JPS61221232A - シリル化ポリオルガノシルセスキオキサンの製法 - Google Patents
シリル化ポリオルガノシルセスキオキサンの製法Info
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- JPS61221232A JPS61221232A JP6212885A JP6212885A JPS61221232A JP S61221232 A JPS61221232 A JP S61221232A JP 6212885 A JP6212885 A JP 6212885A JP 6212885 A JP6212885 A JP 6212885A JP S61221232 A JPS61221232 A JP S61221232A
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- Japan
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- polyorganosilsesquioxane
- silylated
- molecular weight
- condensation polymerization
- silylating agent
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は任意の重量平均分子量を有するシリル化ポリオ
ルガノシルセスキオキサンの製法に関する。
ルガノシルセスキオキサンの製法に関する。
シリル化ポリオルガノシルセスキオキサンの製法は、特
願昭５９−２２８８８５号に開示するように窒素加圧下
で加熱して縮重合させることにより、重量平均分子量を
高めることが可能である。シリル化ポリオルガノシルセ
スキオキサンの縮重合反応において、加熱温度を９０℃
とし、窒素圧力を変えたときの重量平均分子量を加熱時
間に対して描くと、第１図の破線で示すようになる。破
線ａ、ｂ、ｃ。
願昭５９−２２８８８５号に開示するように窒素加圧下
で加熱して縮重合させることにより、重量平均分子量を
高めることが可能である。シリル化ポリオルガノシルセ
スキオキサンの縮重合反応において、加熱温度を９０℃
とし、窒素圧力を変えたときの重量平均分子量を加熱時
間に対して描くと、第１図の破線で示すようになる。破
線ａ、ｂ、ｃ。
ｄは、それぞれ窒素圧が４．ＯＰａ 、 ２．７Ｐａ
、 １．３Ｐａ 。
、 １．３Ｐａ 。
常圧であり、加圧下で加熱を継続すると、重量平均分子
量が時間の経過とともεこ増加する。冷却すれば反応速
度が緩漫となるが、大容量の反応系では十分に冷却され
ないので、任意の分子量において縮重合反応を停止させ
ることが困難である。従って他の手段によって所望の分
子量において反応を停止させる必要がある。
量が時間の経過とともεこ増加する。冷却すれば反応速
度が緩漫となるが、大容量の反応系では十分に冷却され
ないので、任意の分子量において縮重合反応を停止させ
ることが困難である。従って他の手段によって所望の分
子量において反応を停止させる必要がある。
従来、オルガノシロキサンの縮重合停止方法としては、
トリメチルクロロシランを停止剤として使用することが
ポリジメチルシロキサンの製法において、知られていた
。しかしラダー構造のポリオルガノシルセスキオキサン
における停止剤の使用は教示も示唆もされていない。
トリメチルクロロシランを停止剤として使用することが
ポリジメチルシロキサンの製法において、知られていた
。しかしラダー構造のポリオルガノシルセスキオキサン
における停止剤の使用は教示も示唆もされていない。
上記問題点は、オルガノトリクロロシランを加水分解し
てオルガノトリヒドロキシシランとし、有機アミンを触
媒として窒素加圧下で加熱して脱水縮重合させるシリル
化ポリオリガノシルセスキオキサンの製法であって、目
的の分子量まで縮重合させた後、シリル化剤を添加して
縮重合を停止させることを特徴とするシリル化ポリオル
ガノシルセスキオキサンの製法によって解決することが
できる。
てオルガノトリヒドロキシシランとし、有機アミンを触
媒として窒素加圧下で加熱して脱水縮重合させるシリル
化ポリオリガノシルセスキオキサンの製法であって、目
的の分子量まで縮重合させた後、シリル化剤を添加して
縮重合を停止させることを特徴とするシリル化ポリオル
ガノシルセスキオキサンの製法によって解決することが
できる。
シリル化剤はオルガノモノハロゲンシランを使用するこ
とができ、またオルガノモノイソシアネートシランを使
用するときは生成物にハロゲンが混入しない利点がある
。シリル他剤添加後は、加圧のままでも常圧としても縮
重合の進行に実質的な相違は認められない。
とができ、またオルガノモノイソシアネートシランを使
用するときは生成物にハロゲンが混入しない利点がある
。シリル他剤添加後は、加圧のままでも常圧としても縮
重合の進行に実質的な相違は認められない。
オルガノシルセスキオキサンの有機基は、メチル、エチ
ルまたはフェニル基が実用に適する。
ルまたはフェニル基が実用に適する。
実施例１
シリル化ポリメチルシルセスキオキサンの合成を目的と
して、メチルイソフ゛チルケトン（５４０ｃｃ）とトリ
エチルアミン（８４ｃｃ）との混合溶液をドライアイス
／エタノール浴で一２０℃以下まで冷却し、メチルトリ
クロロシラン（Ｍ７Ｃ３） ７８ｃｃ （０，６６ｍｏ
ｌ）を溶液に添加した。さらに液温を一２０℃以下に保
持したまま窒素雰囲気中でイオン交換水約１００ｃｃ（
塩酸トリエチルアミンが完全に溶解する量）を溶液面近
くに反応容器に接しないように滴下した。
して、メチルイソフ゛チルケトン（５４０ｃｃ）とトリ
エチルアミン（８４ｃｃ）との混合溶液をドライアイス
／エタノール浴で一２０℃以下まで冷却し、メチルトリ
クロロシラン（Ｍ７Ｃ３） ７８ｃｃ （０，６６ｍｏ
ｌ）を溶液に添加した。さらに液温を一２０℃以下に保
持したまま窒素雰囲気中でイオン交換水約１００ｃｃ（
塩酸トリエチルアミンが完全に溶解する量）を溶液面近
くに反応容器に接しないように滴下した。
水の滴下が終了した後、徐々に温度を上げ１０℃以上ま
で放置した（約９０分）。室温に達した時点でドライア
イス／エタノール浴を油浴に変えて３０℃以上まで徐々
に温度を上げた（約３０分）。さらに９０±２℃まで加
熱（油浴温度９３℃）し、縮重合反応を行う（重合時間
は、反応容器内の温度が８５℃となった時重合開始とす
る）、このとき、反応容器内の窒素圧力を増加すること
により分子量増加の調節が可能であるが、ここでは４．
ＯＰａとした。
で放置した（約９０分）。室温に達した時点でドライア
イス／エタノール浴を油浴に変えて３０℃以上まで徐々
に温度を上げた（約３０分）。さらに９０±２℃まで加
熱（油浴温度９３℃）し、縮重合反応を行う（重合時間
は、反応容器内の温度が８５℃となった時重合開始とす
る）、このとき、反応容器内の窒素圧力を増加すること
により分子量増加の調節が可能であるが、ここでは４．
ＯＰａとした。
加熱２時間後に常圧とし、シリル他剤トリメチルクロロ
シラン（ＴＭＣＳ）を添加し放冷して反応を停止させた
。このようにして得た樹脂の重量平均分子量は次の第１
表に示す様に放冷後の分子量の増加はｌＯ％程度であり
、目的の分子量が得られた。
シラン（ＴＭＣＳ）を添加し放冷して反応を停止させた
。このようにして得た樹脂の重量平均分子量は次の第１
表に示す様に放冷後の分子量の増加はｌＯ％程度であり
、目的の分子量が得られた。
第 １ 表
第１図で示す実線Ａは窒素圧力４．０Ｐ、で縮重合させ
、加熱２時間後に重量平均分子量が７．２Ｘ１０’とな
り、この時点で加熱を停止して常圧とし、シリル化剤を
添加して放冷した場合である。重量平均分子量は８．２
Ｘ１０’と極めて緩漫な増加に止まった。
、加熱２時間後に重量平均分子量が７．２Ｘ１０’とな
り、この時点で加熱を停止して常圧とし、シリル化剤を
添加して放冷した場合である。重量平均分子量は８．２
Ｘ１０’と極めて緩漫な増加に止まった。
比較例
シリル化剤を添加しないことの他は実施例１と同様にし
、添加後の冷却方法を変えた。冷却後も縮重合反応が進
行して得られたポリメチルシルセスキオキサンの重量平
均分子量は、かなりの増加が認められた。
、添加後の冷却方法を変えた。冷却後も縮重合反応が進
行して得られたポリメチルシルセスキオキサンの重量平
均分子量は、かなりの増加が認められた。
第２表
実施例２
例１と同様の方法で合成を行ない、得られた樹脂の重量
平均分子量は次の第２表に示すように、放冷後の分子量
の増加は１０％程度であり、所望の分子量を得ることが
できた。
平均分子量は次の第２表に示すように、放冷後の分子量
の増加は１０％程度であり、所望の分子量を得ることが
できた。
第２表
〔発明の効果〕
重量平均分子量が約１０４〜１０’の範囲で任意の値を
有するシリル化ポリオルガノシルセスキオキサンを得る
ことができる。
有するシリル化ポリオルガノシルセスキオキサンを得る
ことができる。
第１図はポリメチルシルセスキオキサンの重量平均分子
量と加熱時間との関係を示すグラフである。窒素圧力は
ａ −４，０Ｐａ、 ｂ ＝ ２．７Ｐａ、 ｃ ＝
１．３Ｐａ。 ｄ−常圧。ただし、実線Ａは本発明によってシリル化剤
を添加し、常圧で放冷した場合である。
量と加熱時間との関係を示すグラフである。窒素圧力は
ａ −４，０Ｐａ、 ｂ ＝ ２．７Ｐａ、 ｃ ＝
１．３Ｐａ。 ｄ−常圧。ただし、実線Ａは本発明によってシリル化剤
を添加し、常圧で放冷した場合である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、オルガノトリクロロシランを加水分解してオルガノ
トリヒドロキシシランとし、有機アミンを触媒として窒
素加圧下で加熱して脱水縮重合させるシリル化ポリオル
ガノシルセスキオキサンの製法であって、目的の分子量
まで縮重合させた後、シリル化剤を添加して縮重合を停
止させることを特徴とするシリル化ポリオルガノシルセ
スキオキサンの製法。 ２、シリル化剤がオルガノモノハロゲンシランまたはオ
ルガノモノイソシアネートシランである、特許請求の範
囲第１項記載の製法。 ３、シリル化ポリオルガノシルセスキオキサンが次の一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｎ＝５０〜５，０００、Ｒ＝メチル、エチル、
またはフェニル基） で表わされる、特許請求の範囲第１項記載の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6212885A JPS61221232A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | シリル化ポリオルガノシルセスキオキサンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6212885A JPS61221232A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | シリル化ポリオルガノシルセスキオキサンの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61221232A true JPS61221232A (ja) | 1986-10-01 |
Family
ID=13191122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6212885A Pending JPS61221232A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | シリル化ポリオルガノシルセスキオキサンの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61221232A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01308429A (ja) * | 1988-02-25 | 1989-12-13 | Fujitsu Ltd | ポリオルガノシルセスキオキサン及びその製法ならびにパターン形成材料 |
| EP0432905A2 (en) * | 1989-11-15 | 1991-06-19 | Fujitsu Limited | Polyisophenylenesiloxane, production process thereof, and resist material and semiconductor device formed thereof |
| US5907019A (en) * | 1996-11-28 | 1999-05-25 | Dow Corning Asia, Ltd. | Polymer-compatible polymethylsilsesquioxane |
| US5939500A (en) * | 1997-02-24 | 1999-08-17 | Dow Corning Asia, Ltd | Hydrogen-functional silylated polymethylsilsesquioxane |
| US6008310A (en) * | 1997-02-24 | 1999-12-28 | Dow Corning Asia, Ltd. | Silicone release coating compositions |
| US6284858B1 (en) | 1997-03-14 | 2001-09-04 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Silicone compounds and process for producing the same |
| JP2007119569A (ja) * | 2005-10-27 | 2007-05-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光関連デバイス封止用樹脂組成物およびその硬化物ならびに半導体素子の封止方法 |
| US8864898B2 (en) | 2011-05-31 | 2014-10-21 | Honeywell International Inc. | Coating formulations for optical elements |
| US8992806B2 (en) | 2003-11-18 | 2015-03-31 | Honeywell International Inc. | Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof |
-
1985
- 1985-03-28 JP JP6212885A patent/JPS61221232A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01308429A (ja) * | 1988-02-25 | 1989-12-13 | Fujitsu Ltd | ポリオルガノシルセスキオキサン及びその製法ならびにパターン形成材料 |
| EP0432905A2 (en) * | 1989-11-15 | 1991-06-19 | Fujitsu Limited | Polyisophenylenesiloxane, production process thereof, and resist material and semiconductor device formed thereof |
| US5907019A (en) * | 1996-11-28 | 1999-05-25 | Dow Corning Asia, Ltd. | Polymer-compatible polymethylsilsesquioxane |
| US5939500A (en) * | 1997-02-24 | 1999-08-17 | Dow Corning Asia, Ltd | Hydrogen-functional silylated polymethylsilsesquioxane |
| US6008310A (en) * | 1997-02-24 | 1999-12-28 | Dow Corning Asia, Ltd. | Silicone release coating compositions |
| US6284858B1 (en) | 1997-03-14 | 2001-09-04 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Silicone compounds and process for producing the same |
| US8992806B2 (en) | 2003-11-18 | 2015-03-31 | Honeywell International Inc. | Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof |
| JP2007119569A (ja) * | 2005-10-27 | 2007-05-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光関連デバイス封止用樹脂組成物およびその硬化物ならびに半導体素子の封止方法 |
| US8864898B2 (en) | 2011-05-31 | 2014-10-21 | Honeywell International Inc. | Coating formulations for optical elements |
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