JPS6123784A - レーザー処理された表面への金属の電解析出法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は基体の特定区域上に電解法によって金属を析
出する方法に関する。さらに詳しくは、面の特定区域を
レーザー処理した後に、該区域に銅を電解析出する方法
によって、陽極酸化アルミニウム製リトグラフ印刷版上
に・ξターンを形成する方法に関する。

〔従来の技術〕

リトグラフ印刷版上に正確な・ξターンの形成による情
報記録または書き込みは、新聞その他の印刷物の製作に
おける重要な工程である。そこで、耐摩耗性で長寿命で
あるリトグラフ印刷版用・ξターンの記録に必要な時間
、材料及び労力を削減する技術開発には多大の関心があ
る。

従来の’Ｊ　ｌ−グラフ記録技術は、いくつかの工程か
ら成っておシ、印刷しようとする原コピーの１：１陰画
を製作し、これを現像した後、感光板の上に・減圧接触
させてから、全体を同時に水銀蒸気またはハロゲン化金
属ランプで照射して、感光性塗膜を露光する。次にこれ
″を現像して未露光の感光剤を除去する。

上記方法は完成するのに少くとも数分必要である上に、
労働および材料集約的でもある。さらに出来上った版は
多数のコピーを印刷するに必要な耐久性が十分でなく、
あるいは最初の印刷作業から数夕月後に再使用できるだ
めの保存寿命がとほしい。

印刷業界の成る分野において、レーザー作像技法が在来
の製版工法に比べて好適であることがわかってきた。レ
ーザーはフィルム上あるいは直接感光板上に図柄やテキ
ストを描く事が出来る。フィルムの露光用に用いる時に
は、レーザービームはコンピューターによって振幅変調
され、軌道制御されて、フィルム全面にかけて技りトル
またはラスター走査される。か＼るフィルム露光用には
低出力レーザーで十分である。

しかし出来だ陰画は感光板を露光する在来技法と類似の
方法で用いなければならない。高出力レーザーを用いる
と、コンピューター制御ビ＝ムが直接感光板の面上に図
柄やテキストを描く事が出来る。直接的レーザー描画シ
ステムはＨｅＮｅレーザーのごとき低出力レーザー走査
機を包含しているのが良く、これが原コピーよシ印刷対
象を読みとり、電子的に貯える一方、高出力紫外レーザ
ー書き込み装置が、コンピューター中に貯えられた情報
に従って、’Ｊ　）グラフ版上の紫外感光性塗膜を露光
する。

か＼る直接レーザー描画法は労力と時間の多大の節約と
なシ、さらに在来の手法で用いられてきた高価な銀に一
スのフィルムを不要とする。

しかしながら、これら直接レーザー製版システム自体が
高価であシ、リトグラフ版上に・ξターンを形成する速
度が意外に遅く、感光性材を用いて作られた版の保存寿
命に限界がある、等がこの方法の欠点である。さらに、
レーザー描画法で製作された版で得られる印刷操業期間
は、用いる紫外感光性高分子物質の耐久性と耐摩耗性と
によって限定される。

〔発明が解決しようとする問題点〕

而して、この発明の一般的目的は、電気絶縁性被覆を施
した金属基体の特定区域に金属を析出する改良法を提供
することである。

この発明の別の目的は、金属基体上の電気絶縁性被覆の
特定区域に電解法によシ金属が析出できる様に該区域を
レーザー処理する方法を提供することである。

この発明の格別の目的は、長い保存寿命を有し、印刷時
の耐久性と長時間印刷操業が可能な印刷版を製作する方
法を提供することであり、さらに上記目的に加えて、従
来法に比して迅速で省力かつ省資源であるＩＪ　）グラ
フ印刷版記録法を提供することである。

〔問題点を解決するだめの手段〕

この発明は陽極酸化したアルミニウムのごとき電気的絶
縁基体の特定区域（５ｐａｔｉａｌｌｙｓｅｌｅｃｔｅ
ｄ　ｒｅｇｉｏｎ　）を、銅のごとき金属膜で迅速に被
覆する方法を提供するものである。陽極酸化アルミニウ
ム板に析出した銅の組合わせは、高品質で耐久性のある
印刷版の製作に格別に有用である。この発明の詳しい実
施態様に従うと、基体上の特定区域、例えば印刷図形や
文字が析出されるべき区域に対して陽極酸化層を砕き、
下地のアルミニウムを露出させるに十分なレーザーエネ
ルギーが照射される。次いで銅の薄層が該区域に電解析
出されて、銅製印刷図形が形成される。これまでの直接
レーザー印刷法に比べて、この発明では陽極酸化層上に
特別な感光性被覆を施す必要が無い。

次に好ましい実施態様を述べると、多孔質で染料で充填
された酸化アルミニウムより成る陽極酸化層を有するア
ルミニウム板に対し、ビーム変調した連続波炭酸ガスあ
るいはＮｄ：ＹＡＧレーザーのごときレーザーが空気中
で照射される。

焦点合せられたレーザービームは陽極酸化層の上部を収
縮させ、加熱破砕して欠刻をつくる。

これによってレーザーエネルギーが当る板の部位に微小
な亀裂が入シ、こ＼から下地のアルミニウムが露出され
る。製作したい印刷図形に応じた区域を照射するために
は、レーザービーム及び／又は板が操縦される。次いで
板は硫酸銅および硫酸の如き電解浴中に浸漬され、板を
負・ぐイアスにすると、所望の厚みの銅層が露出アルミ
ニウム上に電解析出されて銅製印刷図形が出来あがる。

この発明の別の実施態様を説明すると、好ましくは陽極
酸化したアルミニウムの如き電気絶縁性被覆が施された
未露光板が硫酸銅と硫酸のごとき電解浴中に浸漬される
。この板を負・ぐイアスにしてこれに適描なレーザーを
照射する。

レーザービームは予め定められたノミターンの通シに操
縦され、レーザーによシ陽極酸化層が砕かれて下地のア
ルミニウムが露出した部位に銅が電解析出される。この
別法に従えば、印刷図形の特定部位での析出がレーザー
照射の直後に起とシ、照射を受けた板が空気と接触して
いないので、露出したアルミニウム面上に金属酸化物の
ごとき電気的抵抗性の膜が生成する危険が々い。か′＼
る酸化物は銅印刷図形の析出を改変させる恐れがある。

しかしながら、この実施態様は、電解溶液中を伝達可能
なレーザー波長に限られるものである。さらに、電解液
中を通る時にレーザービームが回折するので、この方法
で析出された銅図形の解像度は、最初に述べた方法すな
わち板が電解浴の外で２、浸漬する前に照射される方法
において得られるものより低くなる。

前述の何れの技法においても、レーザービームの吸収を
良くし、表面の破砕効率を増すために板の陽極酸化層の
細孔中に適切な色の染料が埋められる。さらに印刷図形
の中、連続線でなく、中間色調を表わす時に必要な点（
ｄａｔ　）群を作るためには、機械的チヨツ・ξ−など
によりレーザーを変調することもできる。

前述の方法に従って作られた陽極酸化アルミニウム背板
上の銅印刷図形は、高品質かつ耐摩耗性の印刷版である
と共に永い保存寿命を併せ有するものとなる。か＼る印
刷図形は、周囲の陽極酸化層の面より低く凹みになる様
に製作するのが好ましい。たとえば、レーザー出力や操
作のスピーＰを制御して表層の一部が収縮し除去され、
次に該凹みを完全に埋めることの無い様に制御しながら
銅を電解析出させるのである。

出来上った凹み図形はよシ容易にインクを保持するし、
印刷中に摩耗することも少々＜、その結果はるかに良好
な印刷の質と長い版寿命を与えることになる。

〔実施例〕

以下にこの発明の好ましい実施例を挙げて説明する。こ
の発明は金属基体の電気絶縁性表面のレーザーによる迅
速な前処理と、該処理面上に金属膜を電解析出する方法
に一般的に関するものである。

好ましい実施例としては、前処理用レーザーは赤外レー
ザー、析出金属は銅、電気絶縁性金属基体は陽極酸化ア
ルミニウムである。この実施例は、例えばオフセット平
版印刷に用いる印刷版上の印刷図形、グラフィック及び
テキストを形成するために用いることが出来る。

第１図はこの発明の１態様に従って、金属基体の特定区
域上に金属被覆を施すために用いる方法と好ましい構成
要素の組を図解している。

まず、硫酸による陽極処理のごとき標準的方法を用い、
約５ないし２５マイクロメーターの厚みの酸化アルミニ
ウム膜２８によってアルミニウム基体２４を被覆した板
２０が準備される。

このプロセスの後段において、黒または灰色のごとき特
定色の染料が酸化アルミニウム挟膜の細孔中に埋められ
、表面を酢酸ニラクルで処理して染料が密封される。第
１ａ図に示されるごとく、板２０はレーザー３６のビー
ム５２に露光されて前処理を受けるが、レーザー３６は
紫外域から赤外域のいかなる波長でも放射可能な、種々
の市販の装置から選択されて良い。現状で性能と価格面
から見て好ましいレーザーはＮｄ：ＹＡＧレーザーまた
は炭酸ガスレーザーであり、それぞれ１．０１：Ｊマイ
クロメーター及び１０６マイクロメーターの赤外レーザ
ーを放射する。連続波１ｏ　ｏｗ（ワット）　Ｎｄ：Ｙ
ＡＧ及び４００Ｗ炭酸ガスレーザーは入手が容易である
が、現在入手できる連続波アルゴンイオン可視レーザー
は強くても約２０Ｗに限られる。アルゴンイオン可視レ
ーザーや、旧来の製版技術の感光材を露光するために良
く用いた紫外レーザーの場合と比べて、赤外レーザーの
大きな出力によれば陽極酸化面２８上にレーザービーム
５２で書き込む速度が増し、照射時間が短くてすむ。

か＼る陽極酸化面２８にテキストや図形を書き込む作業
は、まずレーザー３６から出力されたビーム４ｏがレン
ズ４４によシ絞られ、音響光学変調機４８を通って振巾
変調を受けて連続放出のビーム４０が・ξシスビーム５
２に変換される。か５る放射パルスは第２レンズ５６を
通って絞られ、光学走査機６０の検流制御鏡６４のごと
き鏡面で反射し、陽極酸化面２８に当たる。光学走査機
６０は陽極酸化面２８を横切って放射Ａルスを掃引する
。光学走査機６０の別の構造として検流制御鏡６４０代
りに多数の小鏡面を持つ急速回転多角形を有するもので
も良い。鏡６４に近接設置され独立に制御される第２検
流制御鏡（図示せず）によって、ノξルスビーム５２は
固定された陽極酸化面２８の何れの点にも向けることが
できる。この構造はレーザービーム５２による印刷版２
０のベクトル走査には都合が良い。もしビーム５２が面
２８を横切って走査するために回転多角形が用いられる
なら、印刷版２０は円筒の上に取りつけられ、ピ・−ム
５２の走査方向と垂直方向に回転される。

板２０のこの型の照射には陽極酸化面２８の２スター走
査が考えられる。ベクトルでもシスターモードの走査で
あっても、パルスビームは陽極酸化面２８に一連の解像
性の魚群を形成する。

か＼る特徴は印刷する図柄に必要な中間調を与えるに役
立ち、テキスト印刷にも同様に用いうる。中間調の像用
に記録することのできる最小の点のサイズもしくは最大
の解像度が印刷可能な灰色のレベル数を決定し、ひいて
は像の視覚的忠実度を決定する。

印刷できる最小の点のサイズは、レーザービーム５２の
回折限界焦点により決まる。類似のビーム巾と焦点距離
を持つレンズでは、点の直径はレーザー波長に比例する
。従って、炭酸ガスレーザー放射による最小点径は、ア
ルゴンイオンレーザ−のそれと比べて約２０倍、そして
Ｎｄ：ＹＡＧレーザーのそれの約１０倍になると予期さ
れる。しかし々から、これまでに行なった実験では、析
出した銅線の巾はこの傾向を示さなかった。この説明と
して考えられるのは、陽極酸化面に生成するレーザーに
よる亀裂の横方向の程度が、単にレーザー波長、ビーム
巾及びレンズの焦点距離によって決まるのではなく、同
時にレーザー出力、ビーム走査速度、陽極酸化面での放
射吸収の深さ及び電解浴のノミラメ−ターと板の浸漬時
間によって左右されると言うことである。これらの追加
のノミラメ−ターが陽極酸化層に蓄積される応力集中に
影響し、その結果として、表面膜にレーザービームによ
って創られる破砕の、程度及び銅が被覆する亀裂からの
偉の距離が決まる。炭酸ガスレーザー（カリ７　オ　ヤ
＝　ア　リ刊　、、−７−１３、、。　カ　リ　、　オ
　ヤ＝　ア　　　　　　　　　　　　　　　□・レーザ
ー　コーポレーション製のモデル４８１ｊ　５５００−
ＴＧ−Ｔ）を１０ｆｆｉの焦点Ｌ／７ズと共Ｋ、約３０
マイクロメーター中 すると約４００マイクロメーターのサイズの放射点が形
成された。２０ＣｒｒＬ／秒の走査速度で上記レーザー
の４ワツトの出力の時に亀裂が形成され、板を電解浴中
に３０秒間浸漬する間に銅が被覆されて約３０マイクロ
メーター中の銅の線ができる。

板を電解浴に浸漬するのは最後の工程である。

第ｚｂ図に示したごとく、走査レーザービーム６８中に
浸漬される。タンクの電極（タンク壁７４から成っても
良い）と負・ぐイアスにした板２０間に、適当な直流電
源７６を用いて電圧を印加し、板２０と７４間に電解液
７２を通じて電流を流す。走査レーザービーム３０によ
って形成された亀裂を通じ、電解浴７２中に露出された
板２０のアルミニウム基体２イの方に銅イオンが引き寄
せられる。銅は陽極酸化層２ｇにある亀裂をうずめてい
き、次いで陽極酸化層の表面から盛９上る形で析出が続
く。か＼る被覆の程度は、電解タンク６８中の電解浴の
組成、電解液７２を通る電流、板２０が電解液７２中に
浸漬される時間によって決定される。

而して、この発明のレーザー誘起製版法は２つの区別さ
れる工程から成る。すなわち表面上の特定区域のレーザ
ー照射工程と、それに続く該区域上への金属電解析出工
程である。第２図にこの方法を実施するだめの２通シの
配置図を示す。第２ａ図に例示した形態にて、めっきさ
れるべき未露光の陰極７８がタンク８２中の電解液８０
の内に沈められ、レーザービームがレンズ８６によって
焦点を絞られて、陽極９２中にあけた穴９０を通して、
陰極７８のめっきされるべき区域に向けて当てられる（
前述のごとく、ビーム８４は陰極７８の予め定められた
部分の上を走査されてもよく、それ以外にレーザービー
ム８４に露光するために陰極７８が動がされても良い）
。

前記２工程の間に陰極が空気中に露されるこト無く、レ
ーザーざ−ム８４に照射された直後に電解めっきが起こ
る。第２ｂ図に示した別の配置では板９６が、電解タン
ク９８の外ｆｉｌ！ｌに置かれ、レンズ１０６によって
板９６の上に焦点を絞られたレーザービーム」０２によ
り照射される。続いて板９６が電解浴１．０４の中に浸
漬され、陽極１１０と板９４０間に電解液１．．０　／
１を経て電流が通ると、レーザーの照射を受けた面上に
金属が電解析出される。

第２ａ図に示した配置では、レーザー照射の後に板７８
が電解浴８０以外の何なる環境にも露されないと言う利
点がある。第２ｂ図に示す配置に見られるごとく、例え
ば大気に露されると、陽極酸化層にレーザーで設けた亀
裂の下に在る裸の金属表面上に金属酸化物の膜が生成す
る恐れがある。電気を絶縁するほどに厚みのめる酸化物
層が生成すると、電解反応に影響を及ぼし、レーザー照
射域に金属液膜の析出する事を妨げるかもしれない。し
かし第２ａ図で示した配置の１つの難点は電解液８０を
通過し液を加熱する際にレーザービーム８４の回折が起
こ゛す、この結果は板７８０表面上のビーム８４の焦点
における電解液８０の屈折率の熱誘導変化によって最大
になる。か＼る回折があるとビームの焦点がぼけて像の
サイズが大きくなり、板７８の表面上に電解析出される
金属図形の解像度が低下する。板７８が電解液中に沈め
られながら照射される別の難点は、電解液により伝達さ
れる波長で放出するレーザーしか使用でき々いととであ
る。第２ｂ図に示すごとく、これら工程を別々にすると
、前記ビームの回折や伝達性の問題は無くなるが、前述
のごとくレーザー−照射により生成した亀裂中の金属に
酸化物が生成する可能性をもたらす。陽極処理アルミニ
ウムに銅を析出するだめにこれ寸で行った実験では、レ
ーザー照射と続く電解銅析出の間に、大気圧にて板９に
を空気に１時間以内露出する間に生成する程度の酸化物
なら、電解工程に犬し　　　　また影響を及はさなかっ
た。それゆえ、か５る分離した工程では銅を析出する前
にかなシの時間にわたって、レーザー照射した板９６を
貯えておくととが可能である。か＜シて板の表面にレー
ザーで書きこむこと及びその電解的現像が、場所的及び
時間的に分離することができる。

炭酸ガスレーザービームによシ空気中で線状に照射され
た陽極酸化面に、続いて電解析出を行って得た一連の銅
線１．１４が第３図の顕微鏡写真に示される。銅線１１
４は約３３マイクロメーターの巾を持ち線間の未析出の
陽極酸化帯１１８は約２］マイクロメーターの１っであ
る。

析出部分の構造は銅線の断面の顕微鏡写真（第４ａ図）
及び第４ｂ図に示した断面のスイッチによシ図解される
。これによると陽極酸化層１２６中にレーザー改変され
た帯域１２２があり、レーザー改変帯域１２２の上に約
１４マイクロメーター厚の析出銅１３０が横たわってい
る。銅の析出に関して、帯域１２２の意義は未だ良くわ
からないが、陽極酸化層１２６の収縮まだは離脱が起っ
ていると見える。帯域１２２と下地の陽極酸化層１２６
とにおいてレーザー誘起された亀裂１３４は、アルミニ
ウム基材１３８と電解浴中の銅イオンとを結ぶ電路を形
成し、まず亀裂１３４中に続いて陽極酸化層１２６にあ
るレーザー改変帯域を覆うように銅が電解析出される。

析出された銅線の厚みは電解浴の特性、電解液を通過す
る電流及び電解液中に板が浸漬される時間の多少によっ
て変化する。１２０マイクロメーター巾の線上に均一な
２マイクロメーター厚みの銅析出物が得られている。

中間調の印刷に応用するためには、この発明は単なる連
続線で無く、解像可能な銅被覆点を生成できねばならな
い。４８８ナノメートルの波長で操作されるアルゴンイ
オンレーザ−の連続ビームを機械的に切断し、次に陽極
処理アルミニウム面上の相異なった位置に焦点を合わせ
た放射ノξルスを投射することによって生成したレーザ
ー照射スポット上に銅を電解析出した結果を示す顕微鏡
写真を第５図に示す。見られるごとく、約６０マイクロ
メーターの直径を有する銅析出物１４２が生成したが、
照射スポットの上だけとなっている。この事は陽極酸化
層にレーザーによって形成される亀裂が、照射の地域の
外側に有意の移動することが無いことを示している。

密封した黒色及び灰色染色した陽極処理アルミニウム試
験板を用い、大気圧の空気中で焦点を絞ったアルゴンイ
オンまたは炭酸ガスレーザービームの何れかによる照射
を行う実験を行った。試験板はアルミニウム合金５０５
２よシ製作され、マサチューセッツ州ワルサムのライト
メタル　プレータース株による標準的な硫酸による陽極
処理法を用いて陽極酸化された。陽極酸化層の厚みは約
７ないし約２５マイクロメーターの範囲だった。

炭酸ガスレーザーによシ照射された約７マイクロメータ
ーの陽極酸化厚みを有する黒色染め板について最良の結
果が得られた。出力４Ｗのレーザーによシ約１５ｃｒｒ
Ｌ／秒のレーザービーム走査速度にて、３５マイクロメ
ーターの１］の線が露光された。この線は陽極酸化層の
明らかな収縮及び／又は除去によって形成される凹みの
中に陽極酸化層の中途まで下方に及−１帯域から成って
いた（収縮は穴内部の染料の熱蒸発とこの区域にある陽
極酸化物の圧縮によるものらしい）。

沢山の細い亀裂（１マイクロメーター以下）が陽極酸化
層を通して形成された。かＸる亀裂は走査レーザービー
ムの照射の後で出来、基体のアルミニウムの所まで及ん
でいた。か＼る破砕は酸化アルミニウム層中のレーザー
誘導熱勾配によって引き起こされるものであシ、これが
材質の機械的ストレスの原因となるものと考えられる。

陽極酸化標本を大気圧の空気中でレーザー照射した後、
００分以内にこれらを０．５　Ｍ　ＣｕＳＯ４と２　Ｍ
　Ｈ２ＳＯ４を含む電解液中に浸漬した。アルミニウム
基体に０．５　Ｖの負電圧をかけたところ、約Ｉｏｏｍ
Ａの電流が生じた。約８０秒の電解反応後、数マイクロ
メーターの厚みを有する銅析出物が得られた。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の実施に適した製版システムの好ま
しい構成要素を示す模式図である。 第２図は、この発明の方法に従って電気絶縁性金属基体
上に金属を析出するために用いられるレーザー処理及び
電解析出システムの２つの異なった態様を示す模式図で
ある。 第３図は、この発明の方法に従って陽極酸化したアルミ
ニウム板上に析出した銅線を含む基体の顕微鏡写真であ
る。 第４図は、銅線析出物の断面図であり、レーザー照射に
より変化した陽極酸化面、生成した亀裂及び銅の析出域
を説明している。 第５図は、この発明の方法に従って陽極酸化したアルミ
ニウム板上に析出した銅点を含む基体の一部の顕微鏡写
真である。 Ｆ”　Ｌｑ″、２α。 Ｆｒ”Ｌｇ′″、２ｂ。 ＦＴｌｌ、９３゜ Ｆロｔケ５゜

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. （１）電気伝導性基体と電気絶縁性表層とを有するワー
   クピースを準備し、該ワークピースの特定区域の表層に
   レーザーエネルギーを照射して、該特定区域の表層の部
   分を破砕、除去もしくは電気伝導性に変換することによ
   り、該ワークピースを電解液に浸漬した時に基体に電流
   が流れる通路を具備せしめる工程と、該特定区域上に金
   属被膜を電解析出させる工程を含むワークピースの特定
   区域に金属を析出する方法。
2. （２）該特定区域の表層の厚みが該照射によつて減少さ
   れ、該区域に金属を電解析出するにあたり、析出した金
   属被膜の頂部が、該表層の照射を受けていない部分の頂
   部と比べて凹みとなるように金属析出量が調整される特
   許請求の範囲第１項記載の方法。
3. （３）該金属が銅であり、該ワークピースが陽極酸化し
   たアルミニウム板である特許請求の範囲第１項記載の方
   法。
4. （４）所望の印刷図形に応じた多数の特定区域において
   該陽極酸化表層の部分を破砕、除去もしくは電気伝導性
   に変換するためのレーザーエネルギーのパルスビームに
   よる該ワークピースの迅速な走査を含む該照射工程、及
   び該印刷図形を作るため、該析出工程で該特定区域のそ
   れぞれの上に銅が析出される特許請求の範囲第３項記載
   の方法。
5. （５）電気絶縁性の陽極酸化表層を有するアルミニウム
   板を用意し、印刷図形を作るべき酸化アルミニウムから
   なる該表層の特定区域の部分を破砕、除去もしくは電気
   伝導性に変換するに十分なエネルギーのレーザービーム
   を用いて、大気中、真空中もしくは不活性ガス雰囲気に
   て該表層の該区域を照射する工程と、該区域に薄い被膜
   を電解析出させて銅製印刷図形を造る工程を含む板上に
   銅製印刷図形を製造する方法。
6. （６）該表層部分を多数の点様区域に破砕または除去で
   きるレーザーエネルギーのパルスビームにより該板を迅
   速に走査する照射工程を含む特許請求の範囲第５項記載
   の方法。
7. （７）該電解析出工程が、硫酸銅と硫酸の溶液に該板を
   浸漬し、該板に負の電気的バイアスをかけることを包含
   する特許請求の範囲第５項記載の方法。
8. （８）該特定区域の表層の厚みが該照射によつて減少さ
   れ、次に該区域に金属を析出するにあたり、該印刷図形
   の銅被膜の頂部が、該表層の照射を受けていない部分の
   頂部と比べて凹みとなる様に金属析出量が制御される特
   許請求の範囲第５項記載の方法。
9. （９）該陽極酸化層をなす酸化アルミニウムが着色染料
   で充された細孔を有する多孔質酸化アルミニウムから本
   質的に成り、該酸化層の表面が細孔中に染料を含んで密
   封されている特許請求の範囲第５項記載の方法。
10. （１０）該電解析出工程が該区域に約２ないし１０マイ
    クロメーターの厚みを有する銅層を析出することを包含
    する特許請求の範囲第５項記載の方法。
11. （１１）該電解析出が約３０秒以下の時間で完了される
    特許請求の範囲第５項記載の方法。
12. （１２）該照射工程が大気条件で行なわれる特許請求の
    範囲第５項記載の方法。
13. （１３）電気的に絶縁性の陽極酸化表層を有するアルミ
    ニウム板を準備し、該板を銅イオン含有電解液中に浸漬
    し、印刷図形を生成しようとする特定区域の該表層の部
    分を破砕または 除去するに十分なエネルギーのレーザービームで該区域
    を照射し、そして該区域に銅の薄膜を電解析出させ、該
    板上に銅印刷図形を造る工程を包含する板上に銅印刷図
    形を造る方法。