JPS61159701A - サ−マルヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

サ−マルヘツドおよびその製造方法

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JPS61159701A
JPS61159701A JP59274722A JP27472284A JPS61159701A JP S61159701 A JPS61159701 A JP S61159701A JP 59274722 A JP59274722 A JP 59274722A JP 27472284 A JP27472284 A JP 27472284A JP S61159701 A JPS61159701 A JP S61159701A
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thermal
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一成 佐々木
英樹 松井
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は感熱印刷用サーマルヘッドに係り、特にそのサ
ーマルヘッドの発熱抵抗体材料に関するものである。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
薄膜を用いた発熱抵抗体を有するサーマルヘッドとは、
感熱記録に用いられる電気−熱変換出力部の呼称で、一
般にアルミナ等の高抵抗耐熱性基材に薄膜の製造技術に
より、発熱抵抗体・発熱抵抗体駆動のためのリード線ま
たは必要に応じて、発熱抵抗体保護膜あるいは共通配線
な胤す場合には逆流阻止要巣・放熱板等を設けたもので
ある。
このサーマルヘッドの動作は、リード線を通じて外部駆
動手段により発熱抵抗体を記録信号に応じたパルス電流
を通じて発熱させ、これを感熱紙等C;接触して発色さ
せて、情報を記録することによりなる。
このサーマルヘッドの発熱抵抗体は、従来Ta−N、N
iCr等が使用されている。しかしながら、この発熱抵
抗材料は、比抵抗が数100μΩ−c!n(例えばTa
ff1Nでは約200μΩ−crII)と小さい。一方
、サーマルヘッドの発熱抵抗体の個々の寸法は、記録品
質向上のために縦横比が約IC=近い数櫃が要求される
。そこで、以上の点から発熱抵抗体の抵抗値は膜厚を数
1ooo iとすると、数100となる。
ところで、発色に必要なパワーは一定であるため、抵抗
値が小さくなるほど大きな電流が必要となり、サーマル
ヘッドに供給する1[源が大きくなる。したがって、従
来のサーマルヘッドにおいては、この大電源に対応する
ため、リード線膜厚を厚くしたり駆動ICを大きくした
りすること等により対処した。ところで、サーマルヘッ
ドが高価となる等の問題があり、現在、低価格化、小型
化等を模索している技術の潮流に反する。また、発熱抵
抗体を高抵抗にすると、例えばリード線の抵抗(通常数
Ω)を無視できるほどに高抵抗にすれば、定電圧加熱に
よる発色濃度むらが無くなり記録品質が同上するが、こ
のサーマルヘッドではこのようなことがなされない。さ
らに感熱装置の螢光灯やパルスモータの電源(通常24
v)と共通書ニして、コンパクト化、簡易化、低廉化を
図ることができない。
この問題に対処する方法が従来あるので、以下に説明す
る。
slの方法は、発熱抵抗体の膜厚を数1ooo iより
薄くして抵抗値を上げる方法である。しかしながら、こ
の第1の方法は発熱累計時間に対する抵抗変化率が大き
くなるため、寿命が短く、現実的ではない。
第2の方法は、発熱抵抗体の形状をミアンダ形に形成し
て発熱抵抗体の抵抗値を上げる方法である。しかしなが
ら、このfs2の方法はサーマルヘッドの小屋化という
現在の技術の潮流に伴う高密度化を満足する微細加工が
困難となり現実的でない。
第3の方法は、発熱抵抗体材料そのものの比抵抗を上げ
る方法である。このため、発熱抵抗体をTa−81、T
a−810!、 Cr−8401等で形成する。このう
ち、Ta−810,を使用した技術は特開昭67−61
581号公報に開示しである。この公報によれば、68
〜55重量嘔モルの範囲のTa含有率のTa−Si0よ
系発熱抵抗体材料を用いた場合に、抵抗体破壊パワーを
大きくと′れると記載されているが、この比抵抗は数1
000μΩ1程度にとどまり、リード抵抗(数Ω)を無
視できるほど高抵抗Cニすることが不可能であることを
、本発明者達により確認された。
High 8psad Facsjmile Bqui
pmsnts”Pro of the1982  In
ternational  Mlcroelactrl
c  Conferenca。
820頁乃至827頁May 1982 Jの第8図に
、40重量−モル以下の範囲の810.を含有した場合
には、発熱抵抗体の比抵抗は1000μΩ画乃至5oo
oμΩ国になることが記載されている。しかしながら、
これも、リード抵抗(数Ω)を無視できるほど発熱抵抗
体を高抵抗にす唇ことが不可能であることが本発明者達
により確認された。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、上述の問題点を鑑みてなされたもので
あり、感熱記録の発色濃度むらを防止し、極めて良質な
印字を得るサーマルヘッドを提供することを目的とする
〔発明の概要〕
上述の目的を達成するために、本発明のサーマルヘッド
はシリコン酸化物が45重量モル慢よりも大きく75重
量モル慢以下であるT2−111i−0系薄膜を発熱抵
抗体として用いたものである。また、本発明のサーマル
ヘッドの製造方法は、発熱抵抗体がタンタルとシリコン
酸化物とを混合して焼結した焼結体ターゲットのシリコ
ン酸化物の比率を45重量モル慢よりも大きぐ75重量
モル優以下の範囲内で制御すると共に、アルゴンガス分
圧を10 X 10″″3Torr乃至80 X 10
  Torrの範囲内で制御して得られるTa−81−
0系薄膜から形成される。これにより、発熱抵抗体が高
抵抗となり、リード線の抵抗の影響を全く受けず発色濃
度むら等を防止し臘めて良質な印字が得られる。
〔発明の実施例〕
以下本発明のサーマルヘッドおよびその製造方法の実施
例を図面を参照して説明する。
第19臀、本発明のサーマルヘッドの断面簡略図である
。第1図において、アルミナ基板(1)上1:60μm
の庫さのグレーズ層(2)がある。このグレーズ層(2
)上にタンタル(以下Taと称す)とシリコン酸化物(
以下S tO,と称す)との換算によると810、が4
5重量モル%よりも太きく75重量モルチ以下であるT
 a −Si 0*からなる換言すればTa。
Si、0の元素単体およびその間の中間生成物の混合体
からなる発熱抵抗体(3)(厚さは8000人)が形成
されている。この発熱抵抗体(3)の発熱部(4)をア
ケるよう書二2〜8μmの厚さの金等からなるリード線
(5)が形成されている。このリード線(5)とこの発
熱部(4)とを保膿するために数μmの厚さでTa1O
1からなる保護ノー(6)が形成されている。
次にこの発熱抵抗体(2)の形成方法を説明する。
Taと8 iolとを混合して焼成した焼結体ターゲッ
トを用意する。この焼結体ターゲットの5i0Hの比率
は45重量モルチよりも大きく’751f%以下の範囲
内で制御する。次に、グレーズ層(2)上に、この焼結
体ターゲットを用いてアルゴン(以下λrと称す)ガス
雰囲気中でRFスパッタリングをし、発熱抵抗体(3)
を付着させる。この際、発熱抵抗体(3)の組成比と焼
結体ターゲットの組成比とは、次のRFスパッタリング
条件をコントロールすることにより、1対lで一致し、
焼結体ターゲット組成比がそのまま、発熱抵抗体の組成
比とすることができる。
第1!I RFスパッタリング条件 入rガス分圧はIQ X IQ  Torr乃至5ox
io″″3Torrの範囲内で選定しても、結果はほぼ
同じであった。
次に、このRFスパッタリングの条件で作成したサーマ
ルヘッドの抵抗仕様を第2表にまとめる。
この際、発熱抵抗体のデメンジョン、印加パルス条件、
感熱紙の発色感度1紙移動速度をそれぞれ第8表に示す
通り固定した。
弗2表:810.の含有比率による発熱抵抗体の抵抗値 (以下余白) ′s8表ニ一定条件一覧 第2表より、発熱抵抗体の抵抗値は、それぞれ比抵抗に
依存することが明らかとなる。また、この比抵抗は定置
化学分析の結果、Taとsio、との含有比に依存する
。換言するならば、発熱抵抗体に含有される840. 
(Ta 1!:SiO,j−の換算による)が増えるに
したがい、その発熱抵抗体の抵抗値は高抵抗化する。こ
の場合、発熱抵抗体中にSiO@カ46重量モルチより
も大きい方が、サーマルヘッドのリード線の抵抗の影響
を受けず、サーマルヘッドを用いて感熱紙に記録を行な
った場合に、印字された記録情報の製置むらがなくなる
ことが確認された。
次CTaと810.との換算による発熱抵抗体に含有さ
れるS10.の盪を変えた際のサーマルヘッドを実際に
駆動した場合の発色濃度をテストした結果を第2図に示
す。なお、特性曲線αυはS 10.を62重量モルチ
含有する発熱抵抗体を有するサーマルヘッド(第2表中
No、 1のもの)の発色状態を示し、特性曲線αりは
別0.を60重量モル優含有する発熱抵抗体を有するサ
ーマルヘッド(第2表中No、 2のもの)の発色状態
を示し、特性曲線α3はSi0.を50]1fモルチ含
有する発熱抵抗体を有するサーマルヘッド(!!42表
中No、8のもの)の発色状態を示し、特性曲線IはS
 tO,を45重量モルチ含有する発熱抵抗体を有する
サーマルヘッド(第2表中No、 4のもの)の発色状
態を示し、特性曲線0はSム0.を40重量モルチ含有
する発熱抵抗体を有するサーマルヘッド(第2表中No
、 5のもの)の発色状態を示している。また、第2図
中に発色濃度の単位を示さなかったが、これは発色濃度
がlog、。反射率 で示されるためである。
第2図において、高抵抗な発熱抵抗体を有するサーマル
ヘッドはど、小電力で発色濃度の高い感熱記録情報が得
られる。wk2図と第2表とを鑑みるならば、比抵抗が
高い材料を用いた発熱抵抗体はど小電力で発色濃度が高
くなる。すなわち、熱効率が良い。したがって、高比抵
抗にするためには、発熱抵抗体に含有されるS joH
の重1モルチが高くすることを鑑みれば、発熱抵抗体中
に含有されるStO!の重量モルチを高くすれば、熱伝
導率が小さくなる。
一方、RFスパッタリングに使用される焼結体ターゲッ
トの作成がSム0.含有量が多くなるにつれて困難とな
ることを本発明者達は確認した。また、電源電圧は無限
に大きくできるものではない。サーマルヘッドを内蔵し
た感熱装置等のセットの仕様から現在は24 Vが上限
と考えられている。上述の二点より、TJI−Sio、
焼結体ターゲットのS IOH含有比率は75重量モル
チが上限である。したがって発熱抵抗体のTaと5iO
1との換算によるS 10゜の含有比率は75重US以
下である。また、発色濃度から見ると、発熱抵抗体のT
aと840.との換算によるf9 io、の含有比率は
46重量モルチよりも大きいほうが良い。よって、Ta
−84−0系薄膜を発熱抵抗体として用いたサーマルヘ
ッドにおいて、サーマルヘッドめ記録情報の好ましい発
色濃度を得るには、この発熱抵抗体の組成がTaとS五
へとの換算によるS10.が45重輩モルチよりも大き
く75重量モルー以下の範囲にある必要がある。
〔発明の効果〕
上述の構成により、本発明のサーマルヘッドとその製造
方法は次の効果がある。
l)熱効率の良い発熱抵抗体を有するサーマルヘッドが
実現できる。
2)高抵抗小電流盤のサーマルヘッドとなるため、電源
が小形になる。
8)パルスモータ、光源等の電圧と同等の電圧で駆動で
きるので、簡易化、小形化ができる。
4)サーマルヘッド上のリード線の抵抗を無視し得るほ
ど発熱抵抗体が高抵抗なため、記録情報の濃度むらが無
い良好な記録品質が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のサーマルヘッドの一実施例を示す断面
簡略図、第2図は本発明のサーマルヘッドの効果を説明
するための特性曲線図である。 (1)・・・アルミナ基板 (2)・・・グレーズ層 (3)・・・発熱抵抗体 (4)・・・発熱部 (5)・・・リード線 (6)・・・保護層 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名)第1図 *!−−@さぎ こセマミな 手続補正書(方式) %式% 1、 事件の表示 特願昭59−274722号 2、発明の名称 サーマルヘッドおよびその製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (307)株式会社 東芝 4、代理人 〒105 東京都港区芝浦−丁目1番1号 昭和60年4月30日(発送日) 6、補正の対象 7、補正の内容 (1)  明細書の発明の詳細な説明の欄を以下の通力
補正する。 第5頁第9行目乃至第12行目、 「T、Kameietal ; ”Thermal P
rinting HeadFor High 5pee
d Facsimile BquipmentI″j)
r。 of the 1982 International
 MicroelectricOonference、
820頁乃至827頁May 1982 Jとめるを、 「亀井他「サーマル・プリ/ティング・ヘッド・フォア
・ハイスピード會ファクシミリ・イクイプメントJ 1
982年イ/ターナショナル・マイク−エレクトリック
・コンファレンス予稿集320頁乃至327頁1982
年5月(T、Kamei et al。 :  @Thermal Printing Head
 F’or High 5peedSj+ Facaimile EquipmentiPro、o
f the 1982International M
lcroelectric Conference。 820頁乃至827頁May 1982 )Jと訂正す
る。 以上 手続補正書(自発) 昭和  6躾 21週  日

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Ta−Si−O系薄膜を発熱抵抗体として用いた
    サーマルヘッドにおいて、前記発熱抵抗体の組成は、タ
    ンタルとシリコン酸化物との換算比でシリコン酸化物が
    45重量モル%よりも大きく75重量モル%以下である
    ことを特徴とするサーマルヘッド。
  2. (2)タンタルとシリコン酸化物とを混合して焼成した
    焼結体ターゲットを用いアルゴンガス雰囲気中でスパッ
    タリングしてTa−Si−O系薄膜からなる発熱抵抗体
    を形成する サーマルヘッドの製造方法において、前記発熱抵抗体は
    前記焼結体ターゲットのシリコン酸化物の比率を45重
    量モル%よりも大きく75重量モル%以下の範囲内で制
    御すると共に、アルゴンガス分圧を10×10^−^3
    Torr乃至80×10^−^3Torrの範囲内で制
    御して得られるTa−Si−O系薄膜により形成するこ
    とを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。
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GB08531603A GB2169006B (en) 1984-12-28 1985-12-23 Thermal head and its method of manufacturing
KR1019850009711A KR890001392B1 (ko) 1984-12-28 1985-12-23 열 프린트 헤드 및 그 제조방법
FR8519260A FR2575415B1 (fr) 1984-12-28 1985-12-26 Tete thermique pour l'impression sur papier sensible a la chaleur et son procede de fabrication
US07/022,609 US4772520A (en) 1984-12-28 1987-03-04 Thermal head and method of manufacturing the same

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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2911186B2 (ja) * 1989-07-10 1999-06-23 科学技術振興事業団 複合酸化物薄膜
JP3320825B2 (ja) * 1992-05-29 2002-09-03 富士写真フイルム株式会社 記録装置
US5831648A (en) * 1992-05-29 1998-11-03 Hitachi Koki Co., Ltd. Ink jet recording head
JPH06238933A (ja) * 1992-07-03 1994-08-30 Hitachi Koki Co Ltd サーマルプリントヘッド及びサーマルプリンタ
US5666140A (en) * 1993-04-16 1997-09-09 Hitachi Koki Co., Ltd. Ink jet print head
WO1996008829A1 (fr) * 1994-09-13 1996-03-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Tete thermique et sa fabrication
JP3194465B2 (ja) * 1995-12-27 2001-07-30 富士写真フイルム株式会社 インクジェット記録ヘッド
DE69718440T2 (de) 1996-02-08 2003-11-27 Toshiba Kawasaki Kk Thermodruckkopf, verfahren zur herstellung des thermodruckkopfes, des druckers, des sinters, des targets
JP3935687B2 (ja) * 2001-06-20 2007-06-27 アルプス電気株式会社 薄膜抵抗素子およびその製造方法
US8779887B2 (en) * 2010-05-13 2014-07-15 Cyntec Co., Ltd. Current sensing resistor
US9305687B2 (en) 2010-05-13 2016-04-05 Cyntec Co., Ltd. Current sensing resistor
US10354871B2 (en) * 2017-09-11 2019-07-16 General Electric Company Sputtering system and method for forming a metal layer on a semiconductor device

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3031318A (en) * 1960-07-12 1962-04-24 Int Resistance Co Low thermal expansion glass
US3537868A (en) * 1967-07-27 1970-11-03 Obara Kogaku Carasu Kk Low expansion crystalline glass
US3630765A (en) * 1969-02-24 1971-12-28 Corning Glass Works Photochromic glass containing tantalum oxide for optical fiber fabrication
US3717441A (en) * 1971-03-30 1973-02-20 Owens Illinois Inc Low expansion aluminosilicate glass compositions comprising a pentavalent metal oxide
US4168343A (en) * 1976-03-11 1979-09-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Thermal printing head
JPS5311037A (en) * 1976-07-19 1978-02-01 Toshiba Corp Thin film thermal head
US4232213A (en) * 1979-01-15 1980-11-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Thermal head
JPS5761581A (en) * 1980-10-01 1982-04-14 Toshiba Corp Method of manufacture of thermal printing head
JPS5924958A (ja) * 1982-07-27 1984-02-08 Sumitomo Special Metals Co Ltd 薄膜磁気ヘッド用基板の製造方法
JPS59169871A (ja) * 1983-03-17 1984-09-25 Fujitsu Ltd サ−マルヘツド
JPS59191285A (ja) * 1983-04-15 1984-10-30 淡路産業株式会社 表面発熱固体
JPS59203784A (ja) * 1983-04-28 1984-11-17 株式会社東芝 非酸化物系セラミックス焼結体のモリブデンシリサイド被膜の形成方法
JPS61106453A (ja) * 1984-10-26 1986-05-24 ソニー株式会社 磁器組成物

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