JPS61159573A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS61159573A JPS61159573A JP69285A JP69285A JPS61159573A JP S61159573 A JPS61159573 A JP S61159573A JP 69285 A JP69285 A JP 69285A JP 69285 A JP69285 A JP 69285A JP S61159573 A JPS61159573 A JP S61159573A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- guide
- vacuum
- film
- evaporation
- strip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の利用分野］
本発明は真空蒸着装置に係り、特に帯状フィルムに磁性
金属を効率よく蒸着することのできる真空蒸着装置に関
する。
金属を効率よく蒸着することのできる真空蒸着装置に関
する。
高分子成形物基材へ種々の薄膜を形成する薄膜技術は最
近急速に進歩してきたため、ビデオテープなどの磁気テ
ープの製造手段として真空中で帯状フィルムに磁性金属
を蒸着する真空蒸着が広く用いられるようになってきた
。この真空蒸着を行なう装置としては真空容器内で帯状
フィルムを蒸着ガイドによって案内し、蒸着金属をるつ
ぼ内に入れて加熱蒸発させて帯状フィルム面に蒸着させ
る構造が一般的であるが、このときに具備すべき必要な
条件としては、蒸着面を形成する蒸着ガイド面と帯状フ
ィルムがスリップしないことと、蒸着面の巾広い例えば
−５〜２４０℃の範囲の温度制御が可能であることとが
ある。この条件を満足する従来の装置としては、特開昭
５７−１２６８２５号によって開示されたように、円筒
形の回転ドラムに帯状フィルムを巻き付けて回転させな
がら蒸発金属中にさらすことにより、連続的に蒸着を行
なう構造のものがある。
近急速に進歩してきたため、ビデオテープなどの磁気テ
ープの製造手段として真空中で帯状フィルムに磁性金属
を蒸着する真空蒸着が広く用いられるようになってきた
。この真空蒸着を行なう装置としては真空容器内で帯状
フィルムを蒸着ガイドによって案内し、蒸着金属をるつ
ぼ内に入れて加熱蒸発させて帯状フィルム面に蒸着させ
る構造が一般的であるが、このときに具備すべき必要な
条件としては、蒸着面を形成する蒸着ガイド面と帯状フ
ィルムがスリップしないことと、蒸着面の巾広い例えば
−５〜２４０℃の範囲の温度制御が可能であることとが
ある。この条件を満足する従来の装置としては、特開昭
５７−１２６８２５号によって開示されたように、円筒
形の回転ドラムに帯状フィルムを巻き付けて回転させな
がら蒸発金属中にさらすことにより、連続的に蒸着を行
なう構造のものがある。
上記の従来の真空蒸着装置を第２図により以下に説明す
る。蒸発金属の蒸発源１から加熱により蒸発した蒸着金
属は、隔壁２に形成された開口部２ａを通過したものの
みが回転ドラム３に巻回され搬送される帯状フィルム４
に到達し１図中へ−Ｂの範囲で蒸着が行われる。上記の
すべての部分は図示しない真空容器内に収納されている
。
る。蒸発金属の蒸発源１から加熱により蒸発した蒸着金
属は、隔壁２に形成された開口部２ａを通過したものの
みが回転ドラム３に巻回され搬送される帯状フィルム４
に到達し１図中へ−Ｂの範囲で蒸着が行われる。上記の
すべての部分は図示しない真空容器内に収納されている
。
上述のように構成された真空蒸着装置によって特に磁性
金属を蒸着する場合、磁性特性を高めるために蒸着は回
転ドラム３の周壁の一部で行なわれる。この蒸着面Ａ−
ＢはＡ点が回転ドラム３のほぼ水平方向の半径上にあり
、このＡ点と前記Ｂ点におけるそれぞれ前記回転ドラム
３の半径のなす角度をθとすれば、 θ＝約１０〜２０” の範囲で蒸着が行なわれることが一般的であり。
金属を蒸着する場合、磁性特性を高めるために蒸着は回
転ドラム３の周壁の一部で行なわれる。この蒸着面Ａ−
ＢはＡ点が回転ドラム３のほぼ水平方向の半径上にあり
、このＡ点と前記Ｂ点におけるそれぞれ前記回転ドラム
３の半径のなす角度をθとすれば、 θ＝約１０〜２０” の範囲で蒸着が行なわれることが一般的であり。
このような蒸着方法を通常斜方蒸着と呼んでいる。
上述のような蒸着方法によると、蒸着金属の磁性特性を
高めることはできるが、蒸着金属は蒸発源１を中心とし
て第１図に示すループ状の曲＠ｎで囲まれる範囲に分布
するため、実際有効に帯状フィルム４の表面に蒸着され
る金属は、有効蒸着蒸発角度βで示されている部分のみ
であり、これは発生した蒸発金属全体の約５〜１０％に
相当する。このことは蒸着面を円筒形の回転ドラム３の
周面上に形成しであるため、角度θを制限すると利用で
きる蒸着面が広くとれないことによる。
高めることはできるが、蒸着金属は蒸発源１を中心とし
て第１図に示すループ状の曲＠ｎで囲まれる範囲に分布
するため、実際有効に帯状フィルム４の表面に蒸着され
る金属は、有効蒸着蒸発角度βで示されている部分のみ
であり、これは発生した蒸発金属全体の約５〜１０％に
相当する。このことは蒸着面を円筒形の回転ドラム３の
周面上に形成しであるため、角度θを制限すると利用で
きる蒸着面が広くとれないことによる。
上記のような構造において蒸着面を広くとるためには回
転ドラム３の直径を大きくすればよいが、この回転ドラ
ム３を収納する真空容器が大きくなり、従がって真空蒸
着装置もまた大型化してコスト高となるため１通常回転
ドラム３の半径は６００票票以下としている。結果にお
いて蒸着面を広くとることが困難となり蒸着の効率が悪
くなるという問題があった。
転ドラム３の直径を大きくすればよいが、この回転ドラ
ム３を収納する真空容器が大きくなり、従がって真空蒸
着装置もまた大型化してコスト高となるため１通常回転
ドラム３の半径は６００票票以下としている。結果にお
いて蒸着面を広くとることが困難となり蒸着の効率が悪
くなるという問題があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは、斜方蒸着に対しても効率のよい蒸着がで
きる真空蒸着装置を提供するにある。
するところは、斜方蒸着に対しても効率のよい蒸着がで
きる真空蒸着装置を提供するにある。
本発明は帯状フィルムに被膜を真空蒸着する真空蒸着装
置の真空容器内に設けられ、該帯状フィルムを案内する
搬送ガイドを、前記帯状フィルムに蒸着する被膜の素材
の蒸発方向に対し斜交する曲面を形成した蒸着ガイドと
、この蒸着ガイドの少くとも一部と摺動するとともに駆
動ローラにより駆動される無限軌道とによって構成した
ものである。
置の真空容器内に設けられ、該帯状フィルムを案内する
搬送ガイドを、前記帯状フィルムに蒸着する被膜の素材
の蒸発方向に対し斜交する曲面を形成した蒸着ガイドと
、この蒸着ガイドの少くとも一部と摺動するとともに駆
動ローラにより駆動される無限軌道とによって構成した
ものである。
上述の構成によると小型の装置で広い蒸着面を得ること
が可能となり、斜方蒸着に対しても効率のよい蒸着がで
きる。
が可能となり、斜方蒸着に対しても効率のよい蒸着がで
きる。
以下本発明に係る真空蒸着装置の一実施例を図面を参照
して説明する。
して説明する。
第１図に本発明の一実施例を示す、該図において第２図
に示す従来例と同一または同等部分は同一符号を付して
示す、真空ポンプ５によって真空にされた真空容器６内
には、帯状フィルム４を巻回した巻出機７と、この巻出
機７から巻出された該帯状フィルム４を案内するガイド
ローラ８と、この帯状フィルム４に蒸着面を形成する位
置に設れられた搬送ガイド９と、ガイドローラｌＯと、
蒸着後の帯状フィルム４を巻取る巻取機１１とが設けら
れ、さらにその下部には隔壁２を介してるつぼ１２が設
けられており、このるつぼ１２内には蒸着金属１が収納
され図示せぬ電子ビームまたは抵抗線などで加熱溶融し
て蒸発させ、前記隔壁２に形成された開口部２ａを通っ
て上部に向うように構成されている。
に示す従来例と同一または同等部分は同一符号を付して
示す、真空ポンプ５によって真空にされた真空容器６内
には、帯状フィルム４を巻回した巻出機７と、この巻出
機７から巻出された該帯状フィルム４を案内するガイド
ローラ８と、この帯状フィルム４に蒸着面を形成する位
置に設れられた搬送ガイド９と、ガイドローラｌＯと、
蒸着後の帯状フィルム４を巻取る巻取機１１とが設けら
れ、さらにその下部には隔壁２を介してるつぼ１２が設
けられており、このるつぼ１２内には蒸着金属１が収納
され図示せぬ電子ビームまたは抵抗線などで加熱溶融し
て蒸発させ、前記隔壁２に形成された開口部２ａを通っ
て上部に向うように構成されている。
前記搬送ガイド９は前記隔壁２に形成された開口部２ａ
に対向する位置において、前記蒸着金属１が蒸発する方
向に対して斜交するような円弧状の曲面が形成された蒸
着ガイド１３と、この蒸着ガイド１３の周囲に巻回され
表面に当接して摺動する無限軌道１４とによって構成さ
九でおり、この無限軌道１４は一対の駆動ローラ１５に
よって駆動される熱伝導性のよい例えばステンレスなど
の金属によって形成されている。またこの無限軌道１４
の張力を一定に保ち前記蒸着ガイド１３との密着度を保
持するための張力制御ローラ１６がこの無限軌道１４の
内周の一部に設けられている。
に対向する位置において、前記蒸着金属１が蒸発する方
向に対して斜交するような円弧状の曲面が形成された蒸
着ガイド１３と、この蒸着ガイド１３の周囲に巻回され
表面に当接して摺動する無限軌道１４とによって構成さ
九でおり、この無限軌道１４は一対の駆動ローラ１５に
よって駆動される熱伝導性のよい例えばステンレスなど
の金属によって形成されている。またこの無限軌道１４
の張力を一定に保ち前記蒸着ガイド１３との密着度を保
持するための張力制御ローラ１６がこの無限軌道１４の
内周の一部に設けられている。
そして前記帯状フィルム４はこの無限軌道１４と当接し
て前記巻取機１１により同一速度で送行されるように制
御されており、この無限軌道１４上において帯状フィル
ム４の表面に前記蒸発された蒸着金属１が真空蒸着され
るようになっている。
て前記巻取機１１により同一速度で送行されるように制
御されており、この無限軌道１４上において帯状フィル
ム４の表面に前記蒸発された蒸着金属１が真空蒸着され
るようになっている。
前記蒸着ガイド１３の表面近くには管１７が設けられて
おり、真空容器６の外部に設けられた熱交換器ユニット
１８と連結して熱媒を循環させて温度制御を行ない、こ
の温度制御により無限軌道１４を介して前記帯状フィル
ム４の蒸着面の温度制御を行なうようになっている。
おり、真空容器６の外部に設けられた熱交換器ユニット
１８と連結して熱媒を循環させて温度制御を行ない、こ
の温度制御により無限軌道１４を介して前記帯状フィル
ム４の蒸着面の温度制御を行なうようになっている。
上述の通り構成された本実施例の作用について以下に説
明する。るつぼ１２内で加熱され蒸発した蒸発金属１は
隔壁２に形成された開口部２ａを通って上昇し、蒸着ガ
イド１３上を走行する無限軌道１４に密着して同じ速度
で走行する帯状フィルム４の表面に蒸着する。このとき
開口部２ａの上方の位置にある蒸着ガイド１３の曲面は
曲率半径Ｒが大きく形成されているので、この曲面に密
着して走行する帯状フィルム４の蒸着面は広くなり、効
率の高い蒸着を行うことができる。この帯状フィルム４
はマイクロモータで駆動される巻取機１１とブレーキに
よって制動される巻出機７との間で常に一定の張力を保
っており、しかもこの巻取機１１を駆動するマイクロモ
ータと無限軌道１４を駆動ローラ１５を介して駆動する
マイクロモータとは同期するように制御されているので
、無限軌道１４の帯状フィルム４が相対的にスリップし
たり、帯状フィルム４にしわが発生したりすることがな
く、従って帯状フィルム４の表面に形成される蒸着層の
膜厚は常に均一となる。また帯状フィルム４に蒸着層を
形成して得ようとするテープの種類により、熱交換器ユ
ニット１８によって適正な温度に加熱することも冷却す
ることもできる。
明する。るつぼ１２内で加熱され蒸発した蒸発金属１は
隔壁２に形成された開口部２ａを通って上昇し、蒸着ガ
イド１３上を走行する無限軌道１４に密着して同じ速度
で走行する帯状フィルム４の表面に蒸着する。このとき
開口部２ａの上方の位置にある蒸着ガイド１３の曲面は
曲率半径Ｒが大きく形成されているので、この曲面に密
着して走行する帯状フィルム４の蒸着面は広くなり、効
率の高い蒸着を行うことができる。この帯状フィルム４
はマイクロモータで駆動される巻取機１１とブレーキに
よって制動される巻出機７との間で常に一定の張力を保
っており、しかもこの巻取機１１を駆動するマイクロモ
ータと無限軌道１４を駆動ローラ１５を介して駆動する
マイクロモータとは同期するように制御されているので
、無限軌道１４の帯状フィルム４が相対的にスリップし
たり、帯状フィルム４にしわが発生したりすることがな
く、従って帯状フィルム４の表面に形成される蒸着層の
膜厚は常に均一となる。また帯状フィルム４に蒸着層を
形成して得ようとするテープの種類により、熱交換器ユ
ニット１８によって適正な温度に加熱することも冷却す
ることもできる。
上述の通り本実施例によれば蒸着効率を高くすることが
できるとともに、蒸着ガイド１３は円弧の一部を利用し
ているためコンパクトな設計が可能となり、真空容器６
の容積も小さくすることができるためコストも安くすむ
、また蒸着効率を高くすることができるため蒸着速度も
速くなり生産性の向上も可能となる。
できるとともに、蒸着ガイド１３は円弧の一部を利用し
ているためコンパクトな設計が可能となり、真空容器６
の容積も小さくすることができるためコストも安くすむ
、また蒸着効率を高くすることができるため蒸着速度も
速くなり生産性の向上も可能となる。
本実施例においては蒸着ガイド１３の内部に管１７を設
けて熱媒を循環させる場合について説明したが、蒸着ガ
イド１３の内部に誘導コイルを設けて電流を流すことに
より、蒸着ガイド１３の表面を誘導加熱してもよく、他
の公知の冷却、加熱の温度制御手段を用いてもよい、ま
た蒸着ガイド１３の表面の曲面は円弧に限定されるもの
ではなく他の形状の曲面でもよい、さらにまた蒸着面に
おける温度制御に支障がなければ、蒸着ガイド１３と無
限軌道１４との間に非接触部があってもよい。
けて熱媒を循環させる場合について説明したが、蒸着ガ
イド１３の内部に誘導コイルを設けて電流を流すことに
より、蒸着ガイド１３の表面を誘導加熱してもよく、他
の公知の冷却、加熱の温度制御手段を用いてもよい、ま
た蒸着ガイド１３の表面の曲面は円弧に限定されるもの
ではなく他の形状の曲面でもよい、さらにまた蒸着面に
おける温度制御に支障がなければ、蒸着ガイド１３と無
限軌道１４との間に非接触部があってもよい。
上述の通り、本発明によれば、帯状フィルムを案内する
蒸着ガイドに大きい曲率半径の曲面を形成し、この蒸着
ガイドの周囲を巻回する無限軌道と密着して同一速度で
前記帯状フィルムを走行させて、この帯状フィルムの表
面に前記大きい曲率半径の曲面上で蒸着を行うようにし
たものであるから、大きな蒸着面を形成できるため、効
率の高い斜方蒸着が可能なコンパクトで安価な真空蒸着
装置を提供することができる。
蒸着ガイドに大きい曲率半径の曲面を形成し、この蒸着
ガイドの周囲を巻回する無限軌道と密着して同一速度で
前記帯状フィルムを走行させて、この帯状フィルムの表
面に前記大きい曲率半径の曲面上で蒸着を行うようにし
たものであるから、大きな蒸着面を形成できるため、効
率の高い斜方蒸着が可能なコンパクトで安価な真空蒸着
装置を提供することができる。
第１図は本発明に係る真空蒸着装置の一実施例を示す概
略構成図、第２図は従来の真空蒸着装置を示す要部構成
図である。 １・・・蒸発源、４・・・帯状フィルム、６・・・真空
容器、７・・・巻出機、８．１０・・・ガイドローラ、
９・・・搬送ガイド、１１・・・巻取機、１３・・・蒸
着ガイド、１４・・・無限軌道、１５・・・駆動ローラ
。
略構成図、第２図は従来の真空蒸着装置を示す要部構成
図である。 １・・・蒸発源、４・・・帯状フィルム、６・・・真空
容器、７・・・巻出機、８．１０・・・ガイドローラ、
９・・・搬送ガイド、１１・・・巻取機、１３・・・蒸
着ガイド、１４・・・無限軌道、１５・・・駆動ローラ
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空容器内において帯状フィルム上に真空蒸着によ
り被膜を形成するため、前記帯状フィルムを搬送する搬
送装置と、該帯状フィルムを案内する搬送ガイドと、前
記被膜の素材の蒸発源とを具備した真空蒸着装置におい
て、前記搬送ガイドは前記蒸発源から蒸発する前記被膜
素材の蒸発方向に対し斜交する曲面を形成した蒸着ガイ
ドと、この蒸着ガイドの少くとも一部と摺動するととも
に駆動ローラにより駆動される無限軌道とを設けてなる
ことを特徴とする真空蒸着装置。 ２、前記無限軌道は前記帯状フィルムと少くともその一
部が当接しつつ同一速度で走行することを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の真空蒸着装置。 ３、前記蒸着ガイドは内部より加熱または冷却されるこ
とを特徴とした特許請求の範囲第１項または第２項のい
ずれか１項に記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP69285A JPS61159573A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP69285A JPS61159573A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61159573A true JPS61159573A (ja) | 1986-07-19 |
Family
ID=11480806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP69285A Pending JPS61159573A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61159573A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0782176A3 (en) * | 1995-12-22 | 2000-01-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Deposited-film forming process and deposited-film forming apparatus |
| EP2339047A1 (de) * | 2009-12-14 | 2011-06-29 | FHR Anlagenbau GmbH | Anordnung zum Temperieren von bandförmigen Substraten |
| JP2011127154A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Panasonic Corp | 蒸着装置 |
| JP2014031589A (ja) * | 2013-11-07 | 2014-02-20 | Panasonic Corp | 蒸着方法 |
-
1985
- 1985-01-07 JP JP69285A patent/JPS61159573A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0782176A3 (en) * | 1995-12-22 | 2000-01-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Deposited-film forming process and deposited-film forming apparatus |
| EP2339047A1 (de) * | 2009-12-14 | 2011-06-29 | FHR Anlagenbau GmbH | Anordnung zum Temperieren von bandförmigen Substraten |
| JP2011127154A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Panasonic Corp | 蒸着装置 |
| JP2014031589A (ja) * | 2013-11-07 | 2014-02-20 | Panasonic Corp | 蒸着方法 |
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