JPS61225684A - シンチレ−シヨンフアイバプレ−トおよびその製造方法 - Google Patents
シンチレ−シヨンフアイバプレ−トおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPS61225684A JPS61225684A JP60066157A JP6615785A JPS61225684A JP S61225684 A JPS61225684 A JP S61225684A JP 60066157 A JP60066157 A JP 60066157A JP 6615785 A JP6615785 A JP 6615785A JP S61225684 A JPS61225684 A JP S61225684A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fiber plate
- scintillation
- core glass
- glass
- diameter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/66—Chemical treatment, e.g. leaching, acid or alkali treatment
- C03C25/68—Chemical treatment, e.g. leaching, acid or alkali treatment by etching
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、２次元Ｘ線像の高い解像度を得ることを目的
としたシンチレーションファイバプレートおよびその製
造方法に関する。
としたシンチレーションファイバプレートおよびその製
造方法に関する。
（従来の技術）
２次元Ｘ線像検出に用いられるシンチレーションフィル
ムが知られている。
ムが知られている。
シンチレーションフィルムは第３図に示すようにＸ線に
より発光する螢光物質３１を、透明な支持フィルム２上
に塗布して構成したものである。
より発光する螢光物質３１を、透明な支持フィルム２上
に塗布して構成したものである。
第４図にシンチレーションフィルムの一部を拡大して示
す。
す。
入射Ｘ線３３はこの螢光物質層３１に吸収され、多数の
光子３４を放出する。
光子３４を放出する。
この光子３４は、Ｘ線吸収点を中心に、四方に放出され
るので螢光物質層３１の光射出面で見ると、広がってい
るために高い空間解像度は得られない。
るので螢光物質層３１の光射出面で見ると、広がってい
るために高い空間解像度は得られない。
螢光物質層３１で生じたＸ線像の記録には、テレビカメ
ラとか通常の写真用カメラが使用される。
ラとか通常の写真用カメラが使用される。
これらの撮影にあたり、カメラは螢光物質層３の光射出
面に焦点を合わせるため、広がった像を描像することに
なる。
面に焦点を合わせるため、広がった像を描像することに
なる。
（発明が解決しようとする問題点）
前述のごとく、螢光物質層３１内で発生した光は、射出
面に至る間に、伝播、散乱のため、広がってしまう。
面に至る間に、伝播、散乱のため、広がってしまう。
本発明の目的は、前述の光の拡がりの問題を解決し高い
空間解像度の得られるシンチレーションファイバプレー
トおよびその製造方法を提供することにある。
空間解像度の得られるシンチレーションファイバプレー
トおよびその製造方法を提供することにある。
（問題点を解決するための手段）
前記目的を達成するために本発明によるシンチレーショ
ンファイバプレートは、一面のクラ・ノドガラスをコア
ガラスの直径程度除去したファイバプレートと、前記フ
ァイバプレートの前記面のコアガラスの表面に棒状に成
長させられたシンチレーション材料からなるシンチレー
タから構成されている。
ンファイバプレートは、一面のクラ・ノドガラスをコア
ガラスの直径程度除去したファイバプレートと、前記フ
ァイバプレートの前記面のコアガラスの表面に棒状に成
長させられたシンチレーション材料からなるシンチレー
タから構成されている。
また本発明によるシンチレーションファイバプレートの
製造方法は、ファイバプレートの一面をエツチング液に
浸漬してクラッドガラス部分をコアガラスの直径程度除
去するエツチング工程と、前記コアガラスの各表面にシ
ンチレーション材料を蒸着により棒状に成長させる蒸着
工程から構成されている。
製造方法は、ファイバプレートの一面をエツチング液に
浸漬してクラッドガラス部分をコアガラスの直径程度除
去するエツチング工程と、前記コアガラスの各表面にシ
ンチレーション材料を蒸着により棒状に成長させる蒸着
工程から構成されている。
（実施例）
以下、図面等を参照して本発明をさらに詳しく説明する
。
。
第１図は、本発明によるシンチレーションファイバプレ
ートの実施例を示す断面図である。
ートの実施例を示す断面図である。
ファイバプレート２の表面に後述するようにシンチレー
タ１を形成し、さらにメタルバック３を形成したもので
ある。
タ１を形成し、さらにメタルバック３を形成したもので
ある。
メタルバンク３を施さないものもシンチレータとして使
用可能であるが、以下メタルバック３を形成したものに
ついて詳しく説明する。
用可能であるが、以下メタルバック３を形成したものに
ついて詳しく説明する。
第２図は前記シンチレーションファイバプレートの一部
を拡大して示した断面図である。
を拡大して示した断面図である。
次に前記シンチレーションファイバプレートの製造工程
の実施例を説明する。
の実施例を説明する。
（準備工程）
ファイバプレートとして一本のファイバの直径が６μｍ
程度の通常良く用いられるファイバプレートを用意する
。
程度の通常良く用いられるファイバプレートを用意する
。
良く知られているように、ファイバプレートは、コア部
の屈折率ｎ１とクラッド部の屈折率ｎ２との間にｎｌ
＞ｎ２の関係を与えるもので、界面での全反射を利用し
て光をファイバごとに伝送するものである。
の屈折率ｎ１とクラッド部の屈折率ｎ２との間にｎｌ
＞ｎ２の関係を与えるもので、界面での全反射を利用し
て光をファイバごとに伝送するものである。
（エツチング工程）
ファイバプレートの一面をエツチング液に浸漬してクラ
ッドガラス部分をコアガラスの直径程度除去する。
ッドガラス部分をコアガラスの直径程度除去する。
エツチングの深さは酸への浸漬時間により調節できる。
この実施例では１０μｍ程度タラッドガラス部分２１を
除去し、コアガラス部２０が１０μｍ程突出した状態に
なっている。
除去し、コアガラス部２０が１０μｍ程突出した状態に
なっている。
（シンチレーション材料の蒸着工程）
シンチレーション材料としＣ５Ｉ（ＴＩ）を、前記コア
ガラスの表面から棒状１．１・・・１に蒸着される。
ガラスの表面から棒状１．１・・・１に蒸着される。
この実施例では通常医療用に用いられる１００ＫｅＶ前
後のＸ線の吸収が効率良く生ずるよう１００μｍ程度の
厚さにしである。
後のＸ線の吸収が効率良く生ずるよう１００μｍ程度の
厚さにしである。
（メタルバック金属層を形成する蒸着工程）前記シンチ
レーション材料１，１・・・１の頂部に蒸着により、ア
ルミニウムを付着させメタルバ。
レーション材料１，１・・・１の頂部に蒸着により、ア
ルミニウムを付着させメタルバ。
ツタ層３を形成する。
本発明によるシンチレーションファイバプレートは以上
のように製造されるから、隣り合う柱状のＣｓ１（ＴＩ
）シンチレーション材料はそれぞれ光学的に独立となる
。
のように製造されるから、隣り合う柱状のＣｓ１（ＴＩ
）シンチレーション材料はそれぞれ光学的に独立となる
。
入射したＸ線が一つの柱状Ｃ５ｒ（ＴＩり結晶で吸収さ
れ、光を発生すると、この光は、Ｃｓ１（Ｔｊ）柱状結
晶の内部を、璧で全反射しながらファイバプレート側に
伝わって行く。
れ、光を発生すると、この光は、Ｃｓ１（Ｔｊ）柱状結
晶の内部を、璧で全反射しながらファイバプレート側に
伝わって行く。
一部の光はＸ線の入射側に、伝播してゆくが、これは、
Ｃ５Ｉ（Ｔｊり上に蒸着により作られたアルミニウムの
メタルバック層３により反射されてファイバプレート２
側に戻される。
Ｃ５Ｉ（Ｔｊり上に蒸着により作られたアルミニウムの
メタルバック層３により反射されてファイバプレート２
側に戻される。
このようにして、ファイバプレート２側に導かれた光は
、そのまま隣接ファイバへ漏れ伝わることなく出力面方
向に伝播して行く。
、そのまま隣接ファイバへ漏れ伝わることなく出力面方
向に伝播して行く。
ファイバプレートを構成する１本１本のファイバの太さ
は６μｍ程度まで細くできるが、用途によっては太いも
のも利用できる。
は６μｍ程度まで細くできるが、用途によっては太いも
のも利用できる。
そして、Ｃｓ１（Ｔｊり結晶の太さはこのファイバ径に
より決まってくる。
より決まってくる。
（発明の効果）
以上、詳しく説明したように本発明によるシンチレーシ
ョンファイバプレートは、一面のクラッドガラスをコア
ガラスの直径程度除去したファイバプレートと、前記フ
ァイバプレートの前記面のコアガラスの表面に棒状に成
長させられたシンチレーション材料からなるシンチレー
タから構成されている。
ョンファイバプレートは、一面のクラッドガラスをコア
ガラスの直径程度除去したファイバプレートと、前記フ
ァイバプレートの前記面のコアガラスの表面に棒状に成
長させられたシンチレーション材料からなるシンチレー
タから構成されている。
したがって、隣り合う柱状のシンチレーション材料はそ
れぞれ光学的に独立となり、棒状のシンチレータの一つ
に入射したＸ線により発生させられたシンチレーシヨン
光は必ず対応するコアに導かれる。その結果従来の装置
では達成できなかった高い解像度のシンチレーションフ
ァイバプレートが得られる。
れぞれ光学的に独立となり、棒状のシンチレータの一つ
に入射したＸ線により発生させられたシンチレーシヨン
光は必ず対応するコアに導かれる。その結果従来の装置
では達成できなかった高い解像度のシンチレーションフ
ァイバプレートが得られる。
第１図は本発明によるシンチレーションファイバプレー
トの実施例を示す断面図である。 第２図は前記シンチレーションファイバプレートの一部
を拡大して示した断面図である。 第３図は従来のシンチレーシッンフイルムを示す断面図
である。 第４図は前記従来のシンチレーシ日ンフイルムの一部を
拡大して示した断面図である。 １・・・シンチレータ結晶 ２・・・ファイバプレート ２０・・・コアガラス ２１・・・クラッドガラス３
・・・メタルバック層
トの実施例を示す断面図である。 第２図は前記シンチレーションファイバプレートの一部
を拡大して示した断面図である。 第３図は従来のシンチレーシッンフイルムを示す断面図
である。 第４図は前記従来のシンチレーシ日ンフイルムの一部を
拡大して示した断面図である。 １・・・シンチレータ結晶 ２・・・ファイバプレート ２０・・・コアガラス ２１・・・クラッドガラス３
・・・メタルバック層
Claims (4)
- （１）一面のクラッドガラスをコアガラスの直径程度除
去したファイバプレートと、前記ファイバプレートの前
記面のコアガラスの表面に棒状に成長させられたシンチ
レーション材料からなるシンチレータから構成したシン
チレーションファイバプレート。 - （２）一面のクラッドガラスをコアガラスの直径程度除
去したファイバプレートと、前記ファイバプレートの前
記面のコアガラスの表面に棒状に成長させられたシンチ
レーション材料からなるシンチレータと、前記シンチレ
ータの表面にはメタルバック層が形成されているシンチ
レーションファイバプレート。 - （３）ファイバプレートの一面をエッチング液に浸漬し
てクラッドガラス部分をコアガラスの直径程度除去する
エッチング工程と、前記コアガラスの各表面にシンチレ
ーション材料を蒸着により棒状に成長させる蒸着工程か
ら構成したシンチレーションファイバプレートの製造方
法。 - （４）ファイバプレートの一面をエッチング液に浸漬し
てクラッドガラス部分をコアガラスの直径程度除去する
エッチング工程と、前記コアガラスの各表面にシンチレ
ーション材料を蒸着により棒状に成長させる蒸着工程と
、前記棒状に成長させられたシンチレーション材料の頂
面にメタルバック金属層を形成する蒸着工程から構成し
たシンチレーションファイバプレートの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60066157A JPS61225684A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | シンチレ−シヨンフアイバプレ−トおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60066157A JPS61225684A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | シンチレ−シヨンフアイバプレ−トおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61225684A true JPS61225684A (ja) | 1986-10-07 |
| JPH0518070B2 JPH0518070B2 (ja) | 1993-03-10 |
Family
ID=13307743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60066157A Granted JPS61225684A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | シンチレ−シヨンフアイバプレ−トおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61225684A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004233343A (ja) * | 2003-01-06 | 2004-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線像変換パネル |
| WO2019044701A1 (ja) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | 浜松ホトニクス株式会社 | 口腔内センサ、及び口腔内センサの製造方法 |
| WO2019044699A1 (ja) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | 浜松ホトニクス株式会社 | 口腔内センサ、及び口腔内センサの製造方法 |
-
1985
- 1985-03-29 JP JP60066157A patent/JPS61225684A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004233343A (ja) * | 2003-01-06 | 2004-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線像変換パネル |
| WO2019044701A1 (ja) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | 浜松ホトニクス株式会社 | 口腔内センサ、及び口腔内センサの製造方法 |
| WO2019044699A1 (ja) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | 浜松ホトニクス株式会社 | 口腔内センサ、及び口腔内センサの製造方法 |
| JP2019045175A (ja) * | 2017-08-30 | 2019-03-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | 口腔内センサ、及び口腔内センサの製造方法 |
| JP2019045174A (ja) * | 2017-08-30 | 2019-03-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | 口腔内センサ、及び口腔内センサの製造方法 |
| KR20200046029A (ko) * | 2017-08-30 | 2020-05-06 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 구강 내 센서, 및 구강 내 센서의 제조 방법 |
| US11129580B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-09-28 | Hamamatsu Photonics K.K. | Intraoral sensor and method for producing intraoral sensor |
| US11576632B2 (en) | 2017-08-30 | 2023-02-14 | Hamamatsu Photonics K.K. | Intraoral sensor and method for producing intraoral sensor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0518070B2 (ja) | 1993-03-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |