JPS61192471A - 球体加工装置 - Google Patents
球体加工装置Info
- Publication number
- JPS61192471A JPS61192471A JP60030279A JP3027985A JPS61192471A JP S61192471 A JPS61192471 A JP S61192471A JP 60030279 A JP60030279 A JP 60030279A JP 3027985 A JP3027985 A JP 3027985A JP S61192471 A JPS61192471 A JP S61192471A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lap
- lapping machine
- globe
- sphere
- arrow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、複数の球体を同時にラッピングする球体加
工装置に関し、特に、限定はされないがセラミックスか
らなる球体の加工に好適な球体加工装置に関する。
工装置に関し、特に、限定はされないがセラミックスか
らなる球体の加工に好適な球体加工装置に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点3
球体は各種装置の構成要素として、広く各技術分野に応
用されておシ、特に、セラミックスからなる球体は、そ
の耐食、耐熱、耐摩耗性などを生かし次特殊用途への適
用が注目されている。一般に、球体はセラミックスであ
るとないとにかかわらず、真球度のよい所定直径のもの
が要求されるため、それに適応した加工装置を必要とす
る。ふくして、比較的大きな球体については、−回に1
個の球体を加工する場合が多いが、比較的小さな球体に
ついては、一度に多数の球体を同時に加工することが望
まれる。
用されておシ、特に、セラミックスからなる球体は、そ
の耐食、耐熱、耐摩耗性などを生かし次特殊用途への適
用が注目されている。一般に、球体はセラミックスであ
るとないとにかかわらず、真球度のよい所定直径のもの
が要求されるため、それに適応した加工装置を必要とす
る。ふくして、比較的大きな球体については、−回に1
個の球体を加工する場合が多いが、比較的小さな球体に
ついては、一度に多数の球体を同時に加工することが望
まれる。
第4図はその一例であって、鋼製円板状の下ラップ盤(
1)に対して、鋼製円板状の上ラップ盤(2)を同軸に
対向させ、これら下ラップ盤(1)と上ラップ盤(2)
との間に球体被加工物(ジを転勤自在に支持する保持板
(3)を配置したものである。球体被加工物(印は保持
板(3)の同一円周上に形成された支持部に複数個支持
されて、下ラップ盤(1)のV形環状溝(1a)に嵌合
し、ラップ盤(1) 、 (2)の回転と上ラップ盤(
2)を介して加えられる加圧力とによって、環状溝(l
a)中を転動し、この間に外部よりラップ剤が供給され
て加工される。
1)に対して、鋼製円板状の上ラップ盤(2)を同軸に
対向させ、これら下ラップ盤(1)と上ラップ盤(2)
との間に球体被加工物(ジを転勤自在に支持する保持板
(3)を配置したものである。球体被加工物(印は保持
板(3)の同一円周上に形成された支持部に複数個支持
されて、下ラップ盤(1)のV形環状溝(1a)に嵌合
し、ラップ盤(1) 、 (2)の回転と上ラップ盤(
2)を介して加えられる加圧力とによって、環状溝(l
a)中を転動し、この間に外部よりラップ剤が供給され
て加工される。
しかしながら、従来の球体加工装置においては上、下ラ
ップ盤の位置関係は不変であるので、球体の材質、形状
V形環状溝(1a)中における配設位置等によシラツ
ブ条件だ大きな差異を生じる結果、加工精度にも悪影響
を与え、製品の歩留が低下する一因となっていた。
ップ盤の位置関係は不変であるので、球体の材質、形状
V形環状溝(1a)中における配設位置等によシラツ
ブ条件だ大きな差異を生じる結果、加工精度にも悪影響
を与え、製品の歩留が低下する一因となっていた。
この発明は、上記事情を勘案してなされたもので、複数
の球体を高精度に加工することのできる球体加工装置を
得ることにあるっ 〔発明の概璧〕 ランプ仕上げされる球体が嵌合するV字状溝が刻設され
た下ラップ盤の回転軸線に対して直交する方向に下ラッ
プ盤とともに球体を挾圧する上ラップ盤を相対的に往復
駆動するようにしたものである。
の球体を高精度に加工することのできる球体加工装置を
得ることにあるっ 〔発明の概璧〕 ランプ仕上げされる球体が嵌合するV字状溝が刻設され
た下ラップ盤の回転軸線に対して直交する方向に下ラッ
プ盤とともに球体を挾圧する上ラップ盤を相対的に往復
駆動するようにしたものである。
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
第1図及び第2図は、この実施例の球体加工装置を示し
ている。この装置は1円板状の鋼製下ラップ盤a〔と、
この下ラップ盤α1を支持して矢印側方向に回転させる
第1の回転駆動機構a2と、下ラップ盤α1の上方に平
行に対向して配設された円板状の鋼製上ラップ盤0国と
、この上ラップ盤0国を支持して矢印1方向に回転させ
る第2の回転駆動機構(19と、この第2の回転駆動機
構α9を支持して下ラップ盤a〔の回転軸線(Leに直
交する矢印αD方向に進退駆動する進退駆動機構−と、
下ラップ盤α1と上ラップ盤a3との間に介装された保
持板α■とから構成されている。しかして、下ラップ盤
α1の上面には、横i面がV字状をなすV字状溝■・・
・が回転軸線αeを中心として同心状に複数本刻設され
ている。さらに、第1の回転駆動機構αりは、下ラップ
盤(1)の下面に同軸に連結された回転軸Cυと、この
回転軸Qυを軸支する軸受@と、回転軸(2υの下端部
に連結された第1のモータ@とからなっている。
ている。この装置は1円板状の鋼製下ラップ盤a〔と、
この下ラップ盤α1を支持して矢印側方向に回転させる
第1の回転駆動機構a2と、下ラップ盤α1の上方に平
行に対向して配設された円板状の鋼製上ラップ盤0国と
、この上ラップ盤0国を支持して矢印1方向に回転させ
る第2の回転駆動機構(19と、この第2の回転駆動機
構α9を支持して下ラップ盤a〔の回転軸線(Leに直
交する矢印αD方向に進退駆動する進退駆動機構−と、
下ラップ盤α1と上ラップ盤a3との間に介装された保
持板α■とから構成されている。しかして、下ラップ盤
α1の上面には、横i面がV字状をなすV字状溝■・・
・が回転軸線αeを中心として同心状に複数本刻設され
ている。さらに、第1の回転駆動機構αりは、下ラップ
盤(1)の下面に同軸に連結された回転軸Cυと、この
回転軸Qυを軸支する軸受@と、回転軸(2υの下端部
に連結された第1のモータ@とからなっている。
また、$2の回転駆動機構α9は、上ラップ盤任4の上
面に同軸に連結された回転軸(2)と、この回転軸(2
)の上端部に連結された軸継手□□□と、一端部がこの
軸継手C1’9に連結された回転軸(至)を有する第2
のモータ罰と、この第2のモータ罰が塔載された支持板
(至)とからなっている。上記軸継手(至)は、回転軸
回の変位(軸変位、半径変位、角変位)を許容する例え
ば弾性軸継手、フランジ形たわみ軸継手、ゴム軸継手等
からなっている。一方、進退駆動機構q81は、第2図
に示すように、支持板(至)が矢印αη力方向摺動自在
に載架された一対の棒状案内体(ハ)。
面に同軸に連結された回転軸(2)と、この回転軸(2
)の上端部に連結された軸継手□□□と、一端部がこの
軸継手C1’9に連結された回転軸(至)を有する第2
のモータ罰と、この第2のモータ罰が塔載された支持板
(至)とからなっている。上記軸継手(至)は、回転軸
回の変位(軸変位、半径変位、角変位)を許容する例え
ば弾性軸継手、フランジ形たわみ軸継手、ゴム軸継手等
からなっている。一方、進退駆動機構q81は、第2図
に示すように、支持板(至)が矢印αη力方向摺動自在
に載架された一対の棒状案内体(ハ)。
四と、支持板(至)の下面に固設されたナツト体(30
)と、このナツト体(30)に螺合する送りねじl31
)と、図示せぬ固定部材に取付けられ且つ送りねじ圓に
同軸に連結された回転軸(至)を有し、送りねじ3υを
正逆回転させることにより支持板(2)を矢印(17)
方向に進退させる第3のモータ(ロ)とからなっている
。
)と、このナツト体(30)に螺合する送りねじl31
)と、図示せぬ固定部材に取付けられ且つ送りねじ圓に
同軸に連結された回転軸(至)を有し、送りねじ3υを
正逆回転させることにより支持板(2)を矢印(17)
方向に進退させる第3のモータ(ロ)とからなっている
。
そして、案内体1.’l、(1’lの長手方向並びに送
りねじ3υ及び回転軸田の軸線方向は、矢印ση力方向
なっているうさらに、保持板alは、円環状のものであ
って、被加工物である例えば5i3N4(窒化珪素)な
どの球体3勺・をV字状溝■・・中に等間隔で転勤自在
に位置決め保持するための円孔が穿設されてなるもので
ある。
りねじ3υ及び回転軸田の軸線方向は、矢印ση力方向
なっているうさらに、保持板alは、円環状のものであ
って、被加工物である例えば5i3N4(窒化珪素)な
どの球体3勺・をV字状溝■・・中に等間隔で転勤自在
に位置決め保持するための円孔が穿設されてなるもので
ある。
しかして、上記構成の球体加工装置において、まずV字
状溝(イ)・・・に球体加工される被加工物である粗球
状の球体(ハ)・・・を嵌合させ、保持板(IIにより
所定位置に位置決めする。ついで、球体(至)・・・を
上ラップ盤a3を介して押圧し、球体t39・・・を上
ラップ盤αり及び下ラップ盤αaとにより挾圧すると同
時にV字状溝■・・・にラップ剤を供給する。ついで、
第1のモータ@を起動し、回転軸Qυを介して下ラップ
盤OQを矢印QL!方向に起動するっ同時に、第2のモ
ータ(5)を起動し1回転軸■、軸継手(ハ)及び回転
軸Uを介して上ラップ盤a3を矢印(14)方向に回転
させる。さらに、第3のモータ(ロ)を起動して、支持
板(至)に塔載されている第2のモータ罰及びこの第2
のモータ匈の回転軸(ハ)に垂設されている上ラップ盤
(13を第3図に示す矢印(至)の範囲内で進退させる
。これにより上ラップ盤αりの回転軸線c3ηは、下ラ
ップ盤0Iの回転軸線(1(9と一致したときを除いて
回転軸#l!19に対して偏心する。しかも、偏心量は
連続的に増減する。かくして、球体6Q・・・は、それ
ぞれ上ラップ盤OJの下面とV字状溝■・・・の両側壁
面との3屯にて支持されながら転動する。しかし、上記
3aにおけるラップ速度が違ってくるために、球体(至
)・・・表面と、両ラップ盤αI 、 ti3との間に
は滑り運動を生じてラップ仕上げが行われる0また、同
時K、球体(至)・・・は、下ラップ盤C1lに対して
上ラップ盤(11が相対的に偏心するので、球体(至)
・・・はV字状mw・・・の中でそれらの自転軸が頻繁
−変化する。よって球体(ハ)・・・は、それらの全面
が一様にラップ仕上げされる。ことK、上ラップ盤a四
を矢印αη力方向往復動させているので、球体(至)・
・・の自動軌跡が不規則化する。したがって、ラップ作
用が球体(至)・・・の形状、大きさ、硬軟にかかわら
ず均一化するので、球体(至)の真球度が著しく向上す
る。
状溝(イ)・・・に球体加工される被加工物である粗球
状の球体(ハ)・・・を嵌合させ、保持板(IIにより
所定位置に位置決めする。ついで、球体(至)・・・を
上ラップ盤a3を介して押圧し、球体t39・・・を上
ラップ盤αり及び下ラップ盤αaとにより挾圧すると同
時にV字状溝■・・・にラップ剤を供給する。ついで、
第1のモータ@を起動し、回転軸Qυを介して下ラップ
盤OQを矢印QL!方向に起動するっ同時に、第2のモ
ータ(5)を起動し1回転軸■、軸継手(ハ)及び回転
軸Uを介して上ラップ盤a3を矢印(14)方向に回転
させる。さらに、第3のモータ(ロ)を起動して、支持
板(至)に塔載されている第2のモータ罰及びこの第2
のモータ匈の回転軸(ハ)に垂設されている上ラップ盤
(13を第3図に示す矢印(至)の範囲内で進退させる
。これにより上ラップ盤αりの回転軸線c3ηは、下ラ
ップ盤0Iの回転軸線(1(9と一致したときを除いて
回転軸#l!19に対して偏心する。しかも、偏心量は
連続的に増減する。かくして、球体6Q・・・は、それ
ぞれ上ラップ盤OJの下面とV字状溝■・・・の両側壁
面との3屯にて支持されながら転動する。しかし、上記
3aにおけるラップ速度が違ってくるために、球体(至
)・・・表面と、両ラップ盤αI 、 ti3との間に
は滑り運動を生じてラップ仕上げが行われる0また、同
時K、球体(至)・・・は、下ラップ盤C1lに対して
上ラップ盤(11が相対的に偏心するので、球体(至)
・・・はV字状mw・・・の中でそれらの自転軸が頻繁
−変化する。よって球体(ハ)・・・は、それらの全面
が一様にラップ仕上げされる。ことK、上ラップ盤a四
を矢印αη力方向往復動させているので、球体(至)・
・・の自動軌跡が不規則化する。したがって、ラップ作
用が球体(至)・・・の形状、大きさ、硬軟にかかわら
ず均一化するので、球体(至)の真球度が著しく向上す
る。
なお、上記実施例においては、上ラップ盤a3は矢印(
14)方向に回転させているが、回転を停止させ矢印U
η方向に進退させるようにしてもよい。さらに、矢印α
η力方向進退に限ることなく、たとえば矢印Uηに直角
な方向などのように下ラップ盤(1(lの回転軸線aQ
に交差する複数方向に矢印αのと交互に進退させるよう
にしてもよい。さらに、上ラップ盤α階を進退させる代
りに、下ラップ盤01側を上ラップ盤に対して進退させ
るようにしてもよい。あるいは、両ラップ盤Ql 、
[l:1を互に交差(例えば直交)する方向に同時に進
退させるようにしてもよい0 〔発明の効果〕 本発明の球体加工装置は、球体がV字状溝の中で、その
自転軸を頻繁に変化させて、球体の自転軌跡を不規則化
するようKしているので、球体の加工精度が著しく向上
する。ことに、粗球体の形状、硬軟、大きさのばらつき
が大きいセラミックス製の球体製造に適用した場合、顕
著な効果を奏する。
14)方向に回転させているが、回転を停止させ矢印U
η方向に進退させるようにしてもよい。さらに、矢印α
η力方向進退に限ることなく、たとえば矢印Uηに直角
な方向などのように下ラップ盤(1(lの回転軸線aQ
に交差する複数方向に矢印αのと交互に進退させるよう
にしてもよい。さらに、上ラップ盤α階を進退させる代
りに、下ラップ盤01側を上ラップ盤に対して進退させ
るようにしてもよい。あるいは、両ラップ盤Ql 、
[l:1を互に交差(例えば直交)する方向に同時に進
退させるようにしてもよい0 〔発明の効果〕 本発明の球体加工装置は、球体がV字状溝の中で、その
自転軸を頻繁に変化させて、球体の自転軌跡を不規則化
するようKしているので、球体の加工精度が著しく向上
する。ことに、粗球体の形状、硬軟、大きさのばらつき
が大きいセラミックス製の球体製造に適用した場合、顕
著な効果を奏する。
第1図は本発明の一実施例の球体加工装置の正面図、第
2図は同じく要部側面図、第3図は第1図の下ラップ盤
の平面図、第4図は従来の球体加工装置の構成図である
。 QOI・・・Fラップ盤、 αの・・・第1の回転駆
動機構。 (131・・・上ラップ盤、 ae・・・回転軸線、
1I81・・・進退駆動機構、 j・・・V字状溝。 (至)・・・球体(被加工物)。 第1図
2図は同じく要部側面図、第3図は第1図の下ラップ盤
の平面図、第4図は従来の球体加工装置の構成図である
。 QOI・・・Fラップ盤、 αの・・・第1の回転駆
動機構。 (131・・・上ラップ盤、 ae・・・回転軸線、
1I81・・・進退駆動機構、 j・・・V字状溝。 (至)・・・球体(被加工物)。 第1図
Claims (1)
- ラップ仕上げされる球体状の被加工物が保持されるV字
状溝が刻設された下ラップ盤と、この下ラップ盤を回転
させる回転駆動機構と、上記下ラップ盤とともに上記V
字状溝に保持されている上記被加工物を挾圧する上ラッ
プ盤と、上記上ラップ盤を上記下ラップ盤に対して上記
下ラップ盤の回転軸線に直交する方向に相対的に往復駆
動する進退駆動機構とを具備することを特徴とする球体
加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60030279A JPS61192471A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 球体加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60030279A JPS61192471A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 球体加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61192471A true JPS61192471A (ja) | 1986-08-27 |
Family
ID=12299273
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60030279A Pending JPS61192471A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 球体加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61192471A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63114868A (ja) * | 1985-12-28 | 1988-05-19 | Koga Tadashi | 球体の加工方法および加工装置 |
US5214884A (en) * | 1991-04-23 | 1993-06-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ball polishing apparatus and method for the same |
-
1985
- 1985-02-20 JP JP60030279A patent/JPS61192471A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63114868A (ja) * | 1985-12-28 | 1988-05-19 | Koga Tadashi | 球体の加工方法および加工装置 |
US5214884A (en) * | 1991-04-23 | 1993-06-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ball polishing apparatus and method for the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2564214B2 (ja) | 均一速度両面研磨装置及びその使用方法 | |
US5108117A (en) | Workpart chuck positioning mechanism with independent shoes | |
US5213348A (en) | Workpart chuck positioning mechanism with independent shoes | |
US3345783A (en) | Centerless honing apparatus | |
JPS61192471A (ja) | 球体加工装置 | |
US3866359A (en) | Surface grinding apparatus | |
KR920006077A (ko) | 공작기계의 지석(砥石)수정장치 | |
JP2600425B2 (ja) | ナットねじ溝のラップ加工方法及び装置 | |
JPH09168924A (ja) | ナットねじ溝のラップ加工方法 | |
JPS63212454A (ja) | 球面ホ−ニング加工方法 | |
RU2023575C1 (ru) | Способ сквозного бесцентрового наружного шлифования | |
JP2002025951A (ja) | 両面加工装置及びその研磨手段のツルーイング方法 | |
US3541733A (en) | Apparatus for machining spherical heads of elongate workpieces | |
JPH03294163A (ja) | 曲面加工装置 | |
JPH0618762Y2 (ja) | リング部品の仕上装置 | |
JP2001259981A (ja) | 球体研磨装置の環状溝成形方法 | |
JPS61192472A (ja) | 球体加工装置 | |
JPS59219152A (ja) | 研磨加工機 | |
JPS59232759A (ja) | 研磨装置 | |
JPS6334062A (ja) | 球体加工装置 | |
JPH01183353A (ja) | 球体加工装置 | |
JPH054157A (ja) | 球体加工方法および装置 | |
JPS63232944A (ja) | 研磨工具 | |
SU1558634A1 (ru) | Устройство дл перемещени деталей через зону обработки | |
JPH03256661A (ja) | 球体加工装置 |