JPS61225177A - N−(3,4,5−トリメトキシシンナモイル)ピペラジン誘導体の製造方法 - Google Patents

N−(3,4,5−トリメトキシシンナモイル)ピペラジン誘導体の製造方法

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JPS61225177A
JPS61225177A JP60032227A JP3222785A JPS61225177A JP S61225177 A JPS61225177 A JP S61225177A JP 60032227 A JP60032227 A JP 60032227A JP 3222785 A JP3222785 A JP 3222785A JP S61225177 A JPS61225177 A JP S61225177A
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Japan
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reaction
compound
chloroform
reacted
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Application number
JP60032227A
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English (en)
Inventor
Hiroshige Inoue
井上 広重
Kenji Nishi
西 賢志
Tsunesuke Hirashima
平嶋 恒亮
Ikuzo Nishiguchi
西口 郁三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OOSAKASHI
Yamamoto Chemical Industrial Co Ltd
Osaka City
Original Assignee
OOSAKASHI
Yamamoto Chemical Industrial Co Ltd
Osaka City
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Milk東札1東側 111は、N−(3,4,5−トリメトキシシンナモイ
ル)ピペラジン誘導体の製造方法に関する。本発明t’
lJ造されるN−(3,4,5−1−リメトキシシンナ
モイル)ピペラジン誘導体は、下記式(1)で表わされ
る。
上記式(1)で表わされる化合物、即ち、1−(1−ピ
ロリジニルカルボニルメチル)−4−(3,4,5−h
リフ1〜キシシンナモイル)げペラジンの7レイン酸塩
(以下この化合物をrMcJと略記する)は、脳循環代
謝改善剤として重要な化合物である。
従来の技術 従来、M Cの製造方法どしては、例えば特公昭用45
−9740@公報、特公昭用47−1293月公報、特
公昭用47−27233月公報、特開開用49−201
91号公報、特開開用49−20192号公報、特開開
用51−101988号公報、ベルギー特許第7303
45号公報等に記載の方法が知られている。これらの方
法は、本質的には略同様の方法であり、特公昭用47−
1293号公報に記載の方法に代表されるので、該公報
に記載の方法について説明する。
特公昭47−1293号公報に記載の方法は、下記反応
式に示すように、式(2)で表わされる3、4.5−1
〜リメトキシシンプ干イルクロリドと式(3)で表わさ
れるピロリジノカルボニルメチルビペラジンとを反応さ
せ、次いで得られる式(4)で表わされるN−(3,4
,5−トリメトキシシンナモイル)ピペラジン誘導体に
マレイン酸を反応させることにより目的とするMCを製
造する方法である。
上記方法において出発原料として使用される式4式% クロリドは、非常に不安定な化合物であり、水分によっ
て直ちに分解するため、純品を入手することは困難であ
り、また仮に入手したとしても非常に高価なものとなり
、しかも安定性に乏しい故に長期保存は困難である。そ
こで該化合物は、実際には必要性が生じた時に必要な量
だけ、下記反応式に示されるように式(5)で表わされ
る3、4゜5−トリメトキシベンズアルデヒドにマロン
酸を反応させて式(6)で表わされる3、4.5−トリ
メトキシ桂皮酸とし、次にこの3,4.5−トリメトキ
シ桂皮酸にチオニルクロリドを反応させて製造している
のが現状である。
しかしながら、式(5)の3.4.5−t−リメトキシ
ベンズアルデヒドを出発原料とし、目的とするMCを製
造する方法には、次のような欠点がある。即ち、式(5
)の3.4.5−トリメトキシベンズアルデヒドから式
(4)の化合物を製造するのに3工程を必要とするが、
これらの各工程においては最低100℃又はそれ以上の
比較的高い反応温度を必要とするため、各工程で得られ
る目的化合物が樹脂化して好ましくない副生成物(樹脂
様重合物)が多量に生成し、それ故各反応毎に目的化合
物を取り出し精製を行なってから次の工程の原料となけ
ればならないため、少なくとも2〜3回の精製工程が加
算され、従って式(5)の3.4.5−トリメトキシベ
ンズアルデヒドから式(4)の化合物を得る迄の総工程
数は5〜69一 工程となる。しかも、上記した通り、好ましくない副反
応が起るのを避は得ないため、目的とするM Gが低収
率で得られるに過ぎない。更に、上記で使用されるチオ
ニルクロリドも水分が存在すると白煙をあげて分解する
ので梅雨B8等の雨期には特にその取扱いが厄介であり
、従って収量低下の原因となるので特別の注意が必要ど
なり、また、このようにして得られた式(6)の3.4
.5−トリメトキシ の激しい浸蝕性のため、その製造施設、貯蔵槽その他の
諸機械等を激しく浸蝕するので、容易ではない。
このような理由によりMCの工業的製造方法は、未だ確
立されていないのが現状である。
問題点を解決するための手段 本発明の目的は、従来製造が困難とされていたM Cの
工業的に有利な製造方法を提供することにある。
即ち、本発明は、式 で表わされるピロリジノカルボニルメチルビペラジンに
式 %式% 〔式中Xは塩素原子又は臭素原子を示す。〕で表わされ
る化合物を反応させた後、トリフェニルホスフィンを反
応させ、次いで得られる式〔式中Xは前記に同じ。〕 で表わされるホスホニウム塩に3.4.5−トリメトキ
シベンズアルデヒドを反応させ、更に得られる式 で表わされるN−(3,4,5−トリメトキシシンナモ
イル)ピペラジン誘導体にマレイン酸を反応させること
を特徴とする式 で表わされるN−(3,4,5−トリメトキシシンナモ
イル)ピペラジン誘導体の製造方法に係る。
本発明によれば、まず式(7)のピロリジノカルボニル
メチルビペラジンに式(8)の化合物を反応させた後、
トリフェニルホスフィンを反応させる。
式(7)のピロリジノカルボニルメチルビペラジンと式
(8)の化合物との反応は、例えばクロロホルム、ベン
ゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチルエーテル
、ジブチルエーテル等のエーテル類、ジクロルエタン、
トリクロルエタン等のハロゲン化炭化水素類、エチレン
クロリド、シクロヘキサノール等の等の溶媒中で行なわ
れる。
式(7)のピロリジノカルボニルメチルビペラジンと式
(8)の化合物との使用割合としては、特にυ1限がな
く広い範囲内から適宜選択することができるが、通常前
者1モルに対して後者を1〜1.5モル、好ましくは1
〜1.2モル使用するのがよい。該反応は、通常−10
℃〜室温付近にて行なわれ、一般に1〜4時間程度で終
了する。
次いで、本発明では、上記反応で得られる反応混合物に
トリフェニルホスフィンを反応させる。この反応はウイ
テイツヒ反応を利用したものである。
該反応において、上記反応で用いられた溶媒をいずれも
使用できる。トリフェニルホスフィンの使用態としては
、式(7)のピロリジノカルボニルメチルビペラジン1
モルに対して通常1〜1.5モル、好ましくは1〜1.
2モルとするのがよい。
該反応は、通常20〜60℃にて好適に進行し、通常4
〜6時間で反応は完結する。斯くして文献未記載の新規
な式(9)のホスホニウム塩が製造される。本発明では
、式(9)のホスホニウム塩を単離して次の反応に供し
てもよいし、反応混合物のまま次の反応に供してもよい
。本発明では、次に上記で得られる式(9)のホスホニ
ウム塩に3.4.5−トリメトキシベンズアルデヒド(
5)を反応させる。
式(9)のホスホニウム塩と3.4.5i−リメトキシ
ベンズアルデヒド(5)との反応は、塩雄性化合物の存
在下適当な溶媒中で行なわれる。
塩其性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸すl−リウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸化物、ナトリウ
ムメチラート、カリウムブチラー1〜等のアルカリ金属
アルコラード、金属ノー(ヘリウム、金属カリウム等の
アルカリ金属等が挙げられ、これらは式(9)のil\
スホニウムin 1モルに対して通常2〜20モル、好
ましくは5〜10モル量使用される。また、溶媒として
は、例えばメタノール、]ニエタノールイソプロピルア
ルコール、tert−ブタノール等のアルコール類、ジ
メチルホルムアミド、ジメブルスル小キシド等やこれら
の混合溶媒等を挙げることができる。上記反応において
、式(9)のホスホニウム塩と3.4.5−トリメトキ
シベンズアルデヒド 合としては、特に限定がなく広範囲から選択Jることが
でき、通常曲名1モルに対して後者を1〜2モル、好ま
しくは1〜1.5モルとするのがよい。上記反応は、通
常−10=80°C、好ましくはO℃〜60にて好適に
行なわれ、一般に1〜10時間程度で該反応は終了する
。斯くして式4式% モイル)ピペラジン誘導体が製造される。本発明では、
式(4)のN− (3. 4.5−1〜リメトキシシン
プモイル)ピペラジンK1体をIlMして次の反応に供
してもよいし、単離することなく反応混合物のまま次の
反応に供してもよい。
更に本発明では、上記で得られる式(4)のN−<3.
4.5−1〜リメ1〜キシシンナモイル)ピペラジン誘
導体にマレイン酸を反応させる。この反応には、通常の
酸とアルカリとの反応の反応条件を広く適用することが
できる。即ち、式(4)%式%) ピペラジン誘導体とマレイン酸どの使用割合としては、
通常Af+当1モルに対して後者を1〜2モル、好まし
くは1へ・1.5’Eルどするのがよい。また、該反応
は通常アセ]〜ン等のケトン類、メタノール、エタノー
ル、プロパツール、イソプロパツール等のアルコール類
等の溶媒中で行なわれる。該反応は、通常40〜120
℃、好ましくは50〜80℃にて行なわれ、また反応時
間は通常1〜2時間程度である。斯くして本発明の目的
とするM Cが生成し、これは慣用されている精製手段
、例えばアセI・ン、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、イソプロパツール、アセ]ーニトリル等の再結
晶溶媒を用いて再結晶する等の方法で容易に反応混合物
から単離、精製される。
発明の効果 本発明によれば、次の効果が発揮される。
(1) 本発明の方法において出発原料として使用され
る3.4.5−1−リメトキシベンズアルデヒド(5)
は、入手が容易であり、安価で且つその取扱いにも安全
な化合物である。
(2) 本発明によれば、各反応工程の反応温度を比較
的低温度の穏和な条件に設定でき、しかもそれぞれの反
応の反応生成物を各工程の反応系内から取り出す必要な
く、目的どする最終物質迄−員して継続的に反応させる
ことができ、それ故式(7)のピラリジノカルボニルメ
チルピペラジンから粗製の式(4)の化合物迄僅か一工
程で完了し、更に最終物質の精製過程を加えても二■程
で完了するのである。従って本発明の方法では、作業工
程が非常に簡甲になり、これに伴う電力費、電力費、運
転経費等の間接費の節約となり、また各反応毎に反応生
成物を単離する必要もないので、これらの操作中に生ず
る収lの損失も少なく、従って本発明の目的とするM 
Cを好収率で得ることかできる。
(3) 本発明の方法では、従来法で使用されているよ
うなチオニルクロリドを使用する必要もなく、また式(
2)の3.4.5−1〜リメl〜キシシンプモイルクロ
リドを経由することもないので、取扱いが極めて簡便と
なる。
(4) 式(7)のピロリジノ力ルポニルビペラジンか
ら対応する式(9)のホスホニウム塩を得る反応は、極
めて円滑に進行するので、工業的な手法には特に大きな
問題はない。
(5) 式(9)のホスホニウム塩は、安定性に優れて
おり、大量規模で保存しておくことが極めて容易である
(6) 式〈9)のホスホニウム塩と3.4.5−トリ
メ1へキシベンズアルデヒド(5)の反応は、温和で全
く安全であり、その操作も簡便であり、式(4)の化合
物を高純度、高収率にて得ることができる。
実  施  例 以下に実施例を掲げて本発明をより一層明らかにする。
実施例1 (a)N−ピロリジノカルボニルメチル−N’ −クロ
ルアセチルピペラジンの製造 寒剤で冷却した200或のフラスコにピロリジノカルボ
ニルメチルごペラジン19.7(J及びクロロホルム1
00gを入れ、−5℃に冷却撹拌しながらこの中にクロ
ロアセチルクロリド11.3gのクロロホルム50gの
溶液を1.5時間要して滴下し、その後室温まで上昇し
て更に4時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、こ
れに重曹水を加えてPH=6にした。
この溶液からクロロホルムにより抽出し、この抽出液(
上記の反応で生成したN−ピロリジノカルボニルメチル
−N′−クロルアセチルピペラジンが含まれている。)
を無水硫酸ナトリウムで脱水した後そのまま次の(b)
工程に移した。
(b )ホスホニウム塩の製造 上記(a)工程で得られたN−ピロリジノカルボニルメ
チル−N′−クロルアセチルピペラジンのクロロホルム
溶液にトリフェニルホスフェン26.2gを加え、40
℃にて4時間撹拌した。その後反応液から溶媒クロロホ
ルムを回収し、ベンゼンを加えて煮沸し、この操作を数
回繰返してTLC分析にて1スポツトになる迄洗浄した
後、真空乾燥した。その取崩は48.2a  (理論値
の90%に相当1−る)であった。
得られるホスホニウム塩の物性は以下の通りであった。
IRスペクトル(am−’) 1640.1630 −GO− 520−CQ N M Rスペク1〜ル(ppm 1.84〜2.24 2.84−3.08 3.14〜3.36 3.52−〜3.96 4.28〜4.48 8.04〜・8.72 元素分析値(C301−13502N3 CQ P)理
論値(%)  実験値(%) C67,2267,15 H6,586,62 N    7.84     7.82実施例2 (a)N−ピロリジノカルボニルメチル−N’ −ブロ
ムアセチルピペラジンの製造 クロルアセチルクロリド11.3CIの代りにブロムア
セチルプロミド20.2oを使用する以外は、実施例1
(a)と同様にして、N−ピロリジノカルボニルメチル
−N′−ブロムアセチルピペラジンのクロロホルム溶液
を作成し、次の(b )工程に供した。
(b )ホスホニウム塩の製造 上記(a ’)で得られたN−ピロリジノカルボニルメ
チル−N′−ブロムアセチルピペラジンのクロロホルム
溶液にトリフェニルホスフェン26.2Qを加え、40
’Cにて4時間撹拌した。
その後反応液から溶媒クロロホルムを回収し、ベンゼン
を加えて煮沸し、この操作を数回繰返してTLC分析に
て1スポツトになる迄洗浄した後、真空乾燥した。その
収量は54g (理論量の94%に相当する)であった
得られるホスホニウム塩の物性はIズ下の通りであった
IRスペクトル(cr’) 1640.1630 −CO− 520−Br N M Rスペク1−ル(11111 1,82〜2.34 3.10〜3.30 3.42〜4.00 4、14〜4.49 5.92〜6.24 7.80〜8.58 元素分析値(C3o N3502 N3 Sr P)理
論値(%)  実験値(%) C62,0762,10 H6,086,07 N   7.24    7.23 実施例3 シネパジド(上記式(4)の化合物)の製造25一 実施例1で得られたホスホニウム塩48.2gを240
1110のtert−ブタ/ −JL、 ニ?11 解
L tc Hに、苛性カリ6gをtert−ブタノール
30−に溶解した?W液を一5〜O℃にて滴下した後、
その温度を徐々に上昇させて室温とし、この温度におい
て更に5時間撹拌を続けて反応せしめ、その中に3.4
.5−トリメトキシベンズアルデヒド18g (理論量
の1.05倍量)を加えて、なお室温において3時間撹
拌してその縮合反応を続けた。この縮合反応終了後、希
塩酸にてPH=1にし、クロロホルム100(+を加え
て振盪し、次にクロロホルム層を分離する。このクロロ
ホルム層は、分離後、無水硫酸ナトリウムを加えて脱水
後、クロロホルムを回収し、その残留物をアルコールに
より再結晶してシネパジド3.1gを得た。ホスホニウ
ム塩からの理論収量は80%であった。
このものを更にメチルエチルケトンとへブタンとの混合
物から再結晶して得られるシネバジドの元素分析値を下
2に示す。
元素分析値 理論値(%)  実験値(%) C63,2963,20 H7,487,5O N  10.07   10.02 実施例4 シネバジドの製造 実施例2で得られたホスホニウム塩52C1を250−
のtert−ブタノールに溶解した液に、苛性カリ6g
をtert−ブタノール301Gに溶解した溶液を一5
〜0℃にて滴下した後、その温度を徐々に上昇させて室
温とし、この温度において更に3時間撹拌を続けて反応
せしめ、その中に3.4.5−hリメトキシベンズアル
デヒド18Gを加えて、なお室温において3時間撹拌し
てその綜合反応を続けた。この縮合反応終了後、希塩酸
にてPH=1にし、クロロホルム100gを加えて振盪
し、次にクロロホルム層を分離する。このクロロホルム
層は、分IL無水硫酸すI−リウムを加えて脱水後、ク
ロロホルムを回収し、その残留物をアルコールにより再
結晶してシネバジド31.5(lを得た。ホスホニウム
塩からの理論収量は84.2%であった。
実施例5 MCの製造 上記実施例3で得られたシネバジド20Qを無水イソプ
ロピルアルコール25−に溶解し、これにマレインl!
5.50を無水イソプロピルアルコール12−に溶解し
た溶液を30〜40℃で滴下し、その後83℃で1時間
反応させた。
得られた反応混合物を撹拌しながら冷却して結晶を析出
せしめた。この結晶物を加圧濾過すると、粗製MC21
Gを得た。収率82.0%この粗製MCに無水イソブ0
ビルアルコール200−を加えて加熱撹拌し、活性炭0
.5aを加えて熱時枦遇し、炉液を冷却し、析出した結
晶を加圧濾過して乾燥するとMC19,90が得られた
収率 90.5%、融点 135℃ 実施例6 シネパジドの製造 (a)N−ピロリジノカルボニルメチル−N’ −クロ
ルアセチルピペラジンの製造 ピロリジノカルボニルメチルビベラジン19.7gにク
ロロホルム100oを加えた混合溶液を寒剤で冷却しな
がら、−5℃に冷却撹拌しながらこの中にクロロアセチ
ルクロリド11.3oのクロロホルム50Ωの溶液を1
.5時間数して滴下し、その後室温まで上昇して更に4
時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、これに重曹
水を加えてPH=8にした。
この溶液からクロロホルム層を分離した。その水層部を
更に200IIIllのクロロホルムで2回抽出し、之
等のクロロホルム層を合し、この溶液に含まれるN−ピ
ロリジノカルボニルメチル−N′−クロルアセチルピペ
ラジンを溶媒蒸留で取り出すことなくぞの溶液のまま次
の(l〕)工程に移した。
(1))ホスホニウム塩の製造 上記(a)工程で得られたN−ピロリジノカルボニルメ
チル−N′−クロルアセチルピペラジンのクロロホルム
溶液に1−リフ■ニル小スフIン26.20を7J[l
え、40°Cニr 4時間撹拌した。その後反応液から
溶媒クロロホルムを回収し、蒸留残漬を熱ペンゾールで
充分に洗浄を繰返した後、その系から取り出すことなく
次の工程に供した。
(C)シネパジドの製造 水酸化カリウム2.52Jをメタノール50−に溶解し
、O′C以下に保らながらこの中に上記(b)工程で得
られたホスホニウム塩の3倍口のメタノール溶液を同温
度にて撹拌しつつ30分要して滴下し、ぞの後2時間こ
の温度にて撹拌を続け、次いでこの反応液中に3.4゜
5−トリメトキシベンズアルデヒド5.9gを0℃以下
にて投入し、その後2時間撹拌を続は反応を完了させた
。反応終了後濃塩酸1.7gを加えPH=6とし、溶媒
を回収し、次いで水30−と小間の塩酸を加えてPH−
4,5に調節し、これをクロロホルム10−で3回抽出
した後、それらの抽出液を合し、これに硫酸マグネシウ
ムを加えて脱水し、クロロホルムを回収した。その回収
残渣をメチルエチルケトンとへブタンの混合物から再結
晶してシネバジドを68.5%の収率で得た。このもの
の物性は実施例4で得られた化合物のそれと一致した。
実施例7 MCの製造 (a)N−ピロリジノカルボニルメチル−N’ −クロ
ルアセチルピペラジンの順造 ピロリジノカルボニルメチルビベラジン19、7(Iに
クロロホルム100Gを加えた混合溶液を寒剤で冷却し
ながら、−5℃に冷却撹拌しながらこの中にクロロアセ
チルクロリド11、30のクロロホルム50aの溶液を
1、5時間数して滴下し、その後室温まで上昇して更に
4時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、これに重
曹水を加えてPH=8にした。
この溶液からクロロホルム層を分離した。その水層部を
更に200−のクロロホルムで2回抽出し、之等のクロ
ロホルム層を合し、この溶液に含まれるN−ピロリジノ
カルボニルメチル−N′−クロルアセチルピペラジンを
溶媒蒸留で取り出すことなくイの溶液のまま次の(b)
工程に移した。
(b)ホスホニウム塩の製造 上記(a)工程で得られたN−ピロリジノカルボニルメ
チル=N′−クロルアセチルピペラジンのクロロホルム
溶液にトリフェニルホスフェン26.2(Iを加え、4
0’Cにて4時間撹拌した。その後反応液から溶媒クロ
ロホルムを回収し、蒸留残渣を熱ペンゾールで充分に洗
浄を繰返した後、その系から取り出すことなく次の工程
に供した。
(c)MCの製造 水酸化ノノリウム2.520をメタノール5゜舶に溶解
し、0゛C以下に保ちながらこの中に一ト記(b)工程
で得られたボス小ニウム塩の3倍間のメタノール溶液を
同温度にて撹拌しつつ30分要して)^下し、モの後2
時間この湿度にて撹拌を続け、次いでこの反応液中に3
.4゜5−1〜リメトキシベンズアルデヒド5.90を
0°C以下にて投入し、その後2時間撹拌を続(j反応
を完了さUだ。反応終了後濃塩酸1.7flを加えP 
l−1= 6とし、溶媒を回収し、次いで水30m12
と小品の塩酸を加えてPl−1==4.5に調節し、こ
れをクロロホルム10−で3回抽出した後、ぞれらの抽
出液を合し、これに硫酸マグネシウムを加えて脱水し、
クロロホルムを回収した。このクロロホルムの蒸留残漬
をアL7トン50n田に溶解し、この中に理論量より少
し過剰のマレイン酸を加え、30分間還流して反応せし
め、その後冷却して粗製MC37,4flを得た。原料
であるN−ピロリジノカルボニルメチル−N′−クロル
アセチルピペラジンを基準にしたMCの収率は70%で
あった。
この粗製品100をメタノール90戚に加熱して溶解し
、活性炭0.1(+を加えて熱時濾過し、析出したMC
の結晶を濾過して乾燥するとMC9,10が得られた。
このMOの物性は実施例5で得られたMCのそれと一致
した。
(以 上) “ 、・′

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるピロリジノカルボニルメチルピペラジンに
    式 XCOCH_2X 〔式中Xは塩素原子又は臭素原子を示す。〕で表わされ
    る化合物を反応させた後、トリフェニルホスフィンを反
    応させ、次いで得られる式▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ 〔式中Xは前記に同じ。〕 で表わされるホスホニウム塩に3,4,5−トリメトキ
    シベンズアルデヒドを反応させ、更に得られる式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるN−(3,4,5−トリメトキシシンナモ
    イル)ピペラジン誘導体にマレイン酸を反応させること
    を特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるN−(3,4,5−トリメトキシシンナモ
    イル)ピペラジン誘導体の製造方法。
  2. (2)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるピロリジノカルボニルメチルピペラジンに
    式 XCOCH_2X 〔式中Xは塩素原子又は臭素原子を示す。〕で表わされ
    る化合物を反応させた後、トリフェニルホスフィンを反
    応させ、次いで得られる式▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ (式中Xは前記に同じ。〕 で表わされるホスホニウム塩に3,4,5−トリメトキ
    シベンズアルデヒドを反応させることを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるN−(3,4,5−トリメトキシシンナモ
    イル)ピペラジン誘導体の製造方法。
  3. (3)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるピロリジノカルボニルメチルピペラジンに
    式 XCOCH_2X 〔式中Xは塩素原子又は臭素原子を示す。〕で表わされ
    る化合物を反応させた後、トリフェニルホスフィンを反
    応させることを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Xは前記に同じ。〕 で表わされるホスホニウム塩の製造方法。
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