JPS61192471A

JPS61192471A - 球体加工装置

Info

Publication number: JPS61192471A
Application number: JP60030279A
Authority: JP
Inventors: Yasuo Suzuki; 鈴木　靖男
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1985-02-20
Filing date: 1985-02-20
Publication date: 1986-08-27

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕この発明は、複数の球体を同時にラッピングする球体加
工装置に関し、特に、限定はされないがセラミックスか
らなる球体の加工に好適な球体加工装置に関する。

〔発明の技術的背景とその問題点３球体は各種装置の構成要素として、広く各技術分野に応
用されておシ、特に、セラミックスからなる球体は、そ
の耐食、耐熱、耐摩耗性などを生かし次特殊用途への適
用が注目されている。一般に、球体はセラミックスであ
るとないとにかかわらず、真球度のよい所定直径のもの
が要求されるため、それに適応した加工装置を必要とす
る。ふくして、比較的大きな球体については、−回に１
個の球体を加工する場合が多いが、比較的小さな球体に
ついては、一度に多数の球体を同時に加工することが望
まれる。

第４図はその一例であって、鋼製円板状の下ラップ盤（
１）に対して、鋼製円板状の上ラップ盤（２）を同軸に
対向させ、これら下ラップ盤（１）と上ラップ盤（２）
との間に球体被加工物（ジを転勤自在に支持する保持板
（３）を配置したものである。球体被加工物（印は保持
板（３）の同一円周上に形成された支持部に複数個支持
されて、下ラップ盤（１）のＶ形環状溝（１ａ）に嵌合
し、ラップ盤（１）　、　（２）の回転と上ラップ盤（
２）を介して加えられる加圧力とによって、環状溝（ｌ
ａ）中を転動し、この間に外部よりラップ剤が供給され
て加工される。

しかしながら、従来の球体加工装置においては上、下ラ
ップ盤の位置関係は不変であるので、球体の材質、形状
　Ｖ形環状溝（１ａ）中における配設位置等によシラツ
ブ条件だ大きな差異を生じる結果、加工精度にも悪影響
を与え、製品の歩留が低下する一因となっていた。

〔発明の目的〕

この発明は、上記事情を勘案してなされたもので、複数
の球体を高精度に加工することのできる球体加工装置を
得ることにあるっ〔発明の概璧〕ランプ仕上げされる球体が嵌合するＶ字状溝が刻設され
た下ラップ盤の回転軸線に対して直交する方向に下ラッ
プ盤とともに球体を挾圧する上ラップ盤を相対的に往復
駆動するようにしたものである。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。

第１図及び第２図は、この実施例の球体加工装置を示し
ている。この装置は１円板状の鋼製下ラップ盤ａ〔と、
この下ラップ盤α１を支持して矢印側方向に回転させる
第１の回転駆動機構ａ２と、下ラップ盤α１の上方に平
行に対向して配設された円板状の鋼製上ラップ盤０国と
、この上ラップ盤０国を支持して矢印１方向に回転させ
る第２の回転駆動機構（１９と、この第２の回転駆動機
構α９を支持して下ラップ盤ａ〔の回転軸線（Ｌｅに直
交する矢印αＤ方向に進退駆動する進退駆動機構−と、
下ラップ盤α１と上ラップ盤ａ３との間に介装された保
持板α■とから構成されている。しかして、下ラップ盤
α１の上面には、横ｉ面がＶ字状をなすＶ字状溝■・・
・が回転軸線αｅを中心として同心状に複数本刻設され
ている。さらに、第１の回転駆動機構αりは、下ラップ
盤（１）の下面に同軸に連結された回転軸Ｃυと、この
回転軸Ｑυを軸支する軸受＠と、回転軸（２υの下端部
に連結された第１のモータ＠とからなっている。

また、＄２の回転駆動機構α９は、上ラップ盤任４の上
面に同軸に連結された回転軸（２）と、この回転軸（２
）の上端部に連結された軸継手□□□と、一端部がこの
軸継手Ｃ１’９に連結された回転軸（至）を有する第２
のモータ罰と、この第２のモータ罰が塔載された支持板
（至）とからなっている。上記軸継手（至）は、回転軸
回の変位（軸変位、半径変位、角変位）を許容する例え
ば弾性軸継手、フランジ形たわみ軸継手、ゴム軸継手等
からなっている。一方、進退駆動機構ｑ８１は、第２図
に示すように、支持板（至）が矢印αη力方向摺動自在
に載架された一対の棒状案内体（ハ）。

四と、支持板（至）の下面に固設されたナツト体（３０
）と、このナツト体（３０）に螺合する送りねじｌ３１
）と、図示せぬ固定部材に取付けられ且つ送りねじ圓に
同軸に連結された回転軸（至）を有し、送りねじ３υを
正逆回転させることにより支持板（２）を矢印（１７）
方向に進退させる第３のモータ（ロ）とからなっている
。

そして、案内体１．’ｌ、（１’ｌの長手方向並びに送
りねじ３υ及び回転軸田の軸線方向は、矢印ση力方向
なっているうさらに、保持板ａｌは、円環状のものであ
って、被加工物である例えば５ｉ３Ｎ４（窒化珪素）な
どの球体３勺・をＶ字状溝■・・中に等間隔で転勤自在
に位置決め保持するための円孔が穿設されてなるもので
ある。

しかして、上記構成の球体加工装置において、まずＶ字
状溝（イ）・・・に球体加工される被加工物である粗球
状の球体（ハ）・・・を嵌合させ、保持板（ＩＩにより
所定位置に位置決めする。ついで、球体（至）・・・を
上ラップ盤ａ３を介して押圧し、球体ｔ３９・・・を上
ラップ盤αり及び下ラップ盤αａとにより挾圧すると同
時にＶ字状溝■・・・にラップ剤を供給する。ついで、
第１のモータ＠を起動し、回転軸Ｑυを介して下ラップ
盤ＯＱを矢印ＱＬ！方向に起動するっ同時に、第２のモ
ータ（５）を起動し１回転軸■、軸継手（ハ）及び回転
軸Ｕを介して上ラップ盤ａ３を矢印（１４）方向に回転
させる。さらに、第３のモータ（ロ）を起動して、支持
板（至）に塔載されている第２のモータ罰及びこの第２
のモータ匈の回転軸（ハ）に垂設されている上ラップ盤
（１３を第３図に示す矢印（至）の範囲内で進退させる
。これにより上ラップ盤αりの回転軸線ｃ３ηは、下ラ
ップ盤０Ｉの回転軸線（１（９と一致したときを除いて
回転軸＃ｌ！１９に対して偏心する。しかも、偏心量は
連続的に増減する。かくして、球体６Ｑ・・・は、それ
ぞれ上ラップ盤ＯＪの下面とＶ字状溝■・・・の両側壁
面との３屯にて支持されながら転動する。しかし、上記
３ａにおけるラップ速度が違ってくるために、球体（至
）・・・表面と、両ラップ盤αＩ　、　ｔｉ３との間に
は滑り運動を生じてラップ仕上げが行われる０また、同
時Ｋ、球体（至）・・・は、下ラップ盤Ｃ１ｌに対して
上ラップ盤（１１が相対的に偏心するので、球体（至）
・・・はＶ字状ｍｗ・・・の中でそれらの自転軸が頻繁
−変化する。よって球体（ハ）・・・は、それらの全面
が一様にラップ仕上げされる。ことＫ、上ラップ盤ａ四
を矢印αη力方向往復動させているので、球体（至）・
・・の自動軌跡が不規則化する。したがって、ラップ作
用が球体（至）・・・の形状、大きさ、硬軟にかかわら
ず均一化するので、球体（至）の真球度が著しく向上す
る。

なお、上記実施例においては、上ラップ盤ａ３は矢印（
１４）方向に回転させているが、回転を停止させ矢印Ｕ
η方向に進退させるようにしてもよい。さらに、矢印α
η力方向進退に限ることなく、たとえば矢印Ｕηに直角
な方向などのように下ラップ盤（１（ｌの回転軸線ａＱ
に交差する複数方向に矢印αのと交互に進退させるよう
にしてもよい。さらに、上ラップ盤α階を進退させる代
りに、下ラップ盤０１側を上ラップ盤に対して進退させ
るようにしてもよい。あるいは、両ラップ盤Ｑｌ　、　
［ｌ：１を互に交差（例えば直交）する方向に同時に進
退させるようにしてもよい０〔発明の効果〕本発明の球体加工装置は、球体がＶ字状溝の中で、その
自転軸を頻繁に変化させて、球体の自転軌跡を不規則化
するようＫしているので、球体の加工精度が著しく向上
する。ことに、粗球体の形状、硬軟、大きさのばらつき
が大きいセラミックス製の球体製造に適用した場合、顕
著な効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の球体加工装置の正面図、第
２図は同じく要部側面図、第３図は第１図の下ラップ盤
の平面図、第４図は従来の球体加工装置の構成図である
。ＱＯＩ・・・Ｆラップ盤、　　αの・・・第１の回転駆
動機構。（１３１・・・上ラップ盤、　　ａｅ・・・回転軸線、
１Ｉ８１・・・進退駆動機構、　ｊ・・・Ｖ字状溝。（至）・・・球体（被加工物）。第１図

Claims

【特許請求の範囲】

ラップ仕上げされる球体状の被加工物が保持されるＶ字
状溝が刻設された下ラップ盤と、この下ラップ盤を回転
させる回転駆動機構と、上記下ラップ盤とともに上記Ｖ
字状溝に保持されている上記被加工物を挾圧する上ラッ
プ盤と、上記上ラップ盤を上記下ラップ盤に対して上記
下ラップ盤の回転軸線に直交する方向に相対的に往復駆
動する進退駆動機構とを具備することを特徴とする球体
加工装置。