分解、抽出に続いて蒸留又
は再結晶をすることによって行なうことができる。
なお上記反応の原料であるα、ａ−ジハロゲノポリシロ
キサンは、例えばＶ、 Ｂｍｔ 。
キサンは、例えばＶ、 Ｂｍｔ 。
−Ｏｒｇａｎｏｓｉｌｉｃｏｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ”
、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ
） 、 ｐ弘Ａ（／り＋１） の記載に従い、次式
によって合成することができる。
、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ
） 、 ｐ弘Ａ（／り＋１） の記載に従い、次式
によって合成することができる。
ＣＨ。
１ ＣＯＨ３）ｚＢｌ（ＯＣ４Ｈ５）ｚ一般式
（Ｕ）のシクロポリシロキサン化合物において、ｍは３
〜１０の整数であるが、好ましくは３〜！の整数である
。該シクロポリシロキサン化合物の具体例としては一般
式（■）：で表わされる化合物が挙げられる。
（Ｕ）のシクロポリシロキサン化合物において、ｍは３
〜１０の整数であるが、好ましくは３〜！の整数である
。該シクロポリシロキサン化合物の具体例としては一般
式（■）：で表わされる化合物が挙げられる。
上記一般式（ＶＩ） の化合物は、例えばＣ！、Ｋａ
ｂＯｒｎ、前掲書、Ｐ２ＪＯに記載された一般的なジア
ルコキシシランの加水分解方法に従い、例えば次式によ
って合成することができる。
ｂＯｒｎ、前掲書、Ｐ２ＪＯに記載された一般的なジア
ルコキシシランの加水分解方法に従い、例えば次式によ
って合成することができる。
上式の反応に際して酸又は塩基を存在させると反応は加
速される。生成物の取り出しは、反応後に抽出及び溶媒
留去分桁なうのみでもかなりの純度の生成物を取得する
ことができるが、更に再結晶を行なって純度を高めるこ
ともできる。
速される。生成物の取り出しは、反応後に抽出及び溶媒
留去分桁なうのみでもかなりの純度の生成物を取得する
ことができるが、更に再結晶を行なって純度を高めるこ
ともできる。
な２上記加水分解反応の原料であるジアルコキシシラン
は例えば、 Ｑ、ＫａｂＯｒｎ、前掲書、Ｐ１０〜３３
に記載されたグＩＪ ニヤール試薬又はアルキルリチウ
ムを用いる一般的な８１−Ｃ！ 結表わす。） Ｈ３ −＋ Ｃ４Ｈ，Ｏ−Ｓｉ −００，Ｈ。
は例えば、 Ｑ、ＫａｂＯｒｎ、前掲書、Ｐ１０〜３３
に記載されたグＩＪ ニヤール試薬又はアルキルリチウ
ムを用いる一般的な８１−Ｃ！ 結表わす。） Ｈ３ −＋ Ｃ４Ｈ，Ｏ−Ｓｉ −００，Ｈ。
（ｄｐ）
上式の反応においてアルキルトリアルコキシシランをジ
フェニルホスフィノフェニルハライドと等モル量又は過
剰に用いれば目的化合物が収率よく得ら扛る。生成物の
取り出しは蒸留等の常法によることができる。
フェニルホスフィノフェニルハライドと等モル量又は過
剰に用いれば目的化合物が収率よく得ら扛る。生成物の
取り出しは蒸留等の常法によることができる。
一般式（ＩＩＩ）のポリシルアルキレン化合物ニおいて
、１は／〜ＩＱの整数であるが、好ｔ（２くは／〜！の
整数である。該ポリシルアルキレン化合物の具体例とし
ては一般式（■）：で表わされる化合物が挙げられる。
、１は／〜ＩＱの整数であるが、好ｔ（２くは／〜！の
整数である。該ポリシルアルキレン化合物の具体例とし
ては一般式（■）：で表わされる化合物が挙げられる。
上記一般式（■）の化合物は例えば０． Ｅａｂｏｒｎ
。
。
前掲書、ｐ１０〜３３に記載されたグＩＪ ニヤール試
薬又はアルキルリチウムを用いる一般的な５ｉ−Ｃ結合
生成反応に従い、例えば次式にょって合成することがで
きる。（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。） ！ ！ （ｄｐ） ＣｅＬｐ） 生成物の取り出しは例えば塩分離及び溶媒留ルアルカン
は、例えばグリニヤール試薬を用いる５ｉ−Ｃ結合生成
反応により次式によって合成することができる。（式中
、Ｘはハロゲン原子を表わす。） 本発明の一般式（１）、 （ｎ）又は（２）で表わされ
る置換ポリシリレン化合物は例えば均一系錯体触媒反応
の配位子成分として使用することができる。
薬又はアルキルリチウムを用いる一般的な５ｉ−Ｃ結合
生成反応に従い、例えば次式にょって合成することがで
きる。（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。） ！ ！ （ｄｐ） ＣｅＬｐ） 生成物の取り出しは例えば塩分離及び溶媒留ルアルカン
は、例えばグリニヤール試薬を用いる５ｉ−Ｃ結合生成
反応により次式によって合成することができる。（式中
、Ｘはハロゲン原子を表わす。） 本発明の一般式（１）、 （ｎ）又は（２）で表わされ
る置換ポリシリレン化合物は例えば均一系錯体触媒反応
の配位子成分として使用することができる。
体を形成させてから反応系に供給してもよい。
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが１
本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例によって
限定されるものではない。
本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例によって
限定されるものではない。
■
（（１１）） キサンの合成
ｐ−ブロムフェニルジフェニルホスフィン／ Ｏｆ （
０，０２りＪｍｏｌ）、金属マグネシウム（Ｍｇ）Ｑ。
０，０２りＪｍｏｌ）、金属マグネシウム（Ｍｇ）Ｑ。
７♂ｙ （０，０Ｊ２ｍｏ１）およびメチルトリエトキ
シシラｙ ！、７ｕｆ（０，０Ｊ２ｒｎｏ１）を乾燥テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ’）／弘！−に混合し、窒素
気流中で２時間加熱還流した。混合液中ではＭｇ が
徐々に溶解して暗褐色の均一溶液に変化し、反応終了時
には透明な黄色溶液に変化した。次に蒸−留を行なって
／ 弘０〜／ ４ ｊ℃／、／、ＯｍｍＨｇの留分（大
部分は〜／６２℃）をとり、ｔＪ！ｆ（収率！７％）の
メチル・ジェトキシ〔ｐ−（ジフェニルホスフィノ）フ
ェニルコシランを得た。そのスペクトル分析データは次
の通りである。
シシラｙ ！、７ｕｆ（０，０Ｊ２ｒｎｏ１）を乾燥テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ’）／弘！−に混合し、窒素
気流中で２時間加熱還流した。混合液中ではＭｇ が
徐々に溶解して暗褐色の均一溶液に変化し、反応終了時
には透明な黄色溶液に変化した。次に蒸−留を行なって
／ 弘０〜／ ４ ｊ℃／、／、ＯｍｍＨｇの留分（大
部分は〜／６２℃）をとり、ｔＪ！ｆ（収率！７％）の
メチル・ジェトキシ〔ｐ−（ジフェニルホスフィノ）フ
ェニルコシランを得た。そのスペクトル分析データは次
の通りである。
ＮＭＲ： ０．６ ｐｐｍ （８； Ｊ Ｈ）、／、ｊ
ｐｐｍ（ｔ；４Ｈ）、４’−１ｐｐｍ （ｑ ；”
）ｓ ７・ｐ〜ｇ−ＯＴ：＋ｐｒｎ Ｃｒｎ；ｔｐ
Ｈ）。〔１００ＭＨ２゜００１４、外部基準〕 工 Ｒ： ３０４１０，２りｔｏ、ｔｚりｏ、ｉ弘１
０．／≠３よ。
ｐｐｍ（ｔ；４Ｈ）、４’−１ｐｐｍ （ｑ ；”
）ｓ ７・ｐ〜ｇ−ＯＴ：＋ｐｒｎ Ｃｒｎ；ｔｐ
Ｈ）。〔１００ＭＨ２゜００１４、外部基準〕 工 Ｒ： ３０４１０，２りｔｏ、ｔｚりｏ、ｉ弘１
０．／≠３よ。
／１４００，１２７０．／／７０．／／Ｊｊ、／／１０
゜１ｏｔｏ、りｔｏ、♂Ｄ０，７７１．７ＩＯ，７００
ｃｍ ’（ＫＢｒ） 次に／３．♂！ｔのメチル・ジェトキシ〔ｐ−（ジフェ
ニルホスフィノ）フェニルコシラン、ｐ−トルエンスル
ホン酸Ｏ１り？、およヒ水ハ３ｄをｔｏ７のＴＨＦに混
合し、窒素気流下で１時間加熱還流したのち、７２時間
生成する水を共沸留去しなから７２時間加熱還流した。
゜１ｏｔｏ、りｔｏ、♂Ｄ０，７７１．７ＩＯ，７００
ｃｍ ’（ＫＢｒ） 次に／３．♂！ｔのメチル・ジェトキシ〔ｐ−（ジフェ
ニルホスフィノ）フェニルコシラン、ｐ−トルエンスル
ホン酸Ｏ１り？、およヒ水ハ３ｄをｔｏ７のＴＨＦに混
合し、窒素気流下で１時間加熱還流したのち、７２時間
生成する水を共沸留去しなから７２時間加熱還流した。
続いて溶媒を留去し、得られた無色の固体をｓ＃′ベン
ゼン−エタノール系からμ回結晶（固体）化精製を行な
い液体クロマトグラフィーによってほぼ単一物質からな
る固体り、／ ｆを得た。この固体はＮＭＲ，工Ｒ１お
よびＭａｓｓ スペクトルより／、Ｊ、ｊ、７−テト
ラメチルー／、！、ｊ、７−テトラキス（ｐ”（ジフェ
ニルホスフィノ）フェニルコシクロテトラシロキサ／で
ある事を確認した。収率１１％、上記スペクトル分析の
データは次の通りである。
ゼン−エタノール系からμ回結晶（固体）化精製を行な
い液体クロマトグラフィーによってほぼ単一物質からな
る固体り、／ ｆを得た。この固体はＮＭＲ，工Ｒ１お
よびＭａｓｓ スペクトルより／、Ｊ、ｊ、７−テト
ラメチルー／、！、ｊ、７−テトラキス（ｐ”（ジフェ
ニルホスフィノ）フェニルコシクロテトラシロキサ／で
ある事を確認した。収率１１％、上記スペクトル分析の
データは次の通りである。
Ｎ Ｍ Ｒ： ０．３〜０．ｒｐｐｍ （ＳＪ本；ｌコ
Ｈ）、７．２Ｓ ７・りｐｐｍ（ｍ；ｊＡＨ）。 （７
００ＭＨｚ 、ｄ・−アセトン、外部基準〕 Ｉ Ｒ： ３０弘０．／Ｉｔ！、／１７１０．／１Ａ
３ｊ、／２７０゜１ｔ３ｒ、１ｏ７ｏ、１ｏｔｏ、ｔｏ
ｏ、’ｙｒｏ。
Ｈ）、７．２Ｓ ７・りｐｐｍ（ｍ；ｊＡＨ）。 （７
００ＭＨｚ 、ｄ・−アセトン、外部基準〕 Ｉ Ｒ： ３０弘０．／Ｉｔ！、／１７１０．／１Ａ
３ｊ、／２７０゜１ｔ３ｒ、１ｏ７ｏ、１ｏｔｏ、ｔｏ
ｏ、’ｙｒｏ。
７００ｃ！ｌＬ−’、［ＫＢｒ］
製造例コ
ｐ−ブロムフェニルジフェニルホスフィンｊ、Ｏｆ （
０，０／１１７ ｍｏｂ ）、Ｍｇ Ｏ，，３６ｔ お
よびジメチルジェトキシシランｊ、、２ｊ ｆを乾燥Ｔ
ＨＦ３０−に混合し、窒素気流中３時間加熱還流しした
。次に蒸留を行ない／３１−／乙！’Ｃ／／、θｍｍＨ
ｇ の留分ｔとシ、３．り／９（収率ニア３％）ノシメ
チル・エトキシ・Ｃｐ−（ジフェニルホスフィノ）フェ
ニル〕シランヲ得り。ソノスペクトル分析データは次の
通りである。
０，０／１１７ ｍｏｂ ）、Ｍｇ Ｏ，，３６ｔ お
よびジメチルジェトキシシランｊ、、２ｊ ｆを乾燥Ｔ
ＨＦ３０−に混合し、窒素気流中３時間加熱還流しした
。次に蒸留を行ない／３１−／乙！’Ｃ／／、θｍｍＨ
ｇ の留分ｔとシ、３．り／９（収率ニア３％）ノシメ
チル・エトキシ・Ｃｐ−（ジフェニルホスフィノ）フェ
ニル〕シランヲ得り。ソノスペクトル分析データは次の
通りである。
ＮＭＲ： Ｏ，ｊｐｐｍ （８； ６ Ｈ）、バー２ｐ
ｐｍ （ｔ ； ｚ Ｈ）、４’−Ｏｐｐｍ（ｑ ；ｊ
Ｈ）、７．弘〜♂、Ｏｐｐｍ （ｍ；／！Ｈ）。（Ａ
ＯＭＨ２１ｄ’−アセトン、外部基準〕 Ｉ Ｒ： ３０３０，２９６０．／ｊ♂ｊ、／１１
？０，１４ＡＪ！。
ｐｍ （ｔ ； ｚ Ｈ）、４’−Ｏｐｐｍ（ｑ ；ｊ
Ｈ）、７．弘〜♂、Ｏｐｐｍ （ｍ；／！Ｈ）。（Ａ
ＯＭＨ２１ｄ’−アセトン、外部基準〕 Ｉ Ｒ： ３０３０，２９６０．／ｊ♂ｊ、／１１
？０，１４ＡＪ！。
１３りｒ、ｔｘｔ、ｏ、１ｉｔｏ、／１３ｏ、１ｔｔｏ
。
。
１ｏｔｏ、り６０，１３０，７り０ 、７！０ 、７Ｑ
Ｏｃｍ−’（ｎｅａｔ ） 次にジメチル−エトキシ（ｐ−（ジフェニルホスフィノ
）フェニルコシラン０．４Ａ７ ｔ １ａ２゜Ｏ，！
ｄおよび２ Ｎ −ＨＣｌ、 ０．０！−をアセトンＯ
，ｊ１１ｔｌに混合し室温にて２０時間攪拌した。つい
で溶媒を留去し乾燥することによって、定量的にテトラ
メチル−／、３−ビス〔（ｐ−ジフェニルホスフィノ）
フェニルクジシロキサン０、弘！ｔｔｍた。ベンゼン−
エタノール系から再結晶を行なって精製品（融点１２〜
ｒａ℃）を得た。
Ｏｃｍ−’（ｎｅａｔ ） 次にジメチル−エトキシ（ｐ−（ジフェニルホスフィノ
）フェニルコシラン０．４Ａ７ ｔ １ａ２゜Ｏ，！
ｄおよび２ Ｎ −ＨＣｌ、 ０．０！−をアセトンＯ
，ｊ１１ｔｌに混合し室温にて２０時間攪拌した。つい
で溶媒を留去し乾燥することによって、定量的にテトラ
メチル−／、３−ビス〔（ｐ−ジフェニルホスフィノ）
フェニルクジシロキサン０、弘！ｔｔｍた。ベンゼン−
エタノール系から再結晶を行なって精製品（融点１２〜
ｒａ℃）を得た。
このものハＮＭ１’ｊ、 工Ｒスペクトルにより構造
を確認した。該スペクトル分析のデータは次の通りであ
る。
を確認した。該スペクトル分析のデータは次の通りであ
る。
ＮＭＲ： ｏ、弘ｐｐｍ （ｓ ｔ ’ Ｈ） ｓ ７
．コ〜♂、Ｏｐｐｍ （ｍ；λＩｆ Ｈ） （Ａ ＯＭ
Ｈｚ 、 ｄ”−アセト／、 外部基準〕 工 Ｒ： ３ｏグＯ，コタグ０．ｌ！り０，１グ１０
，１≠弘Ｏ１／２６０．／／Ｊ！、１０！０．／Ｉ１０
．１３ｊ、１００゜７３０ 、７００ｃａ （ｎｅａ
ｔ ）製造例３ （ｄｐ） ＣＨｓ（ａｐ） ヘー’ｆ−９ｌ ｆルーｌ、！−ビス［ｐ−（ジフェニ
ルホスフィノ）フェニル〕トリシロキサンの合成 窒素気ｆｉ下、ｐ−７”ロモフェニルジフェニルホスフ
イ：ｙ ｊ、Ｏｆ （０，０／１ＩＬ７ ｍｏｂ ）を
乾燥ジエチルエーテル３Ｑ−に溶解し、−７０℃に冷却
した。次にｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）／／ｄ
（ｔ 、Ｊ７ ｍｍｏ１／ｌＪ ）を滴下し、リチウ
ム化した。
．コ〜♂、Ｏｐｐｍ （ｍ；λＩｆ Ｈ） （Ａ ＯＭ
Ｈｚ 、 ｄ”−アセト／、 外部基準〕 工 Ｒ： ３ｏグＯ，コタグ０．ｌ！り０，１グ１０
，１≠弘Ｏ１／２６０．／／Ｊ！、１０！０．／Ｉ１０
．１３ｊ、１００゜７３０ 、７００ｃａ （ｎｅａ
ｔ ）製造例３ （ｄｐ） ＣＨｓ（ａｐ） ヘー’ｆ−９ｌ ｆルーｌ、！−ビス［ｐ−（ジフェニ
ルホスフィノ）フェニル〕トリシロキサンの合成 窒素気ｆｉ下、ｐ−７”ロモフェニルジフェニルホスフ
イ：ｙ ｊ、Ｏｆ （０，０／１ＩＬ７ ｍｏｂ ）を
乾燥ジエチルエーテル３Ｑ−に溶解し、−７０℃に冷却
した。次にｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）／／ｄ
（ｔ 、Ｊ７ ｍｍｏ１／ｌＪ ）を滴下し、リチウ
ム化した。
反応液は一旦室温まで放置攪拌しく２．！時間程度）、
再度−２０℃に冷却し、ヘキサメチル−した。室温で一
昼夜攪拌後、水及びベンゼンを加え、塩を分離し、有機
層を乾燥及び濃縮する事により！、６２ ｆ （定量的
）の無色粘稠の油状物を得た。このものはＮＭＲｌ 工
ＲおよびＭａθ８スペクトルによりヘキサメチル−１，
！−ビス（ｐ−（ジフェニルホスフィノ）フェニル〕ト
リシロキサンの構造を確認した。該スペクトル分析のデ
ータは次の通りである。
再度−２０℃に冷却し、ヘキサメチル−した。室温で一
昼夜攪拌後、水及びベンゼンを加え、塩を分離し、有機
層を乾燥及び濃縮する事により！、６２ ｆ （定量的
）の無色粘稠の油状物を得た。このものはＮＭＲｌ 工
ＲおよびＭａθ８スペクトルによりヘキサメチル−１，
！−ビス（ｐ−（ジフェニルホスフィノ）フェニル〕ト
リシロキサンの構造を確認した。該スペクトル分析のデ
ータは次の通りである。
ＮＭＲ：θ、／ｐｐｃｎ（Ｓ；４Ｈハ０．ｊｐｐｍ （
日；ｊＨ）、７．２〜Ｉｒ、Ｑｐｐｍ （ｍ ； ２１
Ｈ）。〔１ＱＯＭＨｚ。
日；ｊＨ）、７．２〜Ｉｒ、Ｑｐｐｍ （ｍ ； ２１
Ｈ）。〔１ＱＯＭＨｚ。
ｄ６−アセト／、外部基準〕
ｘ Ｒ： ３ｏｔｏ、２ｙｔｏ、ｔｓｙｏ、ｔａｒ
ｏ、ｔａａｏ。
ｏ、ｔａａｏ。
ｔ２ｔｏ、ｔｔ４ｔｏ、１ｉｏｏ、ｔｏｔｏ、ｒ４ｔｏ
、ｔｏｏ。
、ｔｏｏ。
７４０．７００ｃｍ−” （ｎｅａｔ）製造例弘
（ｄｐ） ＣＨｓ （ｄｐ）
オクタメチル−／、７−ビス〔ｐ−（ジフェニルホスフ
ィノ）フェニルコテトラシロキサンの合成 窒素気流下ｓ ｐ７”ロモフェニルジフェニルホスフィ
ン！、θｆ （０，０／４ｔ７ ｍｏ：Ｌ ）を乾燥ジ
エチルエーテル３０−に溶解し、−７０℃に冷却した。
ィノ）フェニルコテトラシロキサンの合成 窒素気流下ｓ ｐ７”ロモフェニルジフェニルホスフィ
ン！、θｆ （０，０／４ｔ７ ｍｏ：Ｌ ）を乾燥ジ
エチルエーテル３０−に溶解し、−７０℃に冷却した。
次にｎ −ＢｕＬｉ ／ ／ ｔｔｌ （／、３７
ｍｍｏｌ／ｍ／）を滴下し、リチウム化した。反応液は
一旦室温まで放置攪拌しく−２，ｊ時間程度）、再度−
２０℃に冷却し、オクタメチル−／、７−ジクロルテト
水及びベンゼンを加え、塩を分離し、有機層を乾燥・濃
縮することにより６．２２ｆ（定量的）の無色粘稠の油
状物を得た。このものはＮＭＲｌＩＦＩ、およびＭａｓ
ｓ スペクトルによジオクタメチル−／、７−ビス（
：ｐ−（シｙエニルホスフイノ）フェニルコテトラシロ
キサンの構造を確認した６該スペクトル分析のデータは
次の通りである。
ｍｍｏｌ／ｍ／）を滴下し、リチウム化した。反応液は
一旦室温まで放置攪拌しく−２，ｊ時間程度）、再度−
２０℃に冷却し、オクタメチル−／、７−ジクロルテト
水及びベンゼンを加え、塩を分離し、有機層を乾燥・濃
縮することにより６．２２ｆ（定量的）の無色粘稠の油
状物を得た。このものはＮＭＲｌＩＦＩ、およびＭａｓ
ｓ スペクトルによジオクタメチル−／、７−ビス（
：ｐ−（シｙエニルホスフイノ）フェニルコテトラシロ
キサンの構造を確認した６該スペクトル分析のデータは
次の通りである。
ＮＭＲ： ０．／ｐｐｍ（８；／ＪＨ）、０−ｊｐｐｍ
（８；４Ｈ）、７、、！ＳＩｒ、Ｏｐｐｍ （ｍ；、２
ｒＨ） （１００ＭＨｚ 。
（８；４Ｈ）、７、、！ＳＩｒ、Ｏｐｐｍ （ｍ；、２
ｒＨ） （１００ＭＨｚ 。
ｄ６−アセトン、外部基準〕
工Ｒ： ３０６０．．２り６０ 、 ／Ｊ−９０、／４
＃０ 、 ／１４１１０ 。
＃０ 、 ／１４１１０ 。
ｔｘｔｓｏ、１ｔｔｔ−ｏ、１ｔｏｏ、ｔｏｔｏ、ｇａ
ｏ、ｇｏｏ。
ｏ、ｇｏｏ。
７ｔθ、 ７００ ｃｍ−’ （ｎｅａｔ ）製造例！
（ｄｐ） （ｄｐ） ニル）シリル〕
エタンの合成窒素気流中、ｐ−ブロモフェニルジフェニ
ルホスフィン２．Ｏｆ％ＭｇＯ，／≠３２ および／、
２−ビス（ジメチルクロルシリル）エタン０．ｔ３２ｆ
を乾燥ＴＨＦ／ｊ−に混合し、１０時間加熱還流した。
エタンの合成窒素気流中、ｐ−ブロモフェニルジフェニ
ルホスフィン２．Ｏｆ％ＭｇＯ，／≠３２ および／、
２−ビス（ジメチルクロルシリル）エタン０．ｔ３２ｆ
を乾燥ＴＨＦ／ｊ−に混合し、１０時間加熱還流した。
Ｍｇは徐々に溶解し、液は褐色から反応終了時には黄色
に変化し、塩が析出した。次に濾過により塩を分離し、
溶媒を留去して粗結晶を得た。粗結晶はベンゼン−エタ
ノール系から再結晶［５て精製し、／、３ｊｔｃ収率ニ
ア０％）の無色柱状結晶（融点ｉｓｔ〜ｔｒｔ℃）を得
た。このものはＮＭＲ，工ＲおよびＭａｓｓ スペク
トルにより／、２−ビス〔ジメチル（ｐ−ジフェニルホ
スフィノフェニル）シリル〕エタンの構造を確認した。
に変化し、塩が析出した。次に濾過により塩を分離し、
溶媒を留去して粗結晶を得た。粗結晶はベンゼン−エタ
ノール系から再結晶［５て精製し、／、３ｊｔｃ収率ニ
ア０％）の無色柱状結晶（融点ｉｓｔ〜ｔｒｔ℃）を得
た。このものはＮＭＲ，工ＲおよびＭａｓｓ スペク
トルにより／、２−ビス〔ジメチル（ｐ−ジフェニルホ
スフィノフェニル）シリル〕エタンの構造を確認した。
該スペクトル分析のデータは次の通りである。
ＮＭＲ： Ｏ，ｊｐｐｍ （ｇ； Ａ Ｈ）、０ｊｐｐ
ｒｎ （Ｓ ；弘Ｈ）。
ｒｎ （Ｓ ；弘Ｈ）。
７、Ｊ 〜Ｆ、θｐｐｍ（ｍ；２Ｊ’Ｈ）。（／（７０
ＭＨｚ。
ＭＨｚ。
ｄ６−ア七ト／、外部基準〕
工 Ｒ： ３ｏ４ｃｏ、２り２０ 、／ｊ１０ 、／
ｌ／１７０ 、／’１３０ 。
ｌ／１７０ 、／’１３０ 。
１２よ０ 、 ／ ／２０ 、ざ２０．ざ１０，７７ｊ
、７１ＬＬ！。
、７１ＬＬ！。
ｑｏｏ＞ Ｉ：ＫＢｒ）
使用例１
１００ｍｌ容積のフラスコにコバルト（Ｉｔ）７ セー
ｙ−ルアセトナートニ水和物よりｔｑ（ｏ、２ｍｍ０１
）及びテトラメチル−／、３−ビス［ｐ−（ジフェニ
ルホスフィン）フェニル〕シシロキサ７３７２■（０，
６ｍｍｏｌ ）を仕込み、系内分充分に窒素で置換した
後、クロルベンゼア２０ｒｒｔｌを添加した。クロルベ
ンゼンのけん温溶液にトリエチル。
ｙ−ルアセトナートニ水和物よりｔｑ（ｏ、２ｍｍ０１
）及びテトラメチル−／、３−ビス［ｐ−（ジフェニ
ルホスフィン）フェニル〕シシロキサ７３７２■（０，
６ｍｍｏｌ ）を仕込み、系内分充分に窒素で置換した
後、クロルベンゼア２０ｒｒｔｌを添加した。クロルベ
ンゼンのけん温溶液にトリエチル。
アルミニウムの１０．０ｗｔ％トルエン溶液０．ＡＯｔ
ｔｔｌ（０，≠Ａ ｍｍｏｌ ）を氷冷下に攪拌しなが
ら滴下した。
ｔｔｌ（０，≠Ａ ｍｍｏｌ ）を氷冷下に攪拌しなが
ら滴下した。
更ニエチルアルミニウムセスキクロリドの１０、Ｏｗｔ
％ トルエン溶ｇｏ、り４７ （０，３’Ａ ｍｍｏｌ
）を滴下し、最後にインブレン０．３ｍｌ （３，０
ｍｍｏｌ）を添加し、系内を水素で置換した後、水冷下
で激しく攪拌しながら常圧で水素を導入した。導入開始
後水素吸収が始まり、水添反応が進行した。
％ トルエン溶ｇｏ、り４７ （０，３’Ａ ｍｍｏｌ
）を滴下し、最後にインブレン０．３ｍｌ （３，０
ｍｍｏｌ）を添加し、系内を水素で置換した後、水冷下
で激しく攪拌しながら常圧で水素を導入した。導入開始
後水素吸収が始まり、水添反応が進行した。
反応開始を公債に水素吸収量が理論量の約ざ０％となっ
た。この時点で反応液の分析を行ない、インプレｙ（工
Ｆ）の反応率並びに生成物である３−メチル−７−ブテ
ノ（３ＭＢ／）、２−メチル−ｌ−ブテン（２ＭＢ／）
、ノーメチル−２−ブテノ（２ＭＢ２）及びコーメチル
ブタン（２ＭＢ）の合計量中の各生成物の比率を求めた
ところ、次の結果が得られた。
た。この時点で反応液の分析を行ない、インプレｙ（工
Ｆ）の反応率並びに生成物である３−メチル−７−ブテ
ノ（３ＭＢ／）、２−メチル−ｌ−ブテン（２ＭＢ／）
、ノーメチル−２−ブテノ（２ＭＢ２）及びコーメチル
ブタン（２ＭＢ）の合計量中の各生成物の比率を求めた
ところ、次の結果が得られた。
工Ｐ 反応率 １２％
３ＭＢ／生成比ｆ、１１％
、２ＭＢ／ ｔｔ コチ
２ＭＢ２ ｔｔ ／７チ
更に水添反応を続行したところ、反応開始７１分後に理
論量の水素吸収が観察された。この時点で反応液を分析
したところ、次の結果が得られた。
論量の水素吸収が観察された。この時点で反応液を分析
したところ、次の結果が得られた。
ＩＰ 反応率 ７００％
３ＭＢ！生成比率 ７ｔ％
２ＭＢ／ ｘ ３％
２ＭＢコ 〃 ２／％
使用例コ
触媒成分としてコバルト（Ｉｔ）アセチルアセトナ−ト
ニ水和物！りｍｔｙ （０，，２ｍｍｏｌ ）、／ 、
！、！Ｆ、７−チトラメチルー／、Ｊ。！、７−テトラ
キス〔ｐ−（ジフェニルホスフィノ）フェニル〕シクロ
テトラシロキサン３ｇ弘■（０，３ｍｍｏｌ ）、トリ
エチルアルミニウムの１０゜Ｏｗｔ％ トルエン溶液０
．ＡＯｔｄ（０，弘６ ｍｍｏｌ ）、及びエチルアル
ミニウムセスキクロリドの１０．Ｏｗｔ％ トルエン
溶液Ｏ０り６−（０・３弘ｍｍｏｌ ） を用いて使
用例１と同様に反応を行なわせた。
ニ水和物！りｍｔｙ （０，，２ｍｍｏｌ ）、／ 、
！、！Ｆ、７−チトラメチルー／、Ｊ。！、７−テトラ
キス〔ｐ−（ジフェニルホスフィノ）フェニル〕シクロ
テトラシロキサン３ｇ弘■（０，３ｍｍｏｌ ）、トリ
エチルアルミニウムの１０゜Ｏｗｔ％ トルエン溶液０
．ＡＯｔｄ（０，弘６ ｍｍｏｌ ）、及びエチルアル
ミニウムセスキクロリドの１０．Ｏｗｔ％ トルエン
溶液Ｏ０り６−（０・３弘ｍｍｏｌ ） を用いて使
用例１と同様に反応を行なわせた。
反応開始７分後に水素吸収量が理論量の約１０％となっ
た。この時点で反応液の分析を行なったところ、次の結
果が得られた。
た。この時点で反応液の分析を行なったところ、次の結
果が得られた。
ＩＰ反応率 ２２％
ＪＭＢ／生成比率 ７タチ
２ Ｍ Ｂ ／ ｐ ≠チ２ＭＢ２
ｐ ／ ７％ 更に水添反応を続行したところ、反応開始７１分後に理
論量の水素吸収が観察された。この時点で反応液の分析
を行なったところ１次の結果が得られた。
ｐ ／ ７％ 更に水添反応を続行したところ、反応開始７１分後に理
論量の水素吸収が観察された。この時点で反応液の分析
を行なったところ１次の結果が得られた。
工Ｐ反応率 １００％
３ＭＢ／生成比率 ７／％
λＭＢ／ ｐ 弘、７チ２ＭＢコ 〃
２≠チ ２ＭＢ ｔｔ Ｏ，Ｊチ〔発明の効果〕 本発明の新規な置換ポリシリレン化合物は均一系の錯体
触媒反応、例えば水添反応やオキソ反応、においてホス
フィン系配位子として使用することができ、特に反応の
選択性の向上に有効である。
２≠チ ２ＭＢ ｔｔ Ｏ，Ｊチ〔発明の効果〕 本発明の新規な置換ポリシリレン化合物は均一系の錯体
触媒反応、例えば水添反応やオキソ反応、においてホス
フィン系配位子として使用することができ、特に反応の
選択性の向上に有効である。
特許出願人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −ほか１名
Claims (1)
- （１）一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
（ I ） （式中、ｎは０〜２０の整数を示す。Ｒ＾１は置換基を
有していてもよいアリール基を示し、相互に異なつてい
てもよい。Ｒ＾２は置換基を有していてもよいアルキル
基又はアリール基を示し、相互に異なつていてもよい。 ） で表わされる化合物、 一般式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・（II） （式中、ｍは３〜１０の整数を示し、Ｒ＾１及びＲ＾２
はそれぞれ前記と同様のものを示す。）で表わされる化
合物、及び 一般式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
（III） （式中、１は１〜１０の整数を示し、Ｒ＾１及びＲ＾２
はそれぞれ前記と同様のものを示す。）で表わされる化
合物、 からなる群から選ばれた置換ポリシリレン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8093085A JPH0774225B2 (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 置換ポリシリレン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8093085A JPH0774225B2 (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 置換ポリシリレン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61238792A true JPS61238792A (ja) | 1986-10-24 |
| JPH0774225B2 JPH0774225B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=13732157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8093085A Expired - Lifetime JPH0774225B2 (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 置換ポリシリレン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0774225B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0317039A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-25 | Mitsubishi Kasei Corp | アルデヒドの製造法 |
| EP0699685A2 (en) * | 1994-09-02 | 1996-03-06 | The Dow Chemical Company | Diphosphines |
-
1985
- 1985-04-16 JP JP8093085A patent/JPH0774225B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0317039A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-25 | Mitsubishi Kasei Corp | アルデヒドの製造法 |
| EP0699685A2 (en) * | 1994-09-02 | 1996-03-06 | The Dow Chemical Company | Diphosphines |
| EP0699685A3 (en) * | 1994-09-02 | 1996-05-15 | Dow Chemical Co | Diphosphines |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0774225B2 (ja) | 1995-08-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |